JPH0733826A - エチレン系共重合体の製造方法 - Google Patents
エチレン系共重合体の製造方法Info
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- JPH0733826A JPH0733826A JP17894593A JP17894593A JPH0733826A JP H0733826 A JPH0733826 A JP H0733826A JP 17894593 A JP17894593 A JP 17894593A JP 17894593 A JP17894593 A JP 17894593A JP H0733826 A JPH0733826 A JP H0733826A
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- JP
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- ethylene
- pentafluorophenyl
- borate
- cyclopentadienyl
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 良質な不飽和基を有し、変性反応により種々
の官能基の導入が可能なエチレン系共重合体をゲル化を
生じることなく、効率よく製造する方法を提供するこ
と。 【構成】 (A)遷移金属化合物及び(B)これと反応
するイオン性化合物からなる触媒の存在下、(イ)エチ
レン又はエチレン及びα−オレフィンと(ロ)ノルボル
ネン骨格と不飽和基とからなる環状ジエンとを共重合さ
せて、該環状ジエン単位の含有量が0.01〜5モル%、
極限粘度(135℃デカリン)が0.01〜30デシリッ
トル/g及び示差走査熱量計(DSC)による結晶化エ
ンタルピー(ΔH)が75J/g以上であるエチレン系
共重合体を製造する方法である。
の官能基の導入が可能なエチレン系共重合体をゲル化を
生じることなく、効率よく製造する方法を提供するこ
と。 【構成】 (A)遷移金属化合物及び(B)これと反応
するイオン性化合物からなる触媒の存在下、(イ)エチ
レン又はエチレン及びα−オレフィンと(ロ)ノルボル
ネン骨格と不飽和基とからなる環状ジエンとを共重合さ
せて、該環状ジエン単位の含有量が0.01〜5モル%、
極限粘度(135℃デカリン)が0.01〜30デシリッ
トル/g及び示差走査熱量計(DSC)による結晶化エ
ンタルピー(ΔH)が75J/g以上であるエチレン系
共重合体を製造する方法である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエチレン系共重合体の製
造方法に関し、さらに詳しくは、エチレン又はエチレン
及びα−オレフィンと特定の環状ジエンとを共重合させ
て、良質な不飽和基を有し、変性反応により種々の官能
基の導入が可能なエチレン系共重合体を、ゲル化を生じ
ることなく効率よく製造する方法に関するものである。
造方法に関し、さらに詳しくは、エチレン又はエチレン
及びα−オレフィンと特定の環状ジエンとを共重合させ
て、良質な不飽和基を有し、変性反応により種々の官能
基の導入が可能なエチレン系共重合体を、ゲル化を生じ
ることなく効率よく製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高密度ポリエチレン,アイソタク
チックポリプロピレン,直鎖状低密度ポリエチレンなど
のオレフィン系重合体は、化学的安定性,良好な機械物
性,優れた加工特性などを有することから、種々の成形
体,フィルム,シート,繊維,合成紙などの素材として
多くの分野において幅広く用いられている。そして、こ
れらのオレフィン系重合体をさらに高度に利用するため
に、共重合反応によって高性能化する試みや、高分子反
応によって改質、あるいは機能性を付与する試みが長年
にわたり行われてきた。例えば、エチレンやプロピレン
などのα−オレフィンと分岐1,4−ジエンとの共重合
による方法が開示されている(特開昭56−30413
号公報、特開昭56−30414号公報)。この方法は
反応性の異なる2官能性オレフィンを用いることによっ
て、1,1−ジ置換オレフィンを側鎖に有する(すなわ
ち、ペンダントオレフィンを有する)共重合体の製造を
可能としている。しかしながら、ここで例示されている
分岐1,4−ジエンは、一般に非共役ジエンと呼ばれる
ものであり、オレフィンとの共重合性は高くなく、その
ために生産性上の問題があった。また、ペンダントオレ
フィンを高含量で有するオレフィン共重合体を得るため
には、重合反応中に高濃度の非共役ジエンを投入しなけ
ればならず、重合触媒への配位による活性低下及び架橋
反応が避けられない状況にあった。また、該ペンダント
オレフィンは、分岐構造のために化学反応の制約を受け
やすい欠点を有する。例えば極性モノマーやオレフィン
などとのグラフト反応は極めて困難である。
チックポリプロピレン,直鎖状低密度ポリエチレンなど
のオレフィン系重合体は、化学的安定性,良好な機械物
性,優れた加工特性などを有することから、種々の成形
体,フィルム,シート,繊維,合成紙などの素材として
多くの分野において幅広く用いられている。そして、こ
れらのオレフィン系重合体をさらに高度に利用するため
に、共重合反応によって高性能化する試みや、高分子反
応によって改質、あるいは機能性を付与する試みが長年
にわたり行われてきた。例えば、エチレンやプロピレン
などのα−オレフィンと分岐1,4−ジエンとの共重合
による方法が開示されている(特開昭56−30413
号公報、特開昭56−30414号公報)。この方法は
反応性の異なる2官能性オレフィンを用いることによっ
て、1,1−ジ置換オレフィンを側鎖に有する(すなわ
ち、ペンダントオレフィンを有する)共重合体の製造を
可能としている。しかしながら、ここで例示されている
分岐1,4−ジエンは、一般に非共役ジエンと呼ばれる
ものであり、オレフィンとの共重合性は高くなく、その
ために生産性上の問題があった。また、ペンダントオレ
フィンを高含量で有するオレフィン共重合体を得るため
には、重合反応中に高濃度の非共役ジエンを投入しなけ
ればならず、重合触媒への配位による活性低下及び架橋
反応が避けられない状況にあった。また、該ペンダント
オレフィンは、分岐構造のために化学反応の制約を受け
やすい欠点を有する。例えば極性モノマーやオレフィン
などとのグラフト反応は極めて困難である。
【0003】さらに、「ポリマー・ブレタン(Poly
mer Bulletin)」第10巻、第109ペー
ジ(1983年)にも同様な共重合方法が記載されてい
る。しかしながら、この方法はゲル化反応を比較的起こ
しにくい長所を有しているものの、高濃度の不飽和基を
含む場合、実質的にゲル化が生成して好ましくない。ま
た、α−オレフィンとジビニルベンゼンとの共重合によ
る方法が開示されている(特開平1−118510号公
報、特開平1−123811号公報)。しかし、この方
法においては、該ジビニルベンゼンは反応性が同じ二重
結合を有するために、α−オレフィンとの共重合過程で
架橋反応を併発し、不溶不融になりやすいという欠点が
ある。そして、ジビニルベンゼンの共重合体への転化率
が低く、多くのジビニルベンゼンモノマーが共重合体に
残存するために、引きつづきグラフト反応や高分子反応
を行う場合、モノマー除去が必要となり、製造上問題を
有する。さらに、ペンダントオレフィンは、スチレン系
モノマーとなり、オレフィンなどのグラフト反応に制限
を受けるなどの欠点を有する。
mer Bulletin)」第10巻、第109ペー
ジ(1983年)にも同様な共重合方法が記載されてい
る。しかしながら、この方法はゲル化反応を比較的起こ
しにくい長所を有しているものの、高濃度の不飽和基を
含む場合、実質的にゲル化が生成して好ましくない。ま
た、α−オレフィンとジビニルベンゼンとの共重合によ
る方法が開示されている(特開平1−118510号公
報、特開平1−123811号公報)。しかし、この方
法においては、該ジビニルベンゼンは反応性が同じ二重
結合を有するために、α−オレフィンとの共重合過程で
架橋反応を併発し、不溶不融になりやすいという欠点が
ある。そして、ジビニルベンゼンの共重合体への転化率
が低く、多くのジビニルベンゼンモノマーが共重合体に
残存するために、引きつづきグラフト反応や高分子反応
を行う場合、モノマー除去が必要となり、製造上問題を
有する。さらに、ペンダントオレフィンは、スチレン系
モノマーとなり、オレフィンなどのグラフト反応に制限
を受けるなどの欠点を有する。
【0004】ところで、一般に、チタン化合物やバナジ
ウム化合物と有機アルミニウム化合物とを組み合わせた
チーグラー型触媒などを用いて、エチレンとプロピレン
又はα−オレフィンと環状オレフィンとの三元共重合体
が得られることは、よく知られた公知の技術である。こ
のような技術については数多くの例があり、例えば特開
昭61−221206号公報,特開昭62−27412
号公報,特開平1−156308号公報,特開平1−1
97511号公報,特表平1−501556号公報,特
開平2−64111号公報,特開平3−28209号公
報,特開平3−188113号公報,特開平3−193
796号公報,特開平4−175630号公報,特表平
4−503963号公報などでは、エチレンやプロピレ
ンなどのα−オレフィンと5−ビニルノルボルネン,エ
チリデンノルボルネン,ジシクロペンタジエンなどとの
共重合に関して詳細に記述されている。しかしながら、
これらの方法で得られる共重合体は、結晶化度が概ね1
2%以下であり、また融点などの記載もなく実質上非晶
質のものであり、これは本発明者らが意図するものでは
ない。また、特開昭64−54010号公報では、5−
アルケニル−2−ノルボルネンとエチレンとの共重合に
おいて、共重合体中の5−アルケニル−2−ノルボルネ
ン単位とこの単位に由来するアルケニル基残量とのモル
比が、式0.2≦〔アルケニル基〕/〔5−アルケニル−
2−ノルボルネン〕≦0.8の関係を満たすことが示され
ている。しかしながら、この場合、最小でも20%のア
ルケニル基が消失しており、これらの不飽和基が架橋な
どの副反応を誘発する可能性は無視できないし、また、
上記と同様に非晶質物を規定しており、これは本発明者
らが所望するものではない。
ウム化合物と有機アルミニウム化合物とを組み合わせた
チーグラー型触媒などを用いて、エチレンとプロピレン
又はα−オレフィンと環状オレフィンとの三元共重合体
が得られることは、よく知られた公知の技術である。こ
のような技術については数多くの例があり、例えば特開
昭61−221206号公報,特開昭62−27412
号公報,特開平1−156308号公報,特開平1−1
97511号公報,特表平1−501556号公報,特
開平2−64111号公報,特開平3−28209号公
報,特開平3−188113号公報,特開平3−193
796号公報,特開平4−175630号公報,特表平
4−503963号公報などでは、エチレンやプロピレ
ンなどのα−オレフィンと5−ビニルノルボルネン,エ
チリデンノルボルネン,ジシクロペンタジエンなどとの
共重合に関して詳細に記述されている。しかしながら、
これらの方法で得られる共重合体は、結晶化度が概ね1
2%以下であり、また融点などの記載もなく実質上非晶
質のものであり、これは本発明者らが意図するものでは
ない。また、特開昭64−54010号公報では、5−
アルケニル−2−ノルボルネンとエチレンとの共重合に
おいて、共重合体中の5−アルケニル−2−ノルボルネ
ン単位とこの単位に由来するアルケニル基残量とのモル
比が、式0.2≦〔アルケニル基〕/〔5−アルケニル−
2−ノルボルネン〕≦0.8の関係を満たすことが示され
ている。しかしながら、この場合、最小でも20%のア
ルケニル基が消失しており、これらの不飽和基が架橋な
どの副反応を誘発する可能性は無視できないし、また、
上記と同様に非晶質物を規定しており、これは本発明者
らが所望するものではない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、良質な不飽
和基を有し、変性反応により種々の官能基の導入が可能
な結晶性のエチレン系共重合体を、架橋反応や環化反応
を生じることなく、したがってゲルの発生を完全に抑制
しうるとともに、効率よく製造する方法を提供すること
を目的としてなされたものである。
和基を有し、変性反応により種々の官能基の導入が可能
な結晶性のエチレン系共重合体を、架橋反応や環化反応
を生じることなく、したがってゲルの発生を完全に抑制
しうるとともに、効率よく製造する方法を提供すること
を目的としてなされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の重合用
触媒の存在下、エチレン又はエチレン及びα−オレフィ
ンと特定の構造を有する環状ジエンとを共重合させるこ
とにより、特定の性状を有するエチレン系共重合体がゲ
ル化を生じることなく、効率よく得られ、その目的を達
成しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づ
いて完成したものである。すなわち、本発明は、(A)
遷移金属化合物及び(B)該遷移金属化合物と反応する
イオン性化合物を主成分とする重合用触媒の存在下、
(イ)エチレン又はエチレン及びα−オレフィンと
(ロ)一般式(I)
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の重合用
触媒の存在下、エチレン又はエチレン及びα−オレフィ
ンと特定の構造を有する環状ジエンとを共重合させるこ
とにより、特定の性状を有するエチレン系共重合体がゲ
ル化を生じることなく、効率よく得られ、その目的を達
成しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づ
いて完成したものである。すなわち、本発明は、(A)
遷移金属化合物及び(B)該遷移金属化合物と反応する
イオン性化合物を主成分とする重合用触媒の存在下、
(イ)エチレン又はエチレン及びα−オレフィンと
(ロ)一般式(I)
【0007】
【化2】
【0008】(式中、R1 〜R10はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、nは0
以上の整数であり、Rは炭素数2〜20のアルケニル基
又はアルキリデン基を示す。)で表されるノルボルネン
骨格と不飽和基とからなる環状ジエンとを共重合させ
て、該環状ジエンに由来する単位の含有量が0.01〜5
モル%、温度135℃のデカリン中で測定した極限粘度
が0.01〜30デシリットル/g及び示差走査熱量計
(DSC)による結晶化エンタルピー(ΔH)が75J
/g以上であるエチレン系共重合体を製造する方法を提
供するものである。本発明の方法においては、(イ)エ
チレン又はエチレン及びα−オレフィンと(ロ)上記一
般式(I)で表されるノルボルネン骨格と不飽和基とか
らなる環状ジエンとを、後で説明する重合用触媒の存在
下に共重合させて、特定の性状を有するエチレン系共重
合体を製造する。
ハロゲン原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、nは0
以上の整数であり、Rは炭素数2〜20のアルケニル基
又はアルキリデン基を示す。)で表されるノルボルネン
骨格と不飽和基とからなる環状ジエンとを共重合させ
て、該環状ジエンに由来する単位の含有量が0.01〜5
モル%、温度135℃のデカリン中で測定した極限粘度
が0.01〜30デシリットル/g及び示差走査熱量計
(DSC)による結晶化エンタルピー(ΔH)が75J
/g以上であるエチレン系共重合体を製造する方法を提
供するものである。本発明の方法においては、(イ)エ
チレン又はエチレン及びα−オレフィンと(ロ)上記一
般式(I)で表されるノルボルネン骨格と不飽和基とか
らなる環状ジエンとを、後で説明する重合用触媒の存在
下に共重合させて、特定の性状を有するエチレン系共重
合体を製造する。
【0009】20発明においては、(イ)単量体成分と
して、エチレン又はエチレンとα−オレフィンとが用い
られるが、該α−オレフィンとしては、例えばプロピレ
ン,1−ブテン,1−ペンテン,1−ヘキセン,1−オ
クテン,4−メチルペンテン−1などの炭素数3〜20
のα−オレフィンが挙げられ、これらのα−オレフィン
は一種用いてもよいし、二種以上を組合せて用いてもよ
い。エチレンとα−オレフィンとを組合せて用いる場合
には、該α−オレフィンは、得られる共重合体中のエチ
レン単位とα−オレフィン単位との合計量に対し、α−
オレフィン単位の量が25重量%以下になるような割合
で用いるのが望ましい。一方、(ロ)単量体成分の環状
