JPH07314100A - 静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法 - Google Patents
静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法Info
- Publication number
- JPH07314100A JPH07314100A JP10823894A JP10823894A JPH07314100A JP H07314100 A JPH07314100 A JP H07314100A JP 10823894 A JP10823894 A JP 10823894A JP 10823894 A JP10823894 A JP 10823894A JP H07314100 A JPH07314100 A JP H07314100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten steel
- magnetic field
- casting
- static magnetic
- mold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】鋳造条件に対応して最適な静磁場を鋳型内の溶
鋼表面流に直接かつ連続的に作用させ、鋳造条件の変化
に対しても常に適正な電磁力を連続的に溶鋼表面流に作
用させて、溶鋼表面流の流速を適正に制御するので、モ
ールドパウダーなどの巻き込みのない品質の高い鋳片を
製造することのできる静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法
を提供する。 【構成】連続鋳造用鋳型の対向側壁の背面の溶鋼表面近
傍の高さに配設した磁極により、鋳型内の巾方向全域に
わたり静磁場を発生させ、溶鋼表面流に対して制動を加
えて鋼を連続鋳造するに際し、前記鋼の鋳造条件に対応
して前記磁極に付与する電流を連続的に変化させ、発生
される前記静磁場による前記溶鋼表面流の制動力を変化
させて、前記溶鋼表面流を制御する。
鋼表面流に直接かつ連続的に作用させ、鋳造条件の変化
に対しても常に適正な電磁力を連続的に溶鋼表面流に作
用させて、溶鋼表面流の流速を適正に制御するので、モ
ールドパウダーなどの巻き込みのない品質の高い鋳片を
製造することのできる静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法
を提供する。 【構成】連続鋳造用鋳型の対向側壁の背面の溶鋼表面近
傍の高さに配設した磁極により、鋳型内の巾方向全域に
わたり静磁場を発生させ、溶鋼表面流に対して制動を加
えて鋼を連続鋳造するに際し、前記鋼の鋳造条件に対応
して前記磁極に付与する電流を連続的に変化させ、発生
される前記静磁場による前記溶鋼表面流の制動力を変化
させて、前記溶鋼表面流を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静磁場を用いた鋼の連
続鋳造方法に関し、詳しくは連続鋳造における鋳型内の
溶鋼に静磁場を発生させて溶鋼表面流を制御する静磁場
を用いた鋼の連続鋳造方法に関する。
続鋳造方法に関し、詳しくは連続鋳造における鋳型内の
溶鋼に静磁場を発生させて溶鋼表面流を制御する静磁場
を用いた鋼の連続鋳造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造法は、図６に示すように、取鍋
１等の容器から中間容器であるタンディッシュ２に溶鋼
を注入し、タンディッシュ２からイマージョンノズル３
を介して鋳型４内へ溶鋼を注入して、図中矢印で示すよ
うに、鋳型４の下部より連続的に鋳片を引き抜く方法で
ある。
１等の容器から中間容器であるタンディッシュ２に溶鋼
を注入し、タンディッシュ２からイマージョンノズル３
を介して鋳型４内へ溶鋼を注入して、図中矢印で示すよ
うに、鋳型４の下部より連続的に鋳片を引き抜く方法で
ある。
【０００３】このような鋳造プロセスにおいて、図７に
示すように、鋳型４内の溶鋼の上面は、鋳型４と鋳片の
凝固部との潤滑、溶鋼の温度低下防止、再酸化防止およ
び溶鋼中の非金属介在物の吸着等のためモールドパウダ
ー５によって覆われている。
示すように、鋳型４内の溶鋼の上面は、鋳型４と鋳片の
凝固部との潤滑、溶鋼の温度低下防止、再酸化防止およ
び溶鋼中の非金属介在物の吸着等のためモールドパウダ
ー５によって覆われている。
【０００４】鋳型４内へ溶鋼を注入すると、イマージョ
ンノズル３から吐出される吐出流（溶鋼噴流）６ａによ
り溶鋼表面流６ｂが形成される。この溶鋼表面流６ｂが
速すぎると、溶鋼表面流６ｂはモールドパウダー５を溶
鋼内に巻き込んでしまう。巻き込まれたモールドパウダ
ー５は、形成される鋳片内に介在してしまい、この鋳片
から形成されるコイルの表面欠陥の原因となる。
ンノズル３から吐出される吐出流（溶鋼噴流）６ａによ
り溶鋼表面流６ｂが形成される。この溶鋼表面流６ｂが
速すぎると、溶鋼表面流６ｂはモールドパウダー５を溶
鋼内に巻き込んでしまう。巻き込まれたモールドパウダ
ー５は、形成される鋳片内に介在してしまい、この鋳片
から形成されるコイルの表面欠陥の原因となる。
【０００５】一般に、鋳型の対向側壁の背面に配置した
磁極により、鋳型内の溶鋼に一定強度の静磁場を印加
し、鋳型内の溶鋼流に制動を加える方法がある。近時、
鋳型内の溶鋼流動を鋳造条件によって制御する方法が提
唱されており、特開平２−１１７７５６号公報や特開平
２−７５４５５号公報に記載の方法が開示されている。
磁極により、鋳型内の溶鋼に一定強度の静磁場を印加
し、鋳型内の溶鋼流に制動を加える方法がある。近時、
鋳型内の溶鋼流動を鋳造条件によって制御する方法が提
唱されており、特開平２−１１７７５６号公報や特開平
２−７５４５５号公報に記載の方法が開示されている。
【０００６】特開平２−１１７７５６号公報に開示の流
動制御方法は、ノズルに対して左右対象となる位置に、
複数個の電磁コイルを上下方向に設け、この電磁コイル
を単独または組み合わせて作動させ、鋳込条件ごとに最
適な磁場を鋳型内溶鋼に与える方法である。この方法に
よると、鋳型内溶鋼流動を鋳込条件ごとに制御すること
ができる。
動制御方法は、ノズルに対して左右対象となる位置に、
複数個の電磁コイルを上下方向に設け、この電磁コイル
を単独または組み合わせて作動させ、鋳込条件ごとに最
適な磁場を鋳型内溶鋼に与える方法である。この方法に
よると、鋳型内溶鋼流動を鋳込条件ごとに制御すること
ができる。
【０００７】特開平２−７５４５５号公報の開示の方法
は、ノズルからの吐出流に、その逆方向に電磁力を作用
させて鋳造するに際し、電磁力付与手段の適正電磁力
