JPH0733407A - オゾン発生装置 - Google Patents
オゾン発生装置Info
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- JPH0733407A JPH0733407A JP20267193A JP20267193A JPH0733407A JP H0733407 A JPH0733407 A JP H0733407A JP 20267193 A JP20267193 A JP 20267193A JP 20267193 A JP20267193 A JP 20267193A JP H0733407 A JPH0733407 A JP H0733407A
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- Japan
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- airflow
- air flow
- air
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 8
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Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、空気放電によるオゾン発生装置の提
供を目的とするものである。 【構成】本発明は、空気流を生じさせる空気流発生手段
と、空気流の流路に臨む位置にあって当該空気流への抵
抗により乱流を派生させる乱流発生手段と、放電により
オゾンを生成させる放電手段とから成り、当該放電手段
を上記乱流発生手段による乱流に接する位置に、当該放
電手段を配置したことを特徴とする。 【発明の効果】本発明によれば、放電手段に向けての空
気流による単位時間当りの酸素供給量が増大すると共
に、乱流による放電手段への酸素の接触機会が増大し
て、空気の静止状態下で生成に比べ、オゾンの発生率が
向上する。
供を目的とするものである。 【構成】本発明は、空気流を生じさせる空気流発生手段
と、空気流の流路に臨む位置にあって当該空気流への抵
抗により乱流を派生させる乱流発生手段と、放電により
オゾンを生成させる放電手段とから成り、当該放電手段
を上記乱流発生手段による乱流に接する位置に、当該放
電手段を配置したことを特徴とする。 【発明の効果】本発明によれば、放電手段に向けての空
気流による単位時間当りの酸素供給量が増大すると共
に、乱流による放電手段への酸素の接触機会が増大し
て、空気の静止状態下で生成に比べ、オゾンの発生率が
向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、空気放電によりオゾン
を生成させるオゾン発生装置に関するものである。
を生成させるオゾン発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術とその問題点】従来、この種の装置では、オ
ゾン発生器を大気中に単純において発生させていた。本
発明は、空気からのオゾン発生効率を高めることを目的
とするしたものである。
ゾン発生器を大気中に単純において発生させていた。本
発明は、空気からのオゾン発生効率を高めることを目的
とするしたものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】第１の発明は、空気流を
生じさせる空気流発生手段と、空気流の流路に臨む位置
にあって当該空気流への抵抗により乱流を派生させる乱
流発生手段と、放電によりオゾンを生成させる放電手段
とから成り、当該放電手段を上記乱流発生手段による乱
流に接する位置に、当該放電手段を配置したことを特徴
とするものである。第２の発明は、一方に空気が取込ま
れる取込口を他方に生成されたオゾンを含む空気が回収
される回収口とを備えて一方から他方へ向かう空気流を
生じさせる気流槽と、当該気流槽内にあって、上記空気
流の流路に臨み下流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせ
る複数の気流抵抗部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に
面する位置にあって上記空気流に対してその下流側が負
圧と成るよう基板面を傾斜させて配した基板型放電手段
とから成ることを特徴とするものである。第３の発明
は、一方に空気が取込まれる取込口を他方に生成された
オゾンを含む空気が回収される回収口とを備えて一方か
ら他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽と、当該気流
槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下流側に渦巻状
の乱流を無数に生じさせる気流抵抗部と、当該気流抵抗
部の乱流発生領域に面する位置にあって上記空気流に対
してその下流側が負圧と成るよう基板面を傾斜させて配
した基板型放電手段とから成り、上記基板型放電手段が
配された気流抵抗部を、空気流の上流側から下流側に向
けて多数列設して、空気流に沿って渦巻状の乱流が連続
的に生ずるよう構成したことを特徴とするものである。
第４の発明は、一方に空気が取込まれる取込口を他方に
生成されたオゾンを含む空気が回収される回収口とを備
えて一方から他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽
と、当該気流槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下
流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせる複数の気流抵抗
部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置にあっ
て上記空気流に対してその下流側が負圧と成るよう基板
面を傾斜させて配した基板型放電手段とから成り、上記
気流抵抗部は外界に通ずる空洞部を有し、上記基板型放
電手段はその基板が当該空洞部と気流槽とを画す隔壁と
して配され、当該基板の裏面の空洞部側には基板裏面の
結露を予防するヒ−タを設けたことを特徴とするもので
ある。
生じさせる空気流発生手段と、空気流の流路に臨む位置
にあって当該空気流への抵抗により乱流を派生させる乱
流発生手段と、放電によりオゾンを生成させる放電手段
とから成り、当該放電手段を上記乱流発生手段による乱
流に接する位置に、当該放電手段を配置したことを特徴
とするものである。第２の発明は、一方に空気が取込ま
れる取込口を他方に生成されたオゾンを含む空気が回収
される回収口とを備えて一方から他方へ向かう空気流を
生じさせる気流槽と、当該気流槽内にあって、上記空気
流の流路に臨み下流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせ
る複数の気流抵抗部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に
面する位置にあって上記空気流に対してその下流側が負
圧と成るよう基板面を傾斜させて配した基板型放電手段
とから成ることを特徴とするものである。第３の発明
は、一方に空気が取込まれる取込口を他方に生成された
オゾンを含む空気が回収される回収口とを備えて一方か
ら他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽と、当該気流
槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下流側に渦巻状
の乱流を無数に生じさせる気流抵抗部と、当該気流抵抗
部の乱流発生領域に面する位置にあって上記空気流に対
してその下流側が負圧と成るよう基板面を傾斜させて配
した基板型放電手段とから成り、上記基板型放電手段が
配された気流抵抗部を、空気流の上流側から下流側に向
けて多数列設して、空気流に沿って渦巻状の乱流が連続
的に生ずるよう構成したことを特徴とするものである。
第４の発明は、一方に空気が取込まれる取込口を他方に
生成されたオゾンを含む空気が回収される回収口とを備
えて一方から他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽
と、当該気流槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下
流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせる複数の気流抵抗
部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置にあっ
て上記空気流に対してその下流側が負圧と成るよう基板
面を傾斜させて配した基板型放電手段とから成り、上記
気流抵抗部は外界に通ずる空洞部を有し、上記基板型放
電手段はその基板が当該空洞部と気流槽とを画す隔壁と
して配され、当該基板の裏面の空洞部側には基板裏面の
結露を予防するヒ−タを設けたことを特徴とするもので
ある。
【０００４】
【発明の作用】第１の発明では、放電手段に向けての空
気流による単位時間当りの酸素供給量が増大され、乱流
による放電手段への酸素の接触機会も増大する。第２の
発明では、外界と画された空気槽内に於て、渦巻状の乱
流が下流に向けて下り傾斜に配された放電手段の基板面
に衝突するように密接しながら流れる。第３の発明で
は、外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の流下方
向に列設された各放電手段毎に渦巻状の乱流が連続的に
派生して行く。第４の発明では、外界と隠された空気槽
内に於いて、空気流の流下方向に列設された各放電手段
の基板の裏面側の空洞内に配設されたヒ−タによって、
基板裏面での結露の発生が防止される。
気流による単位時間当りの酸素供給量が増大され、乱流
による放電手段への酸素の接触機会も増大する。第２の
発明では、外界と画された空気槽内に於て、渦巻状の乱
流が下流に向けて下り傾斜に配された放電手段の基板面
に衝突するように密接しながら流れる。第３の発明で
は、外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の流下方
向に列設された各放電手段毎に渦巻状の乱流が連続的に
派生して行く。第４の発明では、外界と隠された空気槽
内に於いて、空気流の流下方向に列設された各放電手段
の基板の裏面側の空洞内に配設されたヒ−タによって、
基板裏面での結露の発生が防止される。
【０００５】
【実施例】以下、本発明を実施例の一例を示す図面に基
づいて説明する。図１は本装置の縦断面図である。図中
の符号１０は、空気流を生じさせる空気流発生手段とし
ての気流槽１０である。この気流槽１０の一方側には、
空気を取込む取込口１１が、又、他方には気流槽１０内
で生成されたオゾンを含む空気を回収するための回収口
１２が設けてあって、槽１０は横長の箱体状に形成して
ある。空気流は一方の取込口１１から他方の回収口１２
へと向けて流される。空気流の発生方法は、取込口１１
側からの適当な送風手段による吹込みでもよいし、回収
口１２側からの適当な吸引手段による吸い込みによる手
段の何れでもよい。
づいて説明する。図１は本装置の縦断面図である。図中
の符号１０は、空気流を生じさせる空気流発生手段とし
ての気流槽１０である。この気流槽１０の一方側には、
空気を取込む取込口１１が、又、他方には気流槽１０内
で生成されたオゾンを含む空気を回収するための回収口
１２が設けてあって、槽１０は横長の箱体状に形成して
ある。空気流は一方の取込口１１から他方の回収口１２
へと向けて流される。空気流の発生方法は、取込口１１
側からの適当な送風手段による吹込みでもよいし、回収
口１２側からの適当な吸引手段による吸い込みによる手
段の何れでもよい。
【０００６】図中の符号２０は、上述の空気流の流路に
臨む位置にあって、この空気流への抵抗により乱流を派
生させる乱流発生手段である。実施例の乱流発生手段２
０は、槽内を通過する空気流の流路にその下方から臨む
ように、気流槽１０内の底面から壁状に起立させた気流
抵抗部として形成してある。底面からの気流抵抗部の起
立によって当該気流低後部の背後側には無数の渦流が生
じる乱流発生領域が形成される。実施例では、この乱流
領域の形成がより確実となるように、気流抵抗部２０の
先端に、図４からも良く分かるように、空気流の上流側
に向けて下り傾斜の斜面２１に形成してある。この傾斜
面２１の形成により、空気流の背後への流れが速くなっ
て、背後で渦巻状の乱流が一層生じ易くなる。これは、
気流抵抗部２０の背後側に負圧領域が大きく形成される
からである。
臨む位置にあって、この空気流への抵抗により乱流を派
生させる乱流発生手段である。実施例の乱流発生手段２
０は、槽内を通過する空気流の流路にその下方から臨む
ように、気流槽１０内の底面から壁状に起立させた気流
抵抗部として形成してある。底面からの気流抵抗部の起
立によって当該気流低後部の背後側には無数の渦流が生
じる乱流発生領域が形成される。実施例では、この乱流
領域の形成がより確実となるように、気流抵抗部２０の
先端に、図４からも良く分かるように、空気流の上流側
に向けて下り傾斜の斜面２１に形成してある。この傾斜
面２１の形成により、空気流の背後への流れが速くなっ
て、背後で渦巻状の乱流が一層生じ易くなる。これは、
気流抵抗部２０の背後側に負圧領域が大きく形成される
からである。
【０００７】図２乃至図４に於いて、実施例の乱流発生
手段としての気流抵抗部２０は、気流槽１０の外界に通
ずる空洞部２２を有している。即ち、図示されているよ
うに気流抵抗部２０は、その断面が略凹状に形成されて
いるもので、空気流の流路方向に対して直交するように
気流槽１０の底面に形成されている。凹状の前後の壁
は、前方即ち気流の上流側が高く、下流側がそれより低
い。
手段としての気流抵抗部２０は、気流槽１０の外界に通
ずる空洞部２２を有している。即ち、図示されているよ
うに気流抵抗部２０は、その断面が略凹状に形成されて
いるもので、空気流の流路方向に対して直交するように
気流槽１０の底面に形成されている。凹状の前後の壁
は、前方即ち気流の上流側が高く、下流側がそれより低
い。
【０００８】そして、この凹状の気流抵抗部２０の上方
は、凹状の上方開放領域を塞ぐ屋根のように基板型に形
成された放電手段３０で覆われている。実施例に示す放
電手段３０は、無数の微細な孔を有する多孔質のセラミ
ックを板状に成型した基板に電極を配設した構成のもの
である。この基板型放電手段３０は、その基板が空洞部
２２と気流槽１０とを画す隔壁として機能している。気
流槽１０と隔てられた空洞部２２は、主として、放電手
段３０への給電線の配線ラインとして機能させている
が、この空洞部２２に外気圧を掛けてセラミック基板を
通じて気流槽１０内へオゾンを供給するル−トとして利
用することも可能である。
は、凹状の上方開放領域を塞ぐ屋根のように基板型に形
成された放電手段３０で覆われている。実施例に示す放
電手段３０は、無数の微細な孔を有する多孔質のセラミ
ックを板状に成型した基板に電極を配設した構成のもの
である。この基板型放電手段３０は、その基板が空洞部
２２と気流槽１０とを画す隔壁として機能している。気
流槽１０と隔てられた空洞部２２は、主として、放電手
段３０への給電線の配線ラインとして機能させている
が、この空洞部２２に外気圧を掛けてセラミック基板を
通じて気流槽１０内へオゾンを供給するル−トとして利
用することも可能である。
【０００９】放電手段３０の基板の裏面に当たる空洞部
側には、当該基板裏面での結露を予防するため、発熱作
用の在る適当な電気部品をヒ−タ３１として配設してい
る。これは、放電手段３０が多孔質のセラミック基板型
である場合、基板裏面に結露を生じてしまうと、多孔質
を通じての通気性、即ち、酸素の出入り阻害されて、放
電による酸素のオゾンへの変化効率が低下するのを防ぐ
ためである。
側には、当該基板裏面での結露を予防するため、発熱作
用の在る適当な電気部品をヒ−タ３１として配設してい
る。これは、放電手段３０が多孔質のセラミック基板型
である場合、基板裏面に結露を生じてしまうと、多孔質
を通じての通気性、即ち、酸素の出入り阻害されて、放
電による酸素のオゾンへの変化効率が低下するのを防ぐ
ためである。
【００１０】再び図１に於いて、基板型放電手段３０
は、気流抵抗部２０の前後の高さが異なる壁に掛け渡し
てあるので、気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置に
あって空気流に対してその下流側が負圧と成るよう当該
基板面が傾斜した状態となっている。そして、実施例で
は、この様に基板型放電手段３０が下り傾斜に配設され
た気流抵抗部２０が、空気流の上流側から下流側に向け
て多数列設されている。このため、空気槽１０内では空
気流に沿って渦巻状の乱流が連続的に生成して行く。
は、気流抵抗部２０の前後の高さが異なる壁に掛け渡し
てあるので、気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置に
あって空気流に対してその下流側が負圧と成るよう当該
基板面が傾斜した状態となっている。そして、実施例で
は、この様に基板型放電手段３０が下り傾斜に配設され
た気流抵抗部２０が、空気流の上流側から下流側に向け
て多数列設されている。このため、空気槽１０内では空
気流に沿って渦巻状の乱流が連続的に生成して行く。
【００１１】この様に、空気抵抗部２０を多数列設する
ことにより、渦巻状の乱流を連続的に生成させ、各所の
乱流発生領域に放電手段３０を配設することによって、
通常の大気即ち空気から極めて効率的にオゾンを生成す
ることができる。
ことにより、渦巻状の乱流を連続的に生成させ、各所の
乱流発生領域に放電手段３０を配設することによって、
通常の大気即ち空気から極めて効率的にオゾンを生成す
ることができる。
【００１２】尚、図３の符号３３は、空気槽１０の両側
に設けた側溝であって、放電手段３０やヒ−タ３１への
給電線の配線ル−トである。
に設けた側溝であって、放電手段３０やヒ−タ３１への
給電線の配線ル−トである。
【００１３】
【発明の効果】第１の発明によれば、放電手段に向けて
の空気流による単位時間当りの酸素供給量が増大すると
共に、乱流による放電手段への酸素の接触機会が増大し
て、空気の静止状態下で生成に比べ、オゾンの発生率が
向上する。第２の発明によれば、外界と画された空気槽
内に於て、渦巻状の乱流が下流に向けて下り傾斜に配さ
れた放電手段の基板面に衝突するように密接して来るた
め、オゾンの発生率が向上する。第３の発明によれば、
外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の流下方向に
列設された各放電手段毎に渦巻状の乱流が連続的に派生
していくため、オゾンの発生率が向上する。第４の発明
によれば、外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の
流下方向に列設された各放電手段の基板の裏面側の空洞
内にヒ−タを配設してあるので、基板裏面での結露の発
生による放電手段の能力低下を阻止することができる。
の空気流による単位時間当りの酸素供給量が増大すると
共に、乱流による放電手段への酸素の接触機会が増大し
て、空気の静止状態下で生成に比べ、オゾンの発生率が
向上する。第２の発明によれば、外界と画された空気槽
内に於て、渦巻状の乱流が下流に向けて下り傾斜に配さ
れた放電手段の基板面に衝突するように密接して来るた
め、オゾンの発生率が向上する。第３の発明によれば、
外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の流下方向に
列設された各放電手段毎に渦巻状の乱流が連続的に派生
していくため、オゾンの発生率が向上する。第４の発明
によれば、外界と隠された空気槽内に於いて、空気流の
流下方向に列設された各放電手段の基板の裏面側の空洞
内にヒ−タを配設してあるので、基板裏面での結露の発
生による放電手段の能力低下を阻止することができる。
【図１】図１は本発明に係る装置の縦断面図である。
【図２】図２は本発明に係る装置の平面図である。
【図３】図３は、本発明に係る装置の横断面図である。
【図４】図４は、気流抵抗部材の拡大説明図である。
１０ 気流槽（空気流発生手段） １１ 取込
口 １２ 回収口 ２０ 気流抵抗部（乱流発生手段） ２１ 傾斜
面 ２２ 空洞部 ３０ 放電手段 ３１ ヒ−
タ
口 １２ 回収口 ２０ 気流抵抗部（乱流発生手段） ２１ 傾斜
面 ２２ 空洞部 ３０ 放電手段 ３１ ヒ−
タ
Claims (5)
- 【請求項１】 空気流を生じさせる空気流発生手段と、
空気流の流路に臨む位置にあって当該空気流への抵抗に
より乱流を派生させる乱流発生手段と、放電によりオゾ
ンを生成させる放電手段とから成り、当該放電手段を上
記乱流発生手段による乱流に接する位置に、当該放電手
段を配置したことを特徴とするオゾン発生装置。 - 【請求項２】 一方に空気が取込まれる取込口を他方に
生成されたオゾンを含む空気が回収される回収口とを備
えて一方から他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽
と、当該気流槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下
流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせる複数の気流抵抗
部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置にあっ
て上記空気流に対してその下流側が負圧と成るよう基板
面を傾斜させて配した基板型放電手段とから成ることを
特徴とするオゾン発生装置。 - 【請求項３】 一方に空気が取込まれる取込口を他方に
生成されたオゾンを含む空気が回収される回収口とを備
えて一方から他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽
と、当該気流槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下
流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせる気流抵抗部と、
当該気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置にあって上
記空気流に対してその下流側が負圧と成るよう基板面を
傾斜させて配した基板型放電手段とから成り、 上記基板型放電手段が配された気流抵抗部を、空気流の
上流側から下流側に向けて多数列設して、空気流に沿っ
て渦巻状の乱流が連続的に生ずるよう構成したことを特
徴とするオゾン発生装置。 - 【請求項４】 一方に空気が取込まれる取込口を他方に
生成されたオゾンを含む空気が回収される回収口とを備
えて一方から他方へ向かう空気流を生じさせる気流槽
と、当該気流槽内にあって、上記空気流の流路に臨み下
流側に渦巻状の乱流を無数に生じさせる複数の気流抵抗
部と、各気流抵抗部の乱流発生領域に面する位置にあっ
て上記空気流に対してその下流側が負圧と成るよう基板
面を傾斜させて配した基板型放電手段とから成り、 上記気流抵抗部は外界に通ずる空洞部を有し、上記基板
型放電手段はその基板が当該空洞部と気流槽とを画す隔
壁として配され、当該基板の裏面の空洞部側には基板裏
面の結露を予防するヒ−タを設けたことを特徴とするオ
ゾン発生装置。 - 【請求項５】 放電手段は多孔質のセラミック基板に電
極が配設された構成であることを特徴とする特許請求の
範囲の請求項１、請求項２、請求項３、請求項請求項４
に記載のオゾン発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20267193A JPH0733407A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | オゾン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20267193A JPH0733407A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | オゾン発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733407A true JPH0733407A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=16461227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20267193A Pending JPH0733407A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | オゾン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733407A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5401859A (en) * | 1992-06-06 | 1995-03-28 | Hoechst Ag | Process for the preparation of pure trioxane |
-
1993
- 1993-07-23 JP JP20267193A patent/JPH0733407A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5401859A (en) * | 1992-06-06 | 1995-03-28 | Hoechst Ag | Process for the preparation of pure trioxane |
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