JPH0732292B2 - 半導体発光装置 - Google Patents
半導体発光装置Info
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- JPH0732292B2 JPH0732292B2 JP62149141A JP14914187A JPH0732292B2 JP H0732292 B2 JPH0732292 B2 JP H0732292B2 JP 62149141 A JP62149141 A JP 62149141A JP 14914187 A JP14914187 A JP 14914187A JP H0732292 B2 JPH0732292 B2 JP H0732292B2
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/3434—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer comprising at least both As and P as V-compounds
-
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- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
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- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
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-
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- H01S5/34306—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength longer than 1000nm, e.g. InP based 1300 and 1500nm lasers
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、半導体発光装置に於いて、活性層を超格子と
回折格子で挟み、該超格子に電圧を印加してその屈折率
を変化させることに依り、発振波長を大幅に変化させる
ことを可能にした。
回折格子で挟み、該超格子に電圧を印加してその屈折率
を変化させることに依り、発振波長を大幅に変化させる
ことを可能にした。
〔産業上の利用分野〕 本発明は、発振周波数、即ち、発振波長を制御すること
が可能な半導体発光装置に関する。
が可能な半導体発光装置に関する。
近年、コヒーレント光を用いて光通信を行う技術に関す
る研究及び開発が進んでいる。これは、従来の光通信に
於ける情報伝達が光のオン・オフ変調に依存していたの
に対し、光を電磁波として取り扱い、その位相、振幅、
周波数などに関し、電磁波と同様、FM、PM、FSK、PSKな
どの変調をかけて情報伝達を行うものであり、これに依
り、信号伝送距離を延伸したり、多量の情報を伝達でき
るようにするものである。
る研究及び開発が進んでいる。これは、従来の光通信に
於ける情報伝達が光のオン・オフ変調に依存していたの
に対し、光を電磁波として取り扱い、その位相、振幅、
周波数などに関し、電磁波と同様、FM、PM、FSK、PSKな
どの変調をかけて情報伝達を行うものであり、これに依
り、信号伝送距離を延伸したり、多量の情報を伝達でき
るようにするものである。
この場合、コヒーレント光の光源としては、矢張り半導
体レーザを用いることになるが、そのような目的を達成
する半導体レーザの一つとして、或る場合には一定の発
振波長で固定的に発振を持続し、また、或る場合には発
振波長が可変であるもの、即ち、波長チューニングを行
うことができる半導体レーザが必要になる。
体レーザを用いることになるが、そのような目的を達成
する半導体レーザの一つとして、或る場合には一定の発
振波長で固定的に発振を持続し、また、或る場合には発
振波長が可変であるもの、即ち、波長チューニングを行
うことができる半導体レーザが必要になる。
半導体レーザの発振波長を可変にするには、レーザ共振
器の長さを変える、媒質を変える、屈折率を変える、動
作温度を変えるなど種々の手段がある。
器の長さを変える、媒質を変える、屈折率を変える、動
作温度を変えるなど種々の手段がある。
前記したように、半導体レーザの発振波長を可変にする
には種々の手段が存在するものの、従来技術に依るもの
では、波長の可変幅が不充分であり、しかも、それに随
伴して閾値電流が高くなったり、或いは、発光効率が低
下するなど半導体レーザの基本的特性が劣化してくるな
どの欠点があった。また、波長を可変とする為、半導体
のバルク効果であるバンド端効果或いはプラズマ効果を
利用したものに於いては、何れも順方向バイアスで使用
するので、リーク電流や発熱の面で問題があった。
には種々の手段が存在するものの、従来技術に依るもの
では、波長の可変幅が不充分であり、しかも、それに随
伴して閾値電流が高くなったり、或いは、発光効率が低
下するなど半導体レーザの基本的特性が劣化してくるな
どの欠点があった。また、波長を可変とする為、半導体
のバルク効果であるバンド端効果或いはプラズマ効果を
利用したものに於いては、何れも順方向バイアスで使用
するので、リーク電流や発熱の面で問題があった。
本発明は、レーザ共振器内の屈折率を外部から変化さ
せ、その結果、発振波長の安定なチューニングを可能と
した半導体発光装置を提供しようとする。
せ、その結果、発振波長の安定なチューニングを可能と
した半導体発光装置を提供しようとする。
本発明に依る半導体発光装置に於いては、活性層(例え
ばInGaAsP活性層5)の一方の面側に配設され且つ光学
的に結合された超格子(例えば超格子7)と、同じく活
性層の他方の面側に配設され且つ光学的に結合された回
折格子(例えば回折格子2)と、前記超格子に電圧を印
加してその屈折率を変化させる制御電極(例えば制御電
極11)とが形成されている。
ばInGaAsP活性層5)の一方の面側に配設され且つ光学
的に結合された超格子(例えば超格子7)と、同じく活
性層の他方の面側に配設され且つ光学的に結合された回
折格子(例えば回折格子2)と、前記超格子に電圧を印
加してその屈折率を変化させる制御電極(例えば制御電
極11)とが形成されている。
前記構成を採ることに依り、制御電極に印加する電圧で
発振波長を安定に且つ大幅に変化させることができ、そ
して、そのようにしても発振の閾値電流が高く成った
り、発光効率の低下、リーク電流の増加、発熱などの問
題も発生しないので、コヒーレント光に依る光通信に用
いて好適である。
発振波長を安定に且つ大幅に変化させることができ、そ
して、そのようにしても発振の閾値電流が高く成った
り、発光効率の低下、リーク電流の増加、発熱などの問
題も発生しないので、コヒーレント光に依る光通信に用
いて好適である。
第1図は本発明一実施例の要部切断側面図、第2図は第
1図に見られる線A−Aで切断した要部正面図をそれぞ
れ表している。
1図に見られる線A−Aで切断した要部正面図をそれぞ
れ表している。
図に於いて、1はn型InP基板、2は回折格子、3はn
型InPクラッド層、4はi型InP高抵抗層、5はInGaAsP
活性層、6はp型InPクラッド層、7は超格子、7Aは超
格子7の構成要素であるInP障壁層、7Bは超格子7の構
成要素であるInGaAsP井戸層、8はn型InP電流阻止層、
9はp型InP電流路層、10はp側電極、11は制御電極、1
2はn側電極をそれぞれ示している。
型InPクラッド層、4はi型InP高抵抗層、5はInGaAsP
活性層、6はp型InPクラッド層、7は超格子、7Aは超
格子7の構成要素であるInP障壁層、7Bは超格子7の構
成要素であるInGaAsP井戸層、8はn型InP電流阻止層、
9はp型InP電流路層、10はp側電極、11は制御電極、1
2はn側電極をそれぞれ示している。
本実施例に於ける各部分の主要データを例示すると次の
通りである。
通りである。
(a)回折格子2について ピッチ:0.2〜0.22〔μm〕 (b)クラッド層3について 厚さ:1200〜2200〔Å〕 不純物濃度:5×1017〔cm-3〕 (c)高抵抗層4について 厚さ:2〜3〔μm〕 (d)活性層5について 厚さ:0.12〜0.17〔μm〕 幅:0.8〜1.3〔μm〕 対応波長λ:1.5〔μm〕 (e)クラッド層6について 厚さ:0.2〜0.5〔μm〕 不純物濃度:1〜2×1018〔cm-3〕 (f)超格子7について 障壁層7A及び井戸層7Bの層数:5〜12層 (g)障壁層7A 厚さ:80〜120〔Å〕 (h)井戸層7B 厚さ:20〜30〔Å〕 対応波長λ:1.3〔μm〕 (i)電流阻止層8について 厚さ:1〜1.5〔μm〕 不純物濃度:5×1017〔cm-3〕 (j)電流路層9について 厚さ:1〜1.5〔μm〕 不純物濃度:1〜2×1018〔cm-3〕 (k)p側電極10について 材料:TiPtAu (l)制御電極11について 材料:TiPtAu (m)n側電極12について 材料:AuGeNi 本実施例に於いて、レーザ発振電流はp側電極10から供
給され、p型InP電流路層9→p型InPクラッド層6→In
GaAsP活性層5→n型InPクラッド層3→n型InP基板1
→n側電極12の順に流れ、そして、その発振波長は制御
電極11に印加される電圧、即ち、超格子7に印加される
逆バイアス電圧で制御される。また、そのようにして発
振波長がチューニングされたレーザ光は、回折格子2の
作用に依って、発振スペクトル幅は狭小化されることは
云うまでもない。
給され、p型InP電流路層9→p型InPクラッド層6→In
GaAsP活性層5→n型InPクラッド層3→n型InP基板1
→n側電極12の順に流れ、そして、その発振波長は制御
電極11に印加される電圧、即ち、超格子7に印加される
逆バイアス電圧で制御される。また、そのようにして発
振波長がチューニングされたレーザ光は、回折格子2の
作用に依って、発振スペクトル幅は狭小化されることは
云うまでもない。
このように、制御電極11に印加される電圧で発振波長が
変化する理由は、該電圧で超格子7に於ける光屈折率が
変わり、延いては導波路全体の光屈折率が変化すること
に依る。斯かる動作をさせるには、活性層5と超格子7
との光学的結合が重要であり、従って、それ等は近接し
て配設することが必要であって、その為にがp側のクラ
ッド層6に於ける厚さは前記の範囲に維持することが肝
要である。
変化する理由は、該電圧で超格子7に於ける光屈折率が
変わり、延いては導波路全体の光屈折率が変化すること
に依る。斯かる動作をさせるには、活性層5と超格子7
との光学的結合が重要であり、従って、それ等は近接し
て配設することが必要であって、その為にがp側のクラ
ッド層6に於ける厚さは前記の範囲に維持することが肝
要である。
このように超格子7に電圧を印加して光屈折率が変化す
るのは、量子閉じ込めスターク(Stark)効果によるも
のである。
るのは、量子閉じ込めスターク(Stark)効果によるも
のである。
本実施例に依ると、発振波長の可変幅は約400〜500
〔Å〕程度に広くなった。因みに、従来技術に依った場
合のそれは高々50〔Å〕程度である。
〔Å〕程度に広くなった。因みに、従来技術に依った場
合のそれは高々50〔Å〕程度である。
本発明に依る半導体発光装置に於いては、活性層を超格
子と回折格子で挟み、該超格子に制御電圧を印加してそ
の屈折率を変化させるようにしている。
子と回折格子で挟み、該超格子に制御電圧を印加してそ
の屈折率を変化させるようにしている。
この構成を採ることに依り、制御電極に印加する電圧で
発振波長を安定に且つ大幅に変化させることができ、そ
して、そのようにしても発振の閾値電流が高く成った
り、発光効率の低下、リーク電流の増加、発熱などの問
題も発生しないので、コヒーレント光に依る光通信に用
いて好適である。
発振波長を安定に且つ大幅に変化させることができ、そ
して、そのようにしても発振の閾値電流が高く成った
り、発光効率の低下、リーク電流の増加、発熱などの問
題も発生しないので、コヒーレント光に依る光通信に用
いて好適である。
第1図は本発明一実施例の要部切断側面図、第2図は第
1図に見られる線A−Aで切断した要部正面図をそれぞ
れ表している。 図に於いて、1はn型InP基板、2は回折格子、3はn
型InPクラッド層、4はi型InP高抵抗層、5はInGaAsP
活性層、6はp型InPクラッド層、7は超格子、7Aは超
格子7の構成要素であるInP障壁層、7Bは超格子7の構
成要素であるInGaAsP井戸層、8はn型InP電流阻止層、
9はp型InP電流路層、10はp側電極、11は制御電極、1
2はn側電極をそれぞれ示している。
1図に見られる線A−Aで切断した要部正面図をそれぞ
れ表している。 図に於いて、1はn型InP基板、2は回折格子、3はn
型InPクラッド層、4はi型InP高抵抗層、5はInGaAsP
活性層、6はp型InPクラッド層、7は超格子、7Aは超
格子7の構成要素であるInP障壁層、7Bは超格子7の構
成要素であるInGaAsP井戸層、8はn型InP電流阻止層、
9はp型InP電流路層、10はp側電極、11は制御電極、1
2はn側電極をそれぞれ示している。
Claims (1)
- 【請求項1】活性層の一方の面側に配設され且つ光学的
に結合された超格子と、 同じく活性層の他方の面側に配設され且つ光学的に結合
された回折格子と、 前記超格子に電圧を印加してその屈折率を変化させる制
御電極と が形成されてなることを特徴とする半導体発光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62149141A JPH0732292B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 半導体発光装置 |
| US07/203,199 US4817105A (en) | 1987-06-17 | 1988-06-07 | Integrated laser device with refractive index modulator |
| DE88401506T DE3887013D1 (de) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Integrierte Laservorrichtung mit Brechungsindex-Modulator. |
| EP88401506A EP0296066B1 (en) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | An integrated laser device with refractive index modulator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62149141A JPH0732292B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 半導体発光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01272176A JPH01272176A (ja) | 1989-10-31 |
| JPH0732292B2 true JPH0732292B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=15468657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62149141A Expired - Lifetime JPH0732292B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 半導体発光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4817105A (ja) |
| EP (1) | EP0296066B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0732292B2 (ja) |
| DE (1) | DE3887013D1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0360011B1 (de) * | 1988-09-22 | 1994-02-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Abstimmbarer DFB-Laser |
| US4987576A (en) * | 1988-11-30 | 1991-01-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Electrically tunable semiconductor laser with ridge waveguide |
| DE58904573D1 (de) * | 1989-02-15 | 1993-07-08 | Siemens Ag | Abstimmbarer halbleiterlaser. |
| EP0404551A3 (en) * | 1989-06-20 | 1992-08-26 | Optical Measurement Technology Development Co. Ltd. | Optical semiconductor device |
| US5023878A (en) * | 1989-09-15 | 1991-06-11 | At&T Bell Laboratories | Apparatus comprising a quantum well device and method of operating the apparatus |
| US5056889A (en) * | 1989-12-29 | 1991-10-15 | At&T Bell Laboratories | Optical device including a grating |
| US5334854A (en) * | 1990-07-11 | 1994-08-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical semiconductor device with wavelength selectivity and method for amplifying or emitting the light using the same |
| JPH04105386A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-04-07 | Nec Corp | 波長可変半導体レーザ |
| US5222087A (en) * | 1991-07-26 | 1993-06-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Ttg-dfb laser diode |
| JP2814786B2 (ja) * | 1991-10-08 | 1998-10-27 | 日本電気株式会社 | 半導体レーザ |
| JP3323725B2 (ja) * | 1995-12-08 | 2002-09-09 | キヤノン株式会社 | 偏波変調レーザ、その駆動方法及びそれを用いた光通信システム |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3702875A (en) * | 1970-03-02 | 1972-11-14 | Petro Tex Chem Corp | Modification of oxidative dehydrogenation catalysts |
| US3702975A (en) * | 1970-12-09 | 1972-11-14 | Bell Telephone Labor Inc | Low threshold stripe geometry injection laser |
| US4349906A (en) * | 1979-09-18 | 1982-09-14 | Xerox Corporation | Optically controlled integrated current diode lasers |
| GB2111743B (en) * | 1981-08-25 | 1985-11-27 | Handotai Kenkyu Shinkokai | Semiconductor laser |
| US4475200A (en) * | 1981-12-03 | 1984-10-02 | Rockwell International Corporation | Semiconductor laser beam scanner |
| US4492434A (en) * | 1982-01-07 | 1985-01-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Multi-color tunable semiconductor device |
| JPS58216486A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-16 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | 半導体レ−ザおよびその製造方法 |
| US4525687A (en) * | 1983-02-28 | 1985-06-25 | At&T Bell Laboratories | High speed light modulator using multiple quantum well structures |
| US4633476A (en) * | 1984-11-16 | 1986-12-30 | Spectra Diode Laboratories, Inc. | Semiconductor laser with internal reflectors and vertical output |
-
1987
- 1987-06-17 JP JP62149141A patent/JPH0732292B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-06-07 US US07/203,199 patent/US4817105A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-06-16 DE DE88401506T patent/DE3887013D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-16 EP EP88401506A patent/EP0296066B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01272176A (ja) | 1989-10-31 |
| US4817105A (en) | 1989-03-28 |
| EP0296066A2 (en) | 1988-12-21 |
| EP0296066A3 (en) | 1991-05-02 |
| DE3887013D1 (de) | 1994-02-24 |
| EP0296066B1 (en) | 1994-01-12 |
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