（Ｇａｕｓｓ／吐出噴流）を溶鋼流量（ｔｏｎ／ｍｉ
ｎ、吐出口）に対してコントロールし、所定条件を満足
する範囲内に調整する方法である。この方法によれば、
いかなる溶鋼流量においても吐出流を制御することがで
きる。
は、ノズルからの吐出流に、その逆方向に電磁力を作用
させて鋳造するに際し、電磁力付与手段の適正電磁力
（Ｇａｕｓｓ／吐出噴流）を溶鋼流量（ｔｏｎ／ｍｉ
ｎ、吐出口）に対してコントロールし、所定条件を満足
する範囲内に調整する方法である。この方法によれば、
いかなる溶鋼流量においても吐出流を制御することがで
きる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平２−１１７７５６号公報に開示の方法は、複数
個の電磁コイルで鋳型内の溶鋼流動を制御するものであ
るので、鋳造条件の変化によって作動させる電磁コイル
の数や位置を変える必要があり、この制御方法が多様か
つ複雑であるという問題があった。また、その方法で
は、電磁コイルの作動によって付与する電磁ブレーキを
ノズルからの吐出流に作用させるものであるため、溶鋼
表面流を直接制御することはできないという問題もあっ
た。
た特開平２−１１７７５６号公報に開示の方法は、複数
個の電磁コイルで鋳型内の溶鋼流動を制御するものであ
るので、鋳造条件の変化によって作動させる電磁コイル
の数や位置を変える必要があり、この制御方法が多様か
つ複雑であるという問題があった。また、その方法で
は、電磁コイルの作動によって付与する電磁ブレーキを
ノズルからの吐出流に作用させるものであるため、溶鋼
表面流を直接制御することはできないという問題もあっ
た。
【０００９】また、上述の特開平２−７５４５５号公報
に開示の方法は、ノズルからの溶鋼吐出流量（ｔｏｎ／
ｍｉｎ、吐出口）に対して電磁力をコントロールしてお
り、鋳造速度、鋳造巾によるコントロールは不可能であ
るという問題があった。また、この方法では、溶鋼吐出
流に対して静磁場を印加するので溶鋼表面流を直接制御
することはできないという問題があった。
に開示の方法は、ノズルからの溶鋼吐出流量（ｔｏｎ／
ｍｉｎ、吐出口）に対して電磁力をコントロールしてお
り、鋳造速度、鋳造巾によるコントロールは不可能であ
るという問題があった。また、この方法では、溶鋼吐出
流に対して静磁場を印加するので溶鋼表面流を直接制御
することはできないという問題があった。
【００１０】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、鋳造条件に対応して最適な静磁場を
鋳型内の溶鋼表面流に直接かつ連続的に作用させ、鋳造
条件の変化に対しても常に適正な電磁力を連続的に溶鋼
表面流に作用させて、溶鋼表面流の流速を適正に制御す
るので、モールドパウダーなどの巻き込みのない品質の
高い鋳片を製造することのできる静磁場を用いた鋼の連
続鋳造方法を提供することにある。
あり、その目的は、鋳造条件に対応して最適な静磁場を
鋳型内の溶鋼表面流に直接かつ連続的に作用させ、鋳造
条件の変化に対しても常に適正な電磁力を連続的に溶鋼
表面流に作用させて、溶鋼表面流の流速を適正に制御す
るので、モールドパウダーなどの巻き込みのない品質の
高い鋳片を製造することのできる静磁場を用いた鋼の連
続鋳造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題解決のための手段】本発明者らは、連続鋳造にお
いて表面欠陥のない品質の高い鋳片を製造するために、
連続鋳造用鋳型内に溶鋼がイマージョンノズルから噴流
となって吐出する際に形成される鋳型内溶鋼の流動、特
に溶鋼表面流によるモールドパウダーの巻き込みの防止
などについて鋭意研究した結果、以下の知見を得、本発
明に到ったものである。
いて表面欠陥のない品質の高い鋳片を製造するために、
連続鋳造用鋳型内に溶鋼がイマージョンノズルから噴流
となって吐出する際に形成される鋳型内溶鋼の流動、特
に溶鋼表面流によるモールドパウダーの巻き込みの防止
などについて鋭意研究した結果、以下の知見を得、本発
明に到ったものである。
【００１２】（１）図５に示すように、溶鋼表面流の流
速が増加すると、製造されたスラブを用いて製造された
冷延コイルにモールドパウダーの巻き込みが原因と考え
られるコイル不良が増加し、またこの流速が低すぎても
コイル不良が増加する結果となり、最適な流速が存在す
る。なお、溶鋼表面流速指数は、溶鋼表面流に静磁場に
よる制動が加えられていない時、溶鋼表面流の流速に比
例する。
速が増加すると、製造されたスラブを用いて製造された
冷延コイルにモールドパウダーの巻き込みが原因と考え
られるコイル不良が増加し、またこの流速が低すぎても
コイル不良が増加する結果となり、最適な流速が存在す
る。なお、溶鋼表面流速指数は、溶鋼表面流に静磁場に
よる制動が加えられていない時、溶鋼表面流の流速に比
例する。
【００１３】（２）溶鋼表面流の流速は、鋳造速度、鋳
造巾などの鋳造条件に依存する。具体的には、溶鋼表面
流の流速は、下記式（II）のように鋳造速度、鋳造巾な
どの鋳造条件の関数として表すことができる。上述した
ように溶鋼表面流に静磁場による制動が加えられていな
い時、溶鋼表面流速指数Ｍは溶鋼表面流の流速Ｖ（ｍ／
ｍｉｎ）に比例する。 Ｍ＝Vc× cosθ/S( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2×1/100 …（II） ここで、 Ｍ ：溶鋼表面流速指数 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） である。
造巾などの鋳造条件に依存する。具体的には、溶鋼表面
流の流速は、下記式（II）のように鋳造速度、鋳造巾な
どの鋳造条件の関数として表すことができる。上述した
ように溶鋼表面流に静磁場による制動が加えられていな
い時、溶鋼表面流速指数Ｍは溶鋼表面流の流速Ｖ（ｍ／
ｍｉｎ）に比例する。 Ｍ＝Vc× cosθ/S( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2×1/100 …（II） ここで、 Ｍ ：溶鋼表面流速指数 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） である。
【００１４】（３）溶鋼表面流の流速は、連続鋳造用鋳
型の対向側壁の背面の溶鋼表面近傍の高さに配設された
磁極により、鋳型内の巾方向全域にわたり発生された静
磁場の磁束密度に依存する。具体的には、溶鋼表面流の
流速は、印加された静磁場の磁束密度の関数である下記
