JPH07308658A

JPH07308658A - 液管理装置

Info

Publication number: JPH07308658A
Application number: JP6107199A
Authority: JP
Inventors: Koyata Sugimoto; 小弥太杉本; Yoichi Sanai; 洋一讃井
Original assignee: Tokico Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-05-20
Filing date: 1994-05-20
Publication date: 1995-11-28

Abstract

(57)【要約】【目的】酸素センサのゼロ点／スパン調整作業を効率
良く行うことが可能な液管理装置の提供を目的とする。【構成】洗浄液中の過酸化水素から分解された酸素
を、酸素センサ８に供給するための被測定ガス供給路２
５の途中に電磁弁２６を設け、更に、この電磁弁２６
に、酸素についての濃度が既知な校正ガスを供給する校
正ガス供給手段２７を設けたので、酸素センサ８のゼロ
点／スパン調整時において、電磁弁２６を切り換ること
によって、既知濃度の酸素を含む校正ガスを直接酸素セ
ンサ８に供給できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造時に使用
される洗浄液等の有効成分を測定する濃度分析装置に係
り、特に、洗浄液中の過酸化水素、オゾンなどの酸素を
発生させる有効成分の濃度を確実に管理できる液管理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体等の洗浄液の濃度分析装置
として、特願平４−３６７５５号に示される液管理装置
が知られている。この特願平４−３６７５５号に示され
る液管理装置は、洗浄液中の有効成分を分解して酸素ガ
スを発生させ、この発生した酸素ガスの濃度に基づき、
該洗浄液中の有効成分の濃度を測定するようにしたもの
である。

【０００３】そして、上記のような液管理装置では、酸
素ガスの濃度を測定する酸素センサの検出値が、予め定
めておいた上限濃度しきい値、下限濃度しきい値との間
にあるか否かを判断し、その判断結果に基づきアラーム
を出力するようにしている。具体的には、洗浄液中の有
効成分濃度が下限濃度しきい値より減少してしまった場
合には、ウエハの洗浄が充分行われないので、次工程に
かかっても、ウエハには不純物やゴミが付いたままとな
っており、これら不純物やゴミを原因とする腐食によっ
て、半導体ウエハが破損されるおそれが生じ、一方、洗
浄液中の有効成分濃度が上限濃度しきい値を越えてしま
った場合には、エッチングが進み過ぎることによって、
ウエハの一部が破損されるおそれが生じ、このため、酸
素ガスの濃度を測定する酸素センサの検出値が、予め定
めておいた上限濃度しきい値、下限濃度しきい値との間
に無い場合にはアラームを出力して、作業者に対し半導
体の洗浄工程を停止するか、あるいは洗浄液の成分チェ
ックを行わせるようにしている。なお、上記酸素センサ
としては、ポーラログラフィック法やガルバニ電池式な
どの電気化学還元を利用したものが使用されている。そ
して、このような酸素センサでは、酸素透過膜を通じて
内部に取り込まれた酸素が電極反応により還元され、酸
素濃度に比例した電流が生じるようになっており、この
電流を測定することにより酸素濃度が検出される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に構成された液管理装置では、酸素センサの内部液とし
て塩化カリウム電解液や、水酸化カリウム電解液を使用
しており、このような内部液中に含まれる溶存酸素は徐
々に変化するものであるので、該酸素センサのゼロ点を
定期的に校正して、該酸素センサの信頼性が低下するこ
とを防止している。そして、この場合の校正方法として
は、酸素濃度がゼロである校正液（すなわち、過酸化水
素、オゾン等が含まれない溶液：例えば、純水）を供給
し、このときの酸素センサの出力値をゼロとなるように
調整するものであるが、一方で、校正液を供給する被測
定液供給路から酸素センサに至るまでの経路には、一定
容積を有するタンク等の構成が設けられており、このた
め、酸素センサの出力値が定常となるために多くの時間
が必要であり、これによりゼロ点調整の作業性が悪くな
るという問題が発生していた。

【０００５】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、酸素センサのゼロ点／スパン調整作業を
効率良く行うことが可能な液管理装置の提供を目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明では、溶液中に含まれる酸素を発生させる成分
の濃度を測定する液管理装置であって、酸素を発生させ
る成分を含む溶液を供給する被測定液供給路と、該被測
定液供給路により供給された溶液中の成分を分解して酸
素を発生させ、発生した酸素を抽出する分解抽出手段
と、該分解抽出手段にて抽出された酸素を供給する被測
定ガス供給路と、該被測定ガス供給路により供給された
酸素濃度を測定する酸素センサとを有し、前記被測定ガ
ス供給路の途中には経路を切換えるための流路切換手段
が設けられ、該流路切換手段には、酸素についての濃度
が既知な校正ガスを供給する校正ガス供給手段が接続さ
れていることを特徴とする。

【０００７】

【作用】この発明によれば、溶液中の成分から分解され
た酸素を酸素センサに供給するための被測定ガス供給路
の途中に流路切換手段を設け、更に、この流路切換手段
に、酸素についての濃度が既知な校正ガスを供給する校
正ガス供給手段を接続したので、酸素センサのゼロ点／
スパン調整時において、流路切換手段を切り換ることに
よって、既知濃度の酸素を含む校正ガスを酸素センサに
直接供給することが可能となり、その結果、酸素センサ
が定常となるための待ち時間を少なくすることが可能と
なる。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１〜図４に基づい
て説明する。図１は液管理装置の概略構成図を示すもの
であって、流体の流路からなる流体流路系１００と、デ
ータ及び制御信号を処理する制御系１０１とに区分され
る。流体流路系１００は、吸引装置１、希釈装置２、塩
酸センサ３、加熱／分解装置４、抽出装置５、抽出ガス
供給装置６、除湿器７、酸素センサ８、校正手段９とか
ら構成されるものであって、これら各構成要素は流路に
より接続されている。制御系１０１は、制御演算回路１
０、警報出力回路１１、警報設定回路１２、警報器１
３、印字装置１４、表示部１５、操作部１６とから構成
されるものであって、これら各構成要素はケーブルによ
り接続されている。

【０００９】まず、流体流路系１００の各構成要素につ
いて説明すると、吸引装置１と希釈装置２とは加熱／分
解装置４に接続され、加熱／分解装置４と抽出ガス供給
装置６は抽出装置５に接続され、抽出装置５は除湿器７
を介して酸素センサ８に接続されている。吸引装置１は
ポンプ等の輸送手段により構成されるものであって、半
導体等の洗浄液が貯留されているタンクや洗浄槽（図示
しない）から、被測定液供給路Ａを通じて洗浄液を吸引
する。

【００１０】なお、前記洗浄液には酸素を発生させる、
例えば過酸化水素、オゾン等の成分が含有されている。
また、洗浄液としては、具体的にはＨＣｌ−Ｈ₂Ｏ₂−Ｈ
₂Ｏからなる半導体用洗浄液（本実施例では酸素を発生
させる成分は過酸化水素）が使用されている。また、こ
の洗浄液中に含まれる塩酸は、吸引装置１と加熱／分解
装置４との間に位置する塩酸センサ３により検出される
ものであるが、この場合、洗浄液中に、塩酸に代えて他
の成分（例えば、硫酸、アンモニア等）が含まれる場
合、塩酸センサ３に代えて当該成分を検出するセンサを
設けるようにする。

【００１１】希釈装置２は、ポンプ等の輸送手段により
構成されて、流路Ｂを通じて供給された純水（希釈液）
を、吸引装置１にて吸引された洗浄液に供給、添加する
ためのものである。加熱／分解装置４は、洗浄液を一時
貯留する容器２０と、容器２０内にて洗浄液を加熱する
ホットチューブ（図示略）と、容器２０に充填されて、
過酸化水素、オゾンなどの成分を分解して、酸素ガスを
発生させる活性炭等の固体触媒２１とから構成される。

【００１２】そして、加熱／分解装置４においては、ホ
ットチューブにより洗浄液が加熱された状態で、該洗浄
液中の過酸化水素が固体触媒２１により分解されて、酸
素が生成される。そして、この加熱分解装置４にて生成
された酸素は、前記洗浄液とともに更に下流に位置する
抽出装置５に供給される。なお、加熱／分解装置４とし
ては、触媒を用いて過酸化水素を分解して酸素を発生さ
せるようにしたが、これに限定されず、電気分解により
酸素を発生させるようにしても良い。また、加熱／分解
装置４は、ホットチューブにより構成される加熱手段
と、触媒により構成される分解手段とを同一の容器２０
内で一体化したものであるが、これに限定されず、別々
の容器にて、上流側に加熱手段、下流側に分解手段を設
けるようにしても良い。また、酸素を発生させる成分
（過酸化水素）が触媒のみによって分解可能である場合
には、ホットチューブからなる加熱手段を省略しても良
い。

【００１３】抽出装置５は、加熱／分解装置４にて得た
酸素ガスを、洗浄液から抽出する反応セル２２を有する
ものであって、該酸素ガスは、抽出ガス供給装置６から
供給された窒素等の抽出ガスにより抽出されるようにな
っている。そして、この抽出装置５では、抽出ガスによ
り抽出された酸素ガスが、該反応セル２２の上部に設け
られた被測定ガス供給路２３に送られ、一方、酸素ガス
を抽出後の洗浄液がドレンとして、該反応セル２２の下
部に設けられた流路２４から排出されるようになってい
る。

【００１４】一方、抽出ガス供給装置６は、図示しない
ガス供給源から供給された抽出ガスの流量を調整する流
量調整弁と、抽出ガスの流量を検出する流量計とを有す
るものであって、流量計の計測値に基づき流量調整弁の
開度が調整されるようになっている。なお、抽出ガス供
給装置６は、マスフローコントローラのような流量測定
と流量調整とが同時に行われるものを使用しても良い。
また、抽出装置５において、抽出ガスによって抽出され
て酸素ガスは、被測定ガス供給路２３の途中に設けられ
た除湿器７にて水分が除去された後、酸素センサ８に
て、抽出ガス中の酸素濃度が検出される。

【００１５】酸素センサ８は、抽出装置５にて抽出され
た酸素ガスの濃度を検出するものであって、該酸素セン
サ８から出力された酸素濃度を示す検出信号は、プリ
アンプ８Ａにて増幅された後、演算制御回路１０に供給
される。なお、本実施例では、被測定ガス供給路２３に
除湿器７を設け、被測定ガス供給路２３内を流れるガス
を乾燥させるようにしているが、この除湿器７は、特に
反応セル２２内から水分が流れこまない場合には省略し
てもよい。また、抽出装置５の反応セル２２に抽出ガス
を供給したが、これに限定されず、該抽出装置５と加熱
分解装置４との間に位置する流路の途中に、抽出ガスを
供給する抽出ガス供給装置６を設けてもよい。

【００１６】校正手段９は、除湿器７と酸素センサ８と
を接続する被測定ガス供給路２５の途中に設けられた電
磁弁２６と、酸素センサ８の校正ガスを供給する校正ガ
ス供給手段２７と、校正ガス供給手段２７と電磁弁２６
の下流側に位置する被測定ガス供給路２５とを接続する
校正ガス供給路２８と、校正ガス供給路２８の途中に設
けられた電磁弁２９とから構成されるものであり、更
に、校正ガス供給手段２７は、図２に示されるように、
校正ガスとして１００％の酸素ガス（酸素についての濃
度が既知な校正ガス）を供給する酸素供給系３０と、校
正ガスとして１００％の窒素ガス（酸素についての濃度
が既知な校正ガス）を供給する窒素供給系３１とから構
成されている。

【００１７】酸素供給系３０は、酸素ガスを貯留する酸
素ボンベ３２と、校正ガス供給路２８と酸素ボンベ３２
とを接続する管路３３と、管路３３の途中に設けられて
酸素ガスの供給量を調整するマスフローコントローラ３
４と、マスフローコントローラ３４に対して酸素ガスの
供給量を設定する設定器３５とから構成されるものであ
る。窒素供給系３１は、酸素供給系３０と同様に、窒素
ガスを貯留する窒素ボンベ３６と、校正ガス供給路２８
と窒素ボンベ３６とを接続する管路３７と、管路３７の
途中に設けられて窒素ガスの供給量を調整するマスフロ
ーコントローラ３８と、マスフローコントローラ３８に
対して窒素ガスの供給量を設定する設定器３９とから構
成されるものである。なお、上述した校正ガス供給手段
２７では、設定器３５・３９での設定に基づき、酸素供
給系３０による酸素供給と、窒素供給系３１による窒素
供給とを同時に行わせて、酸素と窒素との混合割合を設
定することができ、これにより所望の濃度の酸素ガスを
含む校正ガスを供給することが可能となる。具体的に
は、校正ガス供給手段２７において、酸素供給系３０に
より供給される酸素と、窒素供給系３１により供給され
る窒素との流量比を１：９（酸素１、窒素９）に設定し
た場合には、１０％の酸素を含む校正ガスを供給するこ
とが可能となる。そして、以上のように構成された校正
手段９によれば、電磁弁２６・２９及びマスフローコン
トローラ３４・３８を選択的に操作することにより、１
００％の酸素ガス、酸素ガスを全く含まない窒素ガス、
あるいは酸素ガスと窒素ガスとをある割合で混合したガ
ス（上述したように１０％の酸素を含むガス）を校正ガ
スとして、酸素センサ８に対して直接供給することがで
きる。

【００１８】次に、制御演算回路１０、警報出力回路１
１、警報設定回路１２、印字装置１４、表示部１５、操
作部１６とを有する制御系１０１について詳細に説明す
る。

【００１９】制御演算回路１０には、図１に示されるよ
うに、酸素センサ８からプリアンプ８Ａを経て出力され
た検出信号、塩酸センサ３からプリアンプ３Ａを経て
出力された検出信号が入力され、また、該制御演算回
路１０からは、吸引装置１、希釈装置２、抽出ガス供給
装置６を駆動し、これら装置１・２・６により供給され
る流体流量を調整するための駆動信号〜、校正手段
９の電磁弁２９・２９を切り換えるためのバルブ切換信
号、酸素センサ８の検出信号の出力レベルを調整す
るためのゼロ点／スパン調整信号が出力される。な
お、駆動信号〜により調整される吸引装置１、希釈
装置２、抽出ガス供給装置６での各流体流量は、操作部
１６での操作内容に基づき設定される。

【００２０】また、この制御演算回路１０では、洗浄液
の流量、希釈液の流量、抽出ガスの流量と、酸素センサ
８にて出力された検出信号とに基づいて、洗浄液中の
過酸化水素濃度を演算し、その演算結果を、出力信号
・として印字装置１４及び表示部１５に対しそれぞれ
出力する。また、これら印字装置１４及び表示部１５で
は、制御演算回路１０からの出力信号・に基づい
て、オペレータが認識／理解できる単位系、例えば％あ
るいはｇ／Ｌという単位で印字、表示する。

【００２１】一方、酸素センサ８から制御演算回路１０
に出力された検出信号は警報出力回路１１に供給さ
れ、この警報出力回路１１にて、この検出信号が異常
なものか否かが判定される。すなわち、警報出力回路１
１では、制御演算回路１０を通じて供給された酸素セン
サ８の検出信号が、警報設定回路１２にて設定した上
限、下限濃度しきい値より大きいか否かを比較し、その
結果、酸素センサ８の検出信号が、警報設定回路１２
にて設定した上限しきい値を上回ったか否か、下限しき
い値を下回ったか否かにより、異常を示すアラームを出
力して、作業者に異常を報知するようにしている。な
お、警報設定回路１２にて設定される上限、下限しきい
値は、例えば操作部１６の操作内容に応じて適宜設定変
更されるものである。

【００２２】次に、通常運転モードと、センサ校正モー
ド時とにおける演算制御回路１１の制御内容について説
明する。《通常運転モード》演算制御回路１１から、吸引装置
１、希釈装置２、抽出ガス供給装置６をそれぞれ駆動す
るための駆動信号〜をぞれぞれ出力する。なお、通
常運転モード時では、吸引装置１、希釈装置２、抽出ガ
ス供給装置６の各流体流量は、可変させず一定量に設定
する。

【００２３】そして、このような吸引装置１、希釈装置
２、抽出ガス供給装置６の駆動により、過酸化水素を有
効成分とする洗浄液が、加熱分解装置４内に導かれ、こ
の加熱分解装置４内において加熱されて、かつ充填され
た触媒により該洗浄液中の過酸化水素が酸素と水とに分
解される。また、この加熱分解装置４において得られた
酸素ガスは、抽出ガス供給装置６から供給された抽出ガ
スとともに抽出装置５に供給され、この抽出装置５にお
いて洗浄液から気液分離された後、酸素センサ８にてそ
の濃度が測定され、更にプリアンプ８Ａにて、酸素セン
サ８の酸素濃度を示す検出信号の直線性や利得の補正
を行う。

【００２４】また、プリアンプ８Ａを経た酸素センサ８
の検出信号は制御演算回路１０に供給され、更に、制
御演算回路１０にて、該検出信号に基づき、洗浄液中
に含有されていた過酸化水素の割合（％濃度、ｇ／Ｌ）
を演算して、印字装置１４、表示部１５にリアルタイム
で出力する。一方、酸素センサ２７にて検出された検出
信号は警報出力回路１１に供給され、この警報出力回
路１１にて、検出信号により示される酸素濃度が、警
報設定回路１２にて設定した上限濃度しきい値（例え
ば、５０％）より大きい否か、下限濃度しきい値（例え
ば、４０％）より大きいか否かを判断し、その判断の結
果、酸素濃度が、上限濃度しきい値より大きい、あるい
は下限濃度しきい値より小さい場合には、警報器１３に
対して作業者に対して洗浄液をチェックさせるための警
報アラームを出力する。

【００２５】なお、警報設定回路１２にて設定される５
０％という上限濃度しきい値、４０％という下限濃度し
きい値は、任意に設定変更可能であることは言うまでも
無い。また、制御演算回路１０には、塩酸センサ３から
塩酸濃度を示す検出信号が入力されるようになってお
り、この制御演算回路１０では、検出信号により示さ
れる塩酸濃度が、酸素センサ８と同様、予め設定した上
限濃度しきい値と下限濃度しきい値との間から外れる場
合に、警報器１３に対して警報を出力させるようにして
いる。

【００２６】なお、上述した通常運転モードでは、吸引
装置１、希釈装置２、抽出ガス供給装置６の各流体流量
は一定量に設定したが、これに限定されず、希釈装置
２、抽出ガス供給装置６により供給される流体流量を、
吸引装置１により供給される流体流量に対して変更する
場合には以下の（一）（二）のような演算を行う。（一）加熱／分解装置２に供給される過酸化水素の濃
度は、吸引装置１により供給される洗浄液の流量、抽出
ガス供給装置６により供給される抽出ガスの流量が一定
である場合に、希釈装置３により供給される希釈液の流
量に応じて変化する。すなわち、酸素センサ８にて検出
される酸素濃度（過酸化水素の濃度）は、希釈装置３の
流量を増大させることで減少し、希釈装置３の流量を減
少させることで増加し、その割合は希釈液による洗浄液
の希釈割合に比例する。

【００２７】そして、この希釈割合は、吸引装置１の流
量を、吸引装置１と希釈装置３の合計の流量で割った値
のことであり、吸引装置１に吸入される過酸化水素の濃
度を求めるには、酸素センサ８にて検出された過酸化水
素の濃度に、この希釈割合を掛けるようにし、これによ
り正確な過酸化水素の濃度を求めるようにする。（二）一方、加熱／分解装置２に供給される洗浄液、
希釈液の流量が一定であっても、抽出ガス供給装置６か
ら抽出ガスを多く供給すると、酸素センサ８に供給され
る酸素濃度は減少し、抽出ガスの流量と酸素濃度は反比
例の関係となる。従って、酸素センサ８から得られた酸
素濃度を、抽出ガスの流量で割ることによって、加熱／
分解装置２に実際に供給された過酸化水素の濃度が求め
られる。

【００２８】《センサ校正モード》センサのゼロ点調整
を行うには、図３に示すようにタイミング（イ）におい
て、制御演算回路１０から校正手段４に対して、電磁弁
２６を閉として、抽出装置５からの酸素供給を遮断する
とともに、電磁弁２９を開として、校正ガス供給手段２
７から校正ガス供給路２８、被測定ガス供給路２５を通
じて、酸素センサ８に校正ガス（本例では窒素ガスを供
給する）を直接供給するためのバルブ切換信号を出力
する。これにより、酸素センサ８から出力される酸素濃
度を示す検出信号の出力レベルは急激に低下する。

【００２９】そして、タイミング（イ）から一定時間経
過したタイミング（ロ）において、演算制御回路１０
は、酸素センサ８のプリアンプ８Ａに対してゼロ点／ス
パン校正信号を出力して、検出信号のゼロ点調整を
行わせる。すなわち、本例では、酸素センサ８から出力
される検出信号により示される酸素濃度がプラス側に
ｍ％だけシフトしているので、これを調整すべく、タイ
ミング（ロ）において、酸素センサ８のプリアンプ８Ａ
に対してゼロ点／スパン校正信号を出力する。

【００３０】一方、上述したタイミング（ロ）において
は、演算制御回路１０からはゼロ点／スパン校正信号
とともに、校正手段４に対して、電磁弁２６を開とし、
かつ電磁弁２９を閉とするバルブ切換信号を出力し、
これにより、抽出装置５からの酸素供給を再開するとと
もに、校正ガス供給手段２７からの校正ガス（本例では
窒素ガスを供給する）を供給を停止する。その結果、タ
イミング（ロ）以降の測定においては、酸素センサ８の
ゼロ点が調整された状態で、以降の酸素濃度の検出を行
うことが可能となり、該酸素センサ８による洗浄液中の
過酸化水素濃度の測定を正確に行うことが可能となる。
なお、上述したタイミング（イ）とタイミング（ロ）と
の間の待ち時間ｘは、酸素センサ８が定常となるのに必
要な時間であって、酸素センサ８の特性、校正ガス供給
路２８、被測定ガス供給路２５等の長さ、容量に応じて
予め設定される。

【００３１】次に、図４を参照して、従来の方式による
酸素センサ８のゼロ点について説明する。この従来の方
式のゼロ点調整では、単に、被測定液供給路Ａを通じて
過酸化水素を全く含有しない校正液（例えば、純水）を
供給するようにしたものであり（このときバルブ２６は
開とした状態に設定する）、これにより、校正液は、加
熱／分解装置４、抽出装置５等を順次経て処理されるこ
とになるので、酸素センサ８の検出信号が定常となる
までの時間が（時間ｙで示す）、図３の方式と比較して
多く必要となる。すなわち、図３に示すように校正ガス
を直接酸素センサ８に供給するようにした場合では、図
４に示す従来の校正と比較して、酸素センサ８の検出信
号を安定させるのに必要な時間（時間ｘ＜＜時間ｙ）
が少なくて済むことが確認された。

【００３２】以上詳細に説明したように本実施例に示す
液管理装置では、洗浄液中の過酸化水素から分解された
酸素を、酸素センサ８に供給するための被測定ガス供給
路２５の途中に電磁弁２６を設け、更に、この電磁弁２
６に、酸素についての濃度が既知な校正ガスを供給する
校正ガス供給手段２７を設けたので、酸素センサ８のゼ
ロ点調整時において、電磁弁２６を切り換ることによっ
て、既知濃度の酸素を含む校正ガスを直接酸素センサ８
に供給することが可能となり、その結果、酸素センサ８
が定常となるための待ち時間（ｘ）を少なくすることが
でき、酸素センサ８のゼロ点調整作業を効率良く行うこ
とが可能となる。

【００３３】なお、本実施例では、校正ガス供給手段２
７からの校正ガスの供給に際して電磁弁２９を開とした
が、この電磁弁２９を設けることは必須では無く、マス
フローコントローラ３４・３８の制御により、校正ガス
である窒素ガス、酸素ガスを供給するようにしても良
い。

【００３４】また、本実施例では、校正ガスとして、酸
素を全く含有しない窒素ガスを用いたゼロ点調整につい
て説明したが、この窒素ガスに代えて、酸素を１００％
含む校正ガスを用いた場合には、酸素センサ８の検出信
号が示す測定値と、濃度が１００％の場合に酸素セン
サ８が示すであろう理論濃度との差を計算し（この差を
プリアンプ８Ａに記憶させる）、以降の洗浄液測定に際
して、酸素センサ８の検出信号が示す濃度値から、こ
の比を乗算あるいは除算し、これにより該酸素センサ８
の検出信号が示す濃度値を補正すると良い（スパン調
整）。また、これに限定されず、１００％の窒素ガス、
１００％の酸素ガスに代えて、酸素を一定濃度含む校正
ガス（例えば、上述したように１０％の酸素を含む校正
ガス）を用いた場合には、酸素センサ８の検出信号が
示す測定値と、酸素濃度が１０％の場合に酸素センサ８
が示すであろう理論濃度との差を計算し（この差をプリ
アンプ８Ａに記憶させる）、以降の洗浄液測定に際し
て、酸素センサ８の検出信号が示す濃度値から、この
差を乗算あるいは除算し、これにより該酸素センサ８の
検出信号が示す濃度値を補正すると良い（スパン調
整）。

【００３５】また、本実施例では、校正ガスとして窒素
あるいは酸素ガスを用いたが、酸素濃度が予め判ってい
るものであれば、これに限定されず、例えば空気（酸素
濃度は２０．９５％）を使用しても良い。また、本実施
例では、プリアンプ８Ａにて酸素センサ８の出力信号を
補正するようにしたが、これに限定されず、プリアンプ
８Ａでは信号を処理せず、制御演算回路１０にてゼロ点
調整、スパン調整を行うようにしても良い。

【００３６】また、本実施例では、半導体の製造時に使
用される洗浄液中の過酸化水素、オゾンの有効成分濃度
を検出する液管理装置について説明したが、これに限定
されず、このような液管理装置を、野菜工場などの農業
関係の施設で、殺菌、洗浄に使用する洗浄液中の過酸化
水素、オゾンの有効成分濃度を検出することに利用して
も良い。

【００３７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、溶液中の成分から分解された酸素を酸素センサ
に供給するための被測定ガス供給路の途中に流路切換手
段を設け、更に、この流路切換手段に、酸素についての
濃度が既知な校正ガスを供給する校正ガス供給手段を接
続したので、酸素センサのゼロ点／スパン調整時におい
て、流路切換手段を切り換ることによって、既知濃度の
酸素を含む校正ガスを直接酸素センサに供給することが
可能となり、その結果、酸素センサが定常となるための
待ち時間を少なくすることができ、酸素センサのゼロ点
／スパン調整作業を効率良く行うことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】流体流路系１００と制御系１０１を示す図。

【図２】校正ガス供給手段２７の具体的構成を示す図。

【図３】本発明に係わるゼロ点／スパン調整を説明する
ためのタイムチャート。

【図４】従来に係わるゼロ点／スパン調整を説明するた
めのタイムチャート。

【符号の説明】

Ａ被測定液供給路１吸引装置２希釈手段３塩酸センサ４加熱／分解装置（分解抽出手段）５抽出装置（分解抽出手段）７除湿器８酸素センサ９校正手段１０制御演算手段２３被測定ガス供給路２５被測定ガス供給路２６電磁弁（流路切換手段）２７校正ガス供給手段２８校正ガス供給路２９電磁弁（流路切換手段）１００流体流路系１０１制御系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸素を発生させる成分を含む溶液を供給
する被測定液供給路と、該被測定液供給路により供給された溶液中の成分を分解
して酸素を発生させ、発生した酸素を抽出する分解抽出
手段と、該分解抽出手段にて抽出された酸素を供給する被測定ガ
ス供給路と、該被測定ガス供給路により供給された酸素濃度を測定す
る酸素センサとを有し、前記被測定ガス供給路の途中には経路を切換えるための
流路切換手段が設けられ、該流路切換手段には、酸素に
ついての濃度が既知な校正ガスを供給する校正ガス供給
手段が接続されていることを特徴とする液管理装置。