JPH07336033A - 除去可能なハンダ運搬媒体を用いる電子デバイスの相互接続方法 - Google Patents
除去可能なハンダ運搬媒体を用いる電子デバイスの相互接続方法Info
- Publication number
- JPH07336033A JPH07336033A JP7132501A JP13250195A JPH07336033A JP H07336033 A JPH07336033 A JP H07336033A JP 7132501 A JP7132501 A JP 7132501A JP 13250195 A JP13250195 A JP 13250195A JP H07336033 A JPH07336033 A JP H07336033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- particles
- medium
- contact pads
- carrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/74—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3465—Application of solder
- H05K3/3485—Application of solder paste, slurry or powder
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/099—Connecting interconnections to insulating or insulated package substrates, interposers or redistribution layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0218—Composite particles, i.e. first metal coated with second metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/08—Magnetic details
- H05K2201/083—Magnetic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10227—Other objects, e.g. metallic pieces
- H05K2201/10424—Frame holders
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/04—Soldering or other types of metallurgic bonding
- H05K2203/0425—Solder powder or solder coated metal powder
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0528—Patterning during transfer, i.e. without preformed pattern, e.g. by using a die, a programmed tool or a laser
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
- H05K2203/0769—Dissolving insulating materials, e.g. coatings, not used for developing resist after exposure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/10—Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
- H05K2203/104—Using magnetic force, e.g. to align particles or for a temporary connection during processing
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3465—Application of solder
- H05K3/3478—Application of solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
- H10W72/01204—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using temporary auxiliary members, e.g. using sacrificial coatings or handle substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
- H10W72/01212—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps at a different location than on the final device, e.g. forming solder preforms
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
- H10W72/01221—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition
- H10W72/01225—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition in solid form, e.g. by using a powder or by stud bumping
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/072—Connecting or disconnecting of bump connectors
- H10W72/07231—Techniques
- H10W72/07236—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/251—Materials
- H10W72/252—Materials comprising solid metals or solid metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
する電子デバイスが、除去可能な運搬シート上の移転可
能なハンダ粒子のアレイに付着される。 【構成】 運搬媒体は例えば溶かして除去され、接点パ
ッドに選択的に付着したハンダが残される。好適な実施
例では、ハンダ運搬媒体は水溶性であり、また、ハンダ
粒子はハンダ被覆された磁気粒子からなる。媒体が乾く
すなわち硬化する間に磁性体を用いると、ハンダ被覆さ
れた粒子の規則的な配列が生じる。この方法を用いて、
従来より小さい接点構造を有するデバイスを容易に相互
接続することができる。
Description
相互接続方法に関し、特に、除去可能な運搬シート上に
配置された移転可能なハンダ粒子アレイを用いる方法に
関する。
ュータ、コンシューマーエレクトロニクス、遠隔通信機
器や自動車エレクトロニクスを含む最新のエレクトロニ
クス製品は、回路の相互接続を必要とする。チップから
離れた相互接続やパッケージ密度は長年にわたって多少
向上したが、回路特徴サイズの劇的な減少がメモリデバ
イスにおけるIC回路密度を250Kから64MBに増
加させたチップ上半導体素子のためのものよりははるか
に進歩が遅くなっている。今日のハンダ相互接続用回路
接点パッドの典型的な幅は、印刷配線基板については約
25ミル(625μm)であり、シリコン−オン−シリ
コン フリップチップデバイスについては約4ミル(1
00μm))である。シリコンデバイスのこのミクロン
レベルの特徴は接点パッドのために必要とされる数百ミ
クロンとは著しく不釣り合いなため、デバイス集積が非
効率なものになっていた。広範囲のデバイス地所が、よ
り広範囲のハンダ付け接点パッドに対するファンアウト
に費やされている。また、このファンアウトは電子の進
行経路をより長くすることになり、そのため、デバイス
速度がコンパクト高密度相互接続方式で実現できるもの
より遅くなってしまう。
ほとんどは、共融鉛−すずハンダ(37Pb−63S
n)等のハンダ材料を使用している。このハンダ材料は
ウェーブハンダ付けか表面実装技術のどちらかによって
溶かされたり固められたりする。これらの技術は、参照
によりここに含まれる、1986年ニューヨークのエイ
チ・エイチ・マンコ(H.H.Manko) 及びバン ノストラン
ド ラインホルド(Van Nostrand Reinhold) による印刷
配線及び表面実装用ハンダ付けハンドブックに開示され
ている。表面実装手順は、典型的には、ハンダ相互接続
されるべき基板の各配線パッド上に印刷されるウェット
ハンダペーストを用いるスクリーン印刷技術に基づいて
いる。かけがえとして、ハンダは、写真食刻と組合せ
た、物理的もしくは化学的な蒸着または電気化学的溶着
によって各接点パッド上に付けることができる。
または超高密度相互接続の達成に対する主な技術的障害
のうちの2点は、i)約6ミルの線幅分解能以下のハン
ダペーストをスクリーン印刷するための工業的に実行可
能な技術の欠如と、ii)約2ミルの分解能以下の広範
囲フォトリソグラフィが困難でコストが高いことであ
る。したがって、スクリーン印刷またはリソグラフィで
制限されない新規な高密度相互接続技術が要求されてい
る。
有する電子デバイスは、除去可能な運搬シート上の移転
可能なハンダ粒子のアレイに付着される。この運搬シー
トは、例えば溶かすことにより、接点パッドに選択的に
付着したハンダを残して除去される。好適な実施例で
は、ハンダ運搬媒体は水溶性であり、ハンダ粒子はハン
ダ被覆された磁気粒子からなる。媒体が乾くすなわち固
まる間に磁性体を用いると、ハンダ被覆された粒子の規
則正しいアレイが生じる。この方法を用いれば、従来よ
り小さい接点構造を有するデバイスを容易に相互接続す
ることができる。
度接続を行なうステップを示すブロック図である。ブロ
ックAに示される最初のステップは、1つ以上の接点パ
ッドを有する電子デバイスを準備することである。図2
に示されているように、このような電子デバイス9は、
典型的に、実質的に平らな表面11を有する基板10か
らなり、表面11上に隆起した複数の導電性接点パッド
12を含む。基板10は、典型的に、半導体ウェハ、ま
たはエポキシをベースとした印刷配線基板、またはセラ
ミック基板である。接点パッド12は典型的には銅被覆
されている。このパッドは、耐食性のためと溶融ハンダ
のぬれを改善するために種々の金属またはポリマー仕上
げで被覆することができる。典型的な被覆物は金、す
ず、ハンダ及びイミダゾールである。デバイスは、パッ
ド間領域13に多数の回路構成要素(図示しない)を備
えることができる。
は、除去可能な運搬媒体上または中に配置されたハンダ
粒子のアレイを接点パッドに付着させることである。こ
れは、加熱状態でハンダ運搬媒体を電子デバイスに接触
させることによって行なうことができる。好適なハンダ
運搬媒体は図3に示される。図4には、図3の構造が電
子デバイスとの接触に近づいた状態が示されている。