式（III ）に従って減速する。 Ｖ∝ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ） ここで、 Ｖ ：溶鋼表面流速（ｍ／ｓｅｃ） ＶO ：短辺上昇流速（ｍ／ｓｅｃ） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） ｔ ：時間（ｓｅｃ） である。
型の対向側壁の背面の溶鋼表面近傍の高さに配設された
磁極により、鋳型内の巾方向全域にわたり発生された静
磁場の磁束密度に依存する。具体的には、溶鋼表面流の
流速は、印加された静磁場の磁束密度の関数である下記
式（III ）に従って減速する。 Ｖ∝ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ） ここで、 Ｖ ：溶鋼表面流速（ｍ／ｓｅｃ） ＶO ：短辺上昇流速（ｍ／ｓｅｃ） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） ｔ ：時間（ｓｅｃ） である。
【００１５】すなわち、本発明は連続鋳造用鋳型の対向
側壁の背面の溶鋼表面近傍の高さに配設した磁極により
鋳型内の巾方向全域にわたり静磁場を発生させ、溶鋼表
面流に対して制動を加えて鋼を連続鋳造するに際し、前
記鋼の鋳造条件に対応して前記磁極に付与する電流を連
続的に変化させ、発生される前記静磁場による前記溶鋼
表面流の制動力を変化させて、前記溶鋼表面流を制御す
ることを特徴とする静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法を
提供するものである。
側壁の背面の溶鋼表面近傍の高さに配設した磁極により
鋳型内の巾方向全域にわたり静磁場を発生させ、溶鋼表
面流に対して制動を加えて鋼を連続鋳造するに際し、前
記鋼の鋳造条件に対応して前記磁極に付与する電流を連
続的に変化させ、発生される前記静磁場による前記溶鋼
表面流の制動力を変化させて、前記溶鋼表面流を制御す
ることを特徴とする静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法を
提供するものである。
【００１６】本態様においては、前記磁極に電源盤を介
して接続された制御装置に鋳造条件を入力し、該制御装
置において入力された鋳造条件に応じて適正な電流値を
算出し、この適正電流値を電源盤へと送り、該電源盤か
ら前記磁極に送電し、該磁極に付与された適正電流によ
り鋳型内の溶鋼表面に静磁場を印加し、溶鋼表面流に制
動を加え、前記鋳造条件の変化に対応して、前記磁極に
付与する電流を連続的に変化させ前記静磁場の強度を変
化させて、鋳型内の溶鋼表面流を制御するのが好まし
い。
して接続された制御装置に鋳造条件を入力し、該制御装
置において入力された鋳造条件に応じて適正な電流値を
算出し、この適正電流値を電源盤へと送り、該電源盤か
ら前記磁極に送電し、該磁極に付与された適正電流によ
り鋳型内の溶鋼表面に静磁場を印加し、溶鋼表面流に制
動を加え、前記鋳造条件の変化に対応して、前記磁極に
付与する電流を連続的に変化させ前記静磁場の強度を変
化させて、鋳型内の溶鋼表面流を制御するのが好まし
い。
【００１７】ここで、前記静磁場の磁束密度が、上述の
式（Ｉ）を満足するように前記磁極に付与する電流を変
化させて、前記鋳型内の溶鋼表面流を制御するのが好ま
しい。
式（Ｉ）を満足するように前記磁極に付与する電流を変
化させて、前記鋳型内の溶鋼表面流を制御するのが好ま
しい。
【００１８】
【発明の作用】本発明の静磁場を用いた鋼の連続鋳造方
法は、連続鋳造用鋳型の対向側壁の背面の溶鋼表面近傍
の高さに磁極を配設し、この磁極により鋳型内の巾方向
全域にわたり静磁場を発生させ、鋳型内の溶鋼表面流に
静磁場による電磁力を作用させて制動をかけるものであ
るが、その際に、鋳造速度や鋳片の幅などの鋳造条件の
変化に対応して、磁極に付与する電流を連続的に変化さ
せ静磁場の強度を変化させるので、イマージョンノズル
からの溶鋼の吐出噴流によって生じる溶鋼表面流速に対
して適応した適切な制動を加えることができ、直接かつ
連続的に溶鋼表面流を最適な溶鋼表面流速に制御するこ
とができる。
法は、連続鋳造用鋳型の対向側壁の背面の溶鋼表面近傍
の高さに磁極を配設し、この磁極により鋳型内の巾方向
全域にわたり静磁場を発生させ、鋳型内の溶鋼表面流に
静磁場による電磁力を作用させて制動をかけるものであ
るが、その際に、鋳造速度や鋳片の幅などの鋳造条件の
変化に対応して、磁極に付与する電流を連続的に変化さ
せ静磁場の強度を変化させるので、イマージョンノズル
からの溶鋼の吐出噴流によって生じる溶鋼表面流速に対
して適応した適切な制動を加えることができ、直接かつ
連続的に溶鋼表面流を最適な溶鋼表面流速に制御するこ
とができる。
【００１９】さらに、本発明の連続鋳造方法において
は、静磁場の磁束密度が、（Ｉ）式を満足するように静
磁場を印加するので、静磁場を印加しない時の溶鋼表面
流速指数Ｍが１以上３以下に対応する溶鋼表面流速に制
御され、コイル不良率の最小となる最適な表面流速に溶
鋼表面流を制御することができる。
は、静磁場の磁束密度が、（Ｉ）式を満足するように静
磁場を印加するので、静磁場を印加しない時の溶鋼表面
流速指数Ｍが１以上３以下に対応する溶鋼表面流速に制
御され、コイル不良率の最小となる最適な表面流速に溶
鋼表面流を制御することができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明に係る静磁場を用いた鋼の連続
鋳造方法を、添付の図面に示す好適実施例に基づいて詳
細に説明する。本発明の静磁場を用いた鋼の連続鋳造方
法の説明に先立ち、本発明の連続鋳造方法に好適に使用
される連続鋳造設備について説明する。
鋳造方法を、添付の図面に示す好適実施例に基づいて詳
細に説明する。本発明の静磁場を用いた鋼の連続鋳造方
法の説明に先立ち、本発明の連続鋳造方法に好適に使用
される連続鋳造設備について説明する。
【００２１】図１は、本発明の連続鋳造方法を実施する
連続鋳造設備の一部の一実施例を示す断面図（鋳片幅方
向の左半分のみを図示）であり、この図において符号１
０は、鋳型である。
連続鋳造設備の一部の一実施例を示す断面図（鋳片幅方
向の左半分のみを図示）であり、この図において符号１
０は、鋳型である。
【００２２】鋳型１０は、断面が長方形の鋳片を連続的
に形成するためのもので、対向する長辺（図示略）と対
向する短辺１０ａ，１０ａとにより構成され、イマージ
ョンノズル１２から吐出される溶鋼を冷却するものであ
る。鋳型１０の内部の溶鋼の上面にはモールドパウダー
１１が配設されている。鋳型１０の長辺は、短辺１０
ａ，１０ａを挟む対向側壁からなり、この両長辺の側壁
の背面には、それぞれ磁極１３が配設されている。
に形成するためのもので、対向する長辺（図示略）と対
向する短辺１０ａ，１０ａとにより構成され、イマージ
ョンノズル１２から吐出される溶鋼を冷却するものであ
る。鋳型１０の内部の溶鋼の上面にはモールドパウダー
１１が配設されている。鋳型１０の長辺は、短辺１０
ａ，１０ａを挟む対向側壁からなり、この両長辺の側壁
の背面には、それぞれ磁極１３が配設されている。
【００２３】磁極１３は、電極コイルからなるもので、
この電磁コイルに所定電流を流し、鋳型１０内の溶鋼表
面流１６ｂに静磁場を印加し、この静磁場により前記表
面流１６ｂに制動を加えるものである。この磁極１３の
両端部は、短辺１０ａ，１０ａの両内側面よりもそれぞ
れ外側に配設されており、この磁極１３の配設高さは、
溶鋼の表面１５およびその近傍と同じ高さである。すな
わち、この磁極１３は、鋳型１０の内部の溶鋼表面１５
の全域に静磁場を発生させるものである。
この電磁コイルに所定電流を流し、鋳型１０内の溶鋼表
面流１６ｂに静磁場を印加し、この静磁場により前記表
面流１６ｂに制動を加えるものである。この磁極１３の
両端部は、短辺１０ａ，１０ａの両内側面よりもそれぞ
れ外側に配設されており、この磁極１３の配設高さは、
溶鋼の表面１５およびその近傍と同じ高さである。すな
わち、この磁極１３は、鋳型１０の内部の溶鋼表面１５
の全域に静磁場を発生させるものである。
【００２４】イマージョンノズル１２は、耐火物製の管
状体であり、その上端部がタンディッシュ（図示略）に
接続され、下端部が鋳型１０内の溶鋼に浸漬されるもの
である。図示例のイマージョンノズル１２は、その下端
の側方に吐出孔１２ａが下向きに形成されている。吐出
孔１２ａの面積Ｓ、吐出方向と水平方向とのなす角度θ
および浸漬深さｄの値は、後述する制御装置２０に入力
される。
状体であり、その上端部がタンディッシュ（図示略）に
接続され、下端部が鋳型１０内の溶鋼に浸漬されるもの
である。図示例のイマージョンノズル１２は、その下端
の側方に吐出孔１２ａが下向きに形成されている。吐出
孔１２ａの面積Ｓ、吐出方向と水平方向とのなす角度θ
および浸漬深さｄの値は、後述する制御装置２０に入力
される。
【００２５】このような構造の連続鋳造設備において、
鋳型内の溶鋼表面流は、鋳造速度、鋳造巾および上述し
た浸漬深さ、吐出孔面積、吐出角度などのイマージョン
ノズルの形状や寸法や配置位置の影響を受けることは上
述した通りである。すなわち、上述したように、鋳型内
の溶鋼表面流速は、溶鋼表面流に静磁場による制動が加
えられていない時には、溶鋼表面流速指数に比例するも
のであり、溶鋼表面流速指数は鋳造条件の関数として次
式で表せる。 Ｍ＝Vc× cosθ/S( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2×1/100 …（II） ここで、 Ｍ ：溶鋼表面流速指数 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） である。
鋳型内の溶鋼表面流は、鋳造速度、鋳造巾および上述し
た浸漬深さ、吐出孔面積、吐出角度などのイマージョン
ノズルの形状や寸法や配置位置の影響を受けることは上
述した通りである。すなわち、上述したように、鋳型内
の溶鋼表面流速は、溶鋼表面流に静磁場による制動が加
えられていない時には、溶鋼表面流速指数に比例するも
のであり、溶鋼表面流速指数は鋳造条件の関数として次
式で表せる。 Ｍ＝Vc× cosθ/S( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2×1/100 …（II） ここで、 Ｍ ：溶鋼表面流速指数 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） である。
【００２６】また、溶鋼表面流速指数Ｍは、上述したよ
うに静磁場がかけられていない時には、溶鋼表面流速Ｖ
に比例する値であり、溶鋼表面流速は静磁場を印加する
ことにより、下記の（II）式に従がって減速する。 Ｖ∝ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ） ここで、 Ｖ ：溶鋼表面流速（ｍ／ｓｅｃ） ＶO ：短辺上昇流速（ｍ／ｓｅｃ） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） ｔ ：時間（ｓｅｃ） である。
うに静磁場がかけられていない時には、溶鋼表面流速Ｖ
に比例する値であり、溶鋼表面流速は静磁場を印加する
ことにより、下記の（II）式に従がって減速する。 Ｖ∝ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ） ここで、 Ｖ ：溶鋼表面流速（ｍ／ｓｅｃ） ＶO ：短辺上昇流速（ｍ／ｓｅｃ） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） ｔ ：時間（ｓｅｃ） である。
【００２７】ここで、様々な鋳造条件による、静磁場に
よる溶鋼表面流の制動（減速）がない時、溶鋼表面流速
指数Ｍと、冷延後のコイル表面不良指数との関係を図５
に示す。溶鋼表面流速指数Ｍが増加すると、これに比例
して溶鋼表面流速が増加して、モールドパウダーの巻き
込みが原因と考えられるコイル不良が増加する。一方、
流速指数Ｍが低すぎても、メニスカス部の温度低下等に
よりコイル不良が増加する。従って、コイル不良指数
は、流速指数Ｍにより左右されることが分かり、流速指
数Ｍに最適値が存在することがわかる。
よる溶鋼表面流の制動（減速）がない時、溶鋼表面流速
指数Ｍと、冷延後のコイル表面不良指数との関係を図５
に示す。溶鋼表面流速指数Ｍが増加すると、これに比例
して溶鋼表面流速が増加して、モールドパウダーの巻き
込みが原因と考えられるコイル不良が増加する。一方、
流速指数Ｍが低すぎても、メニスカス部の温度低下等に
よりコイル不良が増加する。従って、コイル不良指数
は、流速指数Ｍにより左右されることが分かり、流速指
数Ｍに最適値が存在することがわかる。
【００２８】従って、溶鋼表面流速指数を常に最適値ま
たはその近傍の値に制御して、溶鋼表面流によるモール
ドパウダーなどの巻き込みを防止するためには、上述し
た鋳造速度、鋳造巾、イマージョンノズルの寸法や配置
位置などの鋳造条件の変化に対応して、磁極１３に流す
電流値を変化させ、溶鋼表面流に作用させる静磁場の強
さを調整すればよいことがわかる。図５は、溶鋼表面流
速指数とコイル不良指数の関係を示したものである。静
磁場を印加しない操業条件下での溶鋼表面流速指数＝
４、コイル不良指数＝１を示している。図５にて、コイ
ル不良指数を静磁場を印加しない操業条件の半分の０．
５以下に抑えるには流速指数Ｍを１以上３以下となるよ
うに溶鋼表面流速を抑えれば良い事がわかる。
たはその近傍の値に制御して、溶鋼表面流によるモール
