JPH07321004A - 電子線描画方法及び装置 - Google Patents
電子線描画方法及び装置Info
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- JPH07321004A JPH07321004A JP6109370A JP10937094A JPH07321004A JP H07321004 A JPH07321004 A JP H07321004A JP 6109370 A JP6109370 A JP 6109370A JP 10937094 A JP10937094 A JP 10937094A JP H07321004 A JPH07321004 A JP H07321004A
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- opening
- aperture
- shaping
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 多種類の図形を高効率で描画可能であり、か
つ、高精度な図形を描画可能な電子線描画方法及び装置
を実現する。 【構成】 ステップ100で描画図形データの多角形化を
行ない、ステップ101で多角形化した図形データを四角
形に分割する。ステップ102で図形データが基本形状又
は一括図形近似形状か否かを判定し基本形状又は一括図
形近似形状では無いと、ステップ103に進む。ステップ1
03で図形データが再分割され、ステップ102で再び、基
本形状又は一括図形近似形状かを判定する。ステップ10
2で図形データが基本形状又は一括図形近似形状ならス
テップ104に進み、第1アパーチャ3の複数開口図形のう
ち、基本形状又は一括図形近似形状の図形データと最小
回転角度差を有する開口図形を選択し、座標変換演算を
実行する。ステップ105に進み電子線描画装置の描画領
域を分割して、各データを圧縮しデータ準備が完了とな
る。
つ、高精度な図形を描画可能な電子線描画方法及び装置
を実現する。 【構成】 ステップ100で描画図形データの多角形化を
行ない、ステップ101で多角形化した図形データを四角
形に分割する。ステップ102で図形データが基本形状又
は一括図形近似形状か否かを判定し基本形状又は一括図
形近似形状では無いと、ステップ103に進む。ステップ1
03で図形データが再分割され、ステップ102で再び、基
本形状又は一括図形近似形状かを判定する。ステップ10
2で図形データが基本形状又は一括図形近似形状ならス
テップ104に進み、第1アパーチャ3の複数開口図形のう
ち、基本形状又は一括図形近似形状の図形データと最小
回転角度差を有する開口図形を選択し、座標変換演算を
実行する。ステップ105に進み電子線描画装置の描画領
域を分割して、各データを圧縮しデータ準備が完了とな
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超LSI等の製造に使
用される電子線描画方法及び装置に関する。
用される電子線描画方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線描画装置によって任意の角度を有
する図形を描画する場合、一旦、上位計算機により45
度の倍数の角度のみを有する図形にまで分解し、分解し
た図形データを、電子線描画装置の分解制御部により描
画可能な図形にまで、さらに、分解していた。
する図形を描画する場合、一旦、上位計算機により45
度の倍数の角度のみを有する図形にまで分解し、分解し
た図形データを、電子線描画装置の分解制御部により描
画可能な図形にまで、さらに、分解していた。
【0003】上述のように、図形を45度の倍数の角度
のみを有する図形にまで分解する場合には、上位計算機
でのデータ変換時間及び図形データ量が膨大なものとな
ってしまう。このため、これらの分解処理を電子回路に
よって分解し、データ量の削減及び処理の高速化が図ら
れた任意角図形分解方式が、例えば特開平5−2671
32号公報に記載されている。
のみを有する図形にまで分解する場合には、上位計算機
でのデータ変換時間及び図形データ量が膨大なものとな
ってしまう。このため、これらの分解処理を電子回路に
よって分解し、データ量の削減及び処理の高速化が図ら
れた任意角図形分解方式が、例えば特開平5−2671
32号公報に記載されている。
【0004】また、任意角図形描画の別方式として、特
開昭52−119185号公報に記載された一括描画方
式がある。これは、予め得たい図形の形状に加工された
アパーチャ部材を、電子線の経路に配置し、アパーチャ
を通過した電子線像を試料面上に投影して描画するもの
である。この方式により例えば最大5μm角までは自由
な形状の電子線像が描画可能となる。
開昭52−119185号公報に記載された一括描画方
式がある。これは、予め得たい図形の形状に加工された
アパーチャ部材を、電子線の経路に配置し、アパーチャ
を通過した電子線像を試料面上に投影して描画するもの
である。この方式により例えば最大5μm角までは自由
な形状の電子線像が描画可能となる。
【0005】また、特開平3−87015号公報に記載
された電子ビーム露光装置においては、矩形状のアパー
チャを有する複数のアパーチャ部材が、電子ビームの通
過方向に対して直列に配置され、これらの成形部材の共
役ビームが、試料面上に描画される。そして、複数のア
パーチャ部材のうちの少なくとも一つが、他の成形部材
の矩形状アパーチャに対して、アパーチャの形状が90
度だけ回転され、ずらされている。これにより、電子ビ
ームを大きく移動させること無く矩形ビームや斜めパタ
ーンビームを形成でき、収差による描画精度の低下が防
止されている。
された電子ビーム露光装置においては、矩形状のアパー
チャを有する複数のアパーチャ部材が、電子ビームの通
過方向に対して直列に配置され、これらの成形部材の共
役ビームが、試料面上に描画される。そして、複数のア
パーチャ部材のうちの少なくとも一つが、他の成形部材
の矩形状アパーチャに対して、アパーチャの形状が90
度だけ回転され、ずらされている。これにより、電子ビ
ームを大きく移動させること無く矩形ビームや斜めパタ
ーンビームを形成でき、収差による描画精度の低下が防
止されている。
【0006】また、他の例としては、特開昭61−12
0418号公報に記載されているように、電子レンズの
回転補正機能を用いて描画図形を任意角度まで回転させ
ることにより、任意角図形を描画可能とするものもあ
る。
0418号公報に記載されているように、電子レンズの
回転補正機能を用いて描画図形を任意角度まで回転させ
ることにより、任意角図形を描画可能とするものもあ
る。
【0007】なお、描画図形の回転誤差の補正に関する
例としては、特開平4−240718号公報に記載され
た可変成形型荷電粒子ビーム描画方法がある。この可変
成形型荷電粒子ビーム描画方法においては、第1成形ア
パーチャ部材と、この第1成形アパーチャ部材より大の
開口を有する第2アパーチャ部材との共役ビームを形成
し、この共役ビームを試料上に形成されたマーク上に走
査させる。この状態で、電磁偏向器に成形信号(X1、
Y1)を供給した後に、成形信号(X2、Y1)を供給す
る。このとき得られる反射電子画像に基づき、第2成形
アパーチャ部材の回転誤差が補正される。
例としては、特開平4−240718号公報に記載され
た可変成形型荷電粒子ビーム描画方法がある。この可変
成形型荷電粒子ビーム描画方法においては、第1成形ア
パーチャ部材と、この第1成形アパーチャ部材より大の
開口を有する第2アパーチャ部材との共役ビームを形成
し、この共役ビームを試料上に形成されたマーク上に走
査させる。この状態で、電磁偏向器に成形信号(X1、
Y1)を供給した後に、成形信号(X2、Y1)を供給す
る。このとき得られる反射電子画像に基づき、第2成形
アパーチャ部材の回転誤差が補正される。
【0008】次に、電磁偏向器に成形信号(X3、Y3)
を供給する。このとき得られる反射電子信号波形の波高
値が、一定となるように、第1成形アパーチャ部材を回
転させ、回転誤差が補正される。これにより、電磁偏向
器の偏向補正を行うこと無く、第1及び第2成形アパー
チャ部材の回転誤差補正が行われ、容易でありながら正
確な回転誤差補正が可能となる。なお、回転誤差補正の
他の例としては、特開平4−242919号公報、特開
平5−144715号公報及び特開平5−198488
号公報がある。
を供給する。このとき得られる反射電子信号波形の波高
値が、一定となるように、第1成形アパーチャ部材を回
転させ、回転誤差が補正される。これにより、電磁偏向
器の偏向補正を行うこと無く、第1及び第2成形アパー
チャ部材の回転誤差補正が行われ、容易でありながら正
確な回転誤差補正が可能となる。なお、回転誤差補正の
他の例としては、特開平4−242919号公報、特開
平5−144715号公報及び特開平5−198488
号公報がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平5−267132号公報にあっては、描画図形の斜
辺部の精度を向上させるためには、つまり、直線性を向
上するためには、分解幅をきわめて小さくする必要があ
る、したがって、上記特開平5−267132号公報に
おいては、描画図形の精度を向上するためには、分解数
を増加しなければならず、スループットの低下を回避す
ることができなかった。
開平5−267132号公報にあっては、描画図形の斜
辺部の精度を向上させるためには、つまり、直線性を向
上するためには、分解幅をきわめて小さくする必要があ
る、したがって、上記特開平5−267132号公報に
おいては、描画図形の精度を向上するためには、分解数
を増加しなければならず、スループットの低下を回避す
ることができなかった。
【0010】また、上記特開平5−267132号公報
にあっては、図形の斜辺部を形成する部分図形は、図形
の内部を形成する部分図形に比較して、かなり小となっ
てしまう。このため、図形の斜辺部を形成する部分図形
と内部を形成する部分図形との大きさの違いから生ずる
露光ムラ等により、斜辺部の直線性精度が劣化してしま
っていた。
にあっては、図形の斜辺部を形成する部分図形は、図形
の内部を形成する部分図形に比較して、かなり小となっ
てしまう。このため、図形の斜辺部を形成する部分図形
と内部を形成する部分図形との大きさの違いから生ずる
露光ムラ等により、斜辺部の直線性精度が劣化してしま
っていた。
【0011】また、特開昭52−119185号公報に
よる一括描画方式や特開平3−87015号公報に記載
された電子ビーム露光装置にあっては、分解数の増加及
び部分図形の大きさから生ずる露光ムラ等は回避でき
る。しかしながら、多種類の描画形状に対応するために
は、予め、その形状のアパーチャを製作しておかなけれ
ばならず、アパーチャ部材が多種類となり、その取扱い
が煩雑となるばかりか、描画図形の形状に適合するアパ
ーチャー部材を、描画する図形毎に、取り替えなければ
ならず、図形描画処理の効率が低下してしまう。
よる一括描画方式や特開平3−87015号公報に記載
された電子ビーム露光装置にあっては、分解数の増加及
び部分図形の大きさから生ずる露光ムラ等は回避でき
る。しかしながら、多種類の描画形状に対応するために
は、予め、その形状のアパーチャを製作しておかなけれ
ばならず、アパーチャ部材が多種類となり、その取扱い
が煩雑となるばかりか、描画図形の形状に適合するアパ
ーチャー部材を、描画する図形毎に、取り替えなければ
ならず、図形描画処理の効率が低下してしまう。
【0012】また、特開昭61−120418号公報に
記載の図形を回転させて、任意角図形を描画する方法に
おいては、図形の回転角度が大きいと、電子ビームが安
定するまでに長時間必要であるのみならず、収差により
図形の精度が劣化してしまう可能性がある。
記載の図形を回転させて、任意角図形を描画する方法に
おいては、図形の回転角度が大きいと、電子ビームが安
定するまでに長時間必要であるのみならず、収差により
図形の精度が劣化してしまう可能性がある。
【0013】本発明の目的は、多種類の図形を高効率で
描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子
線描画方法及び装置を実現することである。
描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子
線描画方法及び装置を実現することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、次のように構成される。電子線を、複数種
類の形状の開口が形成された第1成形開口部材に照射
し、通過した電子線を、所定の形状の開口が形成された
第2成形開口部材に照射し、通過した電子線を試料面上
に照射し、所望の図形を描画する電子線描画方法におい
て、描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形
状部分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割す
るステップと、第1成形開口部材に形成された複数の開
口のうち、近似部分と、最小回転角度差を有する開口を
選択するステップと、電子線源からの電子線を、第1成
形開口部材の選択された開口を通過させ、この通過した
電子線を最小回転角度差だけ回転させて、第2成形開口
部材に形成した開口に共役させ、この共役させた電子線
を試料面に照射して、近似部分を描画するステップとを
備える。
成するため、次のように構成される。電子線を、複数種
類の形状の開口が形成された第1成形開口部材に照射
し、通過した電子線を、所定の形状の開口が形成された
第2成形開口部材に照射し、通過した電子線を試料面上
に照射し、所望の図形を描画する電子線描画方法におい
て、描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形
状部分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割す
るステップと、第1成形開口部材に形成された複数の開
口のうち、近似部分と、最小回転角度差を有する開口を
選択するステップと、電子線源からの電子線を、第1成
形開口部材の選択された開口を通過させ、この通過した
電子線を最小回転角度差だけ回転させて、第2成形開口
部材に形成した開口に共役させ、この共役させた電子線
を試料面に照射して、近似部分を描画するステップとを
備える。
【0015】また、電子線描画方法において、描画する
図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部分に近似
する近似部分との複数の描画部分に分割するステップ
と、第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択するス
テップと、電子線源からの電子線を、第1成形開口部材
の選択された開口を通過させ、この通過した電子線を第
2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役さ
せた電子線を最小回転角度差だけ回転させて、試料面に
照射して、近似部分を描画するステップとを備える。
図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部分に近似
する近似部分との複数の描画部分に分割するステップ
と、第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択するス
テップと、電子線源からの電子線を、第1成形開口部材
の選択された開口を通過させ、この通過した電子線を第
2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役さ
せた電子線を最小回転角度差だけ回転させて、試料面に
照射して、近似部分を描画するステップとを備える。
【0016】また、電子線源と、電子線が照射され、複
数種類の形状の開口が形成された第1成形開口部材と、
この第1成形開口部材を通過した電子線が照射され、所
定の形状の開口が形成された第2成形開口部材と、電子
線を回転させる電子線回転手段とを有し、電子線を試料
面上に照射し、所望の図形を描画する電子線描画装置に
おいて、描画する図形を所定の基本形状部分と、この基
本形状部分に近似する近似部分との複数の描画部分に分
割する図形分割部と、第1成形開口部材に形成された複
数の開口のうち、近似部分と、最小回転角度差を有する
開口を選択する図形選択部と、電子線源からの電子線
を、第1成形開口部材の選択された開口を通過させ、こ
の通過した電子線を最小回転角度差だけ回転させて、第
2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役さ
れた電子線を試料面に照射させる電子線制御部とを備え
る。
数種類の形状の開口が形成された第1成形開口部材と、
この第1成形開口部材を通過した電子線が照射され、所
定の形状の開口が形成された第2成形開口部材と、電子
線を回転させる電子線回転手段とを有し、電子線を試料
面上に照射し、所望の図形を描画する電子線描画装置に
おいて、描画する図形を所定の基本形状部分と、この基
本形状部分に近似する近似部分との複数の描画部分に分
割する図形分割部と、第1成形開口部材に形成された複
数の開口のうち、近似部分と、最小回転角度差を有する
開口を選択する図形選択部と、電子線源からの電子線
を、第1成形開口部材の選択された開口を通過させ、こ
の通過した電子線を最小回転角度差だけ回転させて、第
2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役さ
れた電子線を試料面に照射させる電子線制御部とを備え
る。
【0017】また、電子線描画装置において、描画する
図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部分に近似
する近似部分との複数の描画部分に分割する図形分割部
と、第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択する図
形選択部と、電子線源からの電子線を、第1成形開口部
材の選択された開口を通過させ、この通過した電子線を
第2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役
された電子線を最小回転角度差だけ回転させて、試料面
に照射させる電子線制御部とを備える。
図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部分に近似
する近似部分との複数の描画部分に分割する図形分割部
と、第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択する図
形選択部と、電子線源からの電子線を、第1成形開口部
材の選択された開口を通過させ、この通過した電子線を
第2成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役
された電子線を最小回転角度差だけ回転させて、試料面
に照射させる電子線制御部とを備える。
【0018】好ましくは、上記電子線描画方法及び装置
において、第1成形開口部材は、電子線の照射方向に沿
って、配列された複数の開口部材から構成される。ま
た、好ましくは、上記電子線描画方法及び装置におい
て、第2成形開口部材には、複数種類の形状の開口が形
成されている。
において、第1成形開口部材は、電子線の照射方向に沿
って、配列された複数の開口部材から構成される。ま
た、好ましくは、上記電子線描画方法及び装置におい
て、第2成形開口部材には、複数種類の形状の開口が形
成されている。
【0019】また、好ましくは、上記電子線描画方法及
び装置において、第1成形開口部材に形成された複数種
類の開口は、多角形である。また、好ましくは、上記電
子線描画方法及び装置において、上記多角形は、複数種
類の二等辺三角形であり、これら二等辺三角形の頂角が
互いに異なる。
び装置において、第1成形開口部材に形成された複数種
類の開口は、多角形である。また、好ましくは、上記電
子線描画方法及び装置において、上記多角形は、複数種
類の二等辺三角形であり、これら二等辺三角形の頂角が
互いに異なる。
【0020】また、好ましくは、上記電子線描画方法及
び装置において、多角形は、複数の長方形であり、これ
ら複数の長方形の長辺は、所定の基準線に対する角度が
互いに異なる。また、好ましくは、上記電子線描画方法
及び装置において、多角形は、複数種類の六角形であ
る。
び装置において、多角形は、複数の長方形であり、これ
ら複数の長方形の長辺は、所定の基準線に対する角度が
互いに異なる。また、好ましくは、上記電子線描画方法
及び装置において、多角形は、複数種類の六角形であ
る。
【0021】
【作用】描画する図形は、基本形状部分と、この基本形
状部分に近似する近似部分とに分割される。この基本形
状部分とは、第1成形開口に形成された開口を回転させ
ること無く、描画可能な形状であり、近似部分とは、第
1成形開口部材に形成された開口を回転させて描画可能
な形状である。この描画図形の分割については、従来の
ように、45°倍角図形にまで、分割する必要は無いの
で、分割処理に要する時間が短縮化される。
状部分に近似する近似部分とに分割される。この基本形
状部分とは、第1成形開口に形成された開口を回転させ
ること無く、描画可能な形状であり、近似部分とは、第
1成形開口部材に形成された開口を回転させて描画可能
な形状である。この描画図形の分割については、従来の
ように、45°倍角図形にまで、分割する必要は無いの
で、分割処理に要する時間が短縮化される。
【0022】第1成形開口部材に形成された開口のう
ち、上記近似部分と、最小回転角度差を有する開口が選
択される。そして、この最小回転角度差を有する開口を
通過した電子線が、上記最小回転角度差だけ回転され
て、第2成形開口部材に形成された開口と共役され、試
料面上に照射される。または、第1成形開口部材の開口
を通過した電子線が、第2成形開口部材の開口と共役さ
れた後に、上記最小回転角度差だけ回転される。上記回
転角度差は、最小となっているので、回転による収差が
抑制され、高精度の描画が可能となる。
ち、上記近似部分と、最小回転角度差を有する開口が選
択される。そして、この最小回転角度差を有する開口を
通過した電子線が、上記最小回転角度差だけ回転され
て、第2成形開口部材に形成された開口と共役され、試
料面上に照射される。または、第1成形開口部材の開口
を通過した電子線が、第2成形開口部材の開口と共役さ
れた後に、上記最小回転角度差だけ回転される。上記回
転角度差は、最小となっているので、回転による収差が
抑制され、高精度の描画が可能となる。
【0023】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図1は、本発明の一実施例である電子先描画
方法の動作フローチャート、図2は、本発明の一実施例
である電子線描画装置の全体概略構成図、図3は、図2
の例における動作制御部の機能構成図である。
説明する。図1は、本発明の一実施例である電子先描画
方法の動作フローチャート、図2は、本発明の一実施例
である電子線描画装置の全体概略構成図、図3は、図2
の例における動作制御部の機能構成図である。
【0024】図2において、電子銃1より発生された電
子ビームは、選択偏向器2により偏向され、第1アパー
チャ(成形開口部材)3に形成された複数の開口の中か
ら適切な開口部に照射される。そして、第1アパーチャ
3の開口を通過した電子ビームは、第1転写レンズ4を
介して成形偏向器5を通過し、成形偏向される。次に、
電子ビームは、微小回転補正レンズ6により微小回転補
正され、第2転写レンズ7を通過して第2アパーチャ8
に照射される。そして、第2アパーチャ8を通過した電
子ビームは、縮小レンズ9により縮小され、副偏向器1
1及び主偏向器12により、偏向され、対物レンズ10
により、ステージ14に配置された試料13上の所望の
位置に照射される。ステージ14は、駆動モータ15に
より移動可能となっている。
子ビームは、選択偏向器2により偏向され、第1アパー
チャ(成形開口部材)3に形成された複数の開口の中か
ら適切な開口部に照射される。そして、第1アパーチャ
3の開口を通過した電子ビームは、第1転写レンズ4を
介して成形偏向器5を通過し、成形偏向される。次に、
電子ビームは、微小回転補正レンズ6により微小回転補
正され、第2転写レンズ7を通過して第2アパーチャ8
に照射される。そして、第2アパーチャ8を通過した電
子ビームは、縮小レンズ9により縮小され、副偏向器1
1及び主偏向器12により、偏向され、対物レンズ10
により、ステージ14に配置された試料13上の所望の
位置に照射される。ステージ14は、駆動モータ15に
より移動可能となっている。
【0025】上記電子ビームは、第1アパーチャ3と第
2アパーチャ8とを通過することにより、これら第1及
び第2アパーチャ3及び8の共役断面となる。そして、
この共役断面の形状が、成形偏向器5と微小回転補正レ
ンズ6とにより制御され、任意形状の断面の電子ビーム
が得られる。
2アパーチャ8とを通過することにより、これら第1及
び第2アパーチャ3及び8の共役断面となる。そして、
この共役断面の形状が、成形偏向器5と微小回転補正レ
ンズ6とにより制御され、任意形状の断面の電子ビーム
が得られる。
【0026】次に、図3において、図形データ処理部1
6は、多角形近似及び四角形分割部161と、形状判定
部162と、再分割部163と、回転角度演算及び開口
図形選択部164と、領域分割データ圧縮部165と、
メモリと、描画データ出力部167とを備えている。な
お、図形データ処理部161と、形状判定部162と、
再分割部163とにより図形分割部が構成される。
6は、多角形近似及び四角形分割部161と、形状判定
部162と、再分割部163と、回転角度演算及び開口
図形選択部164と、領域分割データ圧縮部165と、
メモリと、描画データ出力部167とを備えている。な
お、図形データ処理部161と、形状判定部162と、
再分割部163とにより図形分割部が構成される。
【0027】図形データ処理部16には、描画図形デー
タが供給され、処理される。そして、処理された描画デ
ータは、圧縮図形データとして図形復元部17に供給さ
れ、復元される。
タが供給され、処理される。そして、処理された描画デ
ータは、圧縮図形データとして図形復元部17に供給さ
れ、復元される。
【0028】次に、図形復元部17により復元された描
画データは、図形分解部18により描画可能な矩形図形
にまで分解される。さらに、分解された矩形図形データ
は、補正部19、DAC(D/Aコンバータ)20、ア
ンプ21を介して、上述した選択偏向器2、成形変形器
5、微小回転補正レンズ6を含むビーム制御系(電子線
制御系)25に供給され、電子ビームにより所望のパタ
ーンが描かれる。
画データは、図形分解部18により描画可能な矩形図形
にまで分解される。さらに、分解された矩形図形データ
は、補正部19、DAC(D/Aコンバータ)20、ア
ンプ21を介して、上述した選択偏向器2、成形変形器
5、微小回転補正レンズ6を含むビーム制御系(電子線
制御系)25に供給され、電子ビームにより所望のパタ
ーンが描かれる。
【0029】図4は、第1アパーチャ3に形成される複
数の基本形状開口の例であり(一開口は、5μm又は1
0μm)、図4の(A)は、二等辺三角形の頂角が紙面
の横方向に向いた複数の三角形開口である。この図4の
(A)の例においては、頂角の2分の1の角度が5°か
ら、10°、15°と5°づつ増加し、85°までの複
数の三角形となっている。そして、各角度毎に、互いに
対称形状となった一対の三角形開口が形成されている。
数の基本形状開口の例であり(一開口は、5μm又は1
0μm)、図4の(A)は、二等辺三角形の頂角が紙面
の横方向に向いた複数の三角形開口である。この図4の
(A)の例においては、頂角の2分の1の角度が5°か
ら、10°、15°と5°づつ増加し、85°までの複
数の三角形となっている。そして、各角度毎に、互いに
対称形状となった一対の三角形開口が形成されている。
【0030】また、図4の(B)は、複数の長方形開口
であり、長方形の長辺が紙面の水平方向線(所定の基準
線)に対して、5°から、10°、15°と5°づつ増
加し、85°までの複数の長方形となっている。そし
て、各角度毎に、紙面の水平方向線に対して、対称な角
度だけ回転した一対の長方形の開口が形成されている。
であり、長方形の長辺が紙面の水平方向線(所定の基準
線)に対して、5°から、10°、15°と5°づつ増
加し、85°までの複数の長方形となっている。そし
て、各角度毎に、紙面の水平方向線に対して、対称な角
度だけ回転した一対の長方形の開口が形成されている。
【0031】図4の(C)は、三角形の頂角が紙面の縦
方向に向いた複数の三角形開口である。この図4の
(C)の例においては、頂角の2分の1の角度が5°か
ら、10°、15°と5°づつ増加し、85°までの複
数の三角形となっている。そして、各角度毎に、互いに
対称形状となった一対の三角形開口が形成されている。
方向に向いた複数の三角形開口である。この図4の
(C)の例においては、頂角の2分の1の角度が5°か
ら、10°、15°と5°づつ増加し、85°までの複
数の三角形となっている。そして、各角度毎に、互いに
対称形状となった一対の三角形開口が形成されている。
【0032】これらの基本形状開口は、描画図形データ
に基づいて、選択偏向器2により、電子ビームが偏向さ
れ、選択される。そして、第1アパーチャ3の選択され
た基本形状開口と第2アパーチャ8との共役断面形状
が、試料13の上に描画される。
に基づいて、選択偏向器2により、電子ビームが偏向さ
れ、選択される。そして、第1アパーチャ3の選択され
た基本形状開口と第2アパーチャ8との共役断面形状
が、試料13の上に描画される。
【0033】図5は、共役断面形状の一例であり、図5
の(A)は、図4の(A)の開口形状(破線26)を回
転させること無く、第2アパーチャ8と共役させた例で
あり、共役断面は斜線部27Aで示されている。そし
て、図5の(B)は、図5の(A)の共役断面27A
が、微小回転補正レンズ6で微小回転されることによ
り、共役断面27Aの図形と角度の異なる共役断面27
Bが得られた例である。
の(A)は、図4の(A)の開口形状(破線26)を回
転させること無く、第2アパーチャ8と共役させた例で
あり、共役断面は斜線部27Aで示されている。そし
て、図5の(B)は、図5の(A)の共役断面27A
が、微小回転補正レンズ6で微小回転されることによ
り、共役断面27Aの図形と角度の異なる共役断面27
Bが得られた例である。
【0034】このように、5°、10°、15°、20
°、……というように、角度が5°づつ異なる開口パタ
ーンを備えていれば、微小回転補正レンズ6により±
2.5°のみの回転補正により360°全ての任意な角
度の描画が可能となる。
°、……というように、角度が5°づつ異なる開口パタ
ーンを備えていれば、微小回転補正レンズ6により±
2.5°のみの回転補正により360°全ての任意な角
度の描画が可能となる。
【0035】次に、上述した第1アパーチャ、第2アパ
ーチャ及び電子線描画装置を用いた電子線描画方法を説
明する。図1のステップ100において、多角形近似及
び四角形分割部161は、供給された描画図形データが
示す図形は、曲線図形をも含むので、描画精度に応じて
直線近似による多角形化を行なう。続いて、ステップ1
01において、分割部161は、多角形化した図形デー
タを四角形(三角形)分割する。
ーチャ及び電子線描画装置を用いた電子線描画方法を説
明する。図1のステップ100において、多角形近似及
び四角形分割部161は、供給された描画図形データが
示す図形は、曲線図形をも含むので、描画精度に応じて
直線近似による多角形化を行なう。続いて、ステップ1
01において、分割部161は、多角形化した図形デー
タを四角形(三角形)分割する。
【0036】次に、ステップ102において、形状判定
部162は、ステップ101において分割された図形デ
ータが、基本形状(矩形又は基本台形であり、第1アパ
ーチャに形成された開口を回転すること無く描画可能な
形状)、あるいは一括図形近似形状か否かを判定する。
この一括図形近似形状図形とは、基本形状開口に微小回
転(±2.5°以内)を与えることにより得られるか、
又は基本形状開口に微小回転を与え、かつ、第2アパー
チャ8との共役することにより得られる図形のことであ
る。そして、ステップ102において、図形データが基
本形状又は一括図形近似形状では無い場合には、ステッ
プ103に進む。ステップ103において、図形データ
は、再分割部163に供給され、この再分割部163に
より、図形データが再分割される。そして、ステップ1
02に戻り、再分割された図形データは、形状判定部1
62に供給され、再び、基本形状又は一括図形近似形状
かが判定される。
部162は、ステップ101において分割された図形デ
ータが、基本形状(矩形又は基本台形であり、第1アパ
ーチャに形成された開口を回転すること無く描画可能な
形状)、あるいは一括図形近似形状か否かを判定する。
この一括図形近似形状図形とは、基本形状開口に微小回
転(±2.5°以内)を与えることにより得られるか、
又は基本形状開口に微小回転を与え、かつ、第2アパー
チャ8との共役することにより得られる図形のことであ
る。そして、ステップ102において、図形データが基
本形状又は一括図形近似形状では無い場合には、ステッ
プ103に進む。ステップ103において、図形データ
は、再分割部163に供給され、この再分割部163に
より、図形データが再分割される。そして、ステップ1
02に戻り、再分割された図形データは、形状判定部1
62に供給され、再び、基本形状又は一括図形近似形状
かが判定される。
【0037】ステップ102において、図形データが基
本形状又は一括図形近似形状であれば、ステップ104
に進む。このステップ104において、回転角度演算及
び開口図形選択部164は、第1アパーチャ3に形成さ
れた複数開口図形のうち、基本形状又は一括図形近似形
状の図形データと最小回転角度差を有する開口図形を選
択し、座標変換演算を実行する。
本形状又は一括図形近似形状であれば、ステップ104
に進む。このステップ104において、回転角度演算及
び開口図形選択部164は、第1アパーチャ3に形成さ
れた複数開口図形のうち、基本形状又は一括図形近似形
状の図形データと最小回転角度差を有する開口図形を選
択し、座標変換演算を実行する。
【0038】次に、ステップ105に進み、領域分割デ
ータ圧縮部165は、上記回転角度データと、選択され
た開口図形データと、座標データとから、電子線描画装
置の描画領域を分割するとともに、各データを圧縮す
る。そして、圧縮データや描画領域の分割データ等がメ
モリ166に格納される。
ータ圧縮部165は、上記回転角度データと、選択され
た開口図形データと、座標データとから、電子線描画装
置の描画領域を分割するとともに、各データを圧縮す
る。そして、圧縮データや描画領域の分割データ等がメ
モリ166に格納される。
【0039】以上の動作により、データ準備が完了とな
る。そして、オペレータから描画指令が描画データ出力
部167に供給されると、この描画データ出力部167
は、メモリ166に格納された描画データを読み出し、
図形復元部17に供給する。そして、選択された基本形
状開口を通過した電子ビームが、演算された回転角度だ
け微小回転補正レンズ6により回転され、第2アパーチ
ャ8との共役断面形状が形成される。
る。そして、オペレータから描画指令が描画データ出力
部167に供給されると、この描画データ出力部167
は、メモリ166に格納された描画データを読み出し、
図形復元部17に供給する。そして、選択された基本形
状開口を通過した電子ビームが、演算された回転角度だ
け微小回転補正レンズ6により回転され、第2アパーチ
ャ8との共役断面形状が形成される。
【0040】図6は、第1アパーチャ3に形成される複
数の基本形状開口の他の例であり、6角形の形状となっ
ている。そして、図6の(A)に示す開口は、紙面の上
下方向に対向する角の角度が互いに等しく、他の4つの
角のそれぞれが互いに等しい角度となっている。そし
て、紙面の上下方向に対向する角のうち、例えば、上方
の角を頂角とする二等辺三角形の底角θが5°、10
°、15°と5°づつ増加し、85°までの複数の6角
形となっている。
数の基本形状開口の他の例であり、6角形の形状となっ
ている。そして、図6の(A)に示す開口は、紙面の上
下方向に対向する角の角度が互いに等しく、他の4つの
角のそれぞれが互いに等しい角度となっている。そし
て、紙面の上下方向に対向する角のうち、例えば、上方
の角を頂角とする二等辺三角形の底角θが5°、10
°、15°と5°づつ増加し、85°までの複数の6角
形となっている。
【0041】また、図6の(B)に示す開口は、紙面の
横方向に対向する角の角度が互いに等しく、他の4つの
角のそれぞれが互いに等しい角度となっている。そし
て、紙面の横方向に対向する角のうち、例えば、左方の
角を頂角とする二等辺三角形の底角θが5°、10°、
15°と5°づつ増加し、85°までの複数の6角形と
なっている。
横方向に対向する角の角度が互いに等しく、他の4つの
角のそれぞれが互いに等しい角度となっている。そし
て、紙面の横方向に対向する角のうち、例えば、左方の
角を頂角とする二等辺三角形の底角θが5°、10°、
15°と5°づつ増加し、85°までの複数の6角形と
なっている。
【0042】例えば、図7の(A)に示す台形図形30
を描画する場合、図4に示した開口図形を用いると、図
7の(B)に示すように、四角形30a及び30bの他
に、三角形30c及び30dを描画する必要がある。
を描画する場合、図4に示した開口図形を用いると、図
7の(B)に示すように、四角形30a及び30bの他
に、三角形30c及び30dを描画する必要がある。
【0043】これに対し、図6に示した基本形状開口を
使用すれば、図7の(C)に示すように、台形図形30
は、2つの台形図形30e及び30f又は一つの図形に
より描画可能となる。つまり、第1アパーチャ3の開口
28と第二アパーチャ8との共役断面形状は、図8に示
すように種々の形状とすることができる。図8の(A)
は、三角形の一例の共役断面形状31aであり、図8
(B)は、台形の一例の共役断面形状31bである。ま
た、図8の(C)は、三角形の他の例の共役断面形状3
1cであり、図8の(D)は、台形の他の例の共役断面
形状31dである。また、図8の(E)は、三角形のさ
らに他の例の共役断面形状31eであり、図8の(F)
は、台形のさらに他の例の共役断面形状31fである。
使用すれば、図7の(C)に示すように、台形図形30
は、2つの台形図形30e及び30f又は一つの図形に
より描画可能となる。つまり、第1アパーチャ3の開口
28と第二アパーチャ8との共役断面形状は、図8に示
すように種々の形状とすることができる。図8の(A)
は、三角形の一例の共役断面形状31aであり、図8
(B)は、台形の一例の共役断面形状31bである。ま
た、図8の(C)は、三角形の他の例の共役断面形状3
1cであり、図8の(D)は、台形の他の例の共役断面
形状31dである。また、図8の(E)は、三角形のさ
らに他の例の共役断面形状31eであり、図8の(F)
は、台形のさらに他の例の共役断面形状31fである。
【0044】このように、図6に示す6角形の基本開口
を使用すれば、図7の台形開口図形30も1回又は2回
のショットで描画可能となり、描画ショト数を減少する
ことができる。
を使用すれば、図7の台形開口図形30も1回又は2回
のショットで描画可能となり、描画ショト数を減少する
ことができる。
【0045】なお、図6の基本形状開口を使用する場合
も、図4に示した基本形状開口と同様に、図1に示した
フローチャートに従って、分割された基本形状又は近似
形状と最小回転角度差の開口図形が選択される。
も、図4に示した基本形状開口と同様に、図1に示した
フローチャートに従って、分割された基本形状又は近似
形状と最小回転角度差の開口図形が選択される。
【0046】以上のように、本発明の一実施例によれ
ば、四角形又は三角形に分割された描画図形が、基本形
状(矩形、基本台形)又は基本形状の近似形状か否かが
判定され、基本形状又は近似形状となるまで、再分割さ
れる。第1アパーチャ3は、5°づつ角度が異なる複数
の基本形状開口が形成され、これら複数の基本形状開口
のうち、上記再分割された図形と最小の回転角度差を有
する開口が選択される。そして、選択された開口を通過
した電子ビームが上記最小回転角度(±2.5°)だけ
回転され、第2アパーチャ8とのい共役断面が形成さ
れ、試料面上に描画される。
ば、四角形又は三角形に分割された描画図形が、基本形
状(矩形、基本台形)又は基本形状の近似形状か否かが
判定され、基本形状又は近似形状となるまで、再分割さ
れる。第1アパーチャ3は、5°づつ角度が異なる複数
の基本形状開口が形成され、これら複数の基本形状開口
のうち、上記再分割された図形と最小の回転角度差を有
する開口が選択される。そして、選択された開口を通過
した電子ビームが上記最小回転角度(±2.5°)だけ
回転され、第2アパーチャ8とのい共役断面が形成さ
れ、試料面上に描画される。
【0047】このため、上記一実施例は、従来のよう
に、四角形又は三角形に分割された描画図形が45°倍
角図形となるまで、分割する必要が無く、分割処理を高
速化することができる。また、図形の回転角度は、±
2.5°以下の微小角度であり、収差による図形の劣化
を抑制することができる。したがって、多種類の図形を
高効率で描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可
能な電子線描画方法及び装置を実現することができる。
に、四角形又は三角形に分割された描画図形が45°倍
角図形となるまで、分割する必要が無く、分割処理を高
速化することができる。また、図形の回転角度は、±
2.5°以下の微小角度であり、収差による図形の劣化
を抑制することができる。したがって、多種類の図形を
高効率で描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可
能な電子線描画方法及び装置を実現することができる。
【0048】さて、図2に示した電子線描画装置の例で
は、図6に示した例の基本形状開口の全てを形成するこ
とができない可能性がある。そこで、図6に示した基本
形状開口を、複数のアパーチャ部材に分けて形成し、こ
れら複数のアパーチャ部材を電子線の照射方向に沿っ
て、配列する例を次に説明する。
は、図6に示した例の基本形状開口の全てを形成するこ
とができない可能性がある。そこで、図6に示した基本
形状開口を、複数のアパーチャ部材に分けて形成し、こ
れら複数のアパーチャ部材を電子線の照射方向に沿っ
て、配列する例を次に説明する。
【0049】図9は、本発明の他の実施例である電子線
描画装置の概略構成図である。図9の例は、図2の例の
第1転写レンズ4と成形偏向器5との間に、第2選択偏
向器22と、第3アパーチャ23と、第3転写レンズ2
4とが配置されている。そして、例えば、図6に示した
基本形状開口は、第1アパーチャ3及び第3アパーチャ
23とに分割されて、形成されている。なお、図9の例
の他の構成については、図2の例と同様となっている。
描画装置の概略構成図である。図9の例は、図2の例の
第1転写レンズ4と成形偏向器5との間に、第2選択偏
向器22と、第3アパーチャ23と、第3転写レンズ2
4とが配置されている。そして、例えば、図6に示した
基本形状開口は、第1アパーチャ3及び第3アパーチャ
23とに分割されて、形成されている。なお、図9の例
の他の構成については、図2の例と同様となっている。
【0050】図9において、第1アパーチャ3上に形成
された基本形状開口を選択する場合は、電子ビームは、
点線で示す経路を通過する。つまり、電子ビームは、選
択偏向器2により第1アパーチャ3の選択された基本形
状開口を通過する。続いて、電子ビームは、第一転写レ
ンズ4により偏向され、第3アパーチャ23の中央部に
形成された可変成形用開口を通過する。
された基本形状開口を選択する場合は、電子ビームは、
点線で示す経路を通過する。つまり、電子ビームは、選
択偏向器2により第1アパーチャ3の選択された基本形
状開口を通過する。続いて、電子ビームは、第一転写レ
ンズ4により偏向され、第3アパーチャ23の中央部に
形成された可変成形用開口を通過する。
【0051】また、第3アパーチャ23上に形成された
基本形状開口を選択する場合は、電子ビームは、一点鎖
線で示す経路を通過する。つまり、電子ビームは、第1
アパーチャ3の中央部に形成された可変成形用開口を通
過する。続いて、電子ビームは、第2選択偏向器22に
より第3アパーチャ23の選択された基本形状開口を通
過し、第3転写レンズ24により成形偏向器5の中心位
置に偏向される。ただし、電子ビームは、選択偏向器
2、第1アパーチャ3,第1転写レンズ4の全て中心を
通し無補正とする。
基本形状開口を選択する場合は、電子ビームは、一点鎖
線で示す経路を通過する。つまり、電子ビームは、第1
アパーチャ3の中央部に形成された可変成形用開口を通
過する。続いて、電子ビームは、第2選択偏向器22に
より第3アパーチャ23の選択された基本形状開口を通
過し、第3転写レンズ24により成形偏向器5の中心位
置に偏向される。ただし、電子ビームは、選択偏向器
2、第1アパーチャ3,第1転写レンズ4の全て中心を
通し無補正とする。
【0052】このように、第1転写レンズ4と成形偏向
器5との間に、第2選択偏向器22と、第3アパーチャ
23と、第3転写レンズ24とを配置し、第1アパーチ
ャ3及び第3アパーチャ23に基本形状開口を形成すれ
ば、例えば、図6に示した基本形状開口の全てを形成す
ることができる。以上のように、本発明の他の実施例で
ある電子線描画装置においても、図2の例と同様な効果
が得られる他、多数種類の基本形状開口を形成すること
ができる。
器5との間に、第2選択偏向器22と、第3アパーチャ
23と、第3転写レンズ24とを配置し、第1アパーチ
ャ3及び第3アパーチャ23に基本形状開口を形成すれ
ば、例えば、図6に示した基本形状開口の全てを形成す
ることができる。以上のように、本発明の他の実施例で
ある電子線描画装置においても、図2の例と同様な効果
が得られる他、多数種類の基本形状開口を形成すること
ができる。
【0053】図10は、従来例に相当する描画方法であ
り、四角形又は三角形に分割された描画データを、45
°倍角図形にまで分割する場合の例の動作フローチャー
トである。図10のステップ200において、描画図形
は直線近似による多角形化が行なわれる。続いて、ステ
ップ201において、多角形化した図形データを四角形
(三角形)分割する。
り、四角形又は三角形に分割された描画データを、45
°倍角図形にまで分割する場合の例の動作フローチャー
トである。図10のステップ200において、描画図形
は直線近似による多角形化が行なわれる。続いて、ステ
ップ201において、多角形化した図形データを四角形
(三角形)分割する。
【0054】次に、ステップ202において、ステップ
201において分割された図形データが、45°倍角図
形か否かを判定する。そして、ステップ202におい
て、図形データが45°倍角図形では無い場合には、ス
テップ203に進み、図形データが再分割される。そし
て、ステップ202に戻り、再分割された図形データ
が、45°倍角図形か否かが判定される。このようにし
て、図形が45°倍角図形となるまで、ステップ202
及び203が繰り返し実行される。
201において分割された図形データが、45°倍角図
形か否かを判定する。そして、ステップ202におい
て、図形データが45°倍角図形では無い場合には、ス
テップ203に進み、図形データが再分割される。そし
て、ステップ202に戻り、再分割された図形データ
が、45°倍角図形か否かが判定される。このようにし
て、図形が45°倍角図形となるまで、ステップ202
及び203が繰り返し実行される。
【0055】つまり、例えば、図11の(A)に示すよ
うに、図形32の三角形部分32a及び32aが45°
倍角図形でなければ、複数の四角形(45°倍角図形)
まで、分割される。
うに、図形32の三角形部分32a及び32aが45°
倍角図形でなければ、複数の四角形(45°倍角図形)
まで、分割される。
【0056】次に、ステップ205に進み、分割された
図形データから、電子線描画装置の描画領域が分割さ
れ、ステップ206において、データが圧縮される。そ
して、データ準備が完了となる。
図形データから、電子線描画装置の描画領域が分割さ
れ、ステップ206において、データが圧縮される。そ
して、データ準備が完了となる。
【0057】上述した図10に示した例においては、図
形データを45°倍角にまで分割するのに長時間が必要
であるばかりで無く、図11の(A)に示すように、斜
線部の直線性が良好では無い。さらに、三角形部分32
a及び32bには、複数の45°倍角図形からなるた
め、描画ショット数が大であり、描画に長時間が必要と
なってしまう(図形32全体で、27ショット)。
形データを45°倍角にまで分割するのに長時間が必要
であるばかりで無く、図11の(A)に示すように、斜
線部の直線性が良好では無い。さらに、三角形部分32
a及び32bには、複数の45°倍角図形からなるた
め、描画ショット数が大であり、描画に長時間が必要と
なってしまう(図形32全体で、27ショット)。
【0058】これに対して、本発明の実施例において
は、図形32の三角形部分33a及び33bは、45°
倍角図形にまで分割する必要が無く、それぞれ一括で描
画可能である(図32全体で、7ショット)。したがっ
て、本発明によれば、図形データの分割処理時間が短時
間であり、描画ショット数が少ない。また、直線性が良
好であり、回転角度が小(最大±2.5°)で収差が抑
制される。
は、図形32の三角形部分33a及び33bは、45°
倍角図形にまで分割する必要が無く、それぞれ一括で描
画可能である(図32全体で、7ショット)。したがっ
て、本発明によれば、図形データの分割処理時間が短時
間であり、描画ショット数が少ない。また、直線性が良
好であり、回転角度が小(最大±2.5°)で収差が抑
制される。
【0059】なお、上記実施例において、基本形状開口
は、5°づつ角度が増加するように、構成したが、さら
に、精細に、例えば、2.5°づつ角度が増加するよう
に、構成することもできる。
は、5°づつ角度が増加するように、構成したが、さら
に、精細に、例えば、2.5°づつ角度が増加するよう
に、構成することもできる。
【0060】また、第1アパーチャ及び第3アパーチャ
の他に、基本形状開口が形成された第4アパーチャを配
置することもできる。また、第2アパーチャ8上に第1
アパーチャ3と同様な基本形状開口を形成し、第1アパ
ーチャ3と第2アパーチャ8との共役図形により、さら
に、多種類の図形を描画可能に構成することもできる。
の他に、基本形状開口が形成された第4アパーチャを配
置することもできる。また、第2アパーチャ8上に第1
アパーチャ3と同様な基本形状開口を形成し、第1アパ
ーチャ3と第2アパーチャ8との共役図形により、さら
に、多種類の図形を描画可能に構成することもできる。
【0061】また、第2アパーチャ8の下方側に回転レ
ンズを配置し、第2アパーチャ8からの電子線を回転さ
せ、図形を描画可能に構成することもできる。
ンズを配置し、第2アパーチャ8からの電子線を回転さ
せ、図形を描画可能に構成することもできる。
【0062】また、上述した例における基本形状開口
は、三角形、四角形、六角形等の直線図形であるが、こ
れら直線図形に限らず、扇形、円、楕円等の非直線図形
であってもよい。
は、三角形、四角形、六角形等の直線図形であるが、こ
れら直線図形に限らず、扇形、円、楕円等の非直線図形
であってもよい。
【0063】また、基本形状開口を増加させるために、
第1アパーチャ3の面積を拡大してもよい。この場合に
は、選択偏向器2の偏向幅(偏向電圧)を増加すること
により対処可能である。
第1アパーチャ3の面積を拡大してもよい。この場合に
は、選択偏向器2の偏向幅(偏向電圧)を増加すること
により対処可能である。
【0064】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、以下のような効果がある。描画する図形を
所定の基本形状部分と、基本形状部分に近似する部分と
の複数の描画部分に分割するステップと、第1成形開口
部材に形成された複数の開口のうち、近似部分と最小回
転角度差を有する開口を選択するステップと、電子線
を、第1成形開口部材の選択開口に通過させ、最小回転
角度差だけ回転させて、第2成形開口部材の開口に共役
させ、試料面に照射するか、若しくは、電子線を、第1
成形開口部材の選択開口に通過させ、第2成形開口部材
に形成した開口に共役させ、最小回転角度差だけ回転さ
せて、試料面に照射して、近似部分を描画するステップ
とを備える。したがって、多種類の図形を高効率で描画
可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子線描
画方法を実現することができる。
ているため、以下のような効果がある。描画する図形を
所定の基本形状部分と、基本形状部分に近似する部分と
の複数の描画部分に分割するステップと、第1成形開口
部材に形成された複数の開口のうち、近似部分と最小回
転角度差を有する開口を選択するステップと、電子線
を、第1成形開口部材の選択開口に通過させ、最小回転
角度差だけ回転させて、第2成形開口部材の開口に共役
させ、試料面に照射するか、若しくは、電子線を、第1
成形開口部材の選択開口に通過させ、第2成形開口部材
に形成した開口に共役させ、最小回転角度差だけ回転さ
せて、試料面に照射して、近似部分を描画するステップ
とを備える。したがって、多種類の図形を高効率で描画
可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子線描
画方法を実現することができる。
【0065】また、描画図形を所定の基本形状部分と、
基本形状部分の近似部分との複数の描画部分に分割する
図形分割部と、第1成形開口部材の開口のうち、近似部
分と最小回転角度差を有する開口を選択する図形選択部
と、電子線を第1成形開口部材の選択開口に通過させ、
最小回転角度差だけ回転させて、第2成形開口部材に形
成した開口に共役させ、試料面に照射させるか、若しく
は、電子線を第1成形開口部材の選択開口に通過させ、
第2成形開口部材に形成した開口に共役させ、最小回転
角度差だけ回転させて、試料面に照射させる、電子線制
御部とを備える。したがって、多種類の図形を高効率で
描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子
線描画装置を実現することができる。
基本形状部分の近似部分との複数の描画部分に分割する
図形分割部と、第1成形開口部材の開口のうち、近似部
分と最小回転角度差を有する開口を選択する図形選択部
と、電子線を第1成形開口部材の選択開口に通過させ、
最小回転角度差だけ回転させて、第2成形開口部材に形
成した開口に共役させ、試料面に照射させるか、若しく
は、電子線を第1成形開口部材の選択開口に通過させ、
第2成形開口部材に形成した開口に共役させ、最小回転
角度差だけ回転させて、試料面に照射させる、電子線制
御部とを備える。したがって、多種類の図形を高効率で
描画可能であり、かつ、高精度な図形を描画可能な電子
線描画装置を実現することができる。
【図1】本発明の一実施例である電子線描画方法の動作
フローチャートである。
フローチャートである。
【図2】本発明の一実施例である電子線描画装置の全体
概略構成図である。
概略構成図である。
【図3】本発明の一実施例である電子線描画装置におけ
る動作制御部の機能ブロック図である。
る動作制御部の機能ブロック図である。
【図4】本発明の一実施例である電子線描画装置におけ
る開口図形の例を示す図である。
る開口図形の例を示す図である。
【図5】本発明の一実施例である電子線描画装置におけ
る描画図形の作成例を示す図である。
る描画図形の作成例を示す図である。
【図6】本発明の一実施例である電子線描画装置におけ
る開口図形の他の例を示す図である。
る開口図形の他の例を示す図である。
【図7】本発明の一実施例である電子線描画装置におけ
る描画図形の例を示す図である。
る描画図形の例を示す図である。
【図8】図6に示した開口図形による描画図形の例を示
す図である。
す図である。
【図9】本発明の他の実施例である電子線描画装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図10】描画図形を45度の倍角図形にまで分割する
電子線描画方法の動作フロチャートである。
電子線描画方法の動作フロチャートである。
【図11】従来の図形分割方式による描画方法と本発明
による描画方法との描画ショット数の比較例を示す図で
ある。
による描画方法との描画ショット数の比較例を示す図で
ある。
1 電子線源 2 選択偏向器 3 第1アパーチャ 4 第1転写レンズ 5 成形偏向器 6 微小回転補正レンズ 7 第2転写レンズ 8 第2アパーチャ 9 縮小レンズ 10 対物レンズ 11 副偏向器 12 主偏向器 13 試料 14 ステージ 15 ステージ駆動モータ 16 図形データ処理部 17 図形復元部 18 図形分解部 19 補正部 20 DAC(DAコンバータ) 21 アンプ 22 第二選択偏向器 23 第三アパーチャ 24 第三転写レンズ 25 ビーム制御系 161 多角形近似及び四角形分割部 162 形状判定部 163 再分割部 164 回転角度演算及び開口図形選択部 165 領域分割データ圧縮部 166 メモリ 167 描画データ出力部
Claims (16)
- 【請求項1】 電子線源から発生された電子線を、複数
種類の形状の開口が形成された第1成形開口部材に照射
し、通過した電子線を、所定の形状の少なくとも一つの
開口が形成された第2成形開口部材に照射し、通過した
電子線を試料面上に照射し、所望の図形を描画する電子
線描画方法において、 描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部
分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割するス
テップと、 第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、上記
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択するス
テップと、 電子線源からの電子線を、第1成形開口部材の上記選択
された開口を通過させ、この通過した電子線を上記最小
回転角度差だけ回転させて、上記第2成形開口部材に形
成した開口に共役させ、この共役させた電子線を試料面
に照射して、上記近似部分を描画するステップと、 を備えることを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の電子線描画方法におい
て、第1成形開口部材は、上記電子線の照射方向に沿っ
て、配列された複数の開口部材から構成されることを特
徴とする電子線描画方法。 - 【請求項3】 請求項1記載の電子線描画方法におい
て、第2成形開口部材には、複数種類の形状の開口が形
成されていることを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項4】 電子線源から発生された電子線を、複数
種類の形状の開口が形成された第1成形開口部材に照射
し、通過した電子線を、所定の形状の少なくとも一つの
開口が形成された第2成形開口部材に照射し、通過した
電子線を試料面上に照射し、所望の図形を描画する電子
線描画方法において、 描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部
分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割するス
テップと、 第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、上記
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択するス
テップと、 電子線源からの電子線を、第1成形開口部材の上記選択
された開口を通過させ、この通過した電子線を上記第2
成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役させ
た電子線を上記最小回転角度差だけ回転させて、試料面
に照射して、上記近似部分を描画するステップと、 を備えることを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項5】 請求項1記載の電子線描画方法におい
て、第1成形開口部材に形成された複数種類の開口の形
状は、多角形であることを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項6】 請求項5記載の電子線描画方法におい
て、上記多角形は、複数種類の二等辺三角形であり、こ
れら二等辺三角形の頂角が互いに異なることを特徴とす
る電子線描画方法。 - 【請求項7】 請求項5記載の電子線描画方法におい
て、上記多角形は、複数の長方形であり、これら複数の
長方形の長辺は、所定の基準線に対する角度が互いに異
なることを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項8】 請求項5記載の電子線描画方法におい
て、上記多角形は、複数種類の六角形であることを特徴
とする電子線描画方法。 - 【請求項9】 電子線を発生する電子線源と、この電子
線源からの電子線が照射され、複数種類の形状の開口が
形成された第1成形開口部材と、この第1成形開口部材
を通過した電子線が照射され、所定の形状の少なくとも
一つの開口が形成された第2成形開口部材と、上記電子
線を回転させる電子線回転手段とを有し、電子線を試料
面上に照射し、所望の図形を描画する電子線描画装置に
おいて、 描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部
分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割する図
形分割部と、 第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、上記
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択する図
形選択部と、 電子線源からの電子線を、第1成形開口部材の上記選択
された開口を通過させ、この通過した電子線を上記最小
回転角度差だけ回転させて、上記第2成形開口部材に形
成した開口に共役させ、この共役された電子線を試料面
に照射させる電子線制御部と、 を備えることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項10】 請求項9記載の電子線描画装置におい
て、第1成形開口部材は、上記電子線の照射方向に沿っ
て、配列された複数の開口部材から構成されることを特
徴とする電子線描画装置。 - 【請求項11】 請求項9記載の電子線描画装置におい
て、第2成形開口部材には、複数種類の形状の開口が形
成されていることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項12】 電子線を発生する電子線源と、この電
子線源からの電子線が照射され、複数種類の形状の開口
が形成された第1成形開口部材と、この第1成形開口部
材を通過した電子線が照射され、所定の形状の少なくと
も一つの開口が形成された第2成形開口部材と、上記電
子線を回転させる電子線回転手段とを有し、電子線を試
料面上に照射し、所望の図形を描画する電子線描画装置
において、 描画する図形を所定の基本形状部分と、この基本形状部
分に近似する近似部分との複数の描画部分に分割する図
形分割部と、 第1成形開口部材に形成された複数の開口のうち、上記
近似部分と、最小回転角度差を有する開口を選択する図
形選択部と、 電子線源からの電子線を、第1成形開口部材の上記選択
された開口を通過させ、この通過した電子線を上記第2
成形開口部材に形成した開口に共役させ、この共役され
た電子線を上記最小回転角度差だけ回転させて、試料面
に照射させる電子線制御部と、 を備えることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項13】 請求項9記載の電子線描画装置におい
て、第1成形開口部材に形成された複数種類の開口の形
状は、多角形であることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項14】 請求項13記載の電子線描画装置にお
いて、上記多角形は、複数種類の二等辺三角形であり、
これら二等辺三角形の頂角が互いに異なることを特徴と
する電子線描画装置。 - 【請求項15】 請求項13記載の電子線描画装置にお
いて、上記多角形は、複数の長方形であり、これら複数
の長方形の長辺は、所定の基準線に対する角度が互いに
異なることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項16】 請求項13記載の電子線描画装置にお
いて、上記多角形は、複数種類の六角形であることを特
徴とする電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109370A JPH07321004A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 電子線描画方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109370A JPH07321004A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 電子線描画方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07321004A true JPH07321004A (ja) | 1995-12-08 |
Family
ID=14508524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6109370A Pending JPH07321004A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 電子線描画方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07321004A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002093698A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-03-29 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 電子線リソグラフィー方法および電子光学的リソグラフィーシステム |
-
1994
- 1994-05-24 JP JP6109370A patent/JPH07321004A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002093698A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-03-29 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 電子線リソグラフィー方法および電子光学的リソグラフィーシステム |
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