JPH0733392B2 - 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル - Google Patents
2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチルInfo
- Publication number
- JPH0733392B2 JPH0733392B2 JP1154277A JP15427789A JPH0733392B2 JP H0733392 B2 JPH0733392 B2 JP H0733392B2 JP 1154277 A JP1154277 A JP 1154277A JP 15427789 A JP15427789 A JP 15427789A JP H0733392 B2 JPH0733392 B2 JP H0733392B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tolyl
- binaphthyl
- bis
- compound
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- MJRVUGAHDHEPEL-UHFFFAOYSA-N [1-[2-bis(3-methylphenyl)phosphanylnaphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]-bis(3-methylphenyl)phosphane Chemical group CC1=CC=CC(P(C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2P(C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 MJRVUGAHDHEPEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- -1 phosphine compound Chemical class 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 8
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000009876 asymmetric hydrogenation reaction Methods 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical group C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DMYUIWLPXRKHAY-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylphenyl)phosphinic acid Chemical compound CC1=CC=CC(P(O)(=O)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DMYUIWLPXRKHAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 4
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LAXRNWSASWOFOT-UHFFFAOYSA-J (cymene)ruthenium dichloride dimer Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+2].[Ru+2].CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 LAXRNWSASWOFOT-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- WJIFKOVZNJTSGO-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(Br)=C1 WJIFKOVZNJTSGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FZTOUPXWXBWCHP-UHFFFAOYSA-N chloro-N,N-diethylphosphonamidic acid Chemical compound CCN(CC)P(O)(Cl)=O FZTOUPXWXBWCHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- LVJARDSTTGGMSM-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(benzamidomethyl)-3-oxobutanoate Chemical compound COC(=O)C(C(C)=O)CNC(=O)C1=CC=CC=C1 LVJARDSTTGGMSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJUDEFZBMMRSNM-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-(2-bromonaphthalen-1-yl)naphthalene Chemical group C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3Br)=C(Br)C=CC2=C1 IJUDEFZBMMRSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100026009 NF-kappa-B inhibitor zeta Human genes 0.000 description 2
- 101710115530 NF-kappa-B inhibitor zeta Proteins 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012327 Ruthenium complex Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N phosphoryl Chemical group [P]=O LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)C RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- GNAAYASQMGHMQO-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(P(Cl)(Cl)=O)=C1 GNAAYASQMGHMQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXPYNOKELWBZNU-UHFFFAOYSA-N 2-bis(3-methylphenyl)phosphoryl-1-[2-bis(3-methylphenyl)phosphorylnaphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group CC1=CC=CC(P(=O)(C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2P(=O)(C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 AXPYNOKELWBZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical class 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N phosphanyl Chemical group [PH2] FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/0013—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/16—Preparation of optical isomers
- C07C231/18—Preparation of optical isomers by stereospecific synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/0046—Ruthenium compounds
- C07F15/0053—Ruthenium compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5027—Polyphosphines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規ホスフィン化合物に関し、更に詳細にはル
テニウム、ロジウム、パラジウム等の金属と錯体を形成
することによって種々の不斉合成反応における有用な触
媒となり得る新規なホスフィン化合物に関する。
テニウム、ロジウム、パラジウム等の金属と錯体を形成
することによって種々の不斉合成反応における有用な触
媒となり得る新規なホスフィン化合物に関する。
従来、有機合成反応に利用できる遷移金属触媒、例え
ば、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反
応等不斉合成反応に用いられる触媒について数多くの報
告がなされている。中でもルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム等の遷移金属に、光学活性な第三級ホスフィン化
合物を配位させた錯体は、不斉合成反応の触媒として優
れた性能を有するものが多く、この触媒の性能を更に高
めるために、特殊な構造のホスフィン化合物がこれまで
に多数開発されてきた(日本化学会編 化学総説32「有
機金属錯体の化学」p.237〜238、昭和57年)。とりわ
け、2,2′−ビス〔ジフェニルホスフィノ〕−1,1′−ビ
ナフチル(以下、単に「BINAP」という)は優れたもの
の一つであり、このBINAPを配位子としたロジウム錯体
(特開昭55−61937号公報)、及びルテニウム錯体(特
開昭61−63690号公報)がすでに報告されている。更
に、2,2′−ビス〔ジ−(p−トリル)ホスフィノ〕−
1,1′−ビナフチル(以下、「p−T−BINAP」という)
を配位子としたロジウム錯体(特開昭60−199898号公
報)、及びルテニウム錯体(特開昭61−63690号公報)
についても、不斉水素化反応、不斉異性化反応において
良好な結果を与えることが報告されている。
ば、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反
応等不斉合成反応に用いられる触媒について数多くの報
告がなされている。中でもルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム等の遷移金属に、光学活性な第三級ホスフィン化
合物を配位させた錯体は、不斉合成反応の触媒として優
れた性能を有するものが多く、この触媒の性能を更に高
めるために、特殊な構造のホスフィン化合物がこれまで
に多数開発されてきた(日本化学会編 化学総説32「有
機金属錯体の化学」p.237〜238、昭和57年)。とりわ
け、2,2′−ビス〔ジフェニルホスフィノ〕−1,1′−ビ
ナフチル(以下、単に「BINAP」という)は優れたもの
の一つであり、このBINAPを配位子としたロジウム錯体
(特開昭55−61937号公報)、及びルテニウム錯体(特
開昭61−63690号公報)がすでに報告されている。更
に、2,2′−ビス〔ジ−(p−トリル)ホスフィノ〕−
1,1′−ビナフチル(以下、「p−T−BINAP」という)
を配位子としたロジウム錯体(特開昭60−199898号公
報)、及びルテニウム錯体(特開昭61−63690号公報)
についても、不斉水素化反応、不斉異性化反応において
良好な結果を与えることが報告されている。
上述のように、不斉合成反応の触媒として用いられる錯
体の性能を高めるために、特殊なホスフィン化合物が多
数開発されているが、対象とする反応や基質によって
は、選択性、転化率、持続性の面で未だ充分に満足でき
ない場合があり、従来の触媒の性能を画期的に高める新
しいホスフィン化合物の開発が望まれていた。
体の性能を高めるために、特殊なホスフィン化合物が多
数開発されているが、対象とする反応や基質によって
は、選択性、転化率、持続性の面で未だ充分に満足でき
ない場合があり、従来の触媒の性能を画期的に高める新
しいホスフィン化合物の開発が望まれていた。
本発明者らは上記課題を解決すべく、多くのホスフィン
化合物について鋭意研究を重ねた結果、フェニル基の3
位にメチル基を導入したBINAP誘導体が、置換基のないB
INAPやフェニル基の位にメチル基を有するp−T−BINA
P等に比べて、不斉合成における選択率並びに転化率を
著しく高めることを見出し、本発明を完成した。
化合物について鋭意研究を重ねた結果、フェニル基の3
位にメチル基を導入したBINAP誘導体が、置換基のないB
INAPやフェニル基の位にメチル基を有するp−T−BINA
P等に比べて、不斉合成における選択率並びに転化率を
著しく高めることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は次式(I) で表わされる2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスフ
ィノ〕−1,1′−ビナフチル(m−T−BINAP)を提供す
るものである。
ィノ〕−1,1′−ビナフチル(m−T−BINAP)を提供す
るものである。
本発明化合物(I)には、(+)−体及び(−)−体の
光学活性体が存在するが本発明はこれらの(+)−体、
(−)−体及びラセミ体のいずれをも含むものである。
光学活性体が存在するが本発明はこれらの(+)−体、
(−)−体及びラセミ体のいずれをも含むものである。
本発明の化合物(I)は、例えば次の反応式に従って製
造することができる。
造することができる。
すなわち、m−ブロムトルエン(II)と金属マグネシウ
ムを反応させ、グリニャール試薬(III)を調製し、こ
れに、G.M.Kosolapoffら;“J.Am.Chem.Soc.",71,p.369
−370(1949)の方法によって得たN,N−ジエチルアミド
クロロホスフェート(IV)を縮合せしめた後、塩酸で加
水分解をして、ジ−(m−トリル)ホスフィン酸(V)
とする。更に化合物(V)に塩化チオニルを反応させ、
反応後過剰の塩化チオニルを除き、次いでベンゼン−ヘ
キサン混合液で再結晶して、ジ−(m−トリル)ホスホ
ニルクロリド(VI)を得る。
ムを反応させ、グリニャール試薬(III)を調製し、こ
れに、G.M.Kosolapoffら;“J.Am.Chem.Soc.",71,p.369
−370(1949)の方法によって得たN,N−ジエチルアミド
クロロホスフェート(IV)を縮合せしめた後、塩酸で加
水分解をして、ジ−(m−トリル)ホスフィン酸(V)
とする。更に化合物(V)に塩化チオニルを反応させ、
反応後過剰の塩化チオニルを除き、次いでベンゼン−ヘ
キサン混合液で再結晶して、ジ−(m−トリル)ホスホ
ニルクロリド(VI)を得る。
一方、特開昭55−61937号公報で開示されている方法に
よって得られる2,2′−ジブロム−1,1′−ビナフチル
(VII)に金属マグネシウムを反応させグリニャール試
薬(VIII)とし、これに先に合成した化合物(VI)を反
応させて、2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスホリ
ル〕−1,1′−ビナフチル(IX)を合成する。ここで得
たラセミ体化合物(IX)を光学活性カラムを用いて分割
した後、トリクロロシランによって還元を行い、化合物
(I)の(+)−体又は(−)−体を得ることができ
る。
よって得られる2,2′−ジブロム−1,1′−ビナフチル
(VII)に金属マグネシウムを反応させグリニャール試
薬(VIII)とし、これに先に合成した化合物(VI)を反
応させて、2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスホリ
ル〕−1,1′−ビナフチル(IX)を合成する。ここで得
たラセミ体化合物(IX)を光学活性カラムを用いて分割
した後、トリクロロシランによって還元を行い、化合物
(I)の(+)−体又は(−)−体を得ることができ
る。
かくして得られる本発明化合物(I)は、例えばルテニ
ウムの如き遷移金属と錯体と形成する。具体的には例え
ばM.A.Bennett;“J.Chem.Soc.Dalton",p.233−241(197
4)の方法により調製した〔RuCl2(p−シメン)〕2を
相間移触媒(ヨウ化テトラメチルアンモニウム等)の存
在下、ヨウ化カリウムで処理して〔RuCl2(p−シメ
ン)〕2とした後、これに本発明化合物(I)(m−T
−BINAP)を反応せしめると[RuI(p−シメン)(m−
T−BINAP)]Iが得られる。このようにして得られた
錯体は、不斉合成反応、例えば、β−ケトエステル類の
不斉水素化反応等の触媒として用いると高い光学収率で
かつ高い光学純度の還元体を与える。また、三級ホスフ
ィン化合物である本発明化合物(I)の絶対配置の異な
る化合物、すなわち(+)−体又は(−)−体を選択
し、これを配位子とした錯体を用いることにより、不斉
合成反応において所望する絶対配置の目的物を得ること
ができる。
ウムの如き遷移金属と錯体と形成する。具体的には例え
ばM.A.Bennett;“J.Chem.Soc.Dalton",p.233−241(197
4)の方法により調製した〔RuCl2(p−シメン)〕2を
相間移触媒(ヨウ化テトラメチルアンモニウム等)の存
在下、ヨウ化カリウムで処理して〔RuCl2(p−シメ
ン)〕2とした後、これに本発明化合物(I)(m−T
−BINAP)を反応せしめると[RuI(p−シメン)(m−
T−BINAP)]Iが得られる。このようにして得られた
錯体は、不斉合成反応、例えば、β−ケトエステル類の
不斉水素化反応等の触媒として用いると高い光学収率で
かつ高い光学純度の還元体を与える。また、三級ホスフ
ィン化合物である本発明化合物(I)の絶対配置の異な
る化合物、すなわち(+)−体又は(−)−体を選択
し、これを配位子とした錯体を用いることにより、不斉
合成反応において所望する絶対配置の目的物を得ること
ができる。
次に、実施例及び試験例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
なお、以下の測定には次の機器を用いた。
融点:ミクロ融点測定装置(株式会社柳本製作所製) NMR:AM−400型装置(400MHz)(ブルッカー社製) 内部標準物質:1 H−NMR−テトラメチルシラン 外部標準物質:31 P−NMR−85%リン酸 旋光度:DIP−4型装置(日本分光工業株式会社製) 光学純度:高速液体クロマトグラフィー 日立液体クロマトグラフィー−L−6000(株式会社日立
製作所製) 検出器:UV検出器L−4000(株式会社日立製作所製) 実施例1 a)ジ−(m−トリル)ホスフィン酸(V)の製造: m−ブロムトルエン102.6g(0.6モル)を脱水したエー
テル250ml中で金属マグネシウム15.3g(0.64モル)と反
応させて、グリニャール試薬を調整した。これにN,N−
ジエチルアミドクロロホスフェート57g(0.3モル)を37
〜38℃で2時間かけて滴下した。更に、4.5時間加熱還
流して反応せしめた後、氷水400mlと飽和塩化アンモニ
ウム水溶液150mlを加え、塩を分解した。これを分解
後、エーテル層に、氷冷下濃塩酸400mlを加え、加熱し
てエーテルを留去し、更に濃塩酸100mlを追加して100〜
110℃で5時間反応せしめた。生成した油状物を水層か
ら分離した後、20%水酸化ナトリウム水溶液50mlを加え
均一溶液とした。不溶部をトルエン抽出によって除去
し、これに20%硫酸を加えて中和し、更に酸性とした
後、析出物をろ取、水洗、乾燥して、粗生成物を27g得
た。メタノールから再結晶を行い、精製して無色の固体
ジ−(m−トリル)ホスフィン酸25.4g(収率34%、m.
p.171.5℃)を得た。
製作所製) 検出器:UV検出器L−4000(株式会社日立製作所製) 実施例1 a)ジ−(m−トリル)ホスフィン酸(V)の製造: m−ブロムトルエン102.6g(0.6モル)を脱水したエー
テル250ml中で金属マグネシウム15.3g(0.64モル)と反
応させて、グリニャール試薬を調整した。これにN,N−
ジエチルアミドクロロホスフェート57g(0.3モル)を37
〜38℃で2時間かけて滴下した。更に、4.5時間加熱還
流して反応せしめた後、氷水400mlと飽和塩化アンモニ
ウム水溶液150mlを加え、塩を分解した。これを分解
後、エーテル層に、氷冷下濃塩酸400mlを加え、加熱し
てエーテルを留去し、更に濃塩酸100mlを追加して100〜
110℃で5時間反応せしめた。生成した油状物を水層か
ら分離した後、20%水酸化ナトリウム水溶液50mlを加え
均一溶液とした。不溶部をトルエン抽出によって除去
し、これに20%硫酸を加えて中和し、更に酸性とした
後、析出物をろ取、水洗、乾燥して、粗生成物を27g得
た。メタノールから再結晶を行い、精製して無色の固体
ジ−(m−トリル)ホスフィン酸25.4g(収率34%、m.
p.171.5℃)を得た。
b)ジ−(m−トリル)ホスホニルクロリド(VI)の製
造: ジ−(m−トリル)ホスフィン酸52.5g(0.214モル)を
ベンゼン200ml中に懸獨させ、これに45℃にて塩化チオ
ニル28g(0.235モル)を滴下した。このものを62℃まで
昇温し、2時間還流して反応せしめた。反応後、浴温60
℃にて減圧下過剰の塩化チオニルを除き、高真空下(0.
25mmHg)で蒸留してジ−(m−トリル)ホスホニクロリ
ド52.3g(収率92.5%)を得た。
造: ジ−(m−トリル)ホスフィン酸52.5g(0.214モル)を
ベンゼン200ml中に懸獨させ、これに45℃にて塩化チオ
ニル28g(0.235モル)を滴下した。このものを62℃まで
昇温し、2時間還流して反応せしめた。反応後、浴温60
℃にて減圧下過剰の塩化チオニルを除き、高真空下(0.
25mmHg)で蒸留してジ−(m−トリル)ホスホニクロリ
ド52.3g(収率92.5%)を得た。
c)2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスホリル〕−
1,1′−ビナフチル(IX)の製造: 2,2′−ジブロム−1,1′−ビナフチル55.1g(0,12モ
ル、純度90%)と金属マグネシウム6.33g(0.264モル)
をトルエン100ml及びテトラヒドロフラン100ml中で反応
させ、グリニャール試薬を調整した。このものにジ−
(m−トリル)ホスホリルクロリド66.9g(0.25モル)
のトルエン溶液(50ml)を加え45℃で反応せしめた後、
水200mlを加えてからジクロルエタン100mlで3回抽出し
た。分液後溶媒を留去し、続いて濃縮物をジクロルエ
タ:トルエン(7:3)混合液から再結晶を行い、第1次
晶58.5(m.p.311〜316℃)、第2次晶18.1g(m.p.310〜
315℃)、合計76.6g(収率89.8%)を得た。この二者を
混合して1H−NMRにて測定し表題化合物であることを確
認した。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.091(s,6H),2.198(s,6H),
6.89〜7.82(m,28H) d)2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスホリル〕−
1,1′−ビナフチル(IX)の光学分割: c)で得たラセミ体化合物1gを高速液体クロマトグラフ
ィー により分取し、鏡像体の一方を0.4g(収率80%)得た。
このものの光学純度は、高速液体クロマトグラフィー で検定した結果、99.89%eeであった。
1,1′−ビナフチル(IX)の製造: 2,2′−ジブロム−1,1′−ビナフチル55.1g(0,12モ
ル、純度90%)と金属マグネシウム6.33g(0.264モル)
をトルエン100ml及びテトラヒドロフラン100ml中で反応
させ、グリニャール試薬を調整した。このものにジ−
(m−トリル)ホスホリルクロリド66.9g(0.25モル)
のトルエン溶液(50ml)を加え45℃で反応せしめた後、
水200mlを加えてからジクロルエタン100mlで3回抽出し
た。分液後溶媒を留去し、続いて濃縮物をジクロルエ
タ:トルエン(7:3)混合液から再結晶を行い、第1次
晶58.5(m.p.311〜316℃)、第2次晶18.1g(m.p.310〜
315℃)、合計76.6g(収率89.8%)を得た。この二者を
混合して1H−NMRにて測定し表題化合物であることを確
認した。1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.091(s,6H),2.198(s,6H),
6.89〜7.82(m,28H) d)2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスホリル〕−
1,1′−ビナフチル(IX)の光学分割: c)で得たラセミ体化合物1gを高速液体クロマトグラフ
ィー により分取し、鏡像体の一方を0.4g(収率80%)得た。
このものの光学純度は、高速液体クロマトグラフィー で検定した結果、99.89%eeであった。
e)(+)−2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスフ
ィノ〕−1,1′−ビナフチル(I)の製造: d)で得た光学活性な化合物(IX)0.4g(0.56ミリモ
ル)にキシレン20ml及びトリエチルアミン1.13g(11.2
ミリモル)を加え、撹拌溶解後、トリクロロシラン1.51
g(11.2ミリモル)を20〜30分間かけて滴下した。100℃
で1時間、120℃で1時間、更に140℃で1時間反応させ
た後、室温まで冷却して30%水酸化ナトリウム溶液5ml
を加えた。50〜60℃で30分間撹拌した後分液し、キシレ
ン層を濃縮して、残渣に、脱気したメタノールを加え再
結晶を行い、(+)−2,2′−ビス〔ジ−(m−トリ
ル)ホスフィノ〕−1,1′−ビナフチル0.349g(収率92
%)を得た。
ィノ〕−1,1′−ビナフチル(I)の製造: d)で得た光学活性な化合物(IX)0.4g(0.56ミリモ
ル)にキシレン20ml及びトリエチルアミン1.13g(11.2
ミリモル)を加え、撹拌溶解後、トリクロロシラン1.51
g(11.2ミリモル)を20〜30分間かけて滴下した。100℃
で1時間、120℃で1時間、更に140℃で1時間反応させ
た後、室温まで冷却して30%水酸化ナトリウム溶液5ml
を加えた。50〜60℃で30分間撹拌した後分液し、キシレ
ン層を濃縮して、残渣に、脱気したメタノールを加え再
結晶を行い、(+)−2,2′−ビス〔ジ−(m−トリ
ル)ホスフィノ〕−1,1′−ビナフチル0.349g(収率92
%)を得た。
m.p.:179〜182℃ ▲〔α〕25 D▼:+234.1゜(C=1.0,ベンゼン)1 H−NMR(CDCl3)δppm: 2.10(s,6H),2.129(s,6H),6.79〜7.87(m,28H) f)(−)−2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスフ
ィノ〕−1,1′−ビナフチルの製造: d)で得たもう一方の光学異性体(IX)0.31g(0.437ミ
リモル)をe)と同様に処理し、(−)−2,2′−ビス
〔ジ−(m−トリル)ホスフィノ〕−1,1′−ビナフチ
ル0.267g(収率90%)を得た。
ィノ〕−1,1′−ビナフチルの製造: d)で得たもう一方の光学異性体(IX)0.31g(0.437ミ
リモル)をe)と同様に処理し、(−)−2,2′−ビス
〔ジ−(m−トリル)ホスフィノ〕−1,1′−ビナフチ
ル0.267g(収率90%)を得た。
m.p.:150〜182℃ ▲〔α〕25 D▼:−232.4゜(C=1.0,ベンゼン) 試験例 本発明化合物(I)を用いて下記の方法により錯体を製
造し、これを触媒として試験例1にて不斉水素化を行な
った。なお他の触媒を用いて不斉水素化を行なったもの
を比較例1〜2として示す。
造し、これを触媒として試験例1にて不斉水素化を行な
った。なお他の触媒を用いて不斉水素化を行なったもの
を比較例1〜2として示す。
[RuI(p−シメン)(m−T−BINAP)]Iの製造: [RuCl2(p−シメン)]22g(3.27ミリモル)、ヨウ化
カリウム1.8g(10.84ミリモル)及びヨウ化テトラメチ
ルアンモニウム0.07g(0.35ミリモル)を水50ml及び塩
化メチレン50mlの混合溶媒に溶解し、室温で4時間撹拌
した。次いでこれを分液し、水層を除いた後、水50mlで
1回洗浄し、続いて減圧下(20mmHg)において塩化メチ
レンを留去した。残渣を室温、高真空下(0.2mmHg)で
乾燥して赤褐色の錯体[RuI2(p−シメン)]23.03g
(収率95%)を得た。1 H−NMR(CD2Cl3)δppm: 1.25(d,6H,J=6.93Hz) 2.35(s,3H), 3.00(d−t,1H,J=6.93Hz) 5.42(d,2H,J=5.96Hz) 5.52(d,2H,J=5.96Hz) この錯体0.248g(0.264ミリモル)と(+)−m−T−B
INAP0.358g(0.528ミリモル)をエタノール45ml及び塩
化メチレン23mlの混合溶媒に溶かし、50℃で1時間反応
せしめた。反応液を濃縮乾固して標題の錯体0.613gを定
量的に得た。
カリウム1.8g(10.84ミリモル)及びヨウ化テトラメチ
ルアンモニウム0.07g(0.35ミリモル)を水50ml及び塩
化メチレン50mlの混合溶媒に溶解し、室温で4時間撹拌
した。次いでこれを分液し、水層を除いた後、水50mlで
1回洗浄し、続いて減圧下(20mmHg)において塩化メチ
レンを留去した。残渣を室温、高真空下(0.2mmHg)で
乾燥して赤褐色の錯体[RuI2(p−シメン)]23.03g
(収率95%)を得た。1 H−NMR(CD2Cl3)δppm: 1.25(d,6H,J=6.93Hz) 2.35(s,3H), 3.00(d−t,1H,J=6.93Hz) 5.42(d,2H,J=5.96Hz) 5.52(d,2H,J=5.96Hz) この錯体0.248g(0.264ミリモル)と(+)−m−T−B
INAP0.358g(0.528ミリモル)をエタノール45ml及び塩
化メチレン23mlの混合溶媒に溶かし、50℃で1時間反応
せしめた。反応液を濃縮乾固して標題の錯体0.613gを定
量的に得た。
元素分析値:C58H54P2Ru C H 理論値(%) 59.64 4.63 実測値(%) 59.95 4.7431 P−NMR(CD2Cl3)δppm: 23.46(d,J=59.7Hz), 39.28(d,J=59.7Hz) 試験例1 2−ベンズアミドメチル−3−オキソブタン酸メチルエ
ステルの不斉水素化反応: あらかじめ窒素置換を行った200mlのステンレス製オー
トクレーブに、2−ベンズアミドメチル−3−オキソブ
タン酸メチルエステル15g(0.006モル)、メタノール75
ml及び〔RuI(p−シメン)((−)−m−T−BINA
P)〕I70mg(0.06ミリモル)を仕込み、水素圧50kg/c
m2、50℃の条件で20時間水素化反応を行い、反応後溶媒
を留去して15.1gの水素化物を得た。生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:イソプロパノ
ール=85:15)で分離分割した後、1H−NMRスペクトルに
より構造を確認したところ、ジアステレオマー2成分
(A成分及びB成分)が生成していた。1 H−NMR(CDCl3)δppm: A成分;1.26(d,3H,J=6.25Hz)2.60〜2.64(m,1H),3.
57〜3.62(m,1H),4.00〜4.03(m,1H),3.73(s,3H),
4.08〜4.14(m,1H),7.27(br,s,1H),7.41〜7.45(m,2
H),7.49〜7.53(m,1H),7.77〜7.80(m,1H) B成分;1.30(d,3H,J=6.28Hz),2.84〜2.86(m,1H),
3.74(s,3H),3.71〜3.77(m,1H),3.85〜3.91(m,1
H),4.09〜4.14(m,1H),6.92(br,s,1H),7.40〜7.44
(m,2H),7.48〜7.50(m,1H),7.74〜7.76(m,1H) 転化率並びにジアステレオマー2成分の生成比は高速液
体クロマトグラフィー により分析した。結果は転化率94%、ジアステレオマー
比A/B=83.5/16.5であった。
ステルの不斉水素化反応: あらかじめ窒素置換を行った200mlのステンレス製オー
トクレーブに、2−ベンズアミドメチル−3−オキソブ
タン酸メチルエステル15g(0.006モル)、メタノール75
ml及び〔RuI(p−シメン)((−)−m−T−BINA
P)〕I70mg(0.06ミリモル)を仕込み、水素圧50kg/c
m2、50℃の条件で20時間水素化反応を行い、反応後溶媒
を留去して15.1gの水素化物を得た。生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:イソプロパノ
ール=85:15)で分離分割した後、1H−NMRスペクトルに
より構造を確認したところ、ジアステレオマー2成分
(A成分及びB成分)が生成していた。1 H−NMR(CDCl3)δppm: A成分;1.26(d,3H,J=6.25Hz)2.60〜2.64(m,1H),3.
57〜3.62(m,1H),4.00〜4.03(m,1H),3.73(s,3H),
4.08〜4.14(m,1H),7.27(br,s,1H),7.41〜7.45(m,2
H),7.49〜7.53(m,1H),7.77〜7.80(m,1H) B成分;1.30(d,3H,J=6.28Hz),2.84〜2.86(m,1H),
3.74(s,3H),3.71〜3.77(m,1H),3.85〜3.91(m,1
H),4.09〜4.14(m,1H),6.92(br,s,1H),7.40〜7.44
(m,2H),7.48〜7.50(m,1H),7.74〜7.76(m,1H) 転化率並びにジアステレオマー2成分の生成比は高速液
体クロマトグラフィー により分析した。結果は転化率94%、ジアステレオマー
比A/B=83.5/16.5であった。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)で単離した各成分をメトキシト
リフロロメチルフェニル酢酸エステルに誘導した後、高
速液体クロマトグラフィー により分析した結果、A成分は光学純度95%ee、B成分
の光学純度は92%eeであった。
ン:酢酸エチル=1:1)で単離した各成分をメトキシト
リフロロメチルフェニル酢酸エステルに誘導した後、高
速液体クロマトグラフィー により分析した結果、A成分は光学純度95%ee、B成分
の光学純度は92%eeであった。
比較例1 あらかじめ窒素置換を行った200mlのオートクレーブに
2−ベンズアミドメチル−3−オキソブタン酸メチルエ
ステル15g(0.06モル)、メタノール75ml及びRu2Cl
4((−)−BINAP)2(C2H5)3N50.6mg(0.03ミリモ
ル)を仕込み、水素圧50kg/cm2、50℃の条件で20時間水
素化反応を行った。
2−ベンズアミドメチル−3−オキソブタン酸メチルエ
ステル15g(0.06モル)、メタノール75ml及びRu2Cl
4((−)−BINAP)2(C2H5)3N50.6mg(0.03ミリモ
ル)を仕込み、水素圧50kg/cm2、50℃の条件で20時間水
素化反応を行った。
試験例1と同様な方法で、転化率並びにジアステレオマ
ー比及び光学純度を測定した結果、転化率80%、ジアス
テレオマー比A/B=53/47、A成分の光学純度94%ee、B
成分の光学純度93.5%eeであった。
ー比及び光学純度を測定した結果、転化率80%、ジアス
テレオマー比A/B=53/47、A成分の光学純度94%ee、B
成分の光学純度93.5%eeであった。
比較例2 あらかじめ窒素置換を行った200mlのオートクレーブに
2−ベンズアミドメチル−3−オキソブタン酸メチルエ
ステル15g(0.06モル)、メタノール75ml及びRu2Cl
4((−)−p−T−BINAP)2(C2H5)3N54mg(0.03ミ
リモル)を仕込み、水素圧50kg/cm2、50℃の条件で20時
間水素化反応を行った。
2−ベンズアミドメチル−3−オキソブタン酸メチルエ
ステル15g(0.06モル)、メタノール75ml及びRu2Cl
4((−)−p−T−BINAP)2(C2H5)3N54mg(0.03ミ
リモル)を仕込み、水素圧50kg/cm2、50℃の条件で20時
間水素化反応を行った。
試験例1と同様な方法で転化率並びにジアステレオマー
比及び光学純度を測定した結果、転化率65%、ジアステ
レオマー比A/B=65/35、A成分の光学純度94%ee、B成
分の光学純度93.8%eeであった。
比及び光学純度を測定した結果、転化率65%、ジアステ
レオマー比A/B=65/35、A成分の光学純度94%ee、B成
分の光学純度93.8%eeであった。
本発明の新規ホスフィン化合物は、ルテニウム、ロジウ
ム、パラジウム等の金属と錯体を形成し、種々の不斉合
成反応の触媒として極めて重要であり、工業的に優れた
ものである。
ム、パラジウム等の金属と錯体を形成し、種々の不斉合
成反応の触媒として極めて重要であり、工業的に優れた
ものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07F 15/00 B 9155−4H C 9155−4H
Claims (1)
- 【請求項1】次式(I) で表わされる2,2′−ビス〔ジ−(m−トリル)ホスフ
ィノ〕−1,1′−ビナフチル。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1154277A JPH0733392B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル |
| DE69014724T DE69014724T2 (de) | 1989-06-16 | 1990-06-08 | Verbindung des 2,2-bis(Diphenylphosphino)-1,1-binaphtyl und katalytische Komplexe davon. |
| EP90306299A EP0403188B1 (en) | 1989-06-16 | 1990-06-08 | A compound of 2,2'-bis(diphenylphosphino)-1,1'-binaphthyl and catalytic complexes thereof |
| US07/538,805 US5012002A (en) | 1989-06-16 | 1990-06-15 | 2,2'-bis(di-(m-tolyl)phosphino)-1,1'-binaphthyl |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1154277A JPH0733392B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320290A JPH0320290A (ja) | 1991-01-29 |
| JPH0733392B2 true JPH0733392B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=15580644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1154277A Expired - Fee Related JPH0733392B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5012002A (ja) |
| EP (1) | EP0403188B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0733392B2 (ja) |
| DE (1) | DE69014724T2 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5198561A (en) * | 1989-06-22 | 1993-03-30 | Monsanto Company | Ruthenium-BINAP asymmetric hydrogenation catalyst |
| JPH0768260B2 (ja) * | 1990-03-01 | 1995-07-26 | 高砂香料工業株式会社 | 2,2’―ビス〔ジ―(3,5―ジアルキルフェニル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 |
| JP2894525B2 (ja) * | 1990-12-20 | 1999-05-24 | 住友製薬株式会社 | 結晶性テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びその製造法 |
| DE4128787A1 (de) * | 1991-08-30 | 1993-03-04 | Bayer Ag | Neue zwischenprodukte und ihre verwendung bei der herstellung von s-ketoprofen |
| JP2850068B2 (ja) * | 1991-10-22 | 1999-01-27 | 高砂香料工業株式会社 | ルテニウム−ホスフィン錯体及びこれを触媒とする光学活性1−置換−1,3−プロパンジオールの製造方法 |
| JP2736947B2 (ja) * | 1991-11-21 | 1998-04-08 | 高砂香料工業株式会社 | 水溶性なスルホン酸アルカリ金属塩置換ビナフチルホスフイン遷移金属錯体及びこれを用いた不斉水素化法 |
| JP3310056B2 (ja) * | 1992-07-16 | 2002-07-29 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性4−メチル−2−オキセタノンの製造方法 |
| US5412109A (en) * | 1992-07-16 | 1995-05-02 | Takasago International Corporation | Process for preparing optically active 4-methyl-2-oxetanone |
| DK0647648T3 (da) * | 1993-10-08 | 1999-09-27 | Hoffmann La Roche | Optisk aktive phosphorforbindelser |
| DE4433294A1 (de) * | 1993-11-13 | 1995-05-18 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Bis-(diaryl-alkyl)-phoshinen und neue Verbindungen aus dieser Stoffgruppe |
| US5736480A (en) * | 1994-02-22 | 1998-04-07 | California Institute Of Technology | Supported phase chiral sulfonated BINAP catalyst solubilized in alcohol and method of asymmetric hydrogenation |
| US5935892A (en) * | 1994-02-22 | 1999-08-10 | California Institute Of Technology | Supported phase catalyst |
| ES2158147T3 (es) * | 1994-12-28 | 2001-09-01 | Rhodia Chimie Sa | Difosfinas opticamente activas, y su preparacion por desdoblamiento de mezclas racemicas. |
| JP3526956B2 (ja) * | 1995-03-13 | 2004-05-17 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性ポリケトンの製造方法 |
| JP3789508B2 (ja) * | 1995-03-14 | 2006-06-28 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性非対称ジホスフィン及び該化合物の存在下にて光学活性体を得る方法 |
| ATE186718T1 (de) * | 1995-06-21 | 1999-12-15 | Rolic Ag | Herstellung von chiralen alpha- halogencarbonsäuren |
| JP3770639B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2006-04-26 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性ジホスフィンの製造方法 |
| JP3441605B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2003-09-02 | 高砂香料工業株式会社 | 新規光学活性ジホスフィン及び該化合物より得られる遷移金属錯体及び該錯体の存在下にて光学活性体を得る方法 |
| US6307087B1 (en) | 1998-07-10 | 2001-10-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Ligands for metals and improved metal-catalyzed processes based thereon |
| US7223879B2 (en) * | 1998-07-10 | 2007-05-29 | Massachusetts Institute Of Technology | Ligands for metals and improved metal-catalyzed processes based thereon |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60199898A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-09 | Takasago Corp | ロジウム−ホスフイン錯体 |
| JPS6163690A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-01 | Takasago Corp | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
| JPS62265293A (ja) * | 1986-05-13 | 1987-11-18 | Takasago Corp | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
| JPS6341487A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-22 | Takasago Corp | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
| US4879008A (en) * | 1987-11-09 | 1989-11-07 | Eastman Kodak Company | Preparation of bidentate ligands |
| US4879416A (en) * | 1987-11-23 | 1989-11-07 | Eastman Kodak Company | Preparation of bidentate ligands |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1154277A patent/JPH0733392B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-06-08 EP EP90306299A patent/EP0403188B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-08 DE DE69014724T patent/DE69014724T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-15 US US07/538,805 patent/US5012002A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0320290A (ja) | 1991-01-29 |
| EP0403188A3 (en) | 1991-08-28 |
| DE69014724D1 (de) | 1995-01-19 |
| DE69014724T2 (de) | 1995-07-06 |
| EP0403188B1 (en) | 1994-12-07 |
| US5012002A (en) | 1991-04-30 |
| EP0403188A2 (en) | 1990-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0733392B2 (ja) | 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル | |
| JP3148136B2 (ja) | 新規なキラルジホスフィン化合物、その製造中間体、該ジホス フィン化合物を配位子とする遷移金属錯体並びに該錯体を含む 不斉水素化触媒 | |
| US5386061A (en) | Chiral phospholanes via chiral 1, 4-diol cyclic sulfates | |
| US6653485B2 (en) | Ortho substituted chiral phosphines and phosphinites and their use in asymmetric catalytic reactions | |
| EP0271311B1 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| JP2681057B2 (ja) | 2,2’―ビス(ジフェニルホスフィノ)―5,5’,6,6’,7,7’,8,8’―オクタヒドロ―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 | |
| US5801261A (en) | Bisphosphines as catalysts for asymmetric reactions | |
| JP2003507443A (ja) | キラル配位子、その遷移金属錯体および不斉反応におけるその使用 | |
| US5457219A (en) | Phosphorus compounds | |
| JP2733880B2 (ja) | 光学活性三級ホスフィン化合物およびこれを配位子とする遷移金属錯体 | |
| EP0271310B1 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| JPH06263776A (ja) | ホスフィン化合物およびこれを配位子とする遷移金属−ホスフィン錯体 | |
| JPH0768260B2 (ja) | 2,2’―ビス〔ジ―(3,5―ジアルキルフェニル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 | |
| EP0466405B1 (en) | 2,2'-Bis(dicyclopenthylphosphino)-1-1'-binaphthyl and metal complexes thereof | |
| US5563295A (en) | Process for producing optically active carboxylic acid | |
| US6075154A (en) | Method of preparation of 2,2'-bis(diarylphosphino)-6,6'-bis(trifluoromethyl)-1,1'-biphenyl, transition metal complex using it as ligand, and optically active 3-hydroxybutanoic acid ester derivative or β-butyrolactone | |
| US5919962A (en) | Process for preparing ruthenium-phosphine complex | |
| EP0732337B1 (en) | Optically active asymmetric diphosphine and process for producing optically active substance in its presence | |
| JP2850068B2 (ja) | ルテニウム−ホスフィン錯体及びこれを触媒とする光学活性1−置換−1,3−プロパンジオールの製造方法 | |
| US7009065B2 (en) | Ferrocenyl ligands and the use thereof in catalysis | |
| US4906773A (en) | Process for preparing optically active threonine | |
| JPH09294932A (ja) | ルテニウム−ホスフィン錯体 | |
| CN114096547A (zh) | 光学活性双膦基甲烷、其制造方法以及过渡金属络合物和不对称催化剂 | |
| JPH10120670A (ja) | 光学活性パントラクトンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |