JPH07309882A - 新規な有機ハロシラン化合物 - Google Patents
新規な有機ハロシラン化合物Info
- Publication number
- JPH07309882A JPH07309882A JP12969294A JP12969294A JPH07309882A JP H07309882 A JPH07309882 A JP H07309882A JP 12969294 A JP12969294 A JP 12969294A JP 12969294 A JP12969294 A JP 12969294A JP H07309882 A JPH07309882 A JP H07309882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anthracene
- compound
- bis
- methyl
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract description 28
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- RNUIRRIRPXUDDA-UHFFFAOYSA-N [Li]c1c2ccccc2c([Li])c2ccccc12 Chemical compound [Li]c1c2ccccc2c([Li])c2ccccc12 RNUIRRIRPXUDDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- -1 organosilane compound Chemical class 0.000 abstract description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 9
- UVWJISPBLMJTAY-UHFFFAOYSA-N chloro-[10-[chloro(dimethyl)silyl]anthracen-9-yl]-dimethylsilane Chemical compound C1=CC=C2C([Si](C)(Cl)C)=C(C=CC=C3)C3=C([Si](C)(C)Cl)C2=C1 UVWJISPBLMJTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 6
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 6
- YSGLLJRKJNWNRL-UHFFFAOYSA-N chloro-[10-(chloro-methyl-propylsilyl)anthracen-9-yl]-methyl-propylsilane Chemical compound C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC=12)[Si](Cl)(CCC)C)(Cl)CCC YSGLLJRKJNWNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(Cl)Cl GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JZGLNWMUOJCJAC-UHFFFAOYSA-N CCCC[Si](C)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](C)(CCCC)Cl)Cl Chemical compound CCCC[Si](C)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](C)(CCCC)Cl)Cl JZGLNWMUOJCJAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZVWNNRWADUWZSI-UHFFFAOYSA-N C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CC)C)(Cl)CC Chemical compound C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CC)C)(Cl)CC ZVWNNRWADUWZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- UACGRVDRVCFSEA-UHFFFAOYSA-N butyl-dichloro-methylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(Cl)Cl UACGRVDRVCFSEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(Cl)Cl PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIYNXUJQMFTDTE-UHFFFAOYSA-N C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)C)(Cl)CCCCC Chemical compound C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)C)(Cl)CCCCC KIYNXUJQMFTDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCEFCQRYEZEQHH-UHFFFAOYSA-N C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCCC)C)(Cl)CCCCCC Chemical compound C[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCCC)C)(Cl)CCCCCC HCEFCQRYEZEQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APGQQLCRLIBICD-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](C)(Cl)Cl APGQQLCRLIBICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 2
- MAOWXLISNQNMLK-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C(Br)C(Br)=CC=C3C=C21 MAOWXLISNQNMLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJCJUKPQTUAAPE-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)CC)(Cl)CCCCC Chemical compound C(C)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)CC)(Cl)CCCCC VJCJUKPQTUAAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSEWLFMFWKFSAN-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCC)CCC)(Cl)CCC Chemical compound C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCC)CCC)(Cl)CCC WSEWLFMFWKFSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIHZMNTXNKKPKY-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCC)CCC)(Cl)CCCC Chemical compound C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCC)CCC)(Cl)CCCC BIHZMNTXNKKPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLLIRMRELHUNEK-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)CCC)(Cl)CCCCC Chemical compound C(CC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCCC)CCC)(Cl)CCCCC KLLIRMRELHUNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LROLHFCWZJNOJH-UHFFFAOYSA-N C(CCC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCC)CCCC)(Cl)CCCC Chemical compound C(CCC)[Si](C=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)[Si](Cl)(CCCC)CCCC)(Cl)CCCC LROLHFCWZJNOJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJFIUIRJRBJEAN-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Si](CC)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](CC)(CCCCCC)Cl)Cl Chemical compound CCCCCC[Si](CC)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](CC)(CCCCCC)Cl)Cl QJFIUIRJRBJEAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUCCEWOLJYKOKQ-UHFFFAOYSA-N CCCC[Si](CC)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](CC)(CCCC)Cl)Cl Chemical compound CCCC[Si](CC)(C1=C2C=CC=CC2=C(C3=CC=CC=C31)[Si](CC)(CCCC)Cl)Cl MUCCEWOLJYKOKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROMCRKSGDFOTBY-UHFFFAOYSA-N CCC[SiH2]C Chemical compound CCC[SiH2]C ROMCRKSGDFOTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTUNPPVSTXVMDU-UHFFFAOYSA-N C[Si](Cl)(CCC)C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 Chemical compound C[Si](Cl)(CCC)C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 UTUNPPVSTXVMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- VKKIJVWVIVXTPU-UHFFFAOYSA-N butyl-dichloro-ethylsilane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)CC VKKIJVWVIVXTPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBFFKGKLVUBCCZ-UHFFFAOYSA-N butyl-dichloro-propylsilane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)CCC DBFFKGKLVUBCCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)CCCC NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOZZKLIPYZQXEP-UHFFFAOYSA-N dichloro(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)CCC UOZZKLIPYZQXEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](Cl)Cl SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUBRNJIQABZTGC-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-hexylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)CC LUBRNJIQABZTGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSWLBCMCTJVASW-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](Cl)(Cl)CC GSWLBCMCTJVASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFRCJGTYWOGSBP-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)CC KFRCJGTYWOGSBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYBGCWBTSXUFI-UHFFFAOYSA-N dichloro-pentyl-propylsilane Chemical compound C(CCCC)[Si](Cl)(Cl)CCC UHYBGCWBTSXUFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUECYFCCKJWRRX-UHFFFAOYSA-N dihexylsilicon Chemical compound CCCCCC[Si]CCCCCC AUECYFCCKJWRRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 発光極大波長が可視領域にシフトし
た、優れた発光特性、光電導性及びレジスト特性をもつ
有機ケイ素系高分子の原料として、またシリコーン原料
またはシリル化剤として有用な化合物の提供。 【構成】 式〔1〕 【化1】 (式中、R1及びR2は同一のもしくは異なる炭素数1〜6
の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2の炭素数の合
計が8以下であり、X1及びX2は同一のもしくは異なるハ
ロゲン原子である)で表される9,10−ビス(ジアル
キルハロシリル)アントラセン。
た、優れた発光特性、光電導性及びレジスト特性をもつ
有機ケイ素系高分子の原料として、またシリコーン原料
またはシリル化剤として有用な化合物の提供。 【構成】 式〔1〕 【化1】 (式中、R1及びR2は同一のもしくは異なる炭素数1〜6
の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2の炭素数の合
計が8以下であり、X1及びX2は同一のもしくは異なるハ
ロゲン原子である)で表される9,10−ビス(ジアル
キルハロシリル)アントラセン。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な有機ハロシラン
化合物に関する。有機ハロシラン化合物は、シリコーン
原料またはシリル化剤として、また近年では、発光材
料、光電導性材料、レジスト材料等として注目されつつ
ある有機ケイ素系高分子の原料モノマーとして、工業的
にあるいは合成化学上重要な化合物である。本発明は、
発光材料、光電導性材料、レジスト材料等として有用な
新規な有機ケイ素系ポリマーの製造原料に用いることが
できる新規なモノマーに関する。
化合物に関する。有機ハロシラン化合物は、シリコーン
原料またはシリル化剤として、また近年では、発光材
料、光電導性材料、レジスト材料等として注目されつつ
ある有機ケイ素系高分子の原料モノマーとして、工業的
にあるいは合成化学上重要な化合物である。本発明は、
発光材料、光電導性材料、レジスト材料等として有用な
新規な有機ケイ素系ポリマーの製造原料に用いることが
できる新規なモノマーに関する。
【0002】
【従来の技術】有機ケイ素系高分子は、発光機能等を有
する高分子として近年注目を浴びている。例えば、有機
ポリシランは主鎖のSi-Si 結合に由来するσ−σ共役に
より発光を示すことが明らかとなっている。例えば、代
表的なポリシランであるポリ(メチル−n−プロピルシ
ラン)は340nmを極大波長とする発光スペクトルを
示し、また、ポリ(ジ−n−ヘキシルシラン)は342
nmを極大波長とする発光を示す。しかしながら、上記
ポリシランは発光波長が紫外線領域にあるため、表示素
子等の材料として応用できるものではなかった。これに
対して、2つの置換基がすべてアリール基であるポリ
(ジフェニルシラン)において、その側鎖に位置する両
方のフェニル基のパラ位にアルキル基を導入した、有機
溶媒に可溶性のポリ(ジ−p−アルキルフェニルシラ
ン)は、可視領域である400nm付近に発光極大を有
することが知られている[ケミカルレビューズ(Chemic
al Reviews) 、第89巻、第6号、第1382頁(198
9年)]。しかしながら、発光効率はかなり低いもので
あり、しかも、有機溶媒に可溶性のポリ(ジ−p−アル
キルフェニルシラン)を得るためには、そのアルキル基
に比較的長鎖のn−ブチルやn−ヘキシルを導入するこ
とが必要であった。そのことによって、該ポリマーを得
るための原料モノマーの合成が非常に困難となる上に、
モノマーの反応性も落ち、生成ポリマーが数%程度の収
率でしか得られないという結果となり、発光効率の低さ
と併せて実用上充分満足できるものではなかった。ま
た、有機ケイ素系高分子に関する公報として、式
する高分子として近年注目を浴びている。例えば、有機
ポリシランは主鎖のSi-Si 結合に由来するσ−σ共役に
より発光を示すことが明らかとなっている。例えば、代
表的なポリシランであるポリ(メチル−n−プロピルシ
ラン)は340nmを極大波長とする発光スペクトルを
示し、また、ポリ(ジ−n−ヘキシルシラン)は342
nmを極大波長とする発光を示す。しかしながら、上記
ポリシランは発光波長が紫外線領域にあるため、表示素
子等の材料として応用できるものではなかった。これに
対して、2つの置換基がすべてアリール基であるポリ
(ジフェニルシラン)において、その側鎖に位置する両
方のフェニル基のパラ位にアルキル基を導入した、有機
溶媒に可溶性のポリ(ジ−p−アルキルフェニルシラ
ン)は、可視領域である400nm付近に発光極大を有
することが知られている[ケミカルレビューズ(Chemic
al Reviews) 、第89巻、第6号、第1382頁(198
9年)]。しかしながら、発光効率はかなり低いもので
あり、しかも、有機溶媒に可溶性のポリ(ジ−p−アル
キルフェニルシラン)を得るためには、そのアルキル基
に比較的長鎖のn−ブチルやn−ヘキシルを導入するこ
とが必要であった。そのことによって、該ポリマーを得
るための原料モノマーの合成が非常に困難となる上に、
モノマーの反応性も落ち、生成ポリマーが数%程度の収
率でしか得られないという結果となり、発光効率の低さ
と併せて実用上充分満足できるものではなかった。ま
た、有機ケイ素系高分子に関する公報として、式
【0003】
【化2】
【0004】(式中、 Ra は炭素数2〜30のπ共役型
の2価の有機基を表し、 Rb は炭素数1〜30の炭化水
素基を表し、 Xa はハロゲン原子を表し、mは1≦m≦
2、nはn≧2を満たす数を表す)で表される含ケイ素
有機化合物(Ra として挙げられた種々の基中にアリーレ
ン基がある) を開示した特開平6−9786号公報があ
り、またこの公報中の先行技術の記載でポリ(ジシラニ
ンフェニレン)誘導体、ポリ(ジシラニレンナフチレ
ン)誘導体等が言及されている。なお、モノマーに関
し、式
の2価の有機基を表し、 Rb は炭素数1〜30の炭化水
素基を表し、 Xa はハロゲン原子を表し、mは1≦m≦
2、nはn≧2を満たす数を表す)で表される含ケイ素
有機化合物(Ra として挙げられた種々の基中にアリーレ
ン基がある) を開示した特開平6−9786号公報があ
り、またこの公報中の先行技術の記載でポリ(ジシラニ
ンフェニレン)誘導体、ポリ(ジシラニレンナフチレ
ン)誘導体等が言及されている。なお、モノマーに関
し、式
【0005】
【化3】
【0006】で表される化合物が知られている(日本化
学会第68回春季大会予稿集353頁(1994))。
学会第68回春季大会予稿集353頁(1994))。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、可視領
域に発光を示し、通常の有機溶媒に可溶性の高分子量有
機ケイ素系ポリマーを効率良く得ることを目的として、
そのモノマーである有機ハロシランについて鋭意研究を
重ねた結果、アントラセンの9位及び10位にジアルキ
ルハロシリル基が導入されており、モノマーとしての合
成が容易で、またポリマーにした場合、可視領域に発光
を示し、可溶性の高分子量ポリマーを収率よく得ること
ができる新規な有機ハロシラン化合物を見い出し、本発
明を完成した。
域に発光を示し、通常の有機溶媒に可溶性の高分子量有
機ケイ素系ポリマーを効率良く得ることを目的として、
そのモノマーである有機ハロシランについて鋭意研究を
重ねた結果、アントラセンの9位及び10位にジアルキ
ルハロシリル基が導入されており、モノマーとしての合
成が容易で、またポリマーにした場合、可視領域に発光
を示し、可溶性の高分子量ポリマーを収率よく得ること
ができる新規な有機ハロシラン化合物を見い出し、本発
明を完成した。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、式〔1〕
【0009】
【化4】
【0010】(式中、R1及びR2は同一のもしくは異なる
炭素数1〜6の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2
の炭素数の合計が8以下であり、X1及びX2は同一のもし
くは異なるハロゲン原子である)で表される9,10−
ビス(ジアルキルハロシリル)アントラセン(以下、ビ
スシリルアントラセン化合物〔1〕という)に関する。
炭素数1〜6の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2
の炭素数の合計が8以下であり、X1及びX2は同一のもし
くは異なるハロゲン原子である)で表される9,10−
ビス(ジアルキルハロシリル)アントラセン(以下、ビ
スシリルアントラセン化合物〔1〕という)に関する。
【0011】本発明のビスシリルアントラセン化合物
〔1〕中のR1及びR2は、同一のもしくは異なる炭素数1
〜6の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2の炭素数
の合計が8以内である。好ましくはR1もしくはR2は、炭
素数1〜4の直鎖状アルキル基であり、またさらに好ま
しくはR1及びR2のいずれか一方がメチル基である。R1ま
たはR2が分岐状であるか、R1またはR2の炭素数が6を越
えるか、またはR1及びR2の炭素数の合計が8を越える
と、その立体障害によりモノマーとしての反応性が落
ち、ポリマーの収率が低下する結果となり、工業的に不
利である。R1及びR2として具体的にはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基及
びn−ヘキシル基が挙げられる。ビスシリルアントラセ
ン化合物〔1〕のX1またはX2で示されるハロゲン原子と
しては、好ましくは塩素原子または臭素原子が挙げら
れ、特に好ましくは塩素原子である。
〔1〕中のR1及びR2は、同一のもしくは異なる炭素数1
〜6の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2の炭素数
の合計が8以内である。好ましくはR1もしくはR2は、炭
素数1〜4の直鎖状アルキル基であり、またさらに好ま
しくはR1及びR2のいずれか一方がメチル基である。R1ま
たはR2が分岐状であるか、R1またはR2の炭素数が6を越
えるか、またはR1及びR2の炭素数の合計が8を越える
と、その立体障害によりモノマーとしての反応性が落
ち、ポリマーの収率が低下する結果となり、工業的に不
利である。R1及びR2として具体的にはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基及
びn−ヘキシル基が挙げられる。ビスシリルアントラセ
ン化合物〔1〕のX1またはX2で示されるハロゲン原子と
しては、好ましくは塩素原子または臭素原子が挙げら
れ、特に好ましくは塩素原子である。
【0012】ビスシリルアントラセン化合物〔1〕の具
体例として9,10−ビス(ジメチルクロロシリル)ア
ントラセン、9,10−ビス(ジエチルクロロシリル)
アントラセン、9,10ビス(ジn−プロピルクロロシ
リル)アントラセン、9,10−ビス(ジn−ブチルク
ロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチルエ
チルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メ
チルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、9,1
0−ビス(メチルn−ブチルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(メチルn−ペンチルクロロシリ
ル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−ヘキシ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(エチ
ルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、9,10
−ビス(エチルn−ブチルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(エチルn−ペンチルクロロシリ
ル)アントラセン、9,10−ビス(エチルn−ヘキシ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(n−
プロピルn−ブチルクロロシリル)アントラセン、9,
10−ビス(n−プロピルn−ペンチルクロロシリル)
アントラセンが挙げられ、好ましい例として9,10−
ビス(ジメチルクロロシリル)アントラセン、9,10
−ビス(メチルエチルクロロシリル)アントラセン、
9,10−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)ア
ントラセン、9,10−ビス(メチルn−ブチルクロロ
シリル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−ペ
ンチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス
(メチルn−ヘキシルクロロシリル)アントラセンが挙
げられ、特に好ましい例として9,10−ビス(ジメチ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチ
ルエチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス
(メチルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、
9,10−ビス(メチルn−ブチルクロロシリル)アン
トラセンが挙げられる。ビスシリルアントラセン化合物
〔1〕は、例えば、式〔2〕
体例として9,10−ビス(ジメチルクロロシリル)ア
ントラセン、9,10−ビス(ジエチルクロロシリル)
アントラセン、9,10ビス(ジn−プロピルクロロシ
リル)アントラセン、9,10−ビス(ジn−ブチルク
ロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチルエ
チルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メ
チルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、9,1
0−ビス(メチルn−ブチルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(メチルn−ペンチルクロロシリ
ル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−ヘキシ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(エチ
ルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、9,10
−ビス(エチルn−ブチルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(エチルn−ペンチルクロロシリ
ル)アントラセン、9,10−ビス(エチルn−ヘキシ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(n−
プロピルn−ブチルクロロシリル)アントラセン、9,
10−ビス(n−プロピルn−ペンチルクロロシリル)
アントラセンが挙げられ、好ましい例として9,10−
ビス(ジメチルクロロシリル)アントラセン、9,10
−ビス(メチルエチルクロロシリル)アントラセン、
9,10−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)ア
ントラセン、9,10−ビス(メチルn−ブチルクロロ
シリル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−ペ
ンチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス
(メチルn−ヘキシルクロロシリル)アントラセンが挙
げられ、特に好ましい例として9,10−ビス(ジメチ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチ
ルエチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス
(メチルn−プロピルクロロシリル)アントラセン、
9,10−ビス(メチルn−ブチルクロロシリル)アン
トラセンが挙げられる。ビスシリルアントラセン化合物
〔1〕は、例えば、式〔2〕
【0013】
【化5】
【0014】で表される9,10−ジリチオアントラセ
ンまたは式〔3〕
ンまたは式〔3〕
【0015】
【化6】
【0016】(式中、X3はハロゲン原子である。)で表
されるグリニャール試薬、すなわち9,10−ジマグネ
シウムハロゲノアントラセンと、式〔4〕
されるグリニャール試薬、すなわち9,10−ジマグネ
シウムハロゲノアントラセンと、式〔4〕
【0017】
【化7】
【0018】(式中、R1及びR2は前記と同様であり、X4
はビスシリルアントラセン化合物〔1〕のX1またはX2と
同義である)で表されるジアルキルジハロシランとを、
不活性溶媒中不活性ガス雰囲気下において反応させるこ
とにより、容易にしかも高収率で得ることができる。X3
で示されるハロゲン原子としては、好ましくは塩素原子
または臭素原子が挙げられる。X4で示されるハロゲン原
子としては、好ましくは塩素原子または臭素原子が挙げ
られ、特に好ましくは塩素原子である。
はビスシリルアントラセン化合物〔1〕のX1またはX2と
同義である)で表されるジアルキルジハロシランとを、
不活性溶媒中不活性ガス雰囲気下において反応させるこ
とにより、容易にしかも高収率で得ることができる。X3
で示されるハロゲン原子としては、好ましくは塩素原子
または臭素原子が挙げられる。X4で示されるハロゲン原
子としては、好ましくは塩素原子または臭素原子が挙げ
られ、特に好ましくは塩素原子である。
【0019】ジアルキルジハロシラン〔4〕の具体例と
してジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、ジn−プロピルジクロロシラン、ジn−ブチルジク
ロロシラン、メチルエチルジクロロシラン、メチルn−
プロピルジクロロシラン、メチルn−ブチルジクロロシ
ラン、メチルn−ペンチルジクロロシラン、メチルn−
ヘキシルジクロロシラン、エチルn−プロピルジクロロ
シラン、エチルn−ブチルジクロロシラン、エチルn−
ペンチルジクロロシラン、エチルn−ヘキシルジクロロ
シラン、n−プロピルn−ブチルジクロロシラン、n−
プロピルn−ペンチルジクロロシランが挙げられ、好ま
しい例としてジメチルジクロロシラン、メチルエチルジ
クロロシラン、メチルn−プロピルジクロロシラン、メ
チルn−ブチルジクロロシラン、メチルn−ペンチルジ
クロロシラン、メチルn−ヘキシルジクロロシランが挙
げられ、特に好ましい例としてジメチルジクロロシラ
ン、メチルエチルジクロロシラン、メチルn−プロピル
ジクロロシラン、メチルn−ブチルジクロロシランが挙
げられる。
してジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、ジn−プロピルジクロロシラン、ジn−ブチルジク
ロロシラン、メチルエチルジクロロシラン、メチルn−
プロピルジクロロシラン、メチルn−ブチルジクロロシ
ラン、メチルn−ペンチルジクロロシラン、メチルn−
ヘキシルジクロロシラン、エチルn−プロピルジクロロ
シラン、エチルn−ブチルジクロロシラン、エチルn−
ペンチルジクロロシラン、エチルn−ヘキシルジクロロ
シラン、n−プロピルn−ブチルジクロロシラン、n−
プロピルn−ペンチルジクロロシランが挙げられ、好ま
しい例としてジメチルジクロロシラン、メチルエチルジ
クロロシラン、メチルn−プロピルジクロロシラン、メ
チルn−ブチルジクロロシラン、メチルn−ペンチルジ
クロロシラン、メチルn−ヘキシルジクロロシランが挙
げられ、特に好ましい例としてジメチルジクロロシラ
ン、メチルエチルジクロロシラン、メチルn−プロピル
ジクロロシラン、メチルn−ブチルジクロロシランが挙
げられる。
【0020】不活性溶媒としては非プロトン性有機溶媒
が好適であり、具体例としてはジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、n−ヘキサン、n−オクタン、n−ペ
ンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ
る。不活性ガスとしてはアルゴン、窒素等が挙げられ
る。不活性溶媒は9,10−ジリチオアントラセン
〔2〕または9,10−ジマグネシウムハロゲノアント
ラセン〔3〕の濃度が100mmol/L 〜2mol/Lとなる程度に
用いるのが好適である。ジアルキルジハロシラン〔4〕
と9,10−ジリチオアントラセン〔2〕または9,1
0−ジマグネシウムハロゲノアントラセン〔3〕との反
応割合は、9,10−ジリチオアントラセン〔2〕また
は9,10−ジマグネシウムハロゲノアントラセン
〔3〕に対し、ジアルキルジハロシラン〔4〕が2〜1
0当量であるのが好ましく、更に好ましくは2〜6当量
である。2当量未満では反応生成物の収量が低下する恐
れがあり、10当量を越えても目的生成物の収率に好影
響はなく、ジアキルジハロシラン〔4〕を無駄に使用す
ることとなる。反応温度は−30〜70℃が好ましく、
更に好ましくは0〜50℃であり、最適には10〜50
℃である。−30℃未満では反応速度が十分でない場合
があり、70℃を越えると反応の選択率が低下する恐れ
がある。反応時間は反応温度、反応溶媒等により変化す
るが、反応は通常24時間以内で終了する。
が好適であり、具体例としてはジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、n−ヘキサン、n−オクタン、n−ペ
ンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ
る。不活性ガスとしてはアルゴン、窒素等が挙げられ
る。不活性溶媒は9,10−ジリチオアントラセン
〔2〕または9,10−ジマグネシウムハロゲノアント
ラセン〔3〕の濃度が100mmol/L 〜2mol/Lとなる程度に
用いるのが好適である。ジアルキルジハロシラン〔4〕
と9,10−ジリチオアントラセン〔2〕または9,1
0−ジマグネシウムハロゲノアントラセン〔3〕との反
応割合は、9,10−ジリチオアントラセン〔2〕また
は9,10−ジマグネシウムハロゲノアントラセン
〔3〕に対し、ジアルキルジハロシラン〔4〕が2〜1
0当量であるのが好ましく、更に好ましくは2〜6当量
である。2当量未満では反応生成物の収量が低下する恐
れがあり、10当量を越えても目的生成物の収率に好影
響はなく、ジアキルジハロシラン〔4〕を無駄に使用す
ることとなる。反応温度は−30〜70℃が好ましく、
更に好ましくは0〜50℃であり、最適には10〜50
℃である。−30℃未満では反応速度が十分でない場合
があり、70℃を越えると反応の選択率が低下する恐れ
がある。反応時間は反応温度、反応溶媒等により変化す
るが、反応は通常24時間以内で終了する。
【0021】上記でX1とX2とが異なるビスシリルアント
ラセン化合物〔1〕を得る場合には、例えば、X4がX1で
あるジアルキルジハロシラン〔4〕とX4がX2であるジア
ルキルジハロシラン〔4〕の混合物を用いるとか、両化
合物を時間をずらして9,10−ジリチオアントラセン
〔2〕または9,10−ジマグネシウムハロゲノアント
ラセン〔3〕と順次反応させる等の手段を取ることがで
きる。上記反応による反応液から、生成したビスシリル
アントラセン化合物〔1〕を取得するには、副生したハ
ロゲン化リチウムまたはハロゲン化マグネシウムの沈澱
を濾過、デカンテーション等により反応液から除去した
後、反応溶媒を例えば減圧留去し、残渣をペンタン等の
不活性溶媒から再結晶する等の方法により精製すればよ
い。取得されるビスシリルアントラセン化合物〔1〕は
黄色の固体である。
ラセン化合物〔1〕を得る場合には、例えば、X4がX1で
あるジアルキルジハロシラン〔4〕とX4がX2であるジア
ルキルジハロシラン〔4〕の混合物を用いるとか、両化
合物を時間をずらして9,10−ジリチオアントラセン
〔2〕または9,10−ジマグネシウムハロゲノアント
ラセン〔3〕と順次反応させる等の手段を取ることがで
きる。上記反応による反応液から、生成したビスシリル
アントラセン化合物〔1〕を取得するには、副生したハ
ロゲン化リチウムまたはハロゲン化マグネシウムの沈澱
を濾過、デカンテーション等により反応液から除去した
後、反応溶媒を例えば減圧留去し、残渣をペンタン等の
不活性溶媒から再結晶する等の方法により精製すればよ
い。取得されるビスシリルアントラセン化合物〔1〕は
黄色の固体である。
【0022】
【発明の効果】本発明の9,10−ビス(ジアルキルジ
ハロシリル)アントラセン〔1〕は、発光極大波長が可
視領域にシフトした、優れた発光特性、光電導性及びレ
ジスト特性をもつ有機ケイ素系高分子の原料として、ま
たシリコーン原料またはシリル化剤として有用な化合物
である。例えば本発明のビスシリルアントラセン化合物
〔1〕と、式〔5〕
ハロシリル)アントラセン〔1〕は、発光極大波長が可
視領域にシフトした、優れた発光特性、光電導性及びレ
ジスト特性をもつ有機ケイ素系高分子の原料として、ま
たシリコーン原料またはシリル化剤として有用な化合物
である。例えば本発明のビスシリルアントラセン化合物
〔1〕と、式〔5〕
【0023】
【化8】
【0024】(式中、R3及びR4は同一であっても異なっ
ていてもよく、炭素数1〜10のアルキル基、アリール
基またはアラルキル基であり、X5及びX6は同一のもしく
は異なるハロゲン原子である)で表されるシラン化合物