ジエンとしては、一般式(I)
して、エチレン又はエチレンとα−オレフィンとが用い
られるが、該α−オレフィンとしては、例えばプロピレ
ン,1−ブテン,1−ペンテン,1−ヘキセン,1−オ
クテン,4−メチルペンテン−1などの炭素数3〜20
のα−オレフィンが挙げられ、これらのα−オレフィン
は一種用いてもよいし、二種以上を組合せて用いてもよ
い。エチレンとα−オレフィンとを組合せて用いる場合
には、該α−オレフィンは、得られる共重合体中のエチ
レン単位とα−オレフィン単位との合計量に対し、α−
オレフィン単位の量が25重量%以下になるような割合
で用いるのが望ましい。一方、(ロ)単量体成分の環状
ジエンとしては、一般式(I)
【0010】
【化3】
【0011】で表されるノルボルネン骨格と不飽和基と
からなるものが用いられる。該一般式(I)において、
R1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜20の炭化水素基であり、ハロゲン原子として
は、塩素原子,フッ素原子,臭素原子などが挙げられ
る。炭素数1〜20の炭化水素基としては、例えばメチ
ル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,
ヘキシル基,シクロヘキシル基,オクチル基,デシル
基,ドデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘ
プタデシル基,オクタデシル基及びこれらに対応するア
ルコキシル基などが挙げられる。該R1 〜R10は、たが
いに同一でも、異なっていてもよい。Rは炭素数2〜2
0のアルケニル基又はアルキリデン基を示し、nは0以
上の整数である。上記一般式(I)で表される環状ジエ
ンの代表例としては、5−ビニル−2−ノルボルネン,
5−エチリデン−2−ノルボルネン,5−イソプロピリ
デン−2−ノルボルネン,5−プロペニル−2−ノルボ
ルネン,5−アリル−2−ノルボルネンなどが挙げら
れ、これらは一種用いてもよく、あるいは二種以上を組
み合わせて用いてもよい。
からなるものが用いられる。該一般式(I)において、
R1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜20の炭化水素基であり、ハロゲン原子として
は、塩素原子,フッ素原子,臭素原子などが挙げられ
る。炭素数1〜20の炭化水素基としては、例えばメチ
ル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,
ヘキシル基,シクロヘキシル基,オクチル基,デシル
基,ドデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘ
プタデシル基,オクタデシル基及びこれらに対応するア
ルコキシル基などが挙げられる。該R1 〜R10は、たが
いに同一でも、異なっていてもよい。Rは炭素数2〜2
0のアルケニル基又はアルキリデン基を示し、nは0以
上の整数である。上記一般式(I)で表される環状ジエ
ンの代表例としては、5−ビニル−2−ノルボルネン,
5−エチリデン−2−ノルボルネン,5−イソプロピリ
デン−2−ノルボルネン,5−プロペニル−2−ノルボ
ルネン,5−アリル−2−ノルボルネンなどが挙げら
れ、これらは一種用いてもよく、あるいは二種以上を組
み合わせて用いてもよい。
【0012】本発明の方法においては、重合用触媒とし
て、(A)遷移金属化合物及び(B)該遷移金属化合物
と反応するイオン性化合物を主成分とするものが用いら
れる。該(A)成分の遷移金属化合物としては、周期律
表3〜10族に属する金属又はランタノイド系列の金属
を含む遷移金属化合物を使用することができる。上記遷
移金属としては、具体的にはチタニウム,ジルコニウ
ム,ハフニウム,クロム,マンガン,ニッケル,パラジ
ウム又は白金などが好ましく、特にジルコニウム,ハフ
ニウム,チタン,ニッケル,パラジウムが好ましい。こ
のような遷移金属化合物としては、種々のものが挙げら
れるが特に4族,8〜10族の遷移金属を含む化合物、
中でも周期律表の4族から選ばれる遷移金属、すなわち
チタニウム,ジルコニウム又はハフニウムを含有する化