ドパウダーなどの巻き込みを防止するためには、上述し
た鋳造速度、鋳造巾、イマージョンノズルの寸法や配置
位置などの鋳造条件の変化に対応して、磁極１３に流す
電流値を変化させ、溶鋼表面流に作用させる静磁場の強
さを調整すればよいことがわかる。図５は、溶鋼表面流
速指数とコイル不良指数の関係を示したものである。静
磁場を印加しない操業条件下での溶鋼表面流速指数＝
４、コイル不良指数＝１を示している。図５にて、コイ
ル不良指数を静磁場を印加しない操業条件の半分の０．
５以下に抑えるには流速指数Ｍを１以上３以下となるよ
うに溶鋼表面流速を抑えれば良い事がわかる。
【００２９】従って、溶鋼表面流によるモールドパウダ
ーの巻き込みは、ノズルからの上昇流が溶鋼表面へ到達
してから１秒後に発生すると考えると、（II），（III
）式より最適な印加磁場は下記の（Ｉ）式の範囲内に
あると考えられる。 100×Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2≦Vc・ cosθ・exp(-B2) ≦ 300×Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2 …（Ｉ） ここで、 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） である。
ーの巻き込みは、ノズルからの上昇流が溶鋼表面へ到達
してから１秒後に発生すると考えると、（II），（III
）式より最適な印加磁場は下記の（Ｉ）式の範囲内に
あると考えられる。 100×Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2≦Vc・ cosθ・exp(-B2) ≦ 300×Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2 …（Ｉ） ここで、 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） である。
【００３０】詳しく説明すると、溶鋼表面流の流速Ｖ
は、（III ）式より比例定数をＣ1 とすると、 Ｖ＝Ｃ1 ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ´） と表わすことができる。ここで、溶鋼に静磁場がかけら
れておらず、溶鋼表面流に制動がかけられていない場
合、静磁場の磁束密度ＢはＯテスラ（Ｂ＝Ｏ）より、上
記式（III ´）より溶鋼表面流速は、Ｖ＝Ｃ1 ＶO とな
る。一方、この場合に溶鋼表面流速Ｖは溶鋼表面流速指
数Ｍに比例するので、その比例定数をＣ2 とすると、 Ｖ＝Ｃ1 ＶO ＝Ｃ2 Ｍ …（IV） と表わすことができる。ここで、図５より１≦Ｍ≦３で
あるのが好ましい。従って、上記（IV）式より １≦Ｖ／Ｃ2 ≦３ …（Ｖ） である。
は、（III ）式より比例定数をＣ1 とすると、 Ｖ＝Ｃ1 ＶO ｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） …（III ´） と表わすことができる。ここで、溶鋼に静磁場がかけら
れておらず、溶鋼表面流に制動がかけられていない場
合、静磁場の磁束密度ＢはＯテスラ（Ｂ＝Ｏ）より、上
記式（III ´）より溶鋼表面流速は、Ｖ＝Ｃ1 ＶO とな
る。一方、この場合に溶鋼表面流速Ｖは溶鋼表面流速指
数Ｍに比例するので、その比例定数をＣ2 とすると、 Ｖ＝Ｃ1 ＶO ＝Ｃ2 Ｍ …（IV） と表わすことができる。ここで、図５より１≦Ｍ≦３で
あるのが好ましい。従って、上記（IV）式より １≦Ｖ／Ｃ2 ≦３ …（Ｖ） である。
【００３１】一方、上記式（III ´）および（IV）より Ｖ＝Ｃ2 Ｍｅｘｐ（−Ｂ2 ｔ） となり、溶鋼表面流速指数Ｍは、上記式（II）で表され
るので、 V/C2=Vc ・ cosθ・exp(-B2t)/｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝ と表わすことができる。ここで溶鋼表面流によるモール
ドパウダーの巻き込みは、ノズルからの上昇流が溶鋼表
面へ到達してから１秒後に発生すると考えると、ｔ＝１
となるので、 V/C2＝Vc・ cosθ・exp(-B2)/ ｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝ …（VI） と表わすことができる。
るので、 V/C2=Vc ・ cosθ・exp(-B2t)/｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝ と表わすことができる。ここで溶鋼表面流によるモール
ドパウダーの巻き込みは、ノズルからの上昇流が溶鋼表
面へ到達してから１秒後に発生すると考えると、ｔ＝１
となるので、 V/C2＝Vc・ cosθ・exp(-B2)/ ｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝ …（VI） と表わすことができる。
【００３２】従って、溶鋼表面流によるモールドパウダ
ーの巻き込みが生じない溶鋼表面流速Ｖは上記式（Ｖ）
で与えられる範囲内にあればよいので、上記式（Ｖ）お
よび（VI）より １≦Vc・ cosθ・exp(-B2)/ ｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝≦３ となり、これを変形して上記式（Ｉ）で示される磁束密
度の静磁場を溶鋼表面流に印加すればよいことがわか
る。この結果図２に示す制御装置２０は、上述の式
（Ｉ）を満足するように磁極１３によって発生する静磁
場の磁束密度、従って磁極１３に付与する電流値を制御
すればよいことがわかる。
ーの巻き込みが生じない溶鋼表面流速Ｖは上記式（Ｖ）
で与えられる範囲内にあればよいので、上記式（Ｖ）お
よび（VI）より １≦Vc・ cosθ・exp(-B2)/ ｛ 100Ｓ( d ＋L/2 ・ tanθ)1/2｝≦３ となり、これを変形して上記式（Ｉ）で示される磁束密
度の静磁場を溶鋼表面流に印加すればよいことがわか
る。この結果図２に示す制御装置２０は、上述の式
（Ｉ）を満足するように磁極１３によって発生する静磁
場の磁束密度、従って磁極１３に付与する電流値を制御
すればよいことがわかる。
【００３３】図２は、制御装置２０とこの制御装置２０
に電源盤２１を介して接続された磁極１３との関係を示
す図である。制御装置２０には、鋳込開始に際し、前記
面積Ｓ、角度θ、深さｄと、鋼種および鋳造巾等の鋳造
条件が入力され、鋳込開始とともに、鋳造速度が逐次入
力され鋳造速度等の鋳造条件が変化する毎に、新たな条
件のデータが入力される。ここで、鋳造速度のデータ
は、ピンチロールから制御装置２０に自動的に送られる
ようなっている。この制御装置２０は、予め設定された
（Ｉ）式により静磁場の最適磁束密度を計算し、その静
磁場を発生させるのに必要な電流値を計算し、その電流
値を電源盤２１に指令する。
に電源盤２１を介して接続された磁極１３との関係を示
す図である。制御装置２０には、鋳込開始に際し、前記
面積Ｓ、角度θ、深さｄと、鋼種および鋳造巾等の鋳造
条件が入力され、鋳込開始とともに、鋳造速度が逐次入
力され鋳造速度等の鋳造条件が変化する毎に、新たな条
件のデータが入力される。ここで、鋳造速度のデータ
は、ピンチロールから制御装置２０に自動的に送られる
ようなっている。この制御装置２０は、予め設定された
（Ｉ）式により静磁場の最適磁束密度を計算し、その静
磁場を発生させるのに必要な電流値を計算し、その電流
値を電源盤２１に指令する。
【００３４】電源盤２１は、制御装置２０から送られた
電流値の電流を磁極１３のコイル１３ａへ流すものであ
る。そして、磁極１３は、制御装置２０により計算され
た磁束密度の静磁場、すなわち鋳造条件に常に適合した
静磁場を発生させるものである。
電流値の電流を磁極１３のコイル１３ａへ流すものであ
る。そして、磁極１３は、制御装置２０により計算され
た磁束密度の静磁場、すなわち鋳造条件に常に適合した
静磁場を発生させるものである。
【００３５】次に、本発明の連続鋳造方法について説明
する。本発明の連続鋳造方法は、図６に示すように、精
錬後の溶融金属を取鍋１等の容器から中間容器であるタ
ンディッシュ２に注入する。そして、タンディッシュ２
からイマージョンノズル３を介して鋳型４内へ溶鋼を注
入し、鋳込を行う点では従来と同じである。
する。本発明の連続鋳造方法は、図６に示すように、精
錬後の溶融金属を取鍋１等の容器から中間容器であるタ
ンディッシュ２に注入する。そして、タンディッシュ２
からイマージョンノズル３を介して鋳型４内へ溶鋼を注
入し、鋳込を行う点では従来と同じである。
【００３６】本発明においては、鋳込開始に際して、
（Ｉ）式が設定されている制御装置２０に鋼種、鋳造巾
Ｌ、イマージョンノズル浸漬深さｄ、イマージョンノズ
ル吐出孔面積Ｓおよびイマージョンノズル吐出角度θな
どの鋳造条件が入力され、初期値として鋼種、鋳造巾な
どに応じて鋳造速度が設定される。ここで、制御装置２
０は、鋳造条件を（Ｉ）式に入力することにより最適磁
束密度を算出し、この磁束密度の静磁場を発生させるた
めの電流値を電源盤２１に指令する。制御装置２０から
電流値の指令を受けた電磁盤２１は所定値の電流を磁極
１３に流し、磁極１３は溶鋼表面流速を適正値または適
正範囲に制御するための上述の鋳造条件に応じた適正な
静磁場を印加する。
（Ｉ）式が設定されている制御装置２０に鋼種、鋳造巾
Ｌ、イマージョンノズル浸漬深さｄ、イマージョンノズ
ル吐出孔面積Ｓおよびイマージョンノズル吐出角度θな
どの鋳造条件が入力され、初期値として鋼種、鋳造巾な
どに応じて鋳造速度が設定される。ここで、制御装置２
０は、鋳造条件を（Ｉ）式に入力することにより最適磁
束密度を算出し、この磁束密度の静磁場を発生させるた
めの電流値を電源盤２１に指令する。制御装置２０から
電流値の指令を受けた電磁盤２１は所定値の電流を磁極
１３に流し、磁極１３は溶鋼表面流速を適正値または適
正範囲に制御するための上述の鋳造条件に応じた適正な
静磁場を印加する。
【００３７】こうして、鋳造が開始される。そして、鋳
込開始とともに鋳造速度が自動的にリアルタイムで制御
装置２０に入力される。そして、鋼種や鋳造巾Ｌやノズ
ルの浸漬深さｄ等の鋳造条件が変化した時には、そのデ
ータを逐次制御装置２０に入力する。すると、制御装置
２０は、入力された新たな鋳造条件に基づいて上記
（Ｉ）式から直ちに最適磁束密度を新たに算出し、この
変更された最適磁束密度の静磁場を発生させるための電
流値を求めて、これを電源盤２１に指令する。
込開始とともに鋳造速度が自動的にリアルタイムで制御
装置２０に入力される。そして、鋼種や鋳造巾Ｌやノズ
ルの浸漬深さｄ等の鋳造条件が変化した時には、そのデ
ータを逐次制御装置２０に入力する。すると、制御装置
２０は、入力された新たな鋳造条件に基づいて上記
（Ｉ）式から直ちに最適磁束密度を新たに算出し、この
変更された最適磁束密度の静磁場を発生させるための電
流値を求めて、これを電源盤２１に指令する。
【００３８】このようにして、この制御装置２０によっ
て鋳造条件の変化に応じて新たに設定された電流値に等
しい電流を電源盤２１は磁極１３の電磁コイルに流し、
磁極１３は、新しい鋳造条件に応じた適正な静磁場を鋳
型１０の内部の溶鋼表面１５に印加し、溶鋼表面流１６
ｂと逆向きに電磁力を付与して溶鋼表面流１６ｂに制動
を加え、溶鋼表面流速を適正値に制御する。
て鋳造条件の変化に応じて新たに設定された電流値に等
しい電流を電源盤２１は磁極１３の電磁コイルに流し、
磁極１３は、新しい鋳造条件に応じた適正な静磁場を鋳
型１０の内部の溶鋼表面１５に印加し、溶鋼表面流１６
ｂと逆向きに電磁力を付与して溶鋼表面流１６ｂに制動
を加え、溶鋼表面流速を適正値に制御する。
【００３９】以上説明したような連続鋳造方法によれ
ば、鋳造速度等の鋳造条件の変化に対応して、磁極に付
与する電流を連続的に変化させ静磁場の強度を変化させ
るので、イマージョンノズルから鋳型内に吐出される溶
鋼噴流によって生じる溶鋼表面流の流速に常に適応した
適切な制動を加えることができ、常に溶鋼表面流を直接
かつ連続的に最適な溶鋼表面流速に制御することができ
る。また、静磁場の磁束密度が、（Ｉ）式を満足するよ
うに静磁場を印加するので、静磁場を印加しない時の溶
鋼表面流速指数Ｍが１以上３以下に相当する溶鋼表面流
速Ｖに制御することができ、コイル不良指数を０．５以
下にすることができる。そのため、モールドパウダーな
どの巻き込みに起因する表面欠陥の少ないコイルを製造
し得る鋳片を形成することができる。
ば、鋳造速度等の鋳造条件の変化に対応して、磁極に付
与する電流を連続的に変化させ静磁場の強度を変化させ
るので、イマージョンノズルから鋳型内に吐出される溶
鋼噴流によって生じる溶鋼表面流の流速に常に適応した
適切な制動を加えることができ、常に溶鋼表面流を直接
かつ連続的に最適な溶鋼表面流速に制御することができ
る。また、静磁場の磁束密度が、（Ｉ）式を満足するよ
うに静磁場を印加するので、静磁場を印加しない時の溶
鋼表面流速指数Ｍが１以上３以下に相当する溶鋼表面流
速Ｖに制御することができ、コイル不良指数を０．５以
下にすることができる。そのため、モールドパウダーな
どの巻き込みに起因する表面欠陥の少ないコイルを製造
し得る鋳片を形成することができる。
【００４０】（実施例）本発明の連続鋳造方法と従来の
方法とを極低炭素鋼の連続鋳造に適用し、鋳型の短辺が
０．２６ｍの連続鋳造設備を使用して、鋳片を形成し
た。 最大鋳造速度 ：２．０ｍ／ｍｉｎ 鋳造巾（Ｌ） ：１．０ｍ イマージョンノズル浸漬深さ（ｄ） ：０．２ｍ イマージョンノズル吐出孔面積の合計（Ｓ）：０．０１ｍ2 イマージョンノズル吐出角度（θ） ：１５°
方法とを極低炭素鋼の連続鋳造に適用し、鋳型の短辺が
０．２６ｍの連続鋳造設備を使用して、鋳片を形成し
た。 最大鋳造速度 ：２．０ｍ／ｍｉｎ 鋳造巾（Ｌ） ：１．０ｍ イマージョンノズル浸漬深さ（ｄ） ：０．２ｍ イマージョンノズル吐出孔面積の合計（Ｓ）：０．０１ｍ2 イマージョンノズル吐出角度（θ） ：１５°
【００４１】本発明例（Ａ）は、鋳造条件が変化しても
磁束密度が（Ｉ）式を満足する静磁場を、鋳型内の溶鋼
表面の全面に均一にかけた。
磁束密度が（Ｉ）式を満足する静磁場を、鋳型内の溶鋼
表面の全面に均一にかけた。
【００４２】比較例として、静磁場をかけない方法
（Ｂ）と、磁束密度が０．３テスラ（Ｔ）の一定の静磁
場を吐出流形成領域にかけた方法（Ｃ）とを行った。
（Ｂ）と、磁束密度が０．３テスラ（Ｔ）の一定の静磁
場を吐出流形成領域にかけた方法（Ｃ）とを行った。
【００４３】図３は、本発明例（Ａ）と比較例（Ｂ），
（Ｃ）の鋳造方法を適用した際の、溶鋼表面流速指数Ｍ
に対するそれぞれの鋳型内の溶鋼表面流速Ｖを示したグ
ラフである。このグラフから分かるように、比較例
（Ｂ）の表面流速Ｖは、本発明例（Ａ）に比較して同一
流速指数では速くなった。また、比較例（Ｃ）の表面流
速Ｖについても同様の結果が得られた。本発明例（Ａ）
の表面流速Ｖは、流速指数Ｍが２より大きくなっても、
溶鋼表面流速指数Ｍが２のときの表面流速Ｖと同程度に
抑えらていた。
（Ｃ）の鋳造方法を適用した際の、溶鋼表面流速指数Ｍ
に対するそれぞれの鋳型内の溶鋼表面流速Ｖを示したグ
ラフである。このグラフから分かるように、比較例
（Ｂ）の表面流速Ｖは、本発明例（Ａ）に比較して同一
流速指数では速くなった。また、比較例（Ｃ）の表面流
速Ｖについても同様の結果が得られた。本発明例（Ａ）
の表面流速Ｖは、流速指数Ｍが２より大きくなっても、
溶鋼表面流速指数Ｍが２のときの表面流速Ｖと同程度に
抑えらていた。
【００４４】本発明例（Ａ）および比較例（Ｂ），
（Ｃ）により形成された鋳片を圧延してコイルを製造
し、それぞれのコイルについて不良指数を調べた。その
結果を図４に示す。このグラフから分かるように、本発
明例（Ａ）の鋳造方法のコイル不良指数は、比較例
（Ｂ）の１／４以下、比較例（Ｃ）の半分以下となっ
た。このことから本発明例の鋳造方法は、コイルの不良
を大幅に低減させたことがわかった。
（Ｃ）により形成された鋳片を圧延してコイルを製造
し、それぞれのコイルについて不良指数を調べた。その
結果を図４に示す。このグラフから分かるように、本発
明例（Ａ）の鋳造方法のコイル不良指数は、比較例
（Ｂ）の１／４以下、比較例（Ｃ）の半分以下となっ
た。このことから本発明例の鋳造方法は、コイルの不良
を大幅に低減させたことがわかった。
【００４５】
【発明の効果】本発明の静磁場を用いた鋼の連続鋳造方
法によれば、ノズルから吐出される吐出流を制御するの
ではなく、パウダー巻き込み等の欠陥の原因に大きく寄
与している溶鋼表面流に静磁場を作用させて溶鋼表面流
を直接制御するので、簡単かつ効果的に溶鋼表面流の制
御をすることができる。また、鋳造条件に対応して溶鋼
表面流に印加する静磁場を変化させるので、連続鋳造に
よって得られた鋳片を圧延して得られるコイルにおいて
コイル不良率が低くなる最適な溶鋼表面流に常に制御す
ることができ、高品質の鋳片を製造することが可能であ
る。また、溶鋼吐出流に静磁場を作用させる場合に通
常、複数段磁極を配置するのに比べ、本発明は磁極を複
数段とする必要がなく、磁極の制御が簡単であり、また
設備コストが低く抑えられる。
法によれば、ノズルから吐出される吐出流を制御するの
ではなく、パウダー巻き込み等の欠陥の原因に大きく寄
与している溶鋼表面流に静磁場を作用させて溶鋼表面流
を直接制御するので、簡単かつ効果的に溶鋼表面流の制
御をすることができる。また、鋳造条件に対応して溶鋼
表面流に印加する静磁場を変化させるので、連続鋳造に
よって得られた鋳片を圧延して得られるコイルにおいて
コイル不良率が低くなる最適な溶鋼表面流に常に制御す
ることができ、高品質の鋳片を製造することが可能であ
る。また、溶鋼吐出流に静磁場を作用させる場合に通
常、複数段磁極を配置するのに比べ、本発明は磁極を複
数段とする必要がなく、磁極の制御が簡単であり、また
設備コストが低く抑えられる。
【００４６】本発明の連続鋳造方法において、静磁場の
磁束密度が上記（Ｉ）式を満足するように静磁場を印加
するものでは、コイル不良指数を０．５以下にすること
ができ、表面欠陥の少ない高品質のコイルを製造し得る
鋳片を形成することができる。
磁束密度が上記（Ｉ）式を満足するように静磁場を印加
するものでは、コイル不良指数を０．５以下にすること
ができ、表面欠陥の少ない高品質のコイルを製造し得る
鋳片を形成することができる。
【図１】 本発明に係る連続鋳造方法に使用される鋳型
と磁極とイマージョンノズルとの一実施例を示す断面図
である。
と磁極とイマージョンノズルとの一実施例を示す断面図
である。
【図２】 図１に示す鋳型の内部に静磁場を印加する装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図３】 本発明例および比較例による連続鋳造におけ
る溶鋼表面流速と溶鋼表面流速指数との関係を示すグラ
フである。
る溶鋼表面流速と溶鋼表面流速指数との関係を示すグラ
フである。
【図４】 本発明例（Ａ）および比較例（Ｂ），（Ｃ）
のコイル不良指数を示すグラフである。
のコイル不良指数を示すグラフである。
【図５】 溶鋼表面流速指数とコイル不良指数との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図６】 連続鋳造方法に使用される連続鋳造機の概要
を示す線図的断面図である。
を示す線図的断面図である。
【図７】 図６に示す鋳型の内部を示す断面図である。
１ 取鍋 ２ タンディッシュ ３，１２ イマージョンノズル ４，１０ 鋳型 ５，１１ モールドパウダー １５ 溶鋼表面 ６ａ，１６ａ 溶鋼吐出流 ６ｂ，１６ｂ 溶鋼表面流 １３ 磁極 ２０ 制御装置 ２１ 電源盤
Claims (2)
- 【請求項１】連続鋳造用鋳型の対向側壁の背面の溶鋼表
面近傍の高さに配設した磁極により、鋳型内の巾方向全
域にわたり静磁場を発生させ、溶鋼表面流に対して制動
を加えて鋼を連続鋳造するに際し、 前記鋼の鋳造条件に対応して前記磁極に付与する電流を
連続的に変化させ、発生される前記静磁場による前記溶
鋼表面流の制動力を変化させて、前記溶鋼表面流を制御
することを特徴とする静磁場を用いた鋼の連続鋳造方
法。 - 【請求項２】前記静磁場の磁束密度が、下記の式（Ｉ）
を満足するように前記磁極に付与する電流を変化させ
て、前記鋳型内の溶鋼表面流を制御する請求項１に記載
の静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法。 100×Ｓ（ｄ＋L/2 ・ tanθ）1/2 ≦Vc・ cosθ・exp(-B2) ≦ 300×Ｓ（ｄ＋L/2 ・ tanθ）1/2 …（Ｉ） ここで、 Ｖｃ：鋳造速度（ｍ／ｍｉｎ） Ｌ ：鋳造巾（ｍ） ｄ ：イマージョンノズル浸漬深さ（ｍ） Ｓ ：イマージョンノズル吐出孔面積の合計（ｍ2 ） θ ：イマージョンノズル吐出角度（°） Ｂ ：磁束密度（Ｔ） である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10823894A JP3491099B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10823894A JP3491099B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07314100A true JPH07314100A (ja) | 1995-12-05 |
| JP3491099B2 JP3491099B2 (ja) | 2004-01-26 |
Family
ID=14479579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10823894A Expired - Fee Related JP3491099B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3491099B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007000936A (ja) * | 1999-11-25 | 2007-01-11 | Usinor | 電磁場を用いる金属垂直連続鋳造方法とその実施のための鋳造設備 |
-
1994
- 1994-05-23 JP JP10823894A patent/JP3491099B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007000936A (ja) * | 1999-11-25 | 2007-01-11 | Usinor | 電磁場を用いる金属垂直連続鋳造方法とその実施のための鋳造設備 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3491099B2 (ja) | 2004-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0890176A (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JP3188273B2 (ja) | 直流磁場による鋳型内流動の制御方法 | |
| JP3491099B2 (ja) | 静磁場を用いた鋼の連続鋳造方法 | |
| JP2003117636A (ja) | 溶鋼の鋳型内流動制御方法並びにそのための電磁場形成装置 | |
| JP2633764B2 (ja) | 連続鋳造モールド内溶鋼流動制御方法 | |
| JP4591156B2 (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JPH0819842A (ja) | 連続鋳造方法および装置 | |
| JP4407260B2 (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JP3566847B2 (ja) | 溶融金属の連続鋳造方法およびその装置 | |
| JP2922363B2 (ja) | 連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置 | |
| JP2607334B2 (ja) | 連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置 | |
| JP3253012B2 (ja) | 連続鋳造用鋳型の電磁ブレーキ装置及びそれを用いた連続鋳造方法 | |
| JP2607335B2 (ja) | 連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置 | |
| JP3966054B2 (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JP2607333B2 (ja) | 連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置 | |
| JP2633766B2 (ja) | 連続鋳造モールド内溶鋼流動制御方法 | |
| JP3399627B2 (ja) | 直流磁界による鋳型内溶鋼の流動制御方法 | |
| JPH05237621A (ja) | 連続鋳造方法 | |
| JP4910357B2 (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JP3147824B2 (ja) | 連続鋳造方法 | |
| JP2007125575A (ja) | 連続鋳造鋳片の製造方法 | |
| JP3186649B2 (ja) | 溶融金属の連続鋳造方法 | |
| JP2633765B2 (ja) | 連続鋳造モールド内溶鋼流動制御方法 | |
| JP2633768B2 (ja) | 連続鋳造モールド内溶鋼流動制御方法 | |
| JP2887625B2 (ja) | 連続鋳造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031007 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071114 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101114 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121114 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131114 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |