JPH07302966A

JPH07302966A - 配線基板修正装置、及び同装置を用いる配線基板修正方法

Info

Publication number: JPH07302966A
Application number: JP9630494A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Oguri; 宣明大栗; Osamu Takamatsu; 修高松; Masato Niibe; 正人新部
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1994-05-10
Filing date: 1994-05-10
Publication date: 1995-11-14

Abstract

(57)【要約】【目的】基板の配線間の短絡を修繕する方法及び装置
を提供する。【構成】ハロゲンランプ１１の紫外部をフィルタ１３
でカットし、レジストを被覆した基板１７上の短絡部分
を、接眼レンズ１５、対物レンズ１６を通して観察しな
がら照射する。次いでフィルタ１３を除去して紫外線で
レジスト上に潜像を作り、これを現像してマスクとす
る。その後、マスクを介して欠陥部をエッチング除去す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は配線等の短絡欠陥を修正
するための修正装置及び修正方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報機器や家庭用ＴＶ受像機の分
野において、薄型で視認性の良い画像表示装置が求めら
れている。従来、薄型の画像表示装置としては、例え
ば、液晶表示装置、ＥＬ表示装置、あるいはプラズマデ
ィスプレイ等が開発されているが、これらには視野角、
カラー化輝度等の問題があり、市場の要求する性能を十
分満足しているとはいえない状況である。

【０００３】そこで、平面型画像表示装置として、電子
放出により蛍光体を発光させ画像を形成する蛍光体発光
型画像表示装置が期待されている。電子放出素子として
は電界放出型（以下ＦＥと略す）、金属／絶縁層／金属
型（ＭＩＭと略す）や表面伝導型電子放出素子等があ
る。

【０００４】ＦＥ型の例としてはＷ．Ｐ．Ｄｙｋｅ＆
Ｗ．Ｗ．Ｄｏｌａｎ，”ｆｉｅｌｄｅｍｉｓｓｉｏ
ｎ” ＡｄｖａｎｃｅｉｎＥｌｅｃｔｒｏｎＰｈ
ｙｓｉｃｓ，８，８９（１９５６）等が知られている。

【０００５】ＭＩＭの例としてはＣ．Ａ．Ｍｅａｄ，”
Ｔｈｅｔｕｎｎｅｌ−ｅｍｉｓｓｉｏｎａｍｐｌｉ
ｆｉｅｒ”，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，３２，６４６
（１９６１）やＣ．Ａ．Ｓｐｉｎｄｔ，”Ｐｈｙｓｉ
ｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｔｈｉｎ−ｆｉ
ｌｍｆｉｅｌｄｅｍｉｓｓｉｏｎｃａｔｈｏｄｅ
ｓｗｅｔｈｍｏｌｙｂｄｅｎｕｍｃｏｎｅｓ”，
Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，４７，５２４８（１９７
６）等が知られている。

【０００６】表面伝導型電子放出素子型の例としては
Ｍ．Ｉ．Ｅｌｉｎｓｏｎ，ＲａｄｉｏＥｎｇ．Ｅｌｅ
ｃｔｒｏｎＰｈｙｓ．，１０，（１９６５）等があ
る。表面伝導型電子放出素子（ＳＣＥ）は、基板上に形
成された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すこと
により、電子放出が生じる現象を利用するものである。
この表面伝導型電子放出素子としては前記エリンソン等
によるＳｎＯ₂ 薄膜を用いたもの、Ａｕ薄膜によるもの
［Ｇ．Ｄｉｔｔｍｅｒ：”ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉ
ｌｍｓ”，９，３１７（１９７２）］、Ｉｎ₂ Ｏ₃ ／Ｓ
ｎＯ₂ 薄膜によるもの［Ｍ．Ｈａｒｔｗｅｌｌａｎｄ
Ｃ．Ｇ．Ｆｏｎｓｔａｄ：”ＩＥＥＥＴｒａｎｓ．Ｅ
ＤＣｏｎｆ．”，５１９，（１９７５）］、カーボン
薄膜によるもの［荒木久他：真空，第２６巻，第１
号，２２頁（１９８３）］等が報告されている。

【０００７】これら表面伝導型電子放出素子の典型的な
構成は、２つの素子電極を相対向させて間隔を有するよ
うに配置し、その電極間隔に渡って薄膜を形成してい
る。更にフォーミングとして薄膜に電界を印加し、薄膜
を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的に高
抵抗な状態にすることで、電子放出部を形成している。
このような電子放出素子と蛍光体とを組み合せ、描画す
ることにより、画像表示装置が作製できる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】これら蛍光体発光型画
像表示装置は、画面サイズに対応した大きさの２枚のガ
ラス基板の一方の基板にマトリクス状に配置した電子放
出素子及び各電子放出素子を駆動するための行方向配
線、列方向配線などの画像表示装置構成要素を形成して
素子基板とし、他方の基板に蛍光体を形成してフェース
プレートとして対向させ、更に側壁等を組み合せてフリ
ットガラスで封止することにより形成されている［特願
平０５−７８１６５号］。

【０００９】ここで電子放出素子を用いた画像表示装置
について簡単に説明する。図４は画像表示装置の一部等
価回路図である。複数本の列方向配線４１及びこれらの
列方向配線４１に直交する複数本の行方向配線４２の各
交点に電子放出素子４３が接続され、形成されている。
ここで図には示されていないが列方向配線４１と行方向
配線４２の交差部には層間絶縁膜が形成されており、列
方向配線４１と行方向配線４２とは絶縁されている。こ
こで列方向配線４１と行方向配線４２とを適当に選択
し、電界を印加することで、電子放出素子４３から電子
を放出することができる。

【００１０】尚、電子放出素子には比較的たくさんの電
流を流す必要があることから、これらの配線材料には、
エレクトロマイグレーションを生じにくいＡｕ、Ｃｕ又
はＡｇ等が用いられている。

【００１１】これら平面型画像表示装置の製造方法は、
液晶表示装置の製造方法とほぼ同じ方法で作製されるた
め、高精細化、大面積化が進むにつれ、電極数が増大
し、基板あたりの配線間に発生する欠陥が増加するとい
う問題があった。しかし、これら素子基板は製造単価が
高いことから、欠陥基板を不良廃棄するよりは、少量の
欠陥ならば欠陥箇所の修正を行い、良品とするほうが望
ましい。

【００１２】この欠陥の種類としては断線による欠陥及
び短絡による欠陥に大別できる。ここで断線による欠陥
については各配線の両端から駆動信号を供給することに
より救済できる可能性がある。これに対し水平方向、す
なわち同一面内に形成された隣り合う配線間の短絡欠陥
（隣接間ショート）及び垂直方向、すなわち絶縁層を介
して積層された２種類の配線間の交差部での短絡欠陥
（層間ショート）は線欠陥として表示されるため欠陥の
修正が必要である。

【００１３】従来、液晶表示装置の製造ではこのような
欠陥箇所の修正にはレーザ光（ＹＡＧ：波長＝１．０６
μｍ）が用いられ、図５に示すように行方向配線５１と
列方向配線５２との間に生じた層間短絡欠陥部５３の配
線の両端を切断して切断部５４を形成することで修正し
ていた。

【００１４】しかしながら、従来例のレーザ光を用いた
配線の切断方法では、次の様な問題があった。すなわ
ち、（１）装置の大型化、操作性及び汎用性。（２）加工時の熱影響やスプラッシュ（飛び散り）。（３）配線材料の限定。

【００１５】（１）については、機能性向上のため操作
が複雑になり、且つ欠陥部の位置決定、及び修正に時間
を要するという問題がある。

【００１６】（２）については、基板にレーザ照射した
際に発生する熱により素子特性に悪影響をおよぼした
り、レーザによって飛ばした欠陥部の再付着等の欠点が
ある。

【００１７】（３）については、液晶表示装置等に用い
られる配線材料Ａｌ、Ｃｒ、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔ
ｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）の切断には有効であるが、比較的電
流をたくさん流すことを必要とする表面伝導型電子放出
素子を用いた画像表示装置に用いられる配線材料Ａｕ、
Ｃｕ、Ａｇ等の切断は困難であった。更に、従来のよう
に配線を切断し短絡欠陥部を修正する方法では、同一ラ
イン状に複数の欠陥が生じた場合には線欠陥となる欠点
があった。

【００１８】そこで、本発明は、上記従来例の問題点に
鑑みなされたものであって、配線材料がＡｕ、Ｃｕ、Ａ
ｇ等の場合でも短絡欠陥部の修正ができるようにしたも
のである。さらに配線を切断することなく、短絡欠陥部
付近のみを除去し修正することができるようにするもの
であり、これにより画像表示装置の歩留まりを大きく改
善するとともに、配線材料の限定も殆どない汎用性に優
れた修正装置及び修正方法を提供することを目的とす
る。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、対物レンズ及び接眼レンズからなり試料を
観察する光学レンズ系と、前記対物レンズを通してかつ
前記光学レンズ系と光路を共有して試料を照射する光源
を有する露光系とからなる配線基板修正装置において、
前記光源と前記対物レンズとの間に光路の選択露光領域
を調整する絞りと、感光性樹脂の感光波長領域が透過し
ないフィルタを設けてなることを特徴とする配線基板修
正装置を提案するものである。

【００２０】また本発明は、配線基板に感光性樹脂を塗
布し、請求項１に記載した修正装置を用いて前記感光性
樹脂を塗布した配線基板の配線の欠陥部をフィルタを透
過する光で検出すると共に、照射光を前記欠陥部領域を
照射するように選択領域を調整する絞りを調整し、次い
でフィルタを除去して欠陥部を照射後、感光性樹脂パタ
ーンを形成し、その後エッチングすることにより欠陥部
を除去することを特徴とする配線基板修正方法で、前記
配線基板は表面伝導型電子放出素子で構成された画像表
示装置用基板であり、配線材料にＡｕ、Ｃｕ、又はＡｇ
を含むことを含む。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例につき図面を参照して
詳細に説明する。

【００２２】実施例１図１は本発明に基く修正装置の光学系の基本構成図であ
る。図１のように一般に用いられる光学顕微鏡とほぼ、
同等の構成となっている。

【００２３】すなわち、ハロゲンランプ１１より発生し
た照明光はコレクタレンズ１２を通過して十分コリメー
トされた後、フィルタ１３を通過する。ここでのフィル
タは紫外線域に吸収を持ち、このフィルタを透過した光
波（可視光）はレジストを感光しない。このフィルタを
脱着することによって紫外線のシャッタとすることがで
きる。更に、前記フィルタを透過した光波は照明光とし
て視野絞りを通過する。照明光は次いでハーフミラー１
９で方向を変えられ、視野絞りの開口像が対物レンズに
より、配線基板１７上に作られ、同時に接眼レンズ１５
を通して配線基板１７上の像と共に、照明光による露光
領域として観察することができる。

【００２４】従って、対物レンズ１６、ミラー５、プリ
ズム６、接眼レンズ１５等からなる光学レンズ系と、光
源としてのハロゲンランプ１１、コレクタレンズ１２、
フィルタ１３、絞り１４、ミラー５、対物レンズ１６等
からなる露光系とは、ミラー５及び対物レンズ１６を含
む光路部分を共有している。

【００２５】ここで視野絞りの開口を調整して配線基板
１７上の欠陥部と整合させ、その後、フィルタ１３を外
すことにより欠陥部のみに照明光を照射することができ
る。このように、配線基板１７上の欠陥部を実際に目で
観察しながら視野絞り１４によって開口像の大きさを調
整し、露光することができる。対物レンズ１６は４種類
取り付けられ、露光領域は対物レンズ１６の倍率と視野
絞り１４の開口径で調節することができる。

【００２６】加えて、配線基板１７をのせるＸ−Ｙテー
ブル１８は最大６インチまでの基板をのせることがで
き、２．０μｍピッチで位置決めできるステッピングモ
ータ駆動のテーブル仕様で、可動範囲は２００×２００
ｍｍである。

【００２７】光源としては配線基板のパターン、短絡欠
陥部の観察のために必要な波長領域と、感光性樹脂に所
定の潜像を形成するために必要な波長領域とを含む光を
放射するもので、具体的には可視光や紫外光を放射する
ものが好ましい。このような光源としてはハロゲンラン
プ、キセノンランプ、ハロゲン−キセノンランプ等が例
示される。

【００２８】フィルタは後述する感光性樹脂の潜像を形
成する波長領域を透過させないが、観察に必要な波長領
域は透過させるもので、具体的には落射照明用フィルタ
である、Ｇ５３０Ｏ５６０等が好ましい。

【００２９】本発明の配線基板修正装置は従来の顕微鏡
の機能と、感光性樹脂の露光機能との両者を兼備するも
ので、従って従来の顕微鏡の構成の大部分を利用して構
成できる。

【００３０】以上のような修正装置であれば、装置の大
型化も容易に行うことができ、汎用性に優れるという利
点を有している。

【００３１】更に観察系と露光系の光軸が同一のため、
実パターンを観察しながら正確に露光することができ
る。また、露光領域を対物レンズ１６及び視野絞り１４
で調整し、欠陥部のみを選択的に何度でも露光すること
ができ、画像表示装置の製造歩留まりを著しく改善する
ことができる。

【００３２】次に、上記修正装置を用いて、配線基板の
配線間の短絡欠陥部を修正する場合につき説明する。

【００３３】図２は画像表示装置の配線基板の列方向配
線パターン２５ａと２５ｂの隣接間に短絡欠陥部２２が
発生している場合、その短絡欠陥部２２を上記修正装置
を用いて修正する工程を示す工程断面図である。

【００３４】図２（ａ）に示すように、清浄化した青板
ガラスからなる基板２１上にフォトリソグラフィ法によ
りフォトレジストパターンを形成し、更に真空蒸着法に
より厚さ１０ｎｍのＣｒ、６００ｎｍのＡｕを順次堆積
後、リフトオフ法により所望列方向配線のパターン２５
ａ，ｂを形成した配線基板２１を得た。続いて配線間の
短絡欠陥を検出し、短絡欠陥部２２を検知した。この検
出方法はオープン・ショートチェック方式によった。

【００３５】そこで感光性樹脂としてフォトレジスト２
３（商品名ＡＺ１３７０：ヘキスト社製）を配線基板２
１の上面全体に塗布し、９０℃で乾燥した。この時のフ
ォトレジストの厚さは１．０μｍ〜２．０μｍ程度であ
る（図２（ａ））。

【００３６】続いて、実施例１で説明した修正装置２０
を用いて短絡欠陥部２２に視野を限定し、視野絞りによ
って開口像の大きさを調節した。フィルタを取り除くこ
とにより、短絡欠陥部２２のみを選択的に露光した。こ
れにより、欠陥部２２の上方のレジスト部分に潜像部２
８を形成した。この時の露光時間は３〜５ｓｅｃが適当
である（図２（ｂ））。

【００３７】次に現像液（商品名ＡＺ−ＭＩＦ３１２Ｄ
ｅｖｅｌｏｐｅｒ：ヘキスト社製）を用いて現像し、潜
像部２８が除去されたエッチングマスク２４を形成し
た。このようにして形成したエッチングマスク２４は、
修正装置２０の開口像の大きさ、つまり短絡欠陥部２２
の上方近傍のフォトレジスト２３だけが除去され、その
他の部分はフォトレジスト２３がそのまま残存したもの
である（図２（ｃ））。

【００３８】続いて、配線材料Ａｕ用エッチング液であ
るヨウ素系のエッチング液を用いて短絡部分２２のＡｕ
をエッチングし、更に硝酸セリウム第２アンモニウム系
のエッチング液でＣｒを順次エッチングした。これによ
り、短絡部分２２の除去が行なわれ、短絡欠陥が修正さ
れた（図２（ｄ））。

【００３９】最後に、マスク２４の剥離液（商品名マイ
クロポジットリムーバ１４０：シプレイ社製）を用いて
エッチングマスク２４を全面除去した。

【００４０】これにより、短絡欠陥部の修正された列方
向配線パターン２５ａ，２５ｂが得られた（図２
（ｅ））。

【００４１】上記方法によれば、比較的電流を沢山流す
ことが必要な電子放出素子を用いた画像表示装置のＡｕ
を用いた配線の修正を簡単に行う事ができる。更に、従
来のように配線を切断して短絡欠陥部を修正する方法と
は異なり、本方法は同一ライン上に複数の欠陥が生じた
場合に起こる線欠陥の問題も解決される。また、本実施
例で説明した修正装置及び修正方法は、簡単で、且つ高
価な装置や高度な技術を必要とせず、簡単な方法で修正
できるという利点を有している。

【００４２】加えて、フォトリソグラフィ技術を用いて
いるため、従来のレーザ光による修正とは違い、加工時
の配線基板に対する熱影響やスプラッシュ（飛び散り）
の悪影響を受けることがない。更に、目で実際に観察
し、その観察部分をそのまま修正するものであるので、
欠陥部の修正精度も向上し、画像表示装置の歩留まりを
著しく改善することができる。

【００４３】実施例２以下、本発明の他の実施例を図面を用いて説明する。図
３は画像表示装置用配線基板３０の列方向配線パターン
３２と、行方向配線パターン３５とからなるマトリクス
配線の両パターン間に、層間絶縁膜３３を貫通して短絡
欠陥部３４が発生している場合に、その配線基板３０の
修正工程を示す工程断面図である。

【００４４】図３（ａ）に示すように清浄化した青板ガ
ラスからなる基板３１上に、フォトリソグラフィ法によ
りフォトレジストパターンを形成し、更に真空蒸着法に
より、厚さ１０ｎｍのＣｒ、６００ｎｍのＡｕを順次堆
積後、リフトオフ法により所望の列方向配線パターン３
２を基板３１上に形成した。続いて厚さ１０００ｎｍの
ＳｉＯ₂ からなる層間絶縁膜３３をＲＦスパッタ法によ
り堆積し、フォトエッチング法により所望のパターンに
加工した。次に全面にフォトリソグラフィ法によりフォ
トレジストパターンを形成し、更に真空蒸着法により厚
さ５ｎｍのＴｉ、厚さ１０００ｎｍのＡｕを順次堆積
後、リフトオフ法により所望の行方向配線パターン３５
を形成し、マトリクス配線基板３０とした。

【００４５】この配線基板３０の製品検査をしたとこ
ろ、列方向配線と行方向配線の層間の短絡欠陥を検出
し、短絡欠陥部３４を検知した。

【００４６】そこで、図３（ｂ）に示すようにフォトレ
ジスト層３６（商品名ＡＺ１３７０：ヘキスト社製）を
配線基板３０の上面全面に塗布して形成し、９０℃で乾
燥を行なった。この時のフォトレジスト層３６の厚さは
１．０μｍ〜２．０μｍ程度であった。

【００４７】次に図２（ｃ）に示すように、実施例１で
説明した修正装置２０を用いて短絡欠陥部３４の上方の
フォトレジスト層を選択的に露光し、潜像部３９を形成
した。この時の露光時間は３〜５ｓｅｃであった。

【００４８】続いて図３（ｄ）に示すように、現像液
（商品名ＡＺ−ＭＩＦ３１２Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ：ヘキ
スト社製）を用いて潜像部３９を現像することにより、
欠陥部３４上方に開口部３８ａを持つエッチングマスク
３８を形成した。

【００４９】次に図３（ｅ）に示すように、配線材料Ａ
ｕ用のヨウ素系のエッチング液を用いて短絡欠陥部３４
のＡｕをエッチングし、更にＴｉをフッ酸系のエッチン
グ液で順次エッチングすることにより短絡欠陥部３４の
エッチング除去を行い、短絡欠陥を修正した。

【００５０】最後に図３（ｆ）に示すように、エッチン
グマスク３８の剥離液（商品名マイクロポジットリムー
バ１４０：シプレイ社製）を用いてエッチングマスク３
８を全面除去した。これにより、行方向及び列方向配線
パターン３５，３２間に短絡欠陥のないマトリクス配線
基板を形成することができた。

【００５１】更に、図示していないが、列方向配線３２
と行方向配線３５に接続して、表面伝導型電子放出素子
を形成した。

【００５２】このように層間絶縁膜３３を介して形成さ
れた列方向配線パターン３２と行方向配線パターン３５
からなるマトリクス配線は比較的、電流を沢山流すこと
が必要な電子放出素子を用いた画像表示装置用の基板と
して用いられるが、本発明によればＡｕを用いた配線基
板は配線の修正を簡単、且つ容易に行うことができる。
更に層間に生じた短絡欠陥も配線を断線させることなく
修正することができる。加えて本発明の修正装置及び修
正方法により配線間の短絡を修正することにより、欠陥
のない画像表示装置用の配線基板を形成することができ
る。

【００５３】ところで、本発明は上記実施例のみに限定
されるものではなく、例えば上記実施例では青板ガラス
を用いたが、その他の絶縁性基板、例えば＃７０５９ガ
ラス（コーニング社）、石英、また半導体基板、圧電性
基板等用いることができる。

【００５４】更に上記実施例では列方向配線材料にＣｒ
−Ａｕを用いたが、例えばＣｒ−Ｃｕ、Ｃｒ−Ａｇ、Ｔ
ｉ−Ｃｕ、Ｔｉ−Ａｇでも良く、他の材料の組み合せで
も良い。更にこれらの合金を用いても構わない。また、
上記実施例では２層の積層配線を用いたが単層、３層、
もしくはそれ以上でも良く、仕様に応じて定めれば良
い。加えて上記配線材料、積層については、上記実施例
中の行方向配線についても同じことがいえる。また、上
記実施例では列方向、行方向配線の層間絶縁膜にシリコ
ン酸化膜を用いたが、他の酸化膜やシリコンナイトライ
ド等の窒化膜でも良い。更に、ＳＯＧ、ポリイミド等の
塗布形成可能な絶縁膜を用いても構わない。

【００５５】感光性樹脂としては市販されているポジ型
のレジストが一般的に好ましい。

【００５６】また、上記実施例中、短絡部分の除去にウ
エットエッチングを用いたが、ドライエッチングでも良
く、材料の種類や目的とする素子の仕様やエッチングレ
ート等に応じて定めれば良い。更に上記実施例中、修正
装置の観察光学系として接眼レンズのみの観察であった
が、カラーモニタテレビを用いて双方同時の観察を行っ
ても良い。

【００５７】また、上記実施例では本発明の修正装置及
び修正方法を表面伝導型電子放出素子を用いた画像形成
装置の配線基板の短絡欠陥の修正に用いたが、これに限
定されるものではなく、他の画像形成装置、例えば液晶
ディスプレイの配線基板の修正にも用いることができ
る。加えてフォトマスクの欠陥修正やその他の半導体装
置、光半導体装置等の電極欠陥の修正や配線欠陥の修正
にも適用できることは云うまでもない。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように本発明による修正装
置及び修正方法によれば、（１）汎用性に優れた安価な装置で高度な技術を必要と
せず、簡単な工程で信頼性の高い欠陥修正が行える。（２）修正時に素子にダメージを与えることなく修正す
ることができる。（３）配線材料の限定がなく、エッチングすることので
きる材料であれば欠陥修正を行うことができる。（４）欠陥箇所の修正精度が著しく向上する。（５）観察光学系と修正露光系が同一なので容易に修正
できる。

【００５９】加えて本発明をマトリクス配線を用いた画
像表示装置に適用した場合、マトリクス配線構造におい
て信頼性の高い層間絶縁を得る事ができ、高歩留まり、
且つ高信頼性の画像表示装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る修正装置の一例を示す基本構成図
である。

【図２】本発明の一実施例を示す配線の修正工程図であ
る。

【図３】本発明の他の実施例を示す配線の修正工程図で
ある。

【図４】画像表示装置の配線基板の一部等価回路図であ
る。

【図５】従来の修正方法を示す平面説明図である。

【符号の説明】

５ミラー６プリズム１１ハロゲンランプ１２コレクタレンズ１３フィルタ１４視野絞り１５接眼レンズ１６対物レンズ１７配線基板１８Ｘ−Ｙテーブル２０修正装置２１配線基板２２短絡部分２３フォトレジスト２４エッチングマスク２５列方向配線パターン３１マトリクス配線基板３２列方向配線パターン３３層間絶縁膜３４短絡欠陥部３５行方向配線パターン３６フォトレジスト層３８エッチングマスク４１列方向配線４２行方向配線４３電子放出素子５１行方向配線５２列方向配線５３短絡欠陥部５４切断部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対物レンズ及び接眼レンズからなり試料
を観察する光学レンズ系と、前記対物レンズを通してか
つ前記光学レンズ系と光路を共有して試料を照射する光
源を有する露光系とからなる配線基板修正装置におい
て、前記光源と前記対物レンズとの間に光路の選択露光
領域を調整する絞りと、感光性樹脂の感光波長領域が透
過しないフィルタを設けてなることを特徴とする配線基
板修正装置。
【請求項２】配線基板に感光性樹脂を塗布し、請求項
１に記載した修正装置を用いて前記感光性樹脂を塗布し
た配線基板の配線の欠陥部をフィルタを透過する光で検
出すると共に、照射光を前記欠陥部領域を照射するよう
に選択領域を調整する絞りを調整し、次いでフィルタを
除去して欠陥部を照射後、感光性樹脂パターンを形成
し、その後エッチングすることにより欠陥部を除去する
ことを特徴とする配線基板修正方法。
【請求項３】前記配線基板は表面伝導型電子放出素子
で構成された画像表示装置用基板であり、配線材料にＡ
ｕ、Ｃｕ、又はＡｇを含む請求項２記載の修正方法。