JPH07328571A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄装置

Info

Publication number
JPH07328571A
JPH07328571A JP15431794A JP15431794A JPH07328571A JP H07328571 A JPH07328571 A JP H07328571A JP 15431794 A JP15431794 A JP 15431794A JP 15431794 A JP15431794 A JP 15431794A JP H07328571 A JPH07328571 A JP H07328571A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultrasonic
tank
reflected
wall surface
outer tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15431794A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadao Kanai
貞夫 金井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Denki Alpha Co Ltd
Original Assignee
Kokusai Denki Eltech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Denki Eltech Co Ltd filed Critical Kokusai Denki Eltech Co Ltd
Priority to JP15431794A priority Critical patent/JPH07328571A/ja
Publication of JPH07328571A publication Critical patent/JPH07328571A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】500kHz以上の超音波を利用した2重槽構
造の超音波洗浄装置のプラスチック製外槽1の側面下部
が、内槽2の傾斜した底面で反射される超音波によって
加熱,軟化,破損に至るのを防ぐ。 【構成】外槽1の反射波が当たる側面下方部分に、プラ
スチック遮蔽板9を設ける。遮蔽板9が発熱して軟化す
るのを防ぐため、取付具10によって外槽1の内壁面と
間隙を設けて固定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は超音波洗浄装置に関し、
特に、半導体関連のシリコンウェハ,化合物半導体ウェ
ハ,半導体デバイス等を洗浄するため、金属イオンの付
着混入のない精密洗浄用の500kHz以上の高周波を
利用した超音波洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体材料のウェハや半導体デバイスに
付着している汚れの粒子は小さく、0.1μm〜10μ
mのサイズが大部分であり、付着力は概して弱く、超音
波洗浄で剥離可能であるが、反面これら被洗浄物の材質
はもろく、一般の20kHz〜50kHzの超音波洗浄
装置を利用すると、超音波の作用によって傷や欠陥が発
生しやすい。この問題点は500kHz以上の高周波を
利用した超音波洗浄装置を使用することによってほぼ解
決されている。
【0003】しかしながら、ステンレスやその他の金属
製の洗浄槽や振動板を使用した洗浄装置では洗浄槽や振
動板から溶出する金属イオンがこれらの被洗浄物に付着
してしまう問題があり、これを解決するために、洗浄槽
を2重槽構造とし、内槽として純度の高い石英ガラス製
のビーカを使用し、プラスチック製外槽を備えた2重槽
式洗浄装置が用いられている。
【0004】図7は本発明を適用しようとする2重槽構
造の超音波洗浄槽の斜視図であり、図8は従来の構造例
を示す縦断面図である。図7,図8において、1は外
槽、2は内槽、3は超音波振動子、4は振動板、5はパ
ッキン、6は超音波伝達方向を示す矢印、7は超音波媒
体液、8は洗浄液である。外槽1は材質がプラスチッ
ク、例えば、耐熱用硬質塩化ビニール(PVC)で板厚
は10mmである。内槽2は材質が石英ガラスで板厚は
4mmである。外槽1の寸法は、例えば、300mm×
300mm×200mm(深さ)であり、内槽2の寸法
は200mm×200mm×180mm(深さ)で、6
インチウェハ25枚用のカセットを収納可能な寸法とな
っている。内槽2の底面は、超音波の作用によって発生
し、底面の下面に付着する気泡を除く目的で3°〜10
°程度の勾配が設けられている。更に、洗浄液8も媒体
液7も超音波エネルギによる温度上昇を防ぐために新し
い液を順次供給して冷却している。外槽1の底面に、パ
ッキン5を介して振動板4が取付けられ、この振動板4
に超音波振動子3が取付けられている。振動板4から放
射される超音波は矢印6の方向に伝達される。例えば、
超音波振動子3は1000kHz,1000Wで駆動さ
れる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来構造の超音波
洗浄装置において、内槽2として使用する石英ガラス製
のビーカの板厚は、大きさや構造によっても異なるが、
概略3〜5mm程度である。一方、洗浄液8や外槽1内
の超音波媒体液7中での超音波の波長は、500kHz
〜1MHzでは1.5mm〜3mmで、上記の板厚に比
して短いか同等程度であって十分大きくないため、超音
波エネルギはビーカの底面や側面の表面で大部分が反射
してしまっている。
【0006】また、ビーカの底面は、上述のように、媒
体液7中に含まれている空気等の気体が超音波の作用に
よって気泡となって付着するため勾配が設けられ、気泡
自体の浮力によって気泡が除かれるようになっており、
超音波エネルギは、この勾配が設けられたビーカの底面
で反射しプラスチック製の外槽1の側面の内壁の下方部
分に当り、加熱軟化させ、穴を開けてしまうまでに至る
という欠点がある。例えば、1000kHz,1000
Wの超音波が1時間照射されると、室温25℃の雰囲気
中で外槽1の反射波が当たる部分の温度が110℃まで
上昇し、軟化し変形して振動子取付部との間に隙間が生
じ、媒体液7の漏出に至るという問題が発生した。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
した超音波洗浄装置は、第1の実施例を示すものであ
り、底面が傾斜した内槽と、500kHz以上の周波数
の超音波振動子を取付けた振動板が底面に固定され該振
動板から前記内槽の底面に対して超音波を放射するよう
に構成されたプラスチック製の外槽とを備えた2重槽構
造の超音波洗浄装置において、前記外槽は、前記内槽に
洗浄液が収容され前記外槽に超音波媒体液が収容されて
前記超音波が放射されたとき該放射された超音波が前記
内槽の底面によって反射し照射される内壁面の部分に、
プラスチック製の遮蔽板を前記内壁面と所定の間隙を設
けて固定したことを特徴とするものである。
【0008】さらに、請求項2に記載した超音波洗浄装
置は、第2の実施例を示すものであり、前記遮蔽板が、
反射し照射される内壁面を含む4側面の内壁面に設けら
れたことを特徴とするものである。
【0009】また、請求項3に記載した超音波洗浄装置
は、第3の実施例を示すものであり、前記遮蔽板は、反
射し照射される内壁面の部分と前記底面の振動板に至る
折り曲げ部分とを有することを特徴とするものである。
【0010】また、請求項4に記載した超音波洗浄装置
は、第4の実施例を示すものであり、請求項3記載の遮
蔽板が、反射し照射される内壁面を含む4側面の内壁面
に設けられたことを特徴とするものである。
【0011】本発明の請求項5に記載した超音波洗浄装
置は、第5の実施例を示すものであり、底面が傾斜した
内槽と、500kHz以上の周波数の超音波振動子を取
付けた振動板が底面に固定され該振動板から前記内槽の
底面に対して超音波を放射するように構成されたプラス
チック製の外槽とを備えた2重槽構造の超音波洗浄装置
において、前記外槽は、前記内槽に洗浄液が収容され前
記外槽に超音波媒体液が収容されて前記超音波が放射さ
れたとき該放射された超音波が前記内槽の底面によって
反射し照射される内壁面に、該内壁面の全面と前記底面
の振動板に至る折り曲げ部分とを有するステンレス製の
遮蔽板を密接して固定したことを特徴とする超音波洗浄
装置。
【0012】また、請求項6に記載した超音波洗浄装置
は、第6の実施例を示すものであり、請求項5記載の遮
蔽板が、反射し照射される内壁面を含む4側面の内壁面
に設けられたことを特徴とするものである。
【0013】
【作用】ビーカの底面で反射した超音波エネルギが外槽
の内面にまで到達しないようにするために、超音波エネ
ルギを他のプラスチックの板を介在させて吸収させる方
法と金属板を用いて反射させる方法とが有効である。前
者は超音波エネルギによる加熱から保護すべき部分に薄
いプラスチックの板を設ける。この板も超音波エネルギ
を吸収して発熱するが、薄いため両面に接している水で
冷却され軟化する程度の温度上昇には至らない。材質と
しては、軟化点(柔軟温度または熱変形温度)の高いテ
フロン(145℃)やポリプロピレン(110℃)が良
く、厚さは1〜2mm程度が好ましい。後者は音を反射
させるため、半波長の整数倍の共振条件を避けた厚い板
厚が必要であり、例えば、1MHzの超音波のときステ
ンレス板の厚さは4mmまたは5mmが適当である。超
音波は、ビーカの表面と、このステンレスの板との間で
順次反射を繰り返して移動していくので、媒体液に接し
ている部分をほとんどすべて覆う必要がある。
【0014】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例を示す縦断面図
である。図8の従来構造の同じ部分には同符号を付して
ある。この実施例は、反射波の当たる外槽1の内壁面下
方部分にプラスチック製の遮蔽板9を設けたものであ
り、この遮蔽板9は、反射波が当たって発熱軟化しない
ように、取付具10によって外槽1の内面と間隙ができ
るように取付けられている。こうすることによって、遮
蔽板9の両面が媒体液7によって常に冷却され、発熱を
防ぐことができる。遮蔽板9の材質としてテフロンまた
はポリプロピレンを使用した。遮蔽板9を、ビーカの底
面の勾配面に対面している一側面のみに設けた例であ
る。図2は本発明の第2の実施例であり、図1の遮蔽板
9を外槽1の内側面の4面に取付けたものである。
【0015】図3は、本発明の第3の実施例であり、遮
蔽板11は外槽底面の振動板4に至るまでの面を保護す
るような折り曲げ部が設けられ、外槽1の一側面にのみ
設けられている。以下、いずれの図にも超音波振動子3
を駆動する超音波発振器とこれらを接続するケーブルの
図示は省略してある。
【0016】図4は本発明の第4の実施例を示し、図3
の遮蔽板11を外槽1の内側面の4面に取付けたもので
ある。
【0017】図5,図6は本発明の第5の実施例,第6
の実施例を示す断面図であり、遮蔽板12の材質として
ステンレスを使用し外槽1の内壁面に密着させて取付け
たものであり、図5はビーカの底面の勾配面に対面して
いる一側面のみに遮蔽板12を設けた場合で、図6は図
5の遮蔽板12を更に外槽1の内側面の4面に取付けた
ものである。
【0018】これらの図1,2,3,4,5,6に示し
た第1〜第6の各実施例では、外槽1の表面の温度上昇
は20℃以下にとどまり、軟化には至らなかった。尚、
ビーカの底の勾配面が外槽1の4面のどの面にも対面さ
せる場合は遮蔽板を4面に設ける必要があるが、1面の
みに限定している場合は遮蔽板は1面のみでよい。
【0019】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明を実
施することにより、石英ガラス製の内槽の傾斜底面から
反射する超音波エネルギによって、プラスチック製の外
槽の壁面を軟化破損させることを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す縦断面図である。
【図2】本発明の第2の実施例を示す縦断面図である。
【図3】本発明の第3の実施例を示す縦断面図である。
【図4】本発明の第4の実施例を示す縦断面図である。
【図5】本発明の第5の実施例を示す縦断面図である。
【図6】本発明の第6の実施例を示す縦断面図である。
【図7】2重槽方式の洗浄槽の斜視図である。
【図8】従来の構造例を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1 超音波洗浄槽の外槽 2 超音波洗浄槽の内槽 3 超音波振動子 4 振動板 5 パッキン 6 超音波伝達方向 7 超音波媒体液(水) 8 洗浄液 9 プラスチック遮蔽板 10 遮蔽板取付具 11 折り曲げたプラスチック遮蔽板 12 ステンレス遮蔽板

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 底面が傾斜した内槽と、500kHz以
    上の周波数の超音波振動子を取付けた振動板が底面に固
    定され該振動板から前記内槽の底面に対して超音波を放
    射するように構成されたプラスチック製の外槽とを備え
    た2重槽構造の超音波洗浄装置において、 前記外槽は、前記内槽に洗浄液が収容され前記外槽に超
    音波媒体液が収容されて前記超音波が放射されたとき該
    放射された超音波が前記内槽の底面によって反射し照射
    される内壁面の部分に、プラスチック製の遮蔽板を前記
    内壁面と所定の間隙を設けて固定したことを特徴とする
    超音波洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記遮蔽板が、反射し照射される内壁面
    を含む4側面の内壁面に設けられたことを特徴とする請
    求項1記載の超音波洗浄装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の遮蔽板は、反射し照射さ
    れる内壁面の部分と前記底面の振動板に至る折り曲げ部
    分とを有することを特徴とする請求項1記載の超音波洗
    浄装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の遮蔽板が、反射し照射さ
    れる内壁面を含む4側面の内壁面に設けられたことを特
    徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
  5. 【請求項5】 底面が傾斜した内槽と、500kHz以
    上の周波数の超音波振動子を取付けた振動板が底面に固
    定され該振動板から前記内槽の底面に対して超音波を放
    射するように構成されたプラスチック製の外槽とを備え
    た2重槽構造の超音波洗浄装置において、 前記外槽は、前記内槽に洗浄液が収容され前記外槽に超
    音波媒体液が収容されて前記超音波が放射されたとき該
    放射された超音波が前記内槽の底面によって反射し照射
    される内壁面に、該内壁面の全面と前記底面の振動板に
    至る折り曲げ部分とを有するステンレス製の遮蔽板を密
    接して固定したことを特徴とする超音波洗浄装置。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の遮蔽板が、反射し照射さ
    れる内壁面を含む4側面の内壁面に設けられたことを特
    徴とする請求項5記載の超音波洗浄装置。
JP15431794A 1994-06-14 1994-06-14 超音波洗浄装置 Pending JPH07328571A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15431794A JPH07328571A (ja) 1994-06-14 1994-06-14 超音波洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15431794A JPH07328571A (ja) 1994-06-14 1994-06-14 超音波洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07328571A true JPH07328571A (ja) 1995-12-19

Family

ID=15581488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15431794A Pending JPH07328571A (ja) 1994-06-14 1994-06-14 超音波洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07328571A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008004890A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Tokyo Electron Ltd 超音波洗浄装置
JP2015024503A (ja) * 2013-07-24 2015-02-05 凸版印刷株式会社 印刷機及び印刷方法並び印刷物
CN116000013A (zh) * 2023-03-27 2023-04-25 泉州艾奇科技有限公司 一种抑制驻波的超声清洗装置及方法
CN121222742A (zh) * 2025-12-01 2025-12-30 陕西伍德秦骏运输装备科技有限公司 一种汽车零件加工用油污清洗装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5521072B1 (ja) * 1971-02-03 1980-06-06
JPS5638168A (en) * 1979-07-30 1981-04-13 Sonic Ferro Kk Ultrasonic washing tank
JPH03222419A (ja) * 1990-01-29 1991-10-01 Kokusai Denki Erutetsuku:Kk 超音波洗浄装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5521072B1 (ja) * 1971-02-03 1980-06-06
JPS5638168A (en) * 1979-07-30 1981-04-13 Sonic Ferro Kk Ultrasonic washing tank
JPH03222419A (ja) * 1990-01-29 1991-10-01 Kokusai Denki Erutetsuku:Kk 超音波洗浄装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008004890A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Tokyo Electron Ltd 超音波洗浄装置
JP2015024503A (ja) * 2013-07-24 2015-02-05 凸版印刷株式会社 印刷機及び印刷方法並び印刷物
CN116000013A (zh) * 2023-03-27 2023-04-25 泉州艾奇科技有限公司 一种抑制驻波的超声清洗装置及方法
CN121222742A (zh) * 2025-12-01 2025-12-30 陕西伍德秦骏运输装备科技有限公司 一种汽车零件加工用油污清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4869278A (en) Megasonic cleaning apparatus
US4998549A (en) Megasonic cleaning apparatus
KR101226071B1 (ko) 음향 에너지를 발생시키기 위한 장치, 및 그것을 만드는 방법
US5037481A (en) Megasonic cleaning method
US5379785A (en) Cleaning apparatus
US4118649A (en) Transducer assembly for megasonic cleaning
US4804007A (en) Cleaning apparatus
EP0708694B1 (en) Static megasonic cleaning system for cleaning objects
US5355048A (en) Megasonic transducer for cleaning substrate surfaces
CN100369187C (zh) 湿处理盘状基片的部件和方法
WO2000028578A2 (en) Improved megasonic cleaner
US9987666B2 (en) Composite transducer apparatus and system for processing a substrate and method of constructing the same
CN100344385C (zh) 强超声波探棒能量引导器
JPH07328571A (ja) 超音波洗浄装置
CN114345826B (zh) 用于晶圆清洗的兆声发射装置及声波清洗系统
TWI225659B (en) Apparatus and method for cleaning electronic components
JPH0449619A (ja) 超音波洗浄槽
US20030106566A1 (en) Method and apparatus for cleaning substrates
JPH0234923A (ja) 超音波洗浄装置
US20080029125A1 (en) Method and apparatus for damage-free, single wafer, sonic boundary layer, megasonic cleaning
BUsnaina et al. The removal of submicron particles in liquid-based cleaning
JPS61194727A (ja) 洗浄装置
JPH09199464A (ja) 超音波洗浄装置
JPH0947733A (ja) 超音波洗浄装置
JPH0924349A (ja) 超音波洗浄装置