JPH07307140A - 質量分析装置及びイオン源 - Google Patents
質量分析装置及びイオン源Info
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- JPH07307140A JPH07307140A JP7058527A JP5852795A JPH07307140A JP H07307140 A JPH07307140 A JP H07307140A JP 7058527 A JP7058527 A JP 7058527A JP 5852795 A JP5852795 A JP 5852795A JP H07307140 A JPH07307140 A JP H07307140A
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Abstract
ビーム幅の制約を同時に満足させ収束性の優れた良質の
イオンビームを得る。 【構成】電子衝撃イオン化イオン源1のリペラ電極1f
の電圧12dをイオン源状態監視部11に入力し、監視
部11は引出電極1gへの印加電圧の予測値12eを引
出電源9に出力する。引出電極系は加速電極1bのスリ
ット幅を引出電極1gのスリット幅よりも広くし、かつ
加速電極1bからイオンの生成領域までの距離とほぼ等
しく設定する。このため、加速電極1bのスリットから
イオン化室1a内へ漏れた電界はイオンの生成領域近傍
まで広がり、イオンビーム2を効率良く引き出し、加速
電極1b及び引出電極1gのスリットを透過させること
ができる。スリットを透過した電流量をイオン電流モニ
タ8aで測定し、この電流が最大となるように収束電極
1dの電圧12fを調整する。
Description
に、イオン源から角度分散の小さな高透過率のイオンビ
ームを引き出すのに好適なビーム引出電極系を備えるイ
オン源と質量分析装置に関する。
びビーム引出電極系の断面図を示す。電子衝撃イオン化
イオン源の場合、イオン化室1aで電子の照射を受けて
生成されたイオンは、イオン化室1aより数ボルトだけ
プラス電位が印加されたリペラ電極1fに反発し、加速
電極1bの引出スリット15から押し出される。押し出
されたイオンビーム2はクロスオーバー点2cでクロス
した後に拡散するため、収束電極1cを設けてイオンビ
ーム2を収束すると共に、加速電極1bと接地電極1d
の間で最終的に6kV程度に加速される。その際、効率
良くイオンビーム2を分析部すなわちセクタ磁場及びセ
クタ電場に導くため、収束電極1cの電圧を調整してイ
オンビーム2の幅及び発散角を制御していた。具体的に
は、質量分析装置の立ち上げ時に、ファラデーカップ,
マルチプライアー、又はチャンネルプレートを用いたイ
オン電流モニタ8aをイオンビーム2の通過する領域に
挿入し、出射スリット1eを透過するイオン電流量をイ
オン電流モニタ8aで測定し、この電流信号12aが最
大となるように、収束電極1cに印加する電圧12fを
調整していた。
昭57−27553 号公報がある。
般に、加速電極1bと収束電極1cの間隔はスリット1
5の幅に比べて10倍程度広く、電極電圧の変化に対す
るビーム2の発散角の変化即ちクロスオーバー点2cの
位置変化は著しく小さい。しかし、質量分析装置の光学
系は、発散角と同時にビーム幅も一定値以内であること
が要求されるため、一つの電極電圧12fしか調整でき
ない従来の電極構造では、発散角とビーム幅の制約を同
時に満足するような調整は困難である。
を同時に満足するような調整が容易な引出電極系を備え
た高感度な質量分析装置及びそのイオン源を提供するこ
とにある。
領域で生成したイオンを加速電極のスリットから引き出
してイオンビームとし、該イオンビームを収束電極で収
束して出射スリットから出射するイオン源において、前
記加速電極のスリットから引き出されたイオンビームの
クロスオーバー点を前記加速電極から所要距離だけ引き
離すための引出電極を、前記加速電極の下流近傍に設け
ることで達成される。
り幅の小さいスリットを持つ引出電極を、加速電極とイ
オン生成領域の間の距離と同程度だけ、該加速電極下流
側に離した位置に設けることで達成される。
圧条件をイオン源の状態に基づいて設定することで達成
される。
ンビームは引き出された直後にクロスオーバーしてしま
うため発散角が大きくなってしまったが、本発明では引
出電極を設けることでこのクロスオーバー点の位置を加
速電極から引き離すことができるので、発散角を抑える
ことが可能となり、収束性に優れた良質なイオンビーム
が得られる。また、引出電極に印加する電圧が調整可能
なため、発散角とビーム幅の制約を同時に満足すること
が可能となる。
る。図3(a)は電子衝撃イオン化イオン源の電極構成
図、図3(b)はプラズマイオン源の電極構成図であ
り、図中にイオンビームの動きを模式的に示してある。
本発明では、加速電極1bのスリット15の幅と同程度
の距離だけイオン化室1aから下流側に離れた位置に、
補助電極として引出電極1gを設け、イオン源の状態に
基づいてこの引出電極1gの印加電圧を決定する。
域2aで生成されたイオンは、加速電極1bよりも数ボ
ルトだけプラス電圧が印加されたリペラ電極1fに反発
されて、加速電極1b側へ押し出される。しかし、生成
されたイオンの初速度は、熱運動及び電子の衝突のため
乱れており、リペラ電極1fの作る電界だけでは加速電
極1bのスリット15を効率良く透過することができな
い。
ット15の幅を引出電極1gのスリット16の幅よりも
広くし、加速電極1bの下流側に設けた引出電極1gと
加速電極1bとの距離が、加速電極1bとイオン生成領
域2aとの距離とほぼ等しい距離となるように設定す
る。
らイオン化室1a内へ漏れた電界はイオン生成領域2a
近傍まで広がり、イオンビーム2のクロスオーバー点の
位置が引出電極1gの下流側になり、イオンビーム2は
漏れ電界(浸透電界)によって効率良くスリット15か
ら引き出され、引出電極1gのスリット16を透過させ
ることができる。このような浸透電界はスリットから離
れるに従って急速に減衰するため、イオン生成領域2a
内の電界の増加は僅かであり、イオンビーム2のエネル
ギー分散の増加は問題とならない。
合には、加速電極1bとプラズマ2bとの間に、デバイ
長の数倍程度のシース領域が形成される。プラズマ2b
は加速電極1bよりも数ボルト〜数十ボルトだけ電位が
上昇し、イオンビーム2を加速電極1b側に効率良く加
速する。この時の電圧をプラズマ浮遊電位といい、プラ
ズマの最も重要なパラメータの一つである電子温度の約
6倍となる。
め、加速電極1bのスリット15の幅にほぼ比例したイ
オン電流量が得られる。しかし、スリット15の端部で
は中央付近に比べて球面収差が大きいので、スリット1
5の端部を透過したイオンは、過剰に収束され角度分散
を増大させる。そこで、この過剰な収束を相殺するた
め、イオンビーム2の幅と相似的に引出電極1gのスリ
ット16の幅を狭くする。つまり、スリット15の切角
θに対してスリット16の切角をπ−θとすることによ
り、スリット15の球面収差をスリット16の球面収差
で相殺して全体の球面収差を減少させ、角度分散の小さ
なイオンビーム2を得ることができる。
焦点距離fの比f/dと、入射エネルギーΦ1に対する
出射エネルギーΦ2の比Φ2/Φ1との関係を示す図で
ある。これを図3(a)の場合に当てはめると、Φ1は
リペラ電極1fと加速電極1bの電位差の1/2に、Φ
2−Φ1は加速電極1bと引出電極1gの電位差に相当
する。焦点距離fが短い場合にはビームの角度分散が増
加して好ましくない。角度分散を小さくするには、焦点
距離fを長くし、ビームが最も細く収束するクロスオー
バーを引出電極1gの下流側に形成する必要がある。定
量的には、Φ2/Φ1<5を満足するように、引出電極
1gに印加する電圧を設定すれば良いことが分かる。
明する。
置の全体構成図であり、図1は本発明によるイオン源の
構成図で、(a)は縦断面を示す図、(b)は(a)の
A−A矢視図である。本実施例の質量分析装置は二重収
束型としてある。イオン源1で生成されたイオンは引き
出されて収束性の優れた良質のイオンビーム2となり、
イオンビーム2は四重極レンズ7aで拡散された後、セ
クタ磁場3で質量分離される。イオンビーム2は質量分
離された後、四重極レンズ7bで収束されセクタ電場4
でエネルギー弁別されて、最終的に質量分離スリット5
を透過したイオン電流が検出器6で測定される。測定結
果は運転制御・計測データ処理部10でマススペクトル
として記憶される。
およその電圧条件を自動設定するため、例えば電子衝撃
イオン化イオン源の場合には、リペラ電極電圧12dを
イオン源状態監視部11に入力し、引出電極電圧12g
の予測値12eを引出電源9に出力する。プラズマイオ
ン源の場合には、直接プラズマ浮遊電位を測定すること
は困難であるが、セクタ電場では実際の加速電圧である
加速電極電圧Vacc とプラズマ浮遊電位Vp の和Vacc
+Vp に対する軌道半径Rの関係が数1で表わせること
に着目し、プラズマ浮遊電位Vp を推測することができ
る。
は良い予測値ではあるが、必ずしも最適値とは限らな
い。そこで、イオン源状態監視部11は、ビームライン
上に設けたイオン電流モニタ8aの電流信号12aを入
力し、電流値が最大となるように引出電極系の電圧を調
整する。
単な引出電極電圧の設定法を説明する。イオン源全体は
分析部のビームラインの真空容器18に電極支持碍子1
7によって設置されており、真空容器14によってイオ
ン源内部が真空に保持されている。図1(b)のA−A
断面に示すように、引出電極1gは上下二枚の板状電極
からなり、加速電極1bは矩形の開口を有する板状電極
である。イオン源状態監視部11はリペラ電極1fの電
圧12dをもとに引出電極1gの電圧12gを設定す
る。次に、スリット15,16を透過した電流量をイオ
ン電流モニタ8aで測定し、この電流が最大となるよう
に、収束電極1cの電圧12fを調整する。尚、図1の
例では、収束電極1c用電源と引出電極1g用電源とし
て引出電源9を共用している。この場合、電極1cと1
gの印加電圧を同じ電圧にしてもかまわない。このよう
にすることで電源の節約が可能となるが、勿論、別々の
電源を用意してもよいことはいうまでもない。
より本実施例の効果を確認した結果を示す図である。図
5は電子衝撃イオン化イオン源のシミュレーション結果
で、図5(a)は従来のイオン源のシミュレーション結
果である。ここで、加速電極電圧Vacc は6.000k
V、リペラ電極電圧Vr は6.003kV、加速電極の
スリット幅は0.5mmである。イオンは0.01eV相当
の等方的な初速度を持ち、加速電極に近づくにつれてビ
ーム幅が広がるため、加速電極のスリットを透過できな
い成分が存在する。しかも、イオンビームはスリット内
で急激に収束されるため、大きな角度分散を持つことに
なる。収束電極付近ではビーム幅が1mm以上に広がり、
これ以降のビームの収束を困難にしている。このような
状況下においては、イオンビームの電流量を増すために
加速電極のスリット幅を拡大することは有効ではなく、
無効な電流を増やしているに過ぎない。
極のスリット幅を1mm,引出電極のスリット幅を0.5m
m とし、引出電極にはVex=5990Vを印加してい
る。加速電極の幅の広いスリットからイオン生成領域近
傍まで電界がしみ出し、等方的に出射されたイオンを全
て引き出すことに成功している。引出電極1gでの焦点
距離はVexを数ボルト調整するだけで大きく変化し、ビ
ームの角度分散の制御が容易である。これらの理由によ
り、本実施例では、従来に比べて電流量が約2倍,角度
分散が約1/2となることが確認された。また、引出電
極1gのスリット16の幅が狭いため、イオン化室1a
内のガス圧を高く、かつビームライン上の真空度を低く
保てる付加的な効果がある。
ン結果で、(a)はプラズマ浮遊電位Vp が30Vの場
合、(b)はVp が60Vの場合、(c)はVp が60
Vで電圧条件を最適に制御した場合をそれぞれ示す。図
6では基準となる加速電極電圧Vacc を6.00kVで
一定とし、Vacc に対するプラズマの浮遊電位をVpで
表している。Vp =30Vの(a)における最適な引出
電極電圧Vexは5.88kVであった。この場合、Vacc
とVexの電位差は120Vである。次に、図6(b)
でVexを固定したままVp を60Vに上昇させると、イ
オンビームは収束しなくなってしまう。そこで、Vp が
30Vから60Vへ2倍に増加したのに対応させて、V
acc とVexの電位差を120Vから240Vへと2倍に
増加させることにより、即ちVexを5.760kV に調
整することにより、図6(c)のように、ほぼ最適に収
束されたイオンビームを得ることができる。
イオン源の状態を測定することにより容易に角度分散の
小さな大電流イオンビームを得ることが可能となり、質
量分析装置の高感度化が可能となる。
(a)は縦断面を示す図、(b)は(a)のA−A矢視図
である。
成図である。
明図で、(a)は電子衝撃イオン化イオン源の場合、
(b)はプラズマイオン源の場合を示す。
る。
ョン結果を示す図で、(a)は従来のイオン源の場合、
(b)は本実施例のイオン源の場合を示す図である。
を示す図で、(a)はプラズマ浮遊電位Vp が30Vの
場合、(b)はVp が60Vの場合、(c)はVp が6
0Vで電圧条件を最適に制御した場合を示す図である。
である。
c…収束電極、1d…接地電極、1e…出射スリット、
1f…リペラ電極、1g…引出電極、2…イオンビー
ム、2a…イオン生成領域、2b…プラズマ、2c…ク
ロスオーバー、3…セクタ磁場、4…セクタ電場、5…
質量分離スリット、6…検出器、7a,7b…四重極レ
ンズ、8a…イオン電流モニタ、9…引出電源、10…
運転制御・計測データ処理部、11…イオン源状態監視
部、13…分析部電源。
Claims (13)
- 【請求項1】イオン生成領域で生成したイオンを加速電
極のスリットから引き出してイオンビームとし、該イオ
ンビームを収束電極で収束して出射スリットから出射す
るイオン源において、 前記加速電極のスリットから引き出されたイオンビーム
のクロスオーバー点を前記加速電極から所要距離だけ引
き離すための引出電極を、前記加速電極の下流近傍に設
けたことを特徴とするイオン源。 - 【請求項2】イオン生成領域で生成したイオンを加速電
極のスリットから引き出してイオンビームとし、該イオ
ンビームを収束電極で収束して出射スリットから出射す
るイオン源において、 前記加速電極のスリットより幅の小さいスリットを持つ
引出電極を、前記加速電極と前記イオン生成領域の間の
距離と同程度だけ、該加速電極下流側に離した位置に設
けたことを特徴とするイオン源。 - 【請求項3】請求項1または請求項2において、前記加
速電極のスリットによりイオンビームが受ける球面収差
を、前記引出電極のスリットによる影響で相殺する構成
としたことを特徴とするイオン源。 - 【請求項4】請求項3において、前記加速電極のスリッ
トの切角θに対して前記引出電極のスリットの切角をπ
−θとすることで球面収差を相殺する構成としたことを
特徴とするイオン源。 - 【請求項5】イオン源で生成したイオンを引出電極系に
より引き出してイオンビームを生成し、電磁場中でイオ
ンの質量固有の軌道に分離することにより特定質量のイ
オン電流量を測定する質量分析装置において、 イオン源として請求項1乃至請求項4の何れかに記載の
イオン源を用いたことを特徴とする質量分析装置。 - 【請求項6】イオン源と,該イオン源から引き出された
イオンビームを拡散する第1四重極レンズと,該第1四
重極レンズで拡散したイオンビームを質量分離するセク
タ磁場器と,該セクタ磁場器で質量分離されたイオンビ
ームを収束する第2四重極レンズと,該第2四重極レン
ズで収束されたイオンビームをエネルギー弁別するセク
タ電場器と,該セクタ電場器の後段に置かれた質量分離
スリットと,該質量分離スリットを透過したイオン電流
を測定する検出器とを備える二重収束型の質量分析装置
において、 前記イオン源として請求項1乃至請求項4の何れかに記
載のイオン源を用いたことを特徴とする質量分析装置。 - 【請求項7】請求項5または請求項6において、前記イ
オン源の電圧条件から前記引出電極に印加する電圧条件
を設定することを特徴とする質量分析装置。 - 【請求項8】請求項7において、前記イオン源が電子衝
撃イオン化イオン源で、該イオン源で生成されたイオン
を引出電極側に押し出すリペラ電極の電圧に基づいて、
引出電極に印加する電圧条件を設定することを特徴とす
る質量分析装置。 - 【請求項9】請求項7において、イオンビームライン上
に設置したイオン電流モニタの測定値に基づいて引出電
極の電圧条件を調整し、イオン電流量が最大になる電圧
条件に修正することを特徴とする質量分析装置。 - 【請求項10】請求項7において、前記イオン源がプラ
ズマイオン源で、プラズマ浮遊電位に基づいて引出電極
に印加する電圧条件を設定することを特徴とする質量分
析装置。 - 【請求項11】請求項10において、前記プラズマ浮遊
電位を電磁場中のイオンの回転半径を用いて求めること
を特徴とする質量分析装置。 - 【請求項12】イオン源で生成したイオンを引出電極系
により引き出してイオンビームを生成し、該イオンビー
ムを電磁場中を通過させることにより特定質量のイオン
を検出する質量分析装置において、 前記引出電極系は、前記イオン源からイオンを引き出す
ためのスリットを有する加速電極と、 該加速電極の下流近傍に設けられ、該加速電極のスリッ
トから引き出されたイオンビームのクロスオーバー点を
該加速電極から所要距離だけ引き離すための引出電極と
を備えたことを特徴とする質量分析装置。 - 【請求項13】イオン生成領域で生成したイオンを引出
電極系により引き出してイオンビームを生成し、該イオ
ンビームを電磁場中を通過させることにより特定質量の
イオンを検出する質量分析装置において、 前記引出電極系は、前記イオン生成領域からイオンを引
き出すためのスリットを有する加速電極と,該加速電極
のスリットより幅の小さいスリットを有する引出電極と
を備え、 前記加速電極と前記イオン生成領域の間の距離と同程度
だけ、前記加速電極の下流側に離れた位置に前記引出電
極を設けたことを特徴とする質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05852795A JP3303587B2 (ja) | 1994-03-17 | 1995-03-17 | 質量分析装置及びイオン源 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-47090 | 1994-03-17 | ||
| JP4709094 | 1994-03-17 | ||
| JP05852795A JP3303587B2 (ja) | 1994-03-17 | 1995-03-17 | 質量分析装置及びイオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07307140A true JPH07307140A (ja) | 1995-11-21 |
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ID=26387240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05852795A Expired - Fee Related JP3303587B2 (ja) | 1994-03-17 | 1995-03-17 | 質量分析装置及びイオン源 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3303587B2 (ja) |
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-
1995
- 1995-03-17 JP JP05852795A patent/JP3303587B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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