とを、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の共存下
に、不活性溶媒中で反応させて得られる、式A
ていてもよく、炭素数1〜10のアルキル基、アリール
基またはアラルキル基であり、X5及びX6は同一のもしく
は異なるハロゲン原子である)で表されるシラン化合物
とを、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の共存下
に、不活性溶媒中で反応させて得られる、式A
【0025】
【化9】
【0026】(式中、R1及びR2は前記と同義である)で
表される構造単位Aと式B
表される構造単位Aと式B
【0027】
【化10】
【0028】(式中、R3及びR4は前記と同義である)で
表される構造単位Bからなり、構造単位A/構造単位B
のモル比(%)が0.5〜10%であって重量平均分子量が
1,000 〜1,000,000 である、主鎖の一部にアントリレン
基を有するポリシラン誘導体(参考例参照)は可視領域
に発光を示し、発光効率に優れ、通常の有機溶媒に可溶
性の高分子量有機ケイ素系ポリマーであり、発光材料、
光電導性材料、レジスト材料等として有用である。本発
明のビスシリルアントラセン化合物〔1〕は上記のごと
きポリマーの製造の原料モノマーとして用いる場合、反
応性が優れている。
表される構造単位Bからなり、構造単位A/構造単位B
のモル比(%)が0.5〜10%であって重量平均分子量が
1,000 〜1,000,000 である、主鎖の一部にアントリレン
基を有するポリシラン誘導体(参考例参照)は可視領域
に発光を示し、発光効率に優れ、通常の有機溶媒に可溶
性の高分子量有機ケイ素系ポリマーであり、発光材料、
光電導性材料、レジスト材料等として有用である。本発
明のビスシリルアントラセン化合物〔1〕は上記のごと
きポリマーの製造の原料モノマーとして用いる場合、反
応性が優れている。
【0029】
【実施例】以下、実施例及び参考例に基づいて本発明を
具体的に説明する。参考例中、重量平均分子量及び数平
均分子量はGPC法(ポリスチレン換算)によって、構
造単位のモル比(%)及び発光効率は以下に記述する方
法によって求めた。 (1)構造単位のモル比(%) 下記〜の手順により算出する。 アントラセンについて標準吸光度を次の通り求める。
所定モル量のアントラセンをクロロホルム溶媒に溶解し
た標準溶液を調製して、そのUV吸光のλmaxにおけ
るモル吸光度を測定し、これを標準吸光度とする。 目的生成中の構造単位Aのモル数を次の通り求める。
標準溶液と同一溶媒でかつ同モル濃度(ポリマー全体の
数平均分子量から換算)の目的生成物(ポリマー)溶液
を調製し、UV吸光におけるアントラセンに帰属される
λmaxのモル吸光度を測定し、先の標準吸光度をで除
することにより、目的生成中におけるアントリレン基の
モル数を求める。この構造単位Aのモル数に等しい。 目的生成中の構造単位Aの重量を下式により算出す
る。構造単位Aの重量=(原料に用いたビスシリルアン
トラセン化合物〔1〕からハロゲン原子X1及びX2を差し
引いた構造単位Aの分子量)×(構造単位Aのモル数) 目的生成中の構造単位Bのモル数を下式により算出す
る。構造単位Bのモル数=(モル吸光度の測定に用いた
目的生成物の重量−構造単位Aの重量)/(原料に用い
たシラン化合物〔2〕からハロゲン原子X3及びX4を差し
引いた構造単位Bの分子量) 目的生成中の構造単位A/構造単位Bのモル比(%)
を下式により算出する。構造単位A/構造単位B〔モル
比(%)〕=(で求めた構造単位Aのモル数)×10
0/(で求めた構造単位Bのモル数) (2)の発光効率 クロロホルム中、標準物質として式
具体的に説明する。参考例中、重量平均分子量及び数平
均分子量はGPC法(ポリスチレン換算)によって、構
造単位のモル比(%)及び発光効率は以下に記述する方
法によって求めた。 (1)構造単位のモル比(%) 下記〜の手順により算出する。 アントラセンについて標準吸光度を次の通り求める。
所定モル量のアントラセンをクロロホルム溶媒に溶解し
た標準溶液を調製して、そのUV吸光のλmaxにおけ
るモル吸光度を測定し、これを標準吸光度とする。 目的生成中の構造単位Aのモル数を次の通り求める。
標準溶液と同一溶媒でかつ同モル濃度(ポリマー全体の
数平均分子量から換算)の目的生成物(ポリマー)溶液
を調製し、UV吸光におけるアントラセンに帰属される
λmaxのモル吸光度を測定し、先の標準吸光度をで除
することにより、目的生成中におけるアントリレン基の
モル数を求める。この構造単位Aのモル数に等しい。 目的生成中の構造単位Aの重量を下式により算出す
る。構造単位Aの重量=(原料に用いたビスシリルアン
トラセン化合物〔1〕からハロゲン原子X1及びX2を差し
引いた構造単位Aの分子量)×(構造単位Aのモル数) 目的生成中の構造単位Bのモル数を下式により算出す
る。構造単位Bのモル数=(モル吸光度の測定に用いた
目的生成物の重量−構造単位Aの重量)/(原料に用い
たシラン化合物〔2〕からハロゲン原子X3及びX4を差し
引いた構造単位Bの分子量) 目的生成中の構造単位A/構造単位Bのモル比(%)
を下式により算出する。構造単位A/構造単位B〔モル
比(%)〕=(で求めた構造単位Aのモル数)×10
0/(で求めた構造単位Bのモル数) (2)の発光効率 クロロホルム中、標準物質として式
【0030】
【化11】
【0031】で表されるAlq3(発光効率10.1%)を用い
て測定した。 実施例1 攪拌装置及び外部冷却外套を備えた反応器に9,10−
ジブロモアントラセン2.11g(6mmol)を入れ、系内を真空
脱気後、乾燥アルゴン雰囲気にした。脱水精製したジエ
ルチルエーテル30mlを加え、n−ブチルリチウム(1.
0g) のヘキサン(9.8ml) 溶液を徐々に反応器に供給し、
アルゴン雰囲気下、10〜30℃で3時間攪拌を行い、
9,10−ジリチオアントラセンを製造した。攪拌装置
及び外部冷却外套を備えた別の反応器に、ジエチルエー
テル10ml及びジメチルジクロロシラン4.0g(31mmol)を
入れ、アルゴン雰囲気下、常温において、上記で得た
9,10−ジリチオアントラセンを内容物に滴下し、1
0〜30℃で20時間攪拌を行い反応させた。副生した
塩化リチウムを濾別し、反応溶媒を減圧留去した後、n
−ペンタンから再結晶することにより、9,10−ビス
(ジメチルクロロシリル)アントラセンを黄色固体とし
て得た。収率は70%であった。
て測定した。 実施例1 攪拌装置及び外部冷却外套を備えた反応器に9,10−
ジブロモアントラセン2.11g(6mmol)を入れ、系内を真空
脱気後、乾燥アルゴン雰囲気にした。脱水精製したジエ
ルチルエーテル30mlを加え、n−ブチルリチウム(1.
0g) のヘキサン(9.8ml) 溶液を徐々に反応器に供給し、
アルゴン雰囲気下、10〜30℃で3時間攪拌を行い、
9,10−ジリチオアントラセンを製造した。攪拌装置
及び外部冷却外套を備えた別の反応器に、ジエチルエー
テル10ml及びジメチルジクロロシラン4.0g(31mmol)を
入れ、アルゴン雰囲気下、常温において、上記で得た
9,10−ジリチオアントラセンを内容物に滴下し、1
0〜30℃で20時間攪拌を行い反応させた。副生した
塩化リチウムを濾別し、反応溶媒を減圧留去した後、n
−ペンタンから再結晶することにより、9,10−ビス
(ジメチルクロロシリル)アントラセンを黄色固体とし
て得た。収率は70%であった。
【0032】この化合物の塩素含有量を分析した結果、
塩素含有量が19.40重量%であり、計算値の19.
51重量%と良く一致した。またこの化合物の赤外吸収
スペクトル ( KBr法による) を測定した結果、125
0,1440cm-1 (Si−CH3)で吸収を示した。また1H核
磁気共鳴スペクトル( 重クロロホルム(7.25ppm) を標準
として測定した) を図1に示す。図1よりケミカルシフ
トδ(ppm) は8.5〜7.4(9,10−置換アントラ
セン),0.7(Si−CH3)であり、また、MSスペクトル
で測定した結果、m/z 362(M + ) であり、取得した化合
物が、9,10−ビス(ジメチルクロロシリル)アント
ラセンであることを示している。
塩素含有量が19.40重量%であり、計算値の19.
51重量%と良く一致した。またこの化合物の赤外吸収
スペクトル ( KBr法による) を測定した結果、125
0,1440cm-1 (Si−CH3)で吸収を示した。また1H核
磁気共鳴スペクトル( 重クロロホルム(7.25ppm) を標準
として測定した) を図1に示す。図1よりケミカルシフ
トδ(ppm) は8.5〜7.4(9,10−置換アントラ
セン),0.7(Si−CH3)であり、また、MSスペクトル
で測定した結果、m/z 362(M + ) であり、取得した化合
物が、9,10−ビス(ジメチルクロロシリル)アント
ラセンであることを示している。
【0033】実施例2 攪拌装置及び外部冷却外套を備えた反応器に、ジエチル
エーテル10ml及びメチルn−プロピルジクロロシラン
5.0g(32mmol)を入れ、アルゴン雰囲気下、10〜3
0℃において、実施例1と同様の操作で製造した9,1
0−ジリチオアントラセンを内容物に滴下した。滴下終
了後、室温において20時間攪拌を行い反応を完結さ
せ、副生した塩化リチウムを濾別し、反応溶媒を減圧留
去した後、n−ペンタンから再結晶することにより、
9,10−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)ア
ントラセンを黄色固体として得た。収率は65%であっ
た。この化合物の塩素含有量を分析した結果、塩素含有
量16.54 重量%であり、計算値の16.90 重量%と良く一
致した。またこの化合物の1H核磁気共鳴スペクトル( 重
クロロホルム(7.25ppm) を標準として測定した) を図2
に示す。図2よりケミカルシフトδ(ppm) は8.5 〜7.5
(9,10−置換アントラセン),1.54(-Si-CH2-CH
2-)、1.09(-Si-CH3) 、1.03 (-CH2-CH2-CH3 ) であり、
またMSスペクトルで測定した結果、m/z 418(M + ) であ
り、取得した化合物が9,10−ビス(メチルn−プロ
ピルクロロシリル)アントラセンであることを示してい
る。
エーテル10ml及びメチルn−プロピルジクロロシラン
5.0g(32mmol)を入れ、アルゴン雰囲気下、10〜3
0℃において、実施例1と同様の操作で製造した9,1
0−ジリチオアントラセンを内容物に滴下した。滴下終
了後、室温において20時間攪拌を行い反応を完結さ
せ、副生した塩化リチウムを濾別し、反応溶媒を減圧留
去した後、n−ペンタンから再結晶することにより、
9,10−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)ア
ントラセンを黄色固体として得た。収率は65%であっ
た。この化合物の塩素含有量を分析した結果、塩素含有
量16.54 重量%であり、計算値の16.90 重量%と良く一
致した。またこの化合物の1H核磁気共鳴スペクトル( 重
クロロホルム(7.25ppm) を標準として測定した) を図2
に示す。図2よりケミカルシフトδ(ppm) は8.5 〜7.5
(9,10−置換アントラセン),1.54(-Si-CH2-CH
2-)、1.09(-Si-CH3) 、1.03 (-CH2-CH2-CH3 ) であり、
またMSスペクトルで測定した結果、m/z 418(M + ) であ
り、取得した化合物が9,10−ビス(メチルn−プロ
ピルクロロシリル)アントラセンであることを示してい
る。
【0034】参考例1アントリレン基含有メチルn−プロピルポリシランの合
成 アルゴン雰囲気中で500mlの容器にナトリウム4.6
g及びトルエン160mlを仕込んだ。次に系内をトルエ
ンの沸点まで加熱し、還流雰囲気でナトリウムを溶融さ
せ、激しく攪拌してナトリウムを細かく分散させた。そ
の後攪拌しながら内容物温度を溶媒の沸点付近に保ち、
実施例2で得られた9,10−ビス(メチルn−プロピ
ルクロロシリル)アントラセン3mmol(1.26g)及
び20倍モル量のメチルn−プロピルジクロロシラン
(9.42g)の混合物を徐々に滴下した。滴下終了
後、溶媒の沸点付近で3時間反応させた。重合反応終了
後、室温まで冷却し、副生した塩化ナトリウム及び過剰
の金属ナトリウムを濾別した後、濾液をメタノールに滴
下してポリマーを沈澱させた。沈澱ポリマーを分取、乾
燥させることにより、R1=メチル基、R2=n−プロピル
基である構造単位AとR3=メチル基、R4=n−プロピル
基である構造単位Bからなる目的ポリマー2.12g
(収率34.2%)を黄色固体として得た。本ポリマー
は重量平均分子量(Mw)が335,000 の成分と9,600 の成分
からなるバイモーダルの 分子量分布を示した(図
3)。本ポリマー全体の数平均分子量(Mn)は4,500であ
り、また本ポリマーの構造単位A/構造単位Bのモル比
(%)は1.5%であった。また本ポリマーは発光スペ
クトルによれば455nmに発光を示した。
成 アルゴン雰囲気中で500mlの容器にナトリウム4.6
g及びトルエン160mlを仕込んだ。次に系内をトルエ
ンの沸点まで加熱し、還流雰囲気でナトリウムを溶融さ
せ、激しく攪拌してナトリウムを細かく分散させた。そ
の後攪拌しながら内容物温度を溶媒の沸点付近に保ち、
実施例2で得られた9,10−ビス(メチルn−プロピ
ルクロロシリル)アントラセン3mmol(1.26g)及
び20倍モル量のメチルn−プロピルジクロロシラン
(9.42g)の混合物を徐々に滴下した。滴下終了
後、溶媒の沸点付近で3時間反応させた。重合反応終了
後、室温まで冷却し、副生した塩化ナトリウム及び過剰
の金属ナトリウムを濾別した後、濾液をメタノールに滴
下してポリマーを沈澱させた。沈澱ポリマーを分取、乾
燥させることにより、R1=メチル基、R2=n−プロピル
基である構造単位AとR3=メチル基、R4=n−プロピル
基である構造単位Bからなる目的ポリマー2.12g
(収率34.2%)を黄色固体として得た。本ポリマー
は重量平均分子量(Mw)が335,000 の成分と9,600 の成分
からなるバイモーダルの 分子量分布を示した(図
3)。本ポリマー全体の数平均分子量(Mn)は4,500であ
り、また本ポリマーの構造単位A/構造単位Bのモル比
(%)は1.5%であった。また本ポリマーは発光スペ
クトルによれば455nmに発光を示した。
【0035】参考例2アントリレン基含有メチルフェニルポリシランの合成 メチルn−プロピルジクロロシランの代わりにメチルフ
ェニルジクロロシラン、及び実施例2で得られた9,1
0−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)アントラ
センを用いて参考例1と同様の仕込量、条件、手順でR1
=メチル基、R2=n−プロピル基である構造単位AとR3
=メチル基、R4=フェニル基である構造単位Bからなる
黄色のポリマーを合成した。ポリマー収量は3.94g
(収率47.8%)であった。本ポリマーはMwが 415,0
00の成分と6,200 の成分からなるバイモーダルの分子量
分布を示した(図4)。本ポリマー全体のMnは3,500 で
あり、また本ポリマーの構造単位A/構造単位Bのモル
比(%)は3.5%であった。また本ポリマーは発光ス
ペクトルによれば480nmに発光を示した。さらに本ポ
リマーの発光効率は Alq3 の1.5 倍で15%であった。
ェニルジクロロシラン、及び実施例2で得られた9,1
0−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)アントラ
センを用いて参考例1と同様の仕込量、条件、手順でR1
=メチル基、R2=n−プロピル基である構造単位AとR3
=メチル基、R4=フェニル基である構造単位Bからなる
黄色のポリマーを合成した。ポリマー収量は3.94g
(収率47.8%)であった。本ポリマーはMwが 415,0
00の成分と6,200 の成分からなるバイモーダルの分子量
分布を示した(図4)。本ポリマー全体のMnは3,500 で
あり、また本ポリマーの構造単位A/構造単位Bのモル
比(%)は3.5%であった。また本ポリマーは発光ス
ペクトルによれば480nmに発光を示した。さらに本ポ
リマーの発光効率は Alq3 の1.5 倍で15%であった。
【図1】実施例1の9,10−ビス(ジメチルクロロシ
リル)アントラセンの1H核磁気共鳴スペクトルを示す。
リル)アントラセンの1H核磁気共鳴スペクトルを示す。
【図2】実施例2の9,10−ビス(メチルn−プロピ
ルクロロシリル)アントラセンの1H核磁気共鳴スペクト
ルを示す。
ルクロロシリル)アントラセンの1H核磁気共鳴スペクト
ルを示す。
【図3】参考例1で得られたポリマーの分子量分布を示
す。
す。
【図4】参考例2で得られたポリマーの分子量分布を示
す。
す。
Claims (1)
- 【請求項1】 式〔1〕 【化1】 (式中、R1及びR2は同一のもしくは異なる炭素数1〜6
の直鎖状アルキル基であり、かつR1及びR2の炭素数の合
計が8以下であり、X1及びX2は同一のもしくは異なるハ
ロゲン原子である)で表される9,10−ビス(ジアル
キルハロシリル)アントラセン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12969294A JP2791397B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 新規な有機ハロシラン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12969294A JP2791397B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 新規な有機ハロシラン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07309882A true JPH07309882A (ja) | 1995-11-28 |
| JP2791397B2 JP2791397B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=15015838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12969294A Expired - Fee Related JP2791397B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 新規な有機ハロシラン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2791397B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6365765B1 (en) * | 1999-06-10 | 2002-04-02 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US6956097B2 (en) | 1999-06-10 | 2005-10-18 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
-
1994
- 1994-05-19 JP JP12969294A patent/JP2791397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6365765B1 (en) * | 1999-06-10 | 2002-04-02 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US6956097B2 (en) | 1999-06-10 | 2005-10-18 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2791397B2 (ja) | 1998-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7705174B2 (en) | Condensed polycyclic π-conjugated organic material, intermediate product therefor, and method of manufacturing condensed polycyclic π-conjugated organic material | |
| CA1300796C (en) | Ladder polysilanes | |
| JPH0570595A (ja) | 正孔輸送性高分子物質 | |
| US5420238A (en) | Poly(silyleneethynylene phenyleneethynylenes), method for preparing same and hardened product thereof | |
| JP2791397B2 (ja) | 新規な有機ハロシラン化合物 | |
| US5498736A (en) | 2,5-reactive substituent group-containing siloles, silole polycondensates and preparation thereof | |
| US7973190B2 (en) | Polycyclic fused ring type π-conjugated organic material, intermediate therefor, process for producing polycyclic fused ring type π-conjugated organic material, and process for producing intermediate of polycyclic fused ring type π-conjugated organic material | |
| EP0641820B1 (en) | Organosilicon polymer and process for the preparation thereof | |
| JP2914221B2 (ja) | 新規な有機ハロシラン化合物 | |
| JP2858061B2 (ja) | 含ケイ素有機化合物およびその製造方法 | |
| JP2800699B2 (ja) | 新規な分岐ポリシランおよびその製造方法 | |
| JP3089982B2 (ja) | 2,5−反応性置換基含有シロール及びシロール縮重合物並びにそれらの製造方法 | |
| JPH07309952A (ja) | 主鎖の一部にアントリレン基を含有するポリシラン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH0827275A (ja) | N−カルバゾリルポリシランおよびオルガノ−n−カルバゾリルジハロゲノシラン化合物 | |
| JPH08295738A (ja) | 主鎖の一部にアントリレン基を含有するポリシラン誘導体及びその製造方法 | |
| US7253243B2 (en) | Organosilicon compounds and method of manufacturing the same | |
| JP3211255B2 (ja) | シラン誘導体、ポリシラン化合物、その製造方法および用途 | |
| JP3425318B2 (ja) | 有機ケイ素高分子とその製造方法 | |
| JP3602754B2 (ja) | カルボラン含有ケイ素系重合体及びその製造方法 | |
| JP3468685B2 (ja) | カルボラン含有ケイ素系重合体及びその製造方法 | |
| JP3236409B2 (ja) | オルガノシロキシ置換ポリシラン及びその製造方法 | |
| JPH07224156A (ja) | ケイ素系化合物及びその製造方法 | |
| JP2956432B2 (ja) | ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法 | |
| JP2929751B2 (ja) | (ハロゲン化シリル置換)エチレン誘導体、ポリシラン化合物、その製造方法および用途 | |
| JP3398425B2 (ja) | オルガノポリシロキサン側鎖を有するポリベンゾビスオキサゾールおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |