JPH07331463A - マイクロ波伝播計測方法 - Google Patents
マイクロ波伝播計測方法Info
- Publication number
- JPH07331463A JPH07331463A JP12858094A JP12858094A JPH07331463A JP H07331463 A JPH07331463 A JP H07331463A JP 12858094 A JP12858094 A JP 12858094A JP 12858094 A JP12858094 A JP 12858094A JP H07331463 A JPH07331463 A JP H07331463A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microwave
- microwaves
- electric field
- propagation
- carbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】マイクロ波を吸収し、発熱する材料、たとえば
カーボンを、加熱することにより不可逆に変化する材料
の表面に、たとえば感熱紙に塗付し、これを用いてマイ
クロ波の電界強度分布を測定するよう構成した。 【効果】マイクロ波の伝播状態を乱すことなく、2次元
的にマイクロ波の電界強度分布を測定できるのでマイク
ロ波を用いたプラズマ処理装置の開発期間を短縮できる
という効果がある。
カーボンを、加熱することにより不可逆に変化する材料
の表面に、たとえば感熱紙に塗付し、これを用いてマイ
クロ波の電界強度分布を測定するよう構成した。 【効果】マイクロ波の伝播状態を乱すことなく、2次元
的にマイクロ波の電界強度分布を測定できるのでマイク
ロ波を用いたプラズマ処理装置の開発期間を短縮できる
という効果がある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波の電界強度
分布を計測するマイクロ波伝播計測方法に関するもので
ある。
分布を計測するマイクロ波伝播計測方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、マイクロ波の伝播状態を2次元的
に測定できるマイクロ波伝播計測方法には、例えば、文
献「小国文一著、マイクロ波およびミリ波回路、丸善(1
964)」に記載のように、塩化コバルト法があった。該塩
化コバルト法とは、ピンク色の塩化コバルト(II)六水和
物CoCl2・6H2Oが誘電損失によりマイクロ波を吸収し加
熱され、その結果110℃以上になると結晶水を失い、青
色の無水の塩化コバルト(II)CoCl2に変化することを利
用したものである。具体的には、塩化コバルト水溶液を
噴霧した濾紙を使用するものである。
に測定できるマイクロ波伝播計測方法には、例えば、文
献「小国文一著、マイクロ波およびミリ波回路、丸善(1
964)」に記載のように、塩化コバルト法があった。該塩
化コバルト法とは、ピンク色の塩化コバルト(II)六水和
物CoCl2・6H2Oが誘電損失によりマイクロ波を吸収し加
熱され、その結果110℃以上になると結晶水を失い、青
色の無水の塩化コバルト(II)CoCl2に変化することを利
用したものである。具体的には、塩化コバルト水溶液を
噴霧した濾紙を使用するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、
(1).塩化コバルト水溶液がマイクロ波の伝播に影響を
与えること。(2).マイクロ波の照射により青色の無水
の塩化コバルト(II)CoCl2に変更した箇所が、大気中の
水分を吸収し、数分間で再びピンク色の塩化コバルト(I
I)六水和物CoCl2・6H2Oに戻るため、短時間内に取り出
し、写真撮映等を終了しなければならないという不具合
点があった。
(1).塩化コバルト水溶液がマイクロ波の伝播に影響を
与えること。(2).マイクロ波の照射により青色の無水
の塩化コバルト(II)CoCl2に変更した箇所が、大気中の
水分を吸収し、数分間で再びピンク色の塩化コバルト(I
I)六水和物CoCl2・6H2Oに戻るため、短時間内に取り出
し、写真撮映等を終了しなければならないという不具合
点があった。
【0004】本発明の目的は、マイクロ波伝播に与える
影響が少なく、マイクロ波を照射した時、変化が不可逆
であるマイクロ波伝播計測法を提供することにある。
影響が少なく、マイクロ波を照射した時、変化が不可逆
であるマイクロ波伝播計測法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、マイクロ波
を吸収し発熱する材料、たとえばカーボンを、加熱する
ことにより不可逆に変化する材料の表面に、たとえば感
熱紙に、塗付した材料を用いてマイクロ波の電界強度分
布を計測することにより、達成される。
を吸収し発熱する材料、たとえばカーボンを、加熱する
ことにより不可逆に変化する材料の表面に、たとえば感
熱紙に、塗付した材料を用いてマイクロ波の電界強度分
布を計測することにより、達成される。
【0006】
【作用】マイクロ波を吸収し発熱する材料、たとえばカ
ーボンを、加熱することにより不可逆に変化する材料、
たとえば感熱紙に、塗付された材料を、マイクロ波導波
路に設置し、マイクロ波を照射すると、マイクロ波の電
界強度が強い箇所に設けられたマイクロ波を吸収し発熱
する材料が発熱し、加熱することにより不可逆に変化す
る材料を変化させるように作用する。それによって、マ
イクロ波の電界強度分布を2次元的に計測することが可
能になる。
ーボンを、加熱することにより不可逆に変化する材料、
たとえば感熱紙に、塗付された材料を、マイクロ波導波
路に設置し、マイクロ波を照射すると、マイクロ波の電
界強度が強い箇所に設けられたマイクロ波を吸収し発熱
する材料が発熱し、加熱することにより不可逆に変化す
る材料を変化させるように作用する。それによって、マ
イクロ波の電界強度分布を2次元的に計測することが可
能になる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1乃至図3によ
り説明する。図1に示すように、加熱することにより不
可逆に変化する材料、本実施例の場合感熱紙1の裏面
に、マイクロ波を吸収することにより発熱する材料、本
実施例の場合カーボン2を、パターニング(本実施例の
場合、水玉模様に)し、塗付する。このカーボン2を塗
付した感熱紙を、厚紙等で円筒状に作製した固定枠3
に、接着テープ等で固定する。このようにして作成され
たカーボン2付き感熱紙1にマイクロ波を照射すると、
マイクロ波の電界強度の強い箇所のカーボンが導波損失
により発熱する。本実施例で使用した感熱紙は、55℃以
下では変化しないが、60℃から徐々に変化し、70℃で黒
色となり、それ以上の温度では、黒色度に変化がないと
いう特性がある。したがって、マイクロ波の電界強度が
大きく、カーボンの発熱により、約60℃以上に加熱され
た箇所が黒く変化するため、マイクロ波電界強度の2次
元分布を計測できる。なお、マイクロ波吸収材と感熱材
をあらかじめ混合して塗布したシートでも同様な効果が
ある。
り説明する。図1に示すように、加熱することにより不
可逆に変化する材料、本実施例の場合感熱紙1の裏面
に、マイクロ波を吸収することにより発熱する材料、本
実施例の場合カーボン2を、パターニング(本実施例の
場合、水玉模様に)し、塗付する。このカーボン2を塗
付した感熱紙を、厚紙等で円筒状に作製した固定枠3
に、接着テープ等で固定する。このようにして作成され
たカーボン2付き感熱紙1にマイクロ波を照射すると、
マイクロ波の電界強度の強い箇所のカーボンが導波損失
により発熱する。本実施例で使用した感熱紙は、55℃以
下では変化しないが、60℃から徐々に変化し、70℃で黒
色となり、それ以上の温度では、黒色度に変化がないと
いう特性がある。したがって、マイクロ波の電界強度が
大きく、カーボンの発熱により、約60℃以上に加熱され
た箇所が黒く変化するため、マイクロ波電界強度の2次
元分布を計測できる。なお、マイクロ波吸収材と感熱材
をあらかじめ混合して塗布したシートでも同様な効果が
ある。
【0008】図2に、図1に示すカーボン2付き感熱紙
1を用いて、有磁場マイクロ波エッチング装置内でマイ
クロ波伝播計測を行った具体事例を示す。
1を用いて、有磁場マイクロ波エッチング装置内でマイ
クロ波伝播計測を行った具体事例を示す。
【0009】図2において、容器4a、容器4b、石英板5
で区画された処理室4の内部を真空排気装置(図示省略)
により減圧した後、ガス供給装置(図示省略)によりエッ
チングガスを処理室4内に導入し、所望の圧力に調整す
る。また処理室4は、コイル6により生成される磁場領
域内にある。マグネトロン7より発した、この場合、2.
45GHzのマイクロ波は、導波管8a、8bを伝播し、処理室
4内に入射される。このマイクロ波によって生成された
プラズマにより、ウエハ載置用電極9に載置された被処
理材10がエッチング処理される。また被処理材10のエッ
チング形状を制御するため、ウエハ載置用電極9には、
整合器(図示省略)を介して高周波電源11が接続され、高
周波電圧が印加されている。
で区画された処理室4の内部を真空排気装置(図示省略)
により減圧した後、ガス供給装置(図示省略)によりエッ
チングガスを処理室4内に導入し、所望の圧力に調整す
る。また処理室4は、コイル6により生成される磁場領
域内にある。マグネトロン7より発した、この場合、2.
45GHzのマイクロ波は、導波管8a、8bを伝播し、処理室
4内に入射される。このマイクロ波によって生成された
プラズマにより、ウエハ載置用電極9に載置された被処
理材10がエッチング処理される。また被処理材10のエッ
チング形状を制御するため、ウエハ載置用電極9には、
整合器(図示省略)を介して高周波電源11が接続され、高
周波電圧が印加されている。
【0010】本実施例では、エッチングガスとしてCl2
を使用し、被処理材としてpoly-Si付きウエハを使用し
た。図1に示すカーボン2付き感熱紙1を固定した枠3
を石英板5上に配置し、マイクロ波伝播計測を行った。
その結果、上部導波管8bと石英板5との間隔hを変更す
るとマイクロ波伝播状態が変化することがわかった。上
部導波管8b石英板5との間隔hを変更し、ドーナツ状の
マイクロ波電界強度分布、たとえばTE01モードマイクロ
波の電界強度分布が、カーボン2付き感熱紙1上の黒色
変化パターンとして出現した時、処理室4内のプラズマ
の均一性が最も良好であった。このように、本発明にお
けるマイクロ波伝播計測法を用いて、マイクロ波を用い
たプラズマ処理装置、たとえばマイクロ波エッチング装
置、マイクロ波CVD装置およびマイクロ波アッシング装
置等のマイクロ波導波路の形状を決める等の、装置開発
を行うことができる。図3は、カーボン2付き感熱紙3
がプラズマの生成に与える影響について調べたものであ
る。この場合には、TE11モードのマイクロ波を導入し
た。カーボン2付き感熱紙3の有無にかかわらず、ウエ
ハ載置用電極9に埋設された平板プローブを使用して測
定した電子密度分布はほとんど変化ないことから、本発
明のマイクロ波伝播計測法は外乱の少ない計測法である
と言える。
を使用し、被処理材としてpoly-Si付きウエハを使用し
た。図1に示すカーボン2付き感熱紙1を固定した枠3
を石英板5上に配置し、マイクロ波伝播計測を行った。
その結果、上部導波管8bと石英板5との間隔hを変更す
るとマイクロ波伝播状態が変化することがわかった。上
部導波管8b石英板5との間隔hを変更し、ドーナツ状の
マイクロ波電界強度分布、たとえばTE01モードマイクロ
波の電界強度分布が、カーボン2付き感熱紙1上の黒色
変化パターンとして出現した時、処理室4内のプラズマ
の均一性が最も良好であった。このように、本発明にお
けるマイクロ波伝播計測法を用いて、マイクロ波を用い
たプラズマ処理装置、たとえばマイクロ波エッチング装
置、マイクロ波CVD装置およびマイクロ波アッシング装
置等のマイクロ波導波路の形状を決める等の、装置開発
を行うことができる。図3は、カーボン2付き感熱紙3
がプラズマの生成に与える影響について調べたものであ
る。この場合には、TE11モードのマイクロ波を導入し
た。カーボン2付き感熱紙3の有無にかかわらず、ウエ
ハ載置用電極9に埋設された平板プローブを使用して測
定した電子密度分布はほとんど変化ないことから、本発
明のマイクロ波伝播計測法は外乱の少ない計測法である
と言える。
【0011】本発明によれば、マイクロ波の伝播に与え
る影響が少なく、マイクロ波電界強度分布を測定できる
という効果がある。またマイクロ波伝播状態を2次元的
にしかも、時間的に変化することなく把握できるので、
マイクロ波を利用したプラズマ処理装置を短期間に開発
できるという効果がある。本実施例では有磁場マイクロ
波エッチング装置について述べたが、その他マイクロ波
を利用したエッチング装置、CVD装置およびアッシング
装置についても同様の作用効果がある。
る影響が少なく、マイクロ波電界強度分布を測定できる
という効果がある。またマイクロ波伝播状態を2次元的
にしかも、時間的に変化することなく把握できるので、
マイクロ波を利用したプラズマ処理装置を短期間に開発
できるという効果がある。本実施例では有磁場マイクロ
波エッチング装置について述べたが、その他マイクロ波
を利用したエッチング装置、CVD装置およびアッシング
装置についても同様の作用効果がある。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、マイクロ波の伝播に与
える影響が少なく、マイクロ波電界強度分布を測定でき
るという効果がある。またマイクロ波伝播状態を2次元
的にしかも、時間的に変化することなく把握できるとい
う効果がある。
える影響が少なく、マイクロ波電界強度分布を測定でき
るという効果がある。またマイクロ波伝播状態を2次元
的にしかも、時間的に変化することなく把握できるとい
う効果がある。
【図1】本発明の一実施例のカーボン付き感熱紙を用い
たマイクロ波伝播計測用部品の縦断面図である。
たマイクロ波伝播計測用部品の縦断面図である。
【図2】本発明のマイクロ波伝播計測により開発した有
磁場マイクロ波エッチング装置の処理室部の縦断面図で
ある。
磁場マイクロ波エッチング装置の処理室部の縦断面図で
ある。
【図3】本発明のマイクロ波伝播計測がマイクロ波の伝
播に与える影響を調べるため、測定したウエハ載置用電
極上での電子密度分布を示す説明図である。
播に与える影響を調べるため、測定したウエハ載置用電
極上での電子密度分布を示す説明図である。
1…感熱紙、2…カーボン、3…枠、4…処理室、5…
石英板、6…コイル、7…マグネトロン、8…導波管、
9…ウエハ載置用電極、10…被処理材、11…高周波電
源。
石英板、6…コイル、7…マグネトロン、8…導波管、
9…ウエハ載置用電極、10…被処理材、11…高周波電
源。
Claims (2)
- 【請求項1】加熱されることにより不可逆に変化する材
料に、マイクロ波を吸収し発熱する材料を、塗付した材
料を用いてマイクロ波の電界強度分布を計測することを
特徴とするマイクロ波伝播計測方法。 - 【請求項2】請求項1に記載のマイクロ波伝播計測方法
を用いて、マイクロ波導波部及びプラズマ生成部におけ
るマイクロ波伝播状態を計測することを特徴とするマイ
クロ波伝播計測方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12858094A JPH07331463A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | マイクロ波伝播計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12858094A JPH07331463A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | マイクロ波伝播計測方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07331463A true JPH07331463A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=14988271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12858094A Pending JPH07331463A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | マイクロ波伝播計測方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07331463A (ja) |
-
1994
- 1994-06-10 JP JP12858094A patent/JPH07331463A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW589675B (en) | Plasma treatment device and plasma treatment method | |
| TW555878B (en) | Plasma processing apparatus | |
| US4777336A (en) | Method for treating a material using radiofrequency waves | |
| KR100363602B1 (ko) | 재료의마이크로파가공을위한장치및방법 | |
| JPS60126832A (ja) | ドライエツチング方法および装置 | |
| KR970071945A (ko) | 플라즈마처리방법 및 장치 | |
| TW201940007A (zh) | 微波加熱方法、微波加熱裝置及化學反應方法 | |
| US4616120A (en) | Microwave-heating apparatus having means for measuring reflection coefficient under low power operation | |
| TW201021630A (en) | Microwave plasma processing apparatus and method of supplying microwaves using the apparatus | |
| JPH08274067A (ja) | プラズマ発生装置 | |
| JPH01184923A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JPH11145116A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置及びその実施に使用する対向電極 | |
| JP3902125B2 (ja) | 温度測定方法及びプラズマ処理装置 | |
| JP2019140103A (ja) | マイクロ波加熱装置、加熱方法及び化学反応方法 | |
| JP4165946B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| JP2532227B2 (ja) | 炭素皮膜の気相合成装置 | |
| WO2019156142A1 (ja) | マイクロ波加熱方法、マイクロ波加熱装置及び化学反応方法 | |
| JP2000150196A (ja) | プラズマ処理方法およびその装置 | |
| JP3517400B2 (ja) | エッチング処理装置の温度測定装置 | |
| JP4298876B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH11204295A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| JP2641450B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2000174009A (ja) | プラズマ処理装置及び半導体製造装置並びに液晶製造装置 | |
| Wolff et al. | Transmission and reception of centimeter waves | |
| JP3077144B2 (ja) | 試料保持装置 |