は、除去可能な媒体32に少なくとも部分的に埋め込ま
れたハンダ粒子31のアレイを含む。ハンダ粒子の表面
の一部は、接合を容易にするために媒体の表面より突出
している。媒体32は、溶剤に溶ける材料のような除去
可能な材料からなる。模範的な除去可能な材料は、ゼラ
チン、のりまたはこれらの組合せのような水溶性材料の
シートである。これらの材料は、人間に無害で、コスト
が低く、そして完全に乾く前にわずかに粘着するような
ものが特に望ましい。他の有機ポリマー、例えばポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリジノン、ポリアクリ
ルアミドを用いることもできる。典型的な可溶性材料
は、これはアセトンに溶けるポリビニルアセテートや、
メチルエチルケトンに溶けるポリビニルクロライド(P
VC)及びアクリロニトリル−ブタジェン−スチレン
(ABS)や、トルエンに溶けるブチルビニルアルコー
ルを含む。媒体の酸化または変質をできるだけ少なくす
るために、窒素のような不活性雰囲気中で後続の加熱ス
テップを実行するのが効果的である。好適には、除去可
能な媒体32は、紙やポリマーフィルムのような支持シ
ート33にそっと付着させることができる。かけがえと
して、揮発または焼失することができる除去可能な媒体
例えば有機接着剤を用いることもできる。
たハンダ運搬媒体30を示す。加熱は接点パッド12へ
のハンダ粒子の付着を促進する。運搬媒体32の表面か
らのハンダ粒子31の突出は、金属製デバイスパッド1
2へのハンダの接触及びぬれを容易にさせる。少なくと
も5%の各ハンダ粒子突出の高さを持つのが望ましく、
少なくとも20%の高さ突出が好適である。もし望むな
ら、電子デバイス9の合わせ面11は適当なフラックス
40で被覆することができる。デバイス9は予熱するこ
とができ、次いでハンダ包含媒体30をその上に置くこ
とができる。次いで、接点パッド上にハンダ粒子をくっ
付けるまたは溶かすために、(例えば重量またはローラ
ーによる)垂直の圧力または押圧を加えることができ
る。かけがえとして、ハンダ媒体は重量を加えた状態で
基板と共に加熱される。付着を達成するのに望ましい温
度は、好適には、室内温度以上だがハンダの溶融温度以
下である。満足な付着に必要な温度は、加えられる圧力
と使用されるフラックスによって決まり、処理の最適な
組合せは実験的に容易に決定することができる。
ッドに面するハンダ粒子のみが付着または溶融される
が、パッド間領域13内の粒子はパッド間領域上に付着
または溶融されない程度に選ばれる。パッド間領域13
の表面は典型的にポリマーのような非金属製絶縁材料で
被覆され、したがってハンダは前記表面上に容易に付着
または溶融されない。
番目のステップは、接点パッド上に選択的にハンダを残
して運搬媒体を除去することである。このステップは、
適当な溶剤を用いて材料を溶かすことによって達成され
る。(支持シート33が用いられる場合は、除去可能な
材料を溶かす前に支持シートを剥ぎ取っても良い。)接
点パッドに付着または溶融されたハンダ粒子はパッド上
にとどまり、パッド間領域13上の付着しないハンダ粒
子は水または他の溶剤で流し去ることができる。
が除去された後の図2のデバイスを示す。付着したハン
ダ粒子50は接点パッド12上にとどまっている。かけ
がえとして、ハンダ粒子50は、温度が溶融点以上に上
昇すると、接点パッドの表面上に薄いハンダ層(図示し
ない)となって現われる。
は、運搬媒体の除去後に効果的に溶融することができ
る。接点パッドのぬれの間の溶融ハンダの接触角は、ハ
ンダの選択とパッドの表面仕上げとにより制御すること
ができる。小分けされたハンダが望ましい場合は、付着
したハンダ粒子の溶け込みは、亜鉛含有ハンダのような
高表面張力ハンダや、銅仕上げ上のすず−インジウム−
亜鉛またはすず−銀−亜鉛合金を用いることによりでき
るだけ少なくすることができる。小分けが必要なけれ
ば、接触角を減らすために予めすずメッキした表面また
は銀被覆された表面を用いることができる。かけがえと
して、小接触角を有する鉛−すずをベースとしたハンダ
を用いても良い。ハンダの温度は望ましくは、溶融点、
例えば63Sn−37Pb共融ハンダの183℃、57
Bi−43Snの139℃、49Sn−51Inの12
0℃及び96.5n−3.5Agの221℃、以上に上
昇される。パッド間領域13にあるハンダ粒子は、たと
え溶融していても、非金属またはポリマーのパッド間表
面を容易にぬらさない。接点パッドのみがハンダで被覆
される。
テップ、ブロックDは、図5のデバイスのハンダ包含接
点パッドを接続されるべき表面との接触状態におくこと
である。これは、図6に示されるように、後続のリフロ
ー相互接続作業において、ハンダが溶けて層61になっ
て付着しているデバイス9上に、合わせるデバイス60
を下ろすことにより好適に達成される。合わせられるデ
バイスは、典型的には、デバイス9に対応する合わせ接
点パッド62を有する電子デバイスである。もし望むな
ら、デバイス9の合わせ面11は適当なフラックス63
で被覆しても良い。溶融は、多くの既知の加熱方法、例
えばオーブン加熱、赤外線加熱等で達成することができ
る。図6のハンダ層の厚さは、もし望むなら、最終のリ
フロー作業の前に適当なハンダ接合サイズ及び外形を得
るために必要な多数回だけ、新しいハンダ運搬媒体を用
いて図1の初めの3ステップを繰り返すことにより増加
させることができる。
異なる方法のいずれかで好便に製作される。第一の方法
は、(硬度制御のために任意に追加された粒子状または
可溶性の材料を伴う)水または溶剤に基質材料を溶か
し、次いで例えばスピンコーティング、ドクターブレー
ディング、スプレーコーティング、ローリング等により
材料を望ましい厚さの薄い層にシート化し、次いで液状
または半液状層の上部にハンダ粒子をばらまくことであ
る。基質溶液の一部は、ハンダ粒子が図3に示されるよ
うに突出するのを保証するために予め乾かすことができ
る。第二の方法は、ハンダ粒子と溶かされた媒体の両方
を含有する混合溶液を予め作っておき、この混合溶液を
薄い層にシート化することである。シート化される層の
厚さは、溶液が乾かされて体積が減った後、基質材料の
最終的厚さがハンダを突出させるためにハンダ粒子直径
以下になるように調整される。リフロー相互接続に用い
られるべきハンダ付け用フラックスは、ハンダ付け作業
前または中にハンダ表面上の基質材料の残留被覆を除去
するために、同じ溶剤を少し含むことができる。第三の
方法は、十分に乾く前にまたは水または溶剤で最上部の
表面を部分的にぬらすことにより、可溶性媒体の厚さを
利用して、媒体にハンダ粒子を付着させることである。
粘着性のある表面はハンダ粒子のアレイに押しつけら
れ、それらを拾い上げることができる。
に巻き取ったりスプールからほどいたりするべく容易に
取り扱えるように媒体を強くするために、任意の追加の
支持層材料33を備えても良い。この支持層は、ポリマ
ーもしくはプラスチックテープ(例えばポリエチレ
ン)、またはハンダ包含シートの背面にくっつくが必要
な時にはがすことができる任意にわずかに粘着性のある
表面を有する紙もしくは他のシート状材料とすることが
できる。かけがえとして、ハンダ包含媒体は支持層を基
板として用いて直接製作しても良い。
サイズと形状の複製を製造するのが容易なように球体と
され、均一に媒体から突出する粒子を提供する。望まし
いハンダ粒子のサイズ範囲は0.2〜200μmであ
り、好適には0.5〜50μmである。接点パッド金属
表面上のハンダのぬれを改善するために、例えばハンダ
運搬媒体または基板のどちらかにスプレーコーティング
をすることによりRMA(Rosin-Mildly-Activated)等の
フラックスを用いることができる。
珠つなぎ形成)で引き起こされる隣接する接点パッド間
の望ましくない電気的短絡をできるだけ少なくするため
に、ハンダ包含媒体中のハンダ粒子で覆われる領域部分
は、好適には60%以下の範囲に、より好適には40%
以下の範囲に制限される。
す新規な方法は、磁気分離を用いることである。ハンダ
粒子は磁気コアを含むことができ、例えば、ハンダで強
磁性粒子をエレクトロレスコーティングすることにより
作ることができる。例えば、5μmの厚さのハンダ層が
直径7μmの鉄粒子の表面に被覆された場合、ハンダ対
鉄体積部分比は約4:1になる。基質ポリマーの表面張
力に対して適当にバランスした垂直磁界の存在時、粘性
媒体中の磁気粒子は互いに反発し合って分離する。この
ことは、参照によりここに含まれる1988年4月12
日発行のジン(Jin) 等の米国特許第4,737,112 号に明示
されている。図7及び図8の比較的な顕微鏡写真に示さ
れるように、垂直磁界の存在は、数珠つなぎ形成がほと
んどない粒子の規則的な散乱を達成する。図7は磁気分
離のない場合のランダムな散乱を示し、図8は磁気分離
で得られる規則的な散乱を示す。図3に示される構造
は、この磁気分離手法で望ましく作られ、その後乾かさ
れて、パッド間短絡またはハンダ粒子密度の相当なパッ
ド対パッド変化のリスクを減らしてより多くのハンダ粒
子を収容することができる洗えるハンダ運搬媒体を作る
ことができる。
も良く、例えば、Fe,Ni,Co,Ni−Fe(パー
マロイ),Ni−Znフェライト,Mn−Znフェライ
ト等の比較的軟質の磁気材料、またはFe−Al−Ni
−Co(アルニコ),Fe−Cr−Co,ヘキサフェラ
イト,希土類元素のコバルトもしくはNd−Fe−B型
磁石等の永久磁石材料でも良い。軟質磁気材料は磁化が
容易なので好適である。ハンダ材料と磁気コア材料間の
冶金反応は、不注意のためにハンダ特性を劣化させない
ようにできるだけ少なくすべきである。
線密度用の多層3次元相互接続ばかりでなく領域−アレ
イ相互接続にも適している。従来のハンダペーストスク
リーン印刷技術や沈積ハンダの広範囲リソグラフィック
パターニングにおいてあった線幅分解能の制限は、本発
明の転送可能なハンダ媒体を用いた新しい相互接続方法
論にはない。細線で高密度な接点パッドは、本発明の媒
体及び方法を用いて容易かつ安価に被覆することができ
る。
である。
スを示す。
媒体の略断面図である。
す。
された後の電子デバイスを示す。
づく電子デバイスのハンダ包含パッドを示す。
真である。
真である。
Claims (10)
- 【請求項1】 1つ以上の電気接点パッドを有する電子
デバイスを第2のデバイスに接続するための方法であっ
て、 1つ以上の接点パッドを有する前記電子デバイスを準備
する工程と、 前記デバイスと除去可能な運搬シート上に配置されたハ
ンダ粒子のアレイを接触させる工程と、 前記アレイから前記接点パッドにハンダを選択的に付着
させる工程と、 前記接点パッド上へハンダを残しながら前記フレキシブ
ル運搬媒体を除去する工程と、 前記ハンダ運搬パッドを前記第2のデバイスに接するよ
うに配置する工程とからなることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の方法において、前記ハン
ダ粒子は該粒子に熱を加えることによって前記接点パッ
ドに付着する方法。 - 【請求項3】 請求項1記載の方法において、前記除去
可能な運搬シートは可溶性材料からなり、溶剤に溶かす
ことにより除去される方法。 - 【請求項4】 請求項1記載の方法において、前記除去
可能な運搬シートは水溶性材料からなる方法。 - 【請求項5】 請求項1記載の方法において、前記ハン
ダ粒子のアレイはハンダ被覆された磁気粒子のアレイか
らなる方法。 - 【請求項6】 電気接点パッドの表面にハンダを付ける
ためのハンダ運搬用運搬シートであって、 可溶性運搬媒体層と、 前記可溶性媒体に少なくとも部分的に埋め込まれ、前記
媒体の表面から突出しているハンダ粒子のアレイとから
なることを特徴とするハンダ運搬シート。 - 【請求項7】 請求項6記載のハンダ運搬シートにおい
て、前記可溶性運搬媒体は水溶性であるハンダ運搬シー
ト。 - 【請求項8】 請求項6記載のハンダ運搬シートにおい
て、前記ハンダ粒子はハンダ被覆された磁気粒子からな
るハンダ運搬シート。 - 【請求項9】 請求項6記載のハンダ運搬シートにおい
て、さらに、前記可溶性運搬媒体層に接着された支持層
を含むハンダ支持シート。 - 【請求項10】 請求項1または2または3または4ま
たは5の方法によって第2のデバイスに接続された1つ
以上の電気接点パッドを有する電子デバイス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/251,547 US5591037A (en) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | Method for interconnecting an electronic device using a removable solder carrying medium |
| US08/251547 | 1994-05-31 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006349097A Division JP4065457B2 (ja) | 1994-05-31 | 2006-12-26 | ハンダ運搬シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07336033A true JPH07336033A (ja) | 1995-12-22 |
| JP3946786B2 JP3946786B2 (ja) | 2007-07-18 |
Family
ID=22952433
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13250195A Expired - Fee Related JP3946786B2 (ja) | 1994-05-31 | 1995-05-31 | 除去可能なハンダ運搬媒体を用いる電子デバイスの相互接続方法 |
| JP2006349097A Expired - Fee Related JP4065457B2 (ja) | 1994-05-31 | 2006-12-26 | ハンダ運搬シート |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006349097A Expired - Fee Related JP4065457B2 (ja) | 1994-05-31 | 2006-12-26 | ハンダ運搬シート |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5591037A (ja) |
| EP (1) | EP0685880B1 (ja) |
| JP (2) | JP3946786B2 (ja) |
| KR (1) | KR950035551A (ja) |
| DE (1) | DE69518120T2 (ja) |
| ES (1) | ES2149927T3 (ja) |
| TW (1) | TW267251B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006067827A1 (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd | はんだプリコート方法および電子機器用ワーク |
| WO2010093031A1 (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 転写シートを用いた回路基板へのはんだバンプ形成 |
| JP2011189390A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | shuan-sheng Wang | 鉄粉を含有する錫基の複合はんだ合金ボール、及び、それを利用したフリップチップのバンプ形成方法 |
| WO2012132175A1 (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-04 | パナソニック株式会社 | はんだ転写基材、はんだ転写基材の製造方法、及びはんだ転写方法 |
| JP2013093471A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Hitachi Chemical Co Ltd | はんだプリコート及びその形成方法、並びにはんだプリコート付き基板 |
| JP2013229635A (ja) * | 2013-08-01 | 2013-11-07 | Senju Metal Ind Co Ltd | はんだプリコート法 |
| WO2014104218A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 花王株式会社 | 電子部品が接合した回路基板の製造方法 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6099935A (en) * | 1995-12-15 | 2000-08-08 | International Business Machines Corporation | Apparatus for providing solder interconnections to semiconductor and electronic packaging devices |
| KR100542552B1 (ko) * | 2003-08-21 | 2006-01-11 | 삼성전자주식회사 | 인쇄회로기판, 및 이 인쇄회로기판을 갖는 화상기록장치 |
| US20050221635A1 (en) | 2004-03-30 | 2005-10-06 | International Business Machines Corporation | Micro-bumps to enhance lga interconnections |
| DE102004025279B4 (de) * | 2004-05-19 | 2011-04-28 | Infineon Technologies Ag | Anlage für ein Bestücken von Substraten mit Kugelkontakten und Verfahren zum Bestücken von Substraten mit Kugelkontakten |
| WO2008097570A2 (en) * | 2007-02-06 | 2008-08-14 | World Properties, Inc. | Conductive polymer foams, method of manufacture, and uses thereof |
| US20090226696A1 (en) * | 2008-02-06 | 2009-09-10 | World Properties, Inc. | Conductive Polymer Foams, Method of Manufacture, And Uses Thereof |
| US8623265B2 (en) * | 2007-02-06 | 2014-01-07 | World Properties, Inc. | Conductive polymer foams, method of manufacture, and articles thereof |
| US7790597B2 (en) * | 2007-07-11 | 2010-09-07 | Texas Instruments Incorporated | Solder cap application process on copper bump using solder powder film |
| MY158771A (en) * | 2009-12-29 | 2016-11-15 | Rogers Corp | Conductive polymer foams,method of manufacture, and uses thereof |
| DE102010002252A1 (de) * | 2010-02-23 | 2011-08-25 | JENOPTIK Laser GmbH, 07745 | Verfahren zum Aufbringen von Weichlot auf eine Montagefläche eines Bauelementes |
| JP5536899B2 (ja) | 2010-11-08 | 2014-07-02 | パナソニック株式会社 | はんだプリコート方法 |
| CN103907179B (zh) * | 2011-10-26 | 2017-07-07 | 日立化成株式会社 | 回流膜、焊料凸块形成方法、焊料接合的形成方法以及半导体装置 |
| DE102016123180A1 (de) * | 2016-11-30 | 2018-05-30 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Verfahren zum Verbinden eines Halbleiterbauelements mit einem Gegenstück sowie Anordnung mit einem Halbleiterbauelement |
| CN113948624B (zh) * | 2020-07-16 | 2023-10-24 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | Led焊料涂布方法、发光装置和显示装置 |
| WO2022168209A1 (ja) * | 2021-02-03 | 2022-08-11 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | はんだペースト、はんだバンプの形成方法及びはんだバンプ付き部材の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4655382A (en) * | 1985-11-12 | 1987-04-07 | Raychem Corp. | Materials for use in forming electronic interconnect |
| US4737112A (en) * | 1986-09-05 | 1988-04-12 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Anisotropically conductive composite medium |
| US4820376A (en) * | 1987-11-05 | 1989-04-11 | American Telephone And Telegraph Company At&T Bell Laboratories | Fabrication of CPI layers |
| US4902857A (en) * | 1988-12-27 | 1990-02-20 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Polymer interconnect structure |
| JPH0695462B2 (ja) * | 1989-05-19 | 1994-11-24 | シャープ株式会社 | 電極上への導電性粒子の配置方法 |
| US5323947A (en) * | 1993-05-03 | 1994-06-28 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for use in forming pre-positioned solder bumps on a pad arrangement |
-
1994
- 1994-05-31 US US08/251,547 patent/US5591037A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-28 TW TW083109979A patent/TW267251B/zh not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-05-24 EP EP95303496A patent/EP0685880B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-24 ES ES95303496T patent/ES2149927T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-24 DE DE69518120T patent/DE69518120T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-31 JP JP13250195A patent/JP3946786B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-31 KR KR1019950014011A patent/KR950035551A/ko not_active Abandoned
-
2006
- 2006-12-26 JP JP2006349097A patent/JP4065457B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1829639A4 (en) * | 2004-12-20 | 2008-12-03 | Senju Metal Industry Co | LOTFORD COATING METHOD AND WORKPIECE FOR ELECTRONIC COMPONENT |
| WO2006067827A1 (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd | はんだプリコート方法および電子機器用ワーク |
| US9821397B2 (en) | 2004-12-20 | 2017-11-21 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Solder precoating method and workpiece for electronic equipment |
| WO2010093031A1 (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 転写シートを用いた回路基板へのはんだバンプ形成 |
| JP4962626B2 (ja) * | 2009-02-13 | 2012-06-27 | 千住金属工業株式会社 | 転写シートを用いた回路基板へのはんだバンプ形成 |
| US8701973B2 (en) | 2009-02-13 | 2014-04-22 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Solder bump formation on a circuit board using a transfer sheet |
| JP2011189390A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | shuan-sheng Wang | 鉄粉を含有する錫基の複合はんだ合金ボール、及び、それを利用したフリップチップのバンプ形成方法 |
| KR101493340B1 (ko) * | 2011-03-29 | 2015-02-16 | 파나소닉 주식회사 | 땜납 전사기재, 땜납 전사기재의 제조방법 및 땜납 전사방법 |
| WO2012132175A1 (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-04 | パナソニック株式会社 | はんだ転写基材、はんだ転写基材の製造方法、及びはんだ転写方法 |
| US9238278B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-01-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Solder transfer substrate, manufacturing method of solder transfer substrate, and solder transfer method |
| JPWO2012132175A1 (ja) * | 2011-03-29 | 2014-07-24 | パナソニック株式会社 | はんだ転写基材、はんだ転写基材の製造方法、及びはんだ転写方法 |
| JP2013093471A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Hitachi Chemical Co Ltd | はんだプリコート及びその形成方法、並びにはんだプリコート付き基板 |
| WO2014104218A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 花王株式会社 | 電子部品が接合した回路基板の製造方法 |
| JP2013229635A (ja) * | 2013-08-01 | 2013-11-07 | Senju Metal Ind Co Ltd | はんだプリコート法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950035551A (ko) | 1995-12-30 |
| DE69518120T2 (de) | 2000-12-21 |
| TW267251B (ja) | 1996-01-01 |
| EP0685880A1 (en) | 1995-12-06 |
| US5591037A (en) | 1997-01-07 |
| DE69518120D1 (de) | 2000-08-31 |
| JP3946786B2 (ja) | 2007-07-18 |
| EP0685880B1 (en) | 2000-07-26 |
| ES2149927T3 (es) | 2000-11-16 |
| JP2007110158A (ja) | 2007-04-26 |
| JP4065457B2 (ja) | 2008-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3946786B2 (ja) | 除去可能なハンダ運搬媒体を用いる電子デバイスの相互接続方法 | |
| JPH07336034A (ja) | 移転可能なハンダ運搬媒体を用いる電子デバイスの相互接続方法 | |
| JP2596721B2 (ja) | Dca用集積回路チップ製造方法 | |
| KR100691679B1 (ko) | 범프 형성 방법, 전자 부품, 및 땜납 페이스트 | |
| US5133495A (en) | Method of bonding flexible circuit to circuitized substrate to provide electrical connection therebetween | |
| KR100694251B1 (ko) | 반도체 디바이스 및 그 제조방법 | |
| JP2002501821A (ja) | 粒子の非ランダム単層にコーティングを形成する方法、及びそれによって形成された製品 | |
| JPH08116165A (ja) | プリント回路基板上に細かいピッチのはんだを形成する方法および製品 | |
| JPS59195837A (ja) | Lsiチツプボンデイング方法 | |
| US6281105B1 (en) | Electrode modification using an unzippable polymer paste | |
| US7662708B2 (en) | Self-assembled interconnection particles | |
| US4374869A (en) | Selective metal etch technique | |
| JP3202774B2 (ja) | はんだパターン転写フィルムおよびその製造方法 | |
| KR102709694B1 (ko) | 동박 적층판용 적층체, 이의 제조방법 및 미세 패턴 형성방법 | |
| JP3124224B2 (ja) | はんだバンプ形成方法 | |
| JPH10135615A (ja) | 電子デバイスのコンタクトパッドに粒状体をおくための製品および方法 | |
| JP2896296B2 (ja) | セラミックス配線基板の製造方法 | |
| JPH031830B2 (ja) | ||
| CA1249065A (en) | Process for forming silver conductors on a substrate | |
| JP2000044922A (ja) | 活性水素を含有するフラックス活性化剤を含有する光硬化性組成物およびそれらの使用の方法 | |
| US20080160177A1 (en) | Methods for electroless plating of metal traces on a substrate and devices and systems thereof | |
| JPH067275U (ja) | プリント基板 | |
| JPH11103155A (ja) | ハンダバンプ形成方法 | |
| JPH0424990A (ja) | セラミックス基板の回路形成方法 | |
| JPH04135056A (ja) | 半田転写フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030804 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060926 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060929 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061226 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070412 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140420 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |