JPH07333593A - 遮光膜の製造方法 - Google Patents
遮光膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH07333593A JPH07333593A JP13171394A JP13171394A JPH07333593A JP H07333593 A JPH07333593 A JP H07333593A JP 13171394 A JP13171394 A JP 13171394A JP 13171394 A JP13171394 A JP 13171394A JP H07333593 A JPH07333593 A JP H07333593A
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- JP
- Japan
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- shielding film
- light
- photosensitive resin
- resin black
- positive resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラー液晶表示装置等に使用されるカラーフ
ィルターの遮光膜の製造方法に関するものであり、カラ
ーフィルターの画素の開口部を形成する遮光膜の画線精
度を良好にする改良である。 【構成】 透明基板１にポジレジスト２を塗布した後、
遮光膜６に対応する領域を露光するフォトマスク３を介
して露光し、現像することにより浮彫部４を形成し、こ
の浮彫部４が形成されているガラス基板１に光硬化型の
感光性樹脂ブラック５を塗布または印刷により被覆した
後、感光性樹脂ブラック５が被覆されているガラス基板
１の両面より露光し、浮彫部４として残存しているポジ
レジスト２を現像液をもってリフトオフし、遮光膜６を
形成する遮光膜の製造方法である。
ィルターの遮光膜の製造方法に関するものであり、カラ
ーフィルターの画素の開口部を形成する遮光膜の画線精
度を良好にする改良である。 【構成】 透明基板１にポジレジスト２を塗布した後、
遮光膜６に対応する領域を露光するフォトマスク３を介
して露光し、現像することにより浮彫部４を形成し、こ
の浮彫部４が形成されているガラス基板１に光硬化型の
感光性樹脂ブラック５を塗布または印刷により被覆した
後、感光性樹脂ブラック５が被覆されているガラス基板
１の両面より露光し、浮彫部４として残存しているポジ
レジスト２を現像液をもってリフトオフし、遮光膜６を
形成する遮光膜の製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置等
に使用されるカラーフィルターの遮光膜の製造方法に関
する。特に、カラーフィルターの画素の開口部を形成す
る遮光膜の画線精度を良好にする改良に関する。
に使用されるカラーフィルターの遮光膜の製造方法に関
する。特に、カラーフィルターの画素の開口部を形成す
る遮光膜の画線精度を良好にする改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置等に用いられるカラ
ーフィルターは、通常、透明基板上にＲ（赤）Ｇ（緑）
Ｂ（青）からなる３色が整列して配置されている。
ーフィルターは、通常、透明基板上にＲ（赤）Ｇ（緑）
Ｂ（青）からなる３色が整列して配置されている。
【０００３】図２参照 図２はカラーフィルターの平面図であり、３色の配列の
一例を示す。図２において、（ａ）は方形のモザイク状
の配列であり、（ｂ）はトライアングル状の配列であ
り、（ｃ）はストライプ状の配列である。いずれも、異
なる色が隣合うように、しかも、相互は離間して配列さ
れている。６は異なる色を離隔する遮光膜である。７は
着色部であり、Ｒは赤の着色層であり、Ｇは緑の着色層
であり、Ｂは青の着色層である。Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれ
は配列の形に応じ所定の着色部７に形成される。
一例を示す。図２において、（ａ）は方形のモザイク状
の配列であり、（ｂ）はトライアングル状の配列であ
り、（ｃ）はストライプ状の配列である。いずれも、異
なる色が隣合うように、しかも、相互は離間して配列さ
れている。６は異なる色を離隔する遮光膜である。７は
着色部であり、Ｒは赤の着色層であり、Ｇは緑の着色層
であり、Ｂは青の着色層である。Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれ
は配列の形に応じ所定の着色部７に形成される。
【０００４】従来、遮光膜６は次の工程で形成されてい
る。すなわち、透明基板上に光硬化型の感光性樹脂ブラ
ックを塗布し、遮光膜６に対応する領域を露光するフォ
トマスクを介して感光性樹脂ブラックを露光し、感光性
樹脂ブラックを硬化させ、現像することにより感光して
いない感光性樹脂ブラックを溶解して遮光膜６を形成し
ていた。そして、３色の着色層Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれを
順次形成させカラーフィルターとしている。
る。すなわち、透明基板上に光硬化型の感光性樹脂ブラ
ックを塗布し、遮光膜６に対応する領域を露光するフォ
トマスクを介して感光性樹脂ブラックを露光し、感光性
樹脂ブラックを硬化させ、現像することにより感光して
いない感光性樹脂ブラックを溶解して遮光膜６を形成し
ていた。そして、３色の着色層Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれを
順次形成させカラーフィルターとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】遮光膜６は透過する光
の光量すなわち濃淡の階調に関係する開口部を決定する
ものであり、画素のピッチ精度や開口率は遮光膜６によ
って規制されるので、遮光膜６には高い画線精度が要求
される。また、薄膜トランジスタやＩＴＯ等の透明な画
素電極等と組み合わせて使用されるので、薄膜トランジ
スタや画素電極等と同程度の画線精度が要求される。こ
のため、遮光膜は高い精度で製作できるフォトリソグラ
フィー法が利用されている。ところで、感光性樹脂ブラ
ックを使用して形成された遮光膜６は、フォトリソグラ
フィー法により製作されているにもかゝわらず遮光膜６
のエッジ形状が歪み、画線精度が十分とは言えなかっ
た。
の光量すなわち濃淡の階調に関係する開口部を決定する
ものであり、画素のピッチ精度や開口率は遮光膜６によ
って規制されるので、遮光膜６には高い画線精度が要求
される。また、薄膜トランジスタやＩＴＯ等の透明な画
素電極等と組み合わせて使用されるので、薄膜トランジ
スタや画素電極等と同程度の画線精度が要求される。こ
のため、遮光膜は高い精度で製作できるフォトリソグラ
フィー法が利用されている。ところで、感光性樹脂ブラ
ックを使用して形成された遮光膜６は、フォトリソグラ
フィー法により製作されているにもかゝわらず遮光膜６
のエッジ形状が歪み、画線精度が十分とは言えなかっ
た。
【０００６】本発明の目的は、この問題を解消すること
にあり、画線精度の良好な遮光膜を得ることのできる遮
光膜の製造方法を提供することにある。
にあり、画線精度の良好な遮光膜を得ることのできる遮
光膜の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、透明基板
（１）にポジレジスト（２）を塗布した後、遮光膜
（６）に対応する領域を露光するフォトマスク（３）を
介して露光し、現像することにより浮彫部（４）を形成
し、この浮彫部（４）が形成されている前記のガラス基
板（１）に光硬化型の感光性樹脂ブラック（５）を塗布
または印刷により被覆した後、この感光性樹脂ブラック
（５）が被覆されている前記のガラス基板（１）の両面
より露光し、前記の浮彫部（４）として残存しているポ
ジレジスト（２）を現像液をもってリフトオフし、遮光
膜（６）を形成する遮光膜の製造方法によって達成され
る。
（１）にポジレジスト（２）を塗布した後、遮光膜
（６）に対応する領域を露光するフォトマスク（３）を
介して露光し、現像することにより浮彫部（４）を形成
し、この浮彫部（４）が形成されている前記のガラス基
板（１）に光硬化型の感光性樹脂ブラック（５）を塗布
または印刷により被覆した後、この感光性樹脂ブラック
（５）が被覆されている前記のガラス基板（１）の両面
より露光し、前記の浮彫部（４）として残存しているポ
ジレジスト（２）を現像液をもってリフトオフし、遮光
膜（６）を形成する遮光膜の製造方法によって達成され
る。
【０００８】
【作用】従来技術に係る遮光膜の製造方法においては、
光硬化型の感光性樹脂ブラック５を使用し、直接フォト
リソグラフィー法により遮光膜６を形成していた。遮光
膜６用として使用される感光性樹脂ブラック５は当然光
学的濃度の高い樹脂であるので、これを硬化させるには
露光量を多量にする必要があり、多量の露光量をフォト
マスク３を介して片面より露光している。露光に使用す
る光源に制約があるため、長時間の露光をして露光量を
確保することになる。露光時間が長時間になると、熱歪
み等により遮光膜６のエッジ形状は歪み、画線精度が劣
化することになる。
光硬化型の感光性樹脂ブラック５を使用し、直接フォト
リソグラフィー法により遮光膜６を形成していた。遮光
膜６用として使用される感光性樹脂ブラック５は当然光
学的濃度の高い樹脂であるので、これを硬化させるには
露光量を多量にする必要があり、多量の露光量をフォト
マスク３を介して片面より露光している。露光に使用す
る光源に制約があるため、長時間の露光をして露光量を
確保することになる。露光時間が長時間になると、熱歪
み等により遮光膜６のエッジ形状は歪み、画線精度が劣
化することになる。
【０００９】本発明に係る遮光膜の製造方法において
は、先ず、ポジレジスト２をフォトリソグラフィー法に
より浮彫部４を形成し、その上に感光性樹脂ブラック５
を被覆し、両面より露光した後、現像液でポジレジスト
２を溶解し、遮光膜６を形成している。ポジレジスト２
は高い画線精度を有しており、上記の工程で形成された
感光性樹脂ブラック５は、ポジレジスト２の高い画線精
度を忠実に継承し、高い画線精度を有することになる。
は、先ず、ポジレジスト２をフォトリソグラフィー法に
より浮彫部４を形成し、その上に感光性樹脂ブラック５
を被覆し、両面より露光した後、現像液でポジレジスト
２を溶解し、遮光膜６を形成している。ポジレジスト２
は高い画線精度を有しており、上記の工程で形成された
感光性樹脂ブラック５は、ポジレジスト２の高い画線精
度を忠実に継承し、高い画線精度を有することになる。
【００１０】さらに、感光性樹脂ブラック５への露光は
感光性樹脂ブラック５を硬化させるとともに浮彫部４の
ポジレジスト２を軟化させるだけであり、従来技術のよ
うに非開口部の感光性樹脂ブラック５のみを硬化させる
必要がないから、マスクを必要とせず、透明基板１の両
面より露光することができる。このため、従来と比較し
てほぼ半分の時間で露光を完了することができる。この
ため、遮光膜６の画線精度の劣化を防止することができ
る。
感光性樹脂ブラック５を硬化させるとともに浮彫部４の
ポジレジスト２を軟化させるだけであり、従来技術のよ
うに非開口部の感光性樹脂ブラック５のみを硬化させる
必要がないから、マスクを必要とせず、透明基板１の両
面より露光することができる。このため、従来と比較し
てほぼ半分の時間で露光を完了することができる。この
ため、遮光膜６の画線精度の劣化を防止することができ
る。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の１実施例に
係る遮光膜の製造方法についてさらに詳細に説明する。
係る遮光膜の製造方法についてさらに詳細に説明する。
【００１２】図１参照 図１は本発明の１実施例に係る遮光膜の製造方法を工程
順に示す図である。
順に示す図である。
【００１３】図１（ａ）において、１はガラス等からな
る透明基板であり、２は透明基板１の上に塗布された米
国シップレー社製ＡＺ−１３５０等のポジレジストであ
る。ポジレジスト２は１２００ｒｐｍにて１０秒間スピ
ンコート処理により塗布される。塗布量は次の工程であ
るプリベーク後で膜厚０．３〜１．０μｍになるように
する。プリベークは９０℃、３０分である。３はフォト
マスクであり、斜線の領域は矢印をもって示す露光のた
めの光線を遮光する領域である。そして、カラーフィル
ターの遮光膜６に対応する場所が遮光するようにされて
いる。露光量は１０ｍＪ／ｃｍ2 である。
る透明基板であり、２は透明基板１の上に塗布された米
国シップレー社製ＡＺ−１３５０等のポジレジストであ
る。ポジレジスト２は１２００ｒｐｍにて１０秒間スピ
ンコート処理により塗布される。塗布量は次の工程であ
るプリベーク後で膜厚０．３〜１．０μｍになるように
する。プリベークは９０℃、３０分である。３はフォト
マスクであり、斜線の領域は矢印をもって示す露光のた
めの光線を遮光する領域である。そして、カラーフィル
ターの遮光膜６に対応する場所が遮光するようにされて
いる。露光量は１０ｍＪ／ｃｍ2 である。
【００１４】図１（ｂ）において、４は浮彫部であり、
露光工程の後、水酸化ナトリウム８００ｇと炭酸ナトリ
ウム１０００ｇと水２００リットルとからなる現像液に
より現像し、形成されたものである。
露光工程の後、水酸化ナトリウム８００ｇと炭酸ナトリ
ウム１０００ｇと水２００リットルとからなる現像液に
より現像し、形成されたものである。
【００１５】図１（ｃ−１）において、５は日本化薬
（株）のＢＲＫ−２２０等の感光性樹脂ブラックであ
り、８００ｒｐｍにて１０秒間のスピンコート処理によ
り塗布される。塗布量は後で行うポストベーク後で膜厚
１．０μｍ程度になるようにし、浮彫部４より僅かに厚
い膜厚である。プリベークは１１０℃、５分である。プ
リベーク後、透明基板１の両面から露光する。両面それ
ぞれの露光量は１００ｍＪ／ｃｍ2 である。矢印は露光
の光線を示す。
（株）のＢＲＫ−２２０等の感光性樹脂ブラックであ
り、８００ｒｐｍにて１０秒間のスピンコート処理によ
り塗布される。塗布量は後で行うポストベーク後で膜厚
１．０μｍ程度になるようにし、浮彫部４より僅かに厚
い膜厚である。プリベークは１１０℃、５分である。プ
リベーク後、透明基板１の両面から露光する。両面それ
ぞれの露光量は１００ｍＪ／ｃｍ2 である。矢印は露光
の光線を示す。
【００１６】図１（ｃ−２）は、図１（ｃ−１）の塗布
コートに代えて印刷コートした状態を示す。印刷コート
の場合には、浮彫部４を避けて印刷する。印刷の膜厚と
プリベークと露光とは全て図１（ｃ−１）において説明
したとおりである。
コートに代えて印刷コートした状態を示す。印刷コート
の場合には、浮彫部４を避けて印刷する。印刷の膜厚と
プリベークと露光とは全て図１（ｃ−１）において説明
したとおりである。
【００１７】図１（ｄ）において、６は遮光膜であり、
図１（ｃ−１）または図１（ｃ−２）の露光工程の後、
水酸化ナトリウム８００ｇと炭酸ナトリウム１０００ｇ
と水２００リットルとからなる現像液により現像し、形
成されたものである。
図１（ｃ−１）または図１（ｃ−２）の露光工程の後、
水酸化ナトリウム８００ｇと炭酸ナトリウム１０００ｇ
と水２００リットルとからなる現像液により現像し、形
成されたものである。
【００１８】以上により１実施例に係る遮光膜の製造を
完了する。このとき、遮光膜６の膜厚は１．０μｍであ
り、光学的濃度ＯＤは２．３以上であり、薄膜トランジ
スタや画素電極に対比しうる画線精度を得ることができ
た。
完了する。このとき、遮光膜６の膜厚は１．０μｍであ
り、光学的濃度ＯＤは２．３以上であり、薄膜トランジ
スタや画素電極に対比しうる画線精度を得ることができ
た。
【００１９】なお、カラーフィルターの着色層はフォト
リソグラフィー法、印刷法または電着法等により形成さ
れる。フォトリソグラフィー法を使用した顔料分散法の
１例を簡単に示すと、先ず、富士ハント社のＣＲ−２０
００等の顔料入りフォトレジストをポストベーク後の膜
厚１．２μｍ程度になるよう１０００ｒｐｍ、１０分ス
ピンコートした後７０℃、２０分プリベークする。次い
で、赤パターンを１２０ｍＪ／ｃｍ2 マスク露光し、現
像液ＣＤにより現像した後、２３０℃、１時間ポストベ
ークし、赤の着色層を形成する。同様にしてＣＧ−２０
００またはＣＢ−２０００等の顔料入りフォトレジスト
を使用して緑または青の着色層を順次形成する。
リソグラフィー法、印刷法または電着法等により形成さ
れる。フォトリソグラフィー法を使用した顔料分散法の
１例を簡単に示すと、先ず、富士ハント社のＣＲ−２０
００等の顔料入りフォトレジストをポストベーク後の膜
厚１．２μｍ程度になるよう１０００ｒｐｍ、１０分ス
ピンコートした後７０℃、２０分プリベークする。次い
で、赤パターンを１２０ｍＪ／ｃｍ2 マスク露光し、現
像液ＣＤにより現像した後、２３０℃、１時間ポストベ
ークし、赤の着色層を形成する。同様にしてＣＧ−２０
００またはＣＢ−２０００等の顔料入りフォトレジスト
を使用して緑または青の着色層を順次形成する。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る遮光
膜の製造方法によれば、ポジレジストを使用してフォト
リソグラフィー法により浮彫部を形成し、その上に光硬
化型の感光性樹脂ブラックを被覆し、両面から感光し、
感光性樹脂ブラックを硬化させ、浮彫部を軟化させる。
軟化した浮彫部を溶解し、残存している感光性樹脂ブラ
ックにより遮光膜を形成している。
膜の製造方法によれば、ポジレジストを使用してフォト
リソグラフィー法により浮彫部を形成し、その上に光硬
化型の感光性樹脂ブラックを被覆し、両面から感光し、
感光性樹脂ブラックを硬化させ、浮彫部を軟化させる。
軟化した浮彫部を溶解し、残存している感光性樹脂ブラ
ックにより遮光膜を形成している。
【００２１】このように、画線精度に優れたポジレジス
トでできた浮彫部を利用して感光性樹脂ブラックを形成
しているので、感光性樹脂ブラックも高い画線精度を有
している。また、感光性樹脂ブラックを露光するとき両
面から露光しているので、露光時間を短縮することがで
き、画線精度を劣化させることなく硬化する。このた
め、遮光膜は高い画線精度を有し、画像表示装置等のカ
ラーフィルターの遮光膜として十分な精度を有すること
になる。
トでできた浮彫部を利用して感光性樹脂ブラックを形成
しているので、感光性樹脂ブラックも高い画線精度を有
している。また、感光性樹脂ブラックを露光するとき両
面から露光しているので、露光時間を短縮することがで
き、画線精度を劣化させることなく硬化する。このた
め、遮光膜は高い画線精度を有し、画像表示装置等のカ
ラーフィルターの遮光膜として十分な精度を有すること
になる。
【図１】本発明に係る遮光膜の製造方法の工程を示す説
明図である。
明図である。
【図２】カラーフィルターの平面図である。
１ 透明基板 ２ ポジレジスト ３ フォトマスク ４ 浮彫部 ５ 感光性樹脂ブラック ６ 遮光膜 ７ 着色層
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板（１）にポジレジスト（２）を
塗布した後、遮光膜（６）に対応する領域を露光するフ
ォトマスク（３）を介して露光し、現像することにより
浮彫部（４）を形成し、 該浮彫部（４）が形成されている前記ガラス基板（１）
に光硬化型の感光性樹脂ブラック（５）を塗布または印
刷により被覆した後、該感光性樹脂ブラック（５）が被
覆されている前記ガラス基板（１）の両面より露光し、
前記浮彫部（４）として残存しているポジレジスト
（２）を現像液をもってリフトオフし、遮光膜（６）を
形成することを特徴とする遮光膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13171394A JPH07333593A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | 遮光膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13171394A JPH07333593A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | 遮光膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333593A true JPH07333593A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15064464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13171394A Pending JPH07333593A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | 遮光膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07333593A (ja) |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP13171394A patent/JPH07333593A/ja active Pending
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