JPH07314274A - 非接触支持装置および非接触支持方法 - Google Patents

非接触支持装置および非接触支持方法

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JPH07314274A
JPH07314274A JP7126924A JP12692495A JPH07314274A JP H07314274 A JPH07314274 A JP H07314274A JP 7126924 A JP7126924 A JP 7126924A JP 12692495 A JP12692495 A JP 12692495A JP H07314274 A JPH07314274 A JP H07314274A
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ビューラー フィリップ
Roland Siegwart
シーグヴァルト ローランド
Alfons Traxler
トゥラックスラー アルフォンス
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Mecos Traxler AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡便な構造を備えた非接触支持装置を低コス
トで提供する。 【構成】 ローター１が、少なくとも一つの方向におい
て、安定した非接触浮遊位置に達するために、少なくと
も二つの電磁石２および３のコイル１０および１１に平
行して定電流源１２から給電される。これらコイル１０
および１１を通る電流ＩａおよびＩｂは、コントローラ
に制御されるスイッチ１４および１５によってスイッチ
入れおよびスイッチ切れされる。この方法に基づいて作
動する装置は、低費で実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、ローター等の
物体を非接触で支持するための方法、およびこの方法に
基づいて操作される装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、機械部品を電磁的に支持する
装置として、図１に示すものがある。この装置は、電磁
的に支持されるべきローター１の両端部に、該ローター
１と所定の間隔をもって周設された各々二対、合計四対
の電磁石（図１は、ローター１の一端を示しているた
め、二対の電磁石が示されている）と、ローター１を軸
方向に支持する一対の電磁石を備えている。なお、一対
の電磁石２および３は、図１に示すｘ軸の方向に作用
し、一対の電磁石４および５は、ｙ軸方向に作用するも
のである。
【０００３】動的制御によって、ローター１をｘ軸方
向、ｙ軸方向およびｚ軸方向に安定させる方法として
は、種々のものが知られている。例えば、ローター１を
ｘ軸方向に安定させるには、ローター１と電磁石２〜５
との間に形成された隙間に配設された位置センサ６と、
この位置センサ６から出力された信号と、ローター１の
実際の瞬時位置Ａｘとの差を演算し、この結果を電力増
幅器８および９に出力するコントローラ７と、コントロ
ーラ７からの出力信号ｖおよびｗを受け取る電力増幅器
８および９と、を用る方法を採用している。なお、ｙ軸
方向およびｚ軸方向に関しても同様の方法でローター１
の制御が可能であるため、その説明は省略する。
【０００４】具体的には、位置センサ６は、ローター１
の実際の瞬時位置を測定し、これに対応した出力信号ｕ
をコントローラ７に出力する。コントローラ７では、こ
の信号ｕと、基準信号Vref.とを比較し、この結果に応
じた信号ｖおよびｗを電力増幅器８および９に出力す
る。この基準信号Vref.は、通常、電磁石２〜５が形成
する隙間の中心、すなわち、ここに配設されるローター
１の本来あるべき軸心位置に対応するものである。電力
増幅器８および９では、コントローラ７からの出力信号
ｖおよびｗに応じた電流IvおよびIwを、電磁石２に配設
されたコイル１０と、電磁石３に配設されたコイル１１
に供給する。このように、ローター１の実際の瞬時位置
に応じて、コイル１０および１１に供給する電流量を変
更することにより、ローター１のｘ軸方向の位置を制御
している。
【０００５】ここで、信号ｕ、ｖおよびｗは、一般に弱
い信号である。電力増幅器８および９は、入力される信
号ｖおよびｗに応じてコイル１０および１１に強電流お
よび高電圧を供給する。
【０００６】なお、ｙ軸方向およびｚ軸方向にも同様の
制御を行うため、合計１０個の電力増幅器と、５つのコ
ントローラが必要である。これらによって、ローター１
を５つの方向に安定して非接触支持するための制御を行
っている。
【０００７】前記位置センサとしては、例えば、前記隙
間の磁束密度を測定する方式のもの等が使用される。具
体的には、ディ・ズラトニック氏とエー・トラックスラ
ー氏から、「日本国東京における１９９０年７月１２ー
１４日、磁気軸受についての第二国際シンポジウム」、
２２９−２３５頁において紹介されているホール効果セ
ンサ等がある。
【０００８】また、従来の技術によるこのような方法
は、例えば、チューリッヒのＥＴＨのハンネス・ブロイ
ラー博士著の論文第７５７３号(１９８４年)、９頁、ま
たはアルフォンス・トラックスラー博士著の論文第７８
５１号(１９８５年)、１頁、またはディーター・ヴィッ
シャー博士著の論文第８６６５号(１９８８年)、３、２
５、２６頁において知られている。参考文献として、シ
ュヴァイツァー、トラックスラー、ブロイラー著「磁気
軸受」、シュプリンガー社ベルリン、ハイデルベルグ、
１９９３年も挙げられる。
【０００９】ドイツ特許第ＤＥ−２９１９２３６号にお
いては、その助けでロータの位置の直接な測定が実施さ
れる位置センサの古典的なシステムが説明されており、
かつドイツ特許第ＤＥ−２８２５８７７号においては、
放射線状変位が測定されることによってロータの位置が
測定される、ディスクを用いた特別なセンサが説明され
ている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
非接触支持装置においては、回路構成が複雑になり、装
置コストが増大するという問題が生じていた。一般に、
回路素子の破壊等を防止するため、各電磁石に過電流が
流れるのを防止する必要がある。そこで、従来は、電力
増幅回路毎に過電流監視スイッチを設けていた。ところ
が、電力増幅回路の数だけ、過電流監視スイッチを設け
なければならず、回路構成が複雑になるという問題が生
じていた。
【００１１】また、従来は、電力増幅回路から各電磁石
に電流を供給していたため、電力増幅回路を構成する素
子として大電流に耐え得るものを使用しなければならな
かった。ところが、このような素子は高価であるのみな
らず、回路構成が複雑になり易かった。
【００１２】本発明は、このような従来の問題点を解決
することを課題とするものであり、簡便な構造を備えた
非接触支持装置を低コストで提供することを目的とす
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、非支持物体の周囲に設けられるととも
に、この非支持物体を磁力により支持する複数の電磁石
と、前記複数の電磁石のうちの少なくとも２つの電磁石
群に接続された一つの定電流源と、前記被支持物体の位
置を検出するセンサと、前記定電流源から前記電磁石群
のそれぞれの電磁石に流す電流の分配比率を、前記セン
サからの出力信号に応じて決定するコントローラと、前
記コントローラによって決定された分配比率に応じて、
前記定電流源から前記電磁石群のそれぞれの電磁石に所
定の電流を流す電流制御回路とを備えた非接触支持装置
を提供するものである。
【００１４】前記電流制御回路は、電流の分配比率に応
じて前記電磁石群のそれぞれの電磁石に所定の電流を流
す電力増幅回路を備えることができる。
【００１５】前記電流制御回路は、前記電磁石群のいず
れかの電磁石に選択的に電流を流すスイッチ回路を備え
ることができる。
【００１６】前記コントローラは、電流の分配比率に応
じたパルス幅のパルス信号を前記スイッチ回路に与える
パルス幅変調回路を備えることができる。
【００１７】前記スイッチ回路および前記電磁石の接続
端子と、前記定電流源の電流供給側端子との間に介在す
る保護ダイオードを備えることができる。
【００１８】前記電力増幅回路は、電流を連続的に変更
可能である。
【００１９】前記非支持物体はロータであるとともに、
このロータの自由度と同数のセンサを備えることができ
る。
【００２０】前記ロータの両端部はテーパ状をなすとと
もに、この両端部のそれぞれには３つの電磁石が設けら
れてもよい。
【００２１】また、合計６つの電磁石に電流を供給する
一つの定電流源を備えてもよい。
【００２２】さらに、本発明は、複数の電磁石の磁力に
よって支持された被支持物体の位置を検出し、この位置
に応じてそれぞれの電磁石に流す電流の分配比率を決定
し、予め定められた総電流を、この分配比率に従いそれ
ぞれの電磁石に分配する非接触支持方法を提供するもの
である。
【００２３】
【実施例】次に、本発明に係る実施例について図面を参
照して説明する。なお、本実施例では、前述した従来例
（図１）と同一の部材には、同一の符号を付しその詳細
な説明は省略する。また、本実施例では、ｘ軸方向の制
御は、ｙ軸方向およびｚ軸方向の制御と同様の方法およ
び装置で行われるため、ｘ軸方向の制御についてのみ詳
細に説明する。
【００２４】図２に示す装置は、定電流源１２と、定点
流源１２に並列に接続されかつコイル１０および１１
と、接点１８を介してコイル１０に接続されたスイッチ
１４と、接点１８を介してアノード側が接続された保護
ダイオード２０と、接点１９を介してコイル１１に接続
されたスイッチ１５と、接点１９を介してアノード側が
接続された保護ダイオード２１と、を備えている。スイ
ッチ１４および１５は、接地されており、保護ダイオー
ド２０および２１のカソード側は、定電流源１２の入力
側に接続されている。
【００２５】前記定電流源１２は、その出力側１３から
電流Iqをコイル１０および１１に供給する。このとき、
コイル１０には電流Iaが、コイル１１には電流Ibが供給
され、常にIq＝Ia＋Ibが満足されるように設計されてい
る。
【００２６】スイッチ１４および１５は、例えば、トラ
ンジスタ、サイリスタ等の半導体スイッチを使用するこ
とができる。
【００２７】さらに、コイル１１が配設された電磁石３
とローター１との間には、位置センサ６が配設されてい
る。この位置センサ６には、位置センサ６からの出力信
号ｕと、予め設定されている基準信号Vref.とを比較
し、この結果に応じた信号ｅをパルス変調器１７に送信
するコントローラ１６が接続されている。パルス変調器
１７では、信号ｅに応じた出力信号ｇをスイッチ１４
に、出力信号ｈをスイッチ１５に送信し、これによって
スイッチ１４および１５の開閉を行う。このスイッチ１
４および１５の開閉のタイミングによって、ローター１
をｘ軸方向に安定して非接触支持することができる。
【００２８】前記コントローラ１６としては、例えば、
図４に示すマイクロプロセッサ２２を使用可能である。
このマイクロプロセッサ２２には、位置センサ６および
図示されていない残りの４つの位置センサから出力され
た信号ｕ（u1,u2,u3,u4,u5）をアナログ／デジタル変換
器（A/D変換器）２３〜２７にてデジタル化された信号
が入力され、この入力された信号に基づいて１０個の出
力信号g1,h1,g2,h2,g3,h3,g4,h4,g5,h5を、スイッチ１
４および１５と、図示しない残りの８つのスイッチに直
接送信する構成となっている。
【００２９】ここで、スイッチ１４が閉じられている場
合には、電流Iaは、コイル１０、接点１８、スイッチ１
４を経て接地に流れる。一方、スイッチ１４が開いてい
る場合には、電流Iaは、コイル１０、接点１８、保護ダ
イオード２０を介して定電流源１２に流れ込む。また、
スイッチ１５が閉じられている場合には、電流Ibは、コ
イル１１、接点１９、スイッチ１５を経て接地に流れ
る。一方、スイッチ１５が開いた際にコイル１１に高電
圧が発生した場合には、電流は、コイル１１、接点１
９、保護ダイオード２１を介して定電流源１２に流れ込
む。これにより、スイッチ１５が高電圧によって破壊さ
れるのを防止することができる。
【００３０】このように、本実施例に係る装置では、定
電流源１２から各電磁石２〜５に電流を供給しているた
め、特定の電磁石に無制限に電流が流れることはない。
したがって、従来必要としていた過電流監視スイッチ等
を設ける必要がなく、回路構成を簡略化することができ
る。
【００３１】また、スイッチ１４および１５を用いて各
電磁石２〜５に供給する電流を制御するため、複雑な電
力増幅回路を使用する必要がなくなる。したがって、非
接触支持装置の回路構成を大幅に簡略化することが可能
となる。
【００３２】さらに、保護ダイオード２０および２１を
設けたため、スイッチ１４および１５の破壊を防止する
ことができる。
【００３３】なお、本実施例では、ローター１をｘ軸方
向に安定して非接触支持する場合について説明したが、
本実施例に係る装置は、実際には、ローター１をｘ軸方
向、ｙ軸方向およびｚ軸方向に安定して非接触支持する
ものである。したがって、この装置は、実際には、５つ
の定電流源と、１０個のスイッチと、５対の電磁石およ
びこれに配設されたコイルと、１０個の保護ダイオード
と、５つの位置センサと、５つのコントローラと、５つ
のパルス幅変調器とを備えている。
【００３４】次に、本発明に係る他の実施例について図
３を参照して説明する。なお、本実施例では、前述した
従来例（図１）および前述した実施例（図２）と同一の
部材には、同一の符号を付しその詳細な説明は省略す
る。また、本実施例でも前記と同様の理由からｘ軸方向
の制御についてのみ詳細に説明する。
【００３５】図３に示す装置は、定電流源１２と、定点
流源１２に並列に接続されかつコイル１０および１１
と、コイル１０に直列接続された電力増幅器８’と、コ
イル１１に直列接続された電力増幅器９’と、電力増幅
器８’および９’に接続され、かつ電磁石３とローター
１との間に配設された位置センサ６に接続されたコント
ローラ７’とを備えている。
【００３６】コントローラ７’は、位置センサ６からの
出力信号ｕと、予め設定されている基準信号Vref.との
比較を行い、この結果に応じて得られた出力信号ｖ’を
電力増幅器８’に、出力信号ｗ’を電力増幅器９’に送
信する。電力増幅器８’および９’では、コントローラ
７’から受信した信号ｖ’およびｗ’に応じて出力側
８”および９”の電圧を制御し、これによってコイル１
０および１１に所望の電流IaおよびIbが流れるようにす
る。この結果、ローター１はｘ軸方向において安定に非
接触支持される。
【００３７】次に、本発明に係る他の実施例について説
明する。
【００３８】図５に示す装置は、図１、図２および図３
に示す電磁石２〜５の代わりに３つの電磁石を互いに１
２０度位相させて配置した構造を有している。これらの
電磁石には、その端部が符号Ａ１およびＢ１、Ａ２およ
びＢ２、Ａ３およびＢ３で示されたコイルＷ１、Ｗ２お
よびＷ３が各々配設されている。これら３つの電磁石
は、図６に示す回路を使用することにより、図２あるい
は図３に示す４つの電磁石に置き替えることができる。
【００３９】また、ローター１の外周には、ローター１
のｘ軸方向およびｙ軸方向における位置を測定するため
の１対の位置センサ４１および４２、あるいは１対の位
置センサ４１’および４２が配設されている。位置セン
サ４１、４１’および４２は、ローター１の実際の瞬時
位置を測定し、これに対応した出力信号ｘ１，ｘ１’、
ｙ１、ｙ１’をコントローラ５１に出力する。
【００４０】図６に示す回路では、定電流源５２に、コ
イルＷ１、Ｗ２およびＷ３の端部Ａ１、Ａ２およびＡ３
が接続されている。また、コイルＷ１他方の端部Ｂ１に
は、スイッチ５４および保護ダイオード５７のアノード
側が接続されている。保護ダイオード５７のカソード側
は、定電流現５２の正極側に接続されている。また、ス
イッチ５４は、接地されているとともに、マイクロプロ
セッサ５１に接続されている。これと同様に、コイルＷ
２およびＷ３の端部Ｂ２およびＢ３は、スイッチ５５お
よび５６に接続されているとともに、保護ダイオード５
８および５９のアノード側に接続されている。また、こ
の保護ダイオード５８および５９のカソード側も同様に
定電流源５２の正極側に接続され、スイッチ５５および
５６は、それぞれ接地されるとともに、マイクロプロセ
ッサ５１に接続されている。マイクロプロセッサ５１に
は、さらに、位置センサ４１および４２に接続されてい
るA/D変換器６０および６１が接続されている。
【００４１】位置センサ４１’および４２からの出力信
号ｘ１’およびｙ１’は、A/D変換器６０および６１を
介してデジタル信号に変換され、これがマイクロプロセ
ッサ５１に出力される。このマイクロプロセッサ５１
は、例えば、図７に示すような座標変換を実行すること
ができる。
【００４２】図７に示す座標変換は、第１座標アルゴリ
ズム６２、デジタル式コントローラ６３および第２座標
アルゴリズム６４からなる。第１アルゴリズム６２は、
非直行に配設された一対の位置センサ４１’および４２
（４１および４２でもよい）毎の測定値ｘ１’、ｙ１’
ｘ２’、ｙ２’、ｚ’を直行座標ｘ１、ｙ１、ｘ２，ｙ
２，ｚに変換し、これらをデジタル式コントローラ６３
に送信する。デジタル式コントローラ６３では、信号ｘ
１、ｙ１、ｘ２，ｙ２，ｚを、図２に置ける信号ｅに相
当する５つの出力信号ｘ１”、ｙ１”、ｘ２”，ｙ
２”，ｚ”を形成すし、これらを第２座標アルゴリズム
６４に出力する。第２座標アルゴリズム６４では、これ
らの信号をｉ１、ｊ１、ｋ１と、ｉ２、ｊ２、ｋ２と、
ｒ，ｓに変換する。この信号ｉ１、ｊ１、ｋ１は各々、
図６に示すようにスイッチ５４、５５および５６に出力
される。スイッチ５４、５５および５６は、この信号ｉ
１、ｊ１、ｋ１に応じて開閉される。
【００４３】なお、信号ｉ２、ｊ２、ｋ２は、図示しな
いローター１の他端側の３つのコイルを制御するスイッ
チに出力され、信号ｒおよびｓは、図示しないローター
１のｚ軸方向の移動を制御するためのコイルを制御する
スイッチに出力される。
【００４４】このように、この実施例では、これらのス
イッチの開閉のタイミングによって、ローター１を安定
して非接触支持することができる。
【００４５】次に、本発明に係る他の実施例について説
明する。
【００４６】図８に示す装置は、両端が円錐状となった
ローター１の両端（円錐形部分）８１および８２に、コ
イルが配設された３つの電磁石８３、８４および８５
が、円錐状の隙間を形成するように各々配設されてい
る。このため、電磁力は、ローター１のｘ軸、ｙ軸およ
びｚ軸方向の全てに発生する。したがって、図８に示す
装置では、ローター１の一端につき一つの定電流源でｘ
軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向の制御が可能となる。この
ため、合計６つの電磁石を制御するために、６つの信号
のみを形成するマイクロプロセッサを用ればよく、電磁
石の設置数を少なくできるとともに、マイクロプロセッ
サも簡便なものを使用することが可能となる。このた
め、コストの削減を行うことができる。
【００４７】また、図９に示す装置においては、図８と
同様に、電磁石がローター１の両端に３つずつ配設され
ている。この装置における電磁石９１、９２および９３
は、ローター１の軸方向（ｚ軸方向）に力を発生させる
ため、その一方の磁極片が隙間９４を介してローター１
の端面に対向して配設されている。また、他方の磁極片
は、ｘ軸方向およびｙ軸方向に力を発生させるために、
隙間９５を介してローター１の外周に配設されている。
【００４８】さらに、図１０に示す装置は、ローター１
の両端８１’および８２’が円錐状となっている。そし
て、図８と同様に、電磁石がローター１の両端８１’お
よび８２’に３つずつ配設されている。この装置におけ
る電磁石８３’、８４’および８５’は、一方の磁極片
がローター１の円錐部分に対向して配設されている。ま
た、他方の磁極片はローター１の外周に配設されてい
る。このため、電磁力は、ローター１のｘ軸、ｙ軸およ
びｚ軸方向の全てに発生する。したがって、図８に示す
装置では、ローター１の一端につき一つの定電流源でｘ
軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向の制御が可能となる。
【００４９】本発明は、ｘ軸方向、ｙ軸方向およびｚ軸
方向の全てを制御する必要がない物体を非接触に支持す
る場合にも使用することができる。この場合には、電磁
石の設置箇所および設置数等を所望により決定すればよ
い。
【００５０】本発明によれば、定電流源の数は、電磁石
の設置数と制御すべき方向の数との差に等しいことが確
認される。したがって、例えば、１０個の電磁石と、５
つの制御方向を必要とする磁気軸受については、図２に
示す装置のように５つの定電流源が必要となる（１０−
５＝５）。６つの電磁石と５つの制御方向を必要とする
磁気軸受については、図８に示す装置のように、１つの
電源が必要となる（６−５＝１）。
【００５１】また、効率を向上するために、スイッチ１
４および１５、あるいはスイッチ５４、５５および５６
を同期させてもよい。この場合、ｎ：ｍの比率で（ｎ，
ｍは整数）同期化させることが特によい。弱い電力の場
合には、本発明に係る電磁軸受は、受動電源により好適
に作動させることもできる。
【００５２】
【発明の効果】本発明によれば、定電流源から各電磁石
に電流を供給しているため、特定の電磁石に無制限に電
流が流れることはない。したがって、従来必要としてい
た過電流監視スイッチ等を設ける必要がなく、回路構成
を簡略化することが可能となる。
【００５３】また、スイッチ回路を用いて各電磁石に供
給する電流を制御することにより、複雑な電力増幅回路
を使用する必要がなくなる。一般的に、大電流を供給可
能な電力増幅回路を実現することは困難を伴い、また回
路構成も複雑になり易い。一方、高耐圧のスイッチ回路
は、サイリスタ等の半導体素子を用いることにより容易
に実現可能である。すなわち、本発明によれば、非接触
支持装置の回路構成を大幅に簡略化することが可能とな
る。
【００５４】さらに、保護ダイオードを設けることによ
り、スイッチの破壊を防止することが可能となる。スイ
ッチ回路を用いて各電磁石に断続的に電流を供給した場
合には、電磁誘導によって高電圧が発生し、スイッチ回
路が破壊するおそれがある。ところが、所定電圧を超え
る高電圧がスイッチ回路に印加されたとしても、スイッ
チ回路から保護ダイオードを介して定電流源へと電流が
流れるため、スイッチ回路の電圧が所定電圧を超えるこ
とはない。このため、高圧によるスイッチ回路の破壊を
回避することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の非接触支持装置の概略図である。
【図２】本発明の実施例に係る非接触支持装置の概略図
である。
【図３】本発明の他の実施例に係る非接触支持装置の概
略図である。
【図４】本発明の実施例に係るコントローラとして機能
するマイクロプロセッサの構成図である。
【図５】本発明の他の実施例に係る非接触支持装置の概
略図である。
【図６】図５に示す装置を制御するための構成概略図で
ある。
【図７】図５および図６に示す装置のコントローラとし
て機能するマイクロプロセッサの概略図である。
【図８】本発明の他の実施例に係る非接触支持装置であ
って、放線状および軸方向に同時に安定させる電磁石を
その端に有するロータの概略図である。
【図９】本発明の他の実施例に係る非接触支持装置であ
って、放線状および軸方向に同時に安定させる電磁石を
その端に有するロータの概略図である。
【図１０】本発明の他の実施例に係る非接触支持装置で
あって、放線状および軸方向に同時に安定させる電磁石
をその端に有するロータの概略図である。
【符号の説明】
１ ロータ ２ 電磁石 ３ 電磁石 ４ 電磁石 ５ 電磁石 ６ 位置センサ ７ コントローラ ８ 電力増幅器 ９ 電力増幅器 １０ コイル １１ コイル １２ 電源 １４ スイッチ １５ スイッチ １６ コントローラ １７ 変調器 ２０ ダイオード ２１ ダイオード ２２ マイクロプロセッサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルフォンス トゥラックスラー スイス国， ヴィンタートゥーア， ツェ ーハー−8400， グートシュトラーセ 38

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 非支持物体の周囲に設けられるととも
    に、この非支持物体を磁力により支持する複数の電磁石
    と、 前記複数の電磁石のうちの少なくとも２つの電磁石群に
    接続された一つの定電流源と、 前記被支持物体の位置を検出するセンサと、 前記定電流源から前記電磁石群のそれぞれの電磁石に流
    す電流の分配比率を、前記センサからの出力信号に応じ
    て決定するコントローラと、 前記コントローラによって決定された分配比率に応じ
    て、前記定電流源から前記電磁石群のそれぞれの電磁石
    に所定の電流を流す電流制御回路とを備えた非接触支持
    装置。
  2. 【請求項２】 前記電流制御回路は、電流の分配比率に
    応じて前記電磁石群のそれぞれの電磁石に所定の電流を
    流す電力増幅回路を備えた請求項１記載の非接触支持装
    置。
  3. 【請求項３】 前記電流制御回路は、前記電磁石群のい
    ずれかの電磁石に選択的に電流を流すスイッチ回路を備
    えた請求項１記載の非接触支持装置。
  4. 【請求項４】 前記コントローラは、電流の分配比率に
    応じたパルス幅のパルス信号を前記スイッチ回路に与え
    るパルス幅変調回路を備えた請求項３記載の非接触支持
    装置。
  5. 【請求項５】 前記スイッチ回路および前記電磁石の接
    続端子と、前記定電流源の電流供給側端子との間に介在
    する保護ダイオードを備えた請求項３または請求項４の
    いずれか一項記載の非接触支持装置。
  6. 【請求項６】 前記電力増幅回路は、電流を連続的に変
    更可能である請求項２記載の非接触支持装置。
  7. 【請求項７】 前記非支持物体はロータであるととも
    に、このロータの自由度と同数のセンサを備えた請求項
    １乃至請求項６のいずれか一項記載の非接触支持装置。
  8. 【請求項８】 前記ロータの両端部はテーパ状をなすと
    ともに、この両端部のそれぞれには３つの電磁石が設け
    られた請求項１乃至請求項７のいずれか一項記載の非接
    触支持装置。
  9. 【請求項９】 合計６つの電磁石に電流を供給する一つ
    の定電流源を備えた請求項８記載の非接触支持装置。
  10. 【請求項１０】 複数の電磁石の磁力によって支持され
    た被支持物体の位置を検出し、 この位置に応じてそれぞれの電磁石に流す電流の分配比
    率を決定し、 予め定められた総電流を、この分配比率に従いそれぞれ
    の電磁石に分配する非接触支持方法。
JP7126924A 1994-05-25 1995-05-25 非接触支持装置および非接触支持方法 Pending JPH07314274A (ja)

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