合物を好適に用いることができる。特に、一般式 CpM1R11 aR12 bR13 c ・・・(II) Cp2M1R11 aR12 b ・・・(III) (Cp−Ae −Cp)M1R11 aR12 b ・・・(IV) 又は一般式 M1R11 aR12 bR13 cR14 d ・・・(V) で示される化合物やその誘導体が好適である。
て、(A)遷移金属化合物及び(B)該遷移金属化合物
と反応するイオン性化合物を主成分とするものが用いら
れる。該(A)成分の遷移金属化合物としては、周期律
表3〜10族に属する金属又はランタノイド系列の金属
を含む遷移金属化合物を使用することができる。上記遷
移金属としては、具体的にはチタニウム,ジルコニウ
ム,ハフニウム,クロム,マンガン,ニッケル,パラジ
ウム又は白金などが好ましく、特にジルコニウム,ハフ
ニウム,チタン,ニッケル,パラジウムが好ましい。こ
のような遷移金属化合物としては、種々のものが挙げら
れるが特に4族,8〜10族の遷移金属を含む化合物、
中でも周期律表の4族から選ばれる遷移金属、すなわち
チタニウム,ジルコニウム又はハフニウムを含有する化
合物を好適に用いることができる。特に、一般式 CpM1R11 aR12 bR13 c ・・・(II) Cp2M1R11 aR12 b ・・・(III) (Cp−Ae −Cp)M1R11 aR12 b ・・・(IV) 又は一般式 M1R11 aR12 bR13 cR14 d ・・・(V) で示される化合物やその誘導体が好適である。
【0013】前記一般式(II) 〜(V)において、M1
はチタン,ジルコニウム又はハフニウムなどの周期律表
第4族遷移金属を示し、Cpはシクロペンタジエニル
基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラ
ヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置換フルオレ
ニル基などの環状不飽和炭化水素基又は鎖状不飽和炭化
水素基を示す。R11,R 12,R13及びR14はそれぞれ独
立にσ結合性の配位子,キレート性の配位子,ルイス塩
基などの配位子を示し、σ結合性の配位子としては、具
体的には水素原子,酸素原子,ハロゲン原子,炭素数1
〜20のアルキル基,炭素数1〜20のアルコキシ基、
炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール基若し
くはアリールアルキル基、炭素数1〜20のアシルオキ
シ基,アリル基,置換アリル基,ケイ素原子を含む置換
基などを例示でき、またキレート性の配位子としては、
アセチルアセトナート基,置換アセチルアセトナート基
などを例示できる。Aは共有結合による架橋を示す。
a,b,c及びdはそれぞれ独立に0〜4の整数、eは
0〜6の整数を示す。R11,R12,R13及びR14はその
2以上が互いに結合して環を形成してもよい。上記Cp
が置換基を有する場合には、該置換基は炭素数1〜20
のアルキル基が好ましい。(III)式及び(IV)式におい
て、2つのCpは同一のものであってもよく、互いに異
なるものであってもよい。
はチタン,ジルコニウム又はハフニウムなどの周期律表
第4族遷移金属を示し、Cpはシクロペンタジエニル
基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラ
ヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置換フルオレ
ニル基などの環状不飽和炭化水素基又は鎖状不飽和炭化
水素基を示す。R11,R 12,R13及びR14はそれぞれ独
立にσ結合性の配位子,キレート性の配位子,ルイス塩
基などの配位子を示し、σ結合性の配位子としては、具
体的には水素原子,酸素原子,ハロゲン原子,炭素数1
〜20のアルキル基,炭素数1〜20のアルコキシ基、
炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール基若し
くはアリールアルキル基、炭素数1〜20のアシルオキ
シ基,アリル基,置換アリル基,ケイ素原子を含む置換
基などを例示でき、またキレート