JPH07309855A - グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートの製造方法 - Google Patents

グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートの製造方法

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JPH07309855A
JPH07309855A JP6106619A JP10661994A JPH07309855A JP H07309855 A JPH07309855 A JP H07309855A JP 6106619 A JP6106619 A JP 6106619A JP 10661994 A JP10661994 A JP 10661994A JP H07309855 A JPH07309855 A JP H07309855A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、グリシドールとメタクリル
酸メチルとのエステル交換反応によってグリシジルメタ
クリレートを得る際に、グリシドール反応率を上昇さ
せ、精製過程で製品純度を低下させることなくグリシジ
ルメタクリレートを得る製造方法を提供することにあ
る。 【構成】 グリシドールとメタクリル酸メチルとのエス
テル交換反応によって、グリシジルメタクリレートを製
造する方法において、触媒としてKX(式中、Kはカリ
ウムを表し、Xはシアンイオン、シアン酸イオン、また
はチオシアン酸イオンを表す)と第4級アンモニウム塩
または第4級ホスホニウム塩の存在下に反応を行い、反
応終了後、触媒不活性化剤を添加して減圧下に未反応メ
タクリル酸メチルを回収した後、グリシジルメタクリレ
ートを回収することを特徴とするグリシジルメタクリレ
ートの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はグリシドールとアクリル
酸メチルまたはメタクリル酸メチル(以下、「メタクリ
ル酸メチル等」ということがある)とをエステル交換触
媒の存在下に反応させて、グリシジルアクリレートまた
はグリシジルメタクリレート(以下、「グリシジルメタ
クリレート等」と総称することがある)を製造する方法
に関する。グリシジルメタクリレート等は樹脂改質剤、
熱硬化性塗料、接着剤、繊維処理剤、帯電防止剤、およ
びイオン交換樹脂等種々の工業用原料として広く使用さ
れている。近年、塗料材料、特に紛体塗料分野、電子材
料および繊維分野において塩素含有量の少ないグリシジ
ルメタクリレート等が求められている。
【0002】
【従来の技術】グリシジルメタクリレートは一般的に、
メタクリル酸とアルカリを反応させ、メタクリル酸のア
ルカリ塩を得、ついで第4級アンモニウム塩の存在下に
エピクロルヒドリンと反応させ、脱食塩することにより
製造されている。このように製造されたグリシジルメタ
クリレート等には通常塩素化合物が塩素濃度で表示する
と1,000〜10,000ppm程度残存しており、
この残存塩素が塗料材料(紛体塗料)、電子材料および
繊維分野において塗料特性、電気特性の低下、皮膚のか
ぶれ、そして近年は特に発ガン性および作業環境の改善
等の問題を引き起こしている。
【0003】更に、不純物として含まれる塩素化合物は
樹脂および、塗料等の用途に使用した場合、性能の低下
を招く原因ともなる。したがって、製造されたグリシジ
ルメタクリレート等から不純物である塩素化合物は極力
除去されることが望ましい。しかしながら、これらの製
造方法により得られたグリシジルメタクリレート等は通
常、塩素を数千ppm含有している。このような問題の
ないグリシジルメタクリレート等を製造する方法として
グリシドールとメタクリル酸メチル等とエステル交換反
応により製造する方法がある。この方法により製造され
たグリシジルメタクリレート等は本質的に塩素を含まな
いと考えられ、先に記した樹脂にしたときの性能低下お
よび毒性、環境問題を大幅に改善することができる。
【0004】エステル交換反応によりグリシジルメタク
リレート等を製造する方法としては、特公昭47−38
41号公報に触媒としてホスフィンの存在下に行うこと
が記載されているが、そこに見いだされたグリシジルメ
タクリレートの生成量はガスクロマトグラフ上で観察さ
れたのみで、一般工業的には意味がない。特公昭53−
6133号公報にはシアン化カリウムを触媒として用い
ることによりグリシドール転化率98%と高反応率を示
したが、メタクリル酸メチルおよびグリシジルメタクリ
レートの二重結合や、グリシドール、グリシジルメタク
リレートのエポキシ基に付加することにより、反応終了
後、黒ないしは黒褐色の固形ないしは油状の沈澱物が生
成し、蒸留前にこれらを除去しなければならず、煩雑で
ある。
【0005】特公昭61−37268号公報では強アル
カリ触媒、例えばナトリウムメチラート等を用いて合成
を行い、生成するメタノールを減圧下に直ちに除去する
ことによりグリシジルメタクリレート収率95%で得て
いる。しかし、蒸留前に触媒をろ過しなければならず、
さらにナトリウムアルコラートは一般的にはメタクリル
酸エステル類のアニオン重合開始剤であり、工業的に実
施するにはかなりの危険を伴う。
【0006】特開平4−173783号公報では酢酸カ
リウムを触媒として用い、酢酸カリウムはグリシドール
中に溶解させ、この溶液をメチルメタクリレート(MM
A)中に滴下反応させることによりグリシジルメタクリ
レートを得ている。この場合も反応終了後に触媒の酢酸
カリウムをろ過しなければならず、例えろ過したとして
も、微量に溶け込んだ触媒により蒸留後期のグリシジル
メタクリレート回収時に、グリシドールの複製が起こ
り、得られたグリシジルメタクリレートの純度が大きく
低下する(特開平6−1780号公報、比較例3)。
【0007】また、酢酸カリウムはグリシドールに溶解
させる溶解槽が必要であり、さらにグリシドールは酢酸
カリウムが存在すると不安定になるため、低温下に保存
しなければならないと言う欠点も有する。特開平6−1
780号公報では触媒としてトリエチルアミンを、さら
にグリシドールとメタクリル酸メチルとの反応により生
成するメタノールをヘキサンにより速やかに留去する事
によりメタクリル酸メチルへのメタノール付加物(LB
1)の生成を抑えながら、グリシドール転化率を上げ、
さらには蒸留後期のグリシドールの生成を抑え、高純度
のグリシジルメタクリレート(実施例1において、9
8.9重量%)を得ている。
【0008】しかしながら、生成したメタノールを除く
ために反応主原料のグリシドールとメタクリル酸メチル
以外のヘキサンが必要であり、これは釜収率を悪化さ
せ、さらには回収され再使用するメタクリル酸メチルは
ヘキサンを含むためその純度調整を毎回行わなければな
らず、作業が煩雑である。そして、触媒のトリエチルア
ミンはメタクリル酸メチル回収時に除去されることを特
徴としているが、回収再使用するメタクリル酸メチル中
のトリエチルアミン量も常にチェックしなければならな
い。加えて、得られたグリシジルメタクリレート中に微
量のアミン成分の混入か考えられ、グリシジルメタクリ
レートの品質を決定的に悪くすることが懸念される。
【0009】ジャーナル・オブ・アメリカンケミカル・
ソサイアティ( Journal of theAmerican Chemical Soc
iety ,93巻,195頁,(1971年1月13日発
行))には水層中のシアン化ナトリウムを用いて油層中
のハロゲン化アルキルと反応させ、シアン化アルキルを
得るのに相間移動触媒として第4級アンモニウムまたは
第4級ホスホニウム塩が用いられている。これらは水層
および油層での反応を進行させるための相間移動触媒で
あり、本方法のエステル交換反応とは全く関係ないもの
である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術の課題を解決し、グリシドール反応率を上昇させ、
また精製過程で製品純度を低下させることなくグリシジ
ルメタクリレート等を得る方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、触媒としてKX(式中Kはカリウムを表し、X
はシアンイオン、シアン酸イオン、またはチオシアン酸
イオンを表す)と第4級アンモニウム塩または第4級ホ
スホニウム塩((R1 2 3 4 )NYまたは(R1
2 3 4 )PY)の存在下に反応を行い、反応終了
後触媒不活性化剤を添加して減圧下に未反応アクリル酸
メチルまたはメタクリル酸メチルを回収した後、グリシ
ジルメタクリレートまたはグリシジルアクリレートを回
収することを特徴とするグリシジルアクリレートまたは
グリシジルメタクリレートの製造方法である。
【0012】本発明を反応式で説明すると反応工程では
触媒として加えたKXと(R1 23 4 )NY又は
(R1 2 3 4 )PYとが複分解を起こし、(R1
23 4 )NXまたは(R1 2 3 4 )PXが
生成し、これが新たな触媒として活性を示す。
【0013】 KX+(R1 2 3 4 )NY → (R1 2 3 4 )NX+KY または
【0014】 KX+(R1 2 3 4 )PY → (R1 2 3 4 )PX+KY
【0015】エステル交換反応終了後、(R1 2 3
4 )NX又は(R1 2 3 4)PX触媒の活性を
なくするために不活性化剤(SB)を添加し、触媒の
(R12 3 4 )NXまたは(R1 2 3 4
PXをSBにより複分解することにより(R1 2 3
4 )NBまたは(R1 2 3 4 )PBとSXに変
化させる。これらは全くエステル交換触媒としての活性
を示さない。
【0016】 (R1 2 3 4 )NX+SB → (R1 2 3 4 )NB+SX または
【0017】 (R1 2 3 4 )PX+SB → (R1 2 3 4 )PB+SX
【0018】すなわち、合成工程においてはエステル交
換反応として充分な活性を示し、反応終了後は触媒を複
分解により完全に失活させることにより、高純度のグリ
シジルメタクリレートが得られることになる。本発明の
製造方法の採用により、グリシジルメタクリレート等の
純度を実質的に98.0重量%以上、もしくは98.5
重量%以上の高純度のグリシジルメタクリレート等を比
較的容易に得ることができ、さらにエポキシ化合物特有
の不純物としての塩素化合物を全く含まないグリシジル
アクリレートまたはグリシジルメタクリレートを得るこ
とができる。
【0019】本発明で使用されるKXはシアン化カリウ
ム、シアン酸カリウムもしくはチオシアン酸カリウムが
例示される。KXは上記の1種でも良く、任意の2種以
上のものを組み合わせて使用しても良いが、上記の中で
もシアン化カリウムが好適に使用される。本発明におい
て使用されるKXの配合割合はグリシドール1モルに対
して1〜500ミリモルの量であり、好ましくは5〜1
00ミリモル、さらに好ましくは5〜50ミリモルであ
る。
【0020】第4級アンモニウム塩としてテトラメチル
アンモニウムクロリド、トリメチルエチルアンモニウム
クロリド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、メ
チルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルア
ンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウム
クロリド、もしくはトリエチルベンジルアンモニウムク
ロリドが例示できる。また、第4級ホスホニウム塩とし
てテトラメチルホスホニウムアイオダイド、もしくはテ
トラフェニルホスホニウムクロリドが例示できる。第4
級アンモニウム塩または第4級ホスホニウム塩は上記の
1種でも良く、任意の2種以上のものを組み合わせて使
用しても良いが、上記の中でもテトラメチルアンモニウ
ムクロリド、メチルトリエチルアンモニウムクロリド、
テトラエチルアンモニウムクロリドおよびトリエチルベ
ンジルアンモニウムクロリドが好適に使用される。
【0021】本発明において使用される第4級アンモニ
ウム塩または第4級ホスホニウム塩の配合割合は、グリ
シドール1モルに対して1〜500ミリモルの量であ
り、好ましくは5〜200ミリモル、さらに好ましくは
5〜100ミリモルである。本発明で使用される触媒不
活性化剤としてメタンスルホン酸、メタリルスルホン
酸、オクチルスルホン酸、ラウリルスルホン酸のナトリ
ウム塩、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸、キシレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸
のナトリウム塩、燐タングステン酸、もしくは燐モリブ
デン酸のナトリウム塩が例示できる。
【0022】触媒不活性化剤は上記から選ばれた1種で
も良く、任意の2種以上のものを組み合わせて使用して
も良いが、上記の中でもp−トルエンスルホン酸ソー
ダ、燐タングステン酸ナトリウム、燐モリブデン酸ナト
リウムが好適に使用される。本発明において使用される
触媒不活性化剤の使用割合はグリシドール1モルに対し
て1〜500ミリモルの量であり、好ましくは5〜20
0ミリモル、さらに好ましくは5〜100ミリモルであ
る。
【0023】これまでに開示されたグリシドールを用い
たグリシジルクリレートおよびグリシジルメタアクリレ
ートの製造方法では反応率が不十分であったり、合成中
に触媒に基づく不純物生成およびエステル交換反応によ
り生成してきたメタノールとメタクリル酸メチル等およ
びグリシジルメタクリレート等とのマイケル付加物等の
生成によりグリシジルメタクリレート等の収率の低下お
よび純度の低いものしか得られていない。さらにはこれ
までに開示された多くの方法は固形触媒を使用してお
り、これらの触媒が存在するとグリシジルメタクリレー
ト等の蒸留中にグリシドールが再生され、得られた製品
中にグリシドールが含まれ製品純度を低下させ、グリシ
ジルメタクリレート等の製品収率も大きく低下させてい
た。
【0024】本発明の特徴はグリシドールとメタクリル
酸メチル等とのエステル交換反応において触媒活性の強
い触媒(例えばシアン化カリウムとテトラメチルアンモ
ニウムクロリド)を用い、短時間で、しかも不純物の生
成が極めて少なくエステル交換反応を終了させ、その後
触媒不活性化剤(例えばp−トルエンスルホン酸ソー
ダ、燐タングステン酸ソーダ)を加えることにより用い
た触媒の活性をなくし、蒸留中におけるグリシドールの
生成を完全に抑えることができるものである。グリシド
ールとメタクリル酸メチル等とのエステル交換反応にお
いて単にシアン化カリウムを触媒として用い、反応終了
後に触媒不活性化剤を加えてもなんら効果のないことは
自明である(本願の比較例2)。すなわち、シアン化カ
リウムは塩化4級アンモニウムとの複分解によりシアン
化4級アンモニウムと塩化カリウムとに変化し、このシ
アン化4級アンモニウムがエステル交換反応の触媒とし
て作用する。
【0025】そして、エステル交換反応終了後にp−ト
ルエンスルホン酸ソーダを添加することにより触媒のシ
アン化4級アンモニウムをシアン化ナトリウムとp−ト
ルエンスルホン酸塩4級アンモニウムとに複分解する事
により完全に触媒活性を無くすることができる。このこ
とにより蒸留時に、特に蒸留後期の製品グリシジルメタ
クリレートを回収する際のグリシドールの複製を完全に
抑えることができ、結果として高純度の、具体的には9
8%以上、さらには98.5%以上の純度を持つグリシ
ジルメタクリレートが得られることになる。以下に実施
例および比較例により本発明を具体的に説明する。
【0026】
【実施例】実施例および比較例での原料及び製品の純度
測定はGC法によった。本実施例等において、原料、製
品等の純度(%)は、全て重量%、ppmは重量ベース
で示してある。
【0027】実施例1 ガス導入管、温度計、攪拌機、塔頂部に還流比調節器を
備え付けたマクマホンパッキンを充填した15mmφ×
300mmの蒸留塔およびサンプル抜きだし管を備え付
けた内容積2リットルの5つ口フラスコにメタクリル酸
メチル500g(5モル)とグリシドール74g(1モ
ル)とシアン化カリウム0.55g(8.5ミリモル)
とテトラメチルアンモニウムクロリド1.86g(17
ミリモル)およびp−メトキシフェノール0.5gを加
えた。圧力を300mmHgに減圧し、加熱を開始し
た。釜温度70℃より還流か開始され、蒸留塔塔頂温度
を38℃〜55℃になるように還流比10〜30に調節
し、生成したメタノールをメタクリル酸メチルとの共沸
混合物として留去させた。
【0028】反応開始3.5時間後、釜温は74℃にな
り反応を終了させた。これは塔頂温度が55℃以下に調
節できないことにより判断され、このときのグリシドー
ル反応率はガスクロマトグラフ分析より99%であるこ
とが分かった。この後直ちに、p−トルエンスルホン酸
ソーダ5.6g(51ミリモル)を添加して、圧力を1
00mmHgに減圧して、過剰量のメタクリル酸メチル
を回収した。次に、圧力を30〜4mmHgに減圧し、
初留成分として31gを回収した。この初留成分には
4.8%のグリシドールを含み、次の合成原料として使
用される。主留成分として98gが回収され、グリシジ
ルメタクリレートの純度は98.3%で、グリシドール
は0.8%であった。
【0029】実施例2 実施例1と同様の装置に、触媒および触媒不活性化剤の
仕込量を実施例1の1/2にした以外は同様の操作で行
った。反応開始5時間後、終了とし、このときのグリシ
ドール反応率は98%であり、蒸留により得られたグリ
シジルメタクリレートの純度は98.0%で、グリシド
ールを0.9%含んでいた。
【0030】実施例3 実施例1と同様の装置に、触媒および触媒不活性化剤の
仕込量を実施例1の2倍にした以外は同様の操作で行っ
た。反応開始3時間後、終了とし、このときのグリシド
ール反応率は99%であり、蒸留により得られたグリシ
ジルメタクリレートの純度は98.5%で、グリシドー
ルは0.7%であった。
【0031】実施例4 実施例1と同様の装置に、実施例1のシアン化カリウム
に代えてチオシアン酸カリウム0.83g(8.5ミリ
モル)を加えた以外は実施例1と同様の操作を行った。
反応開始3.5時間後、終了とし、このときのグリシド
ール反応率は99%であった。この後直ちに、燐タング
ステン酸ナトリウム7.2g(26ミリモル)を添加
し、実施例1と同様の操作で蒸留を行い、得られたグリ
シジルメタクリレートの純度は98.2%で、グリシド
ールは0.9%であった。
【0032】比較例1 実施例1と同様の装置に触媒としてシアン化カリウム
0.55g(8.5ミリモル)のみを添加し、その後は
実施例1と同様の操作を行った。グリシドール反応率9
9%を達成したが、蒸留中にグリシドールが再生してき
たために、得られた製品グリシジルメタクリレートの純
度は95%であり、製品収量は65gと極めて低いもの
であった。
【0033】比較例2 比較例1と同様に合成実験を行い、グリシドール反応率
99%を達成した。その後、p−トルエンスルホン酸ソ
ーダ5.6g(51ミリモル)を添加して蒸留を行った
が、蒸留中のグリシドールの再製は全く抑えることがで
きなかった。結果として得られた製品グリシジルメタク
リレートの純度は96%であった。
【0034】比較例3 実施例1と同様の装置に触媒としてテトラメチルアンモ
ニウムクロリド1.86g(17ミリモル)のみを添加
し、その後は実施例1と同様の操作を行い、エステル交
換反応を2時間行ったが、反応は殆ど進行しなかった。
【0035】
【発明の効果】本発明の製造方法により、グリシドール
反応率を上昇させ、また精製過程で製品純度を低下させ
ることなく高い純度のグリシジルメタクリレート等を得
ることができる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グリシドールとアクリル酸メチルまたは
    メタクリル酸メチルとのエステル交換反応によって、グ
    リシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレート
    を製造する方法において、触媒としてKX(式中、Kは
    カリウムを表し、Xはシアンイオン、シアン酸イオン、
    またはチオシアン酸イオンを表す)と第4級アンモニウ
    ム塩または第4級ホスホニウム塩の存在下に反応を行
    い、反応終了後、触媒不活性化剤を添加して減圧下に未
    反応メタクリル酸メチルまたはアクリル酸メチルを回収
    した後、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタ
    クリレートを回収することを特徴とするグリシジルアク
    リレートまたはグリシジルメタクリレートの製造方法。
  2. 【請求項2】 使用する触媒KXがシアン化カリウムも
    しくはチオシアン化カリウムであり、該触媒の使用割合
    がグリシドール1モルに対して1〜500ミリモルの量
    である請求項1に記載のグリシジルアクリレートまたは
    グリシジルメタクリレートの製造方法。
  3. 【請求項3】 使用する第4級アンモニウム塩または第
    4級ホスホニウム塩がテトラメチルアンモニウムクロリ
    ド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド、ジメチル
    ジエチルアンモニウムクロリド、メチルトリエチルアン
    モニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリ
    ド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエ
    チルベンジルアンモニウムクロリド、テトラメチルホス
    ホニウムアイオダイド、もしくはテトラフェニルホスホ
    ニウムブロマイドから選ばれた1種以上でありかつ、該
    第4級アンモニウム塩または第4級ホスホニウム塩の使
    用割合がグリシドール1モルに対して1〜500ミリモ
    ルの量である請求項1に記載のグリシジルアクリレート
    またはグリシジルメタクリレートの製造方法。
  4. 【請求項4】 触媒不活性化剤がアルキルスルホン酸、
    アルキルベンゼンスルホン酸、燐タングステン酸、燐モ
    リブデン酸のナトリウム塩もしくはカルシウム塩から選
    ばれた1種以上であり且つ、該アルカリ金属塩の使用割
    合がグリシドール1モルに対して1〜500ミリモルの
    量である請求項1に記載のグリシジルアクリレートまた
    はグリシジルメタクリレートの製造方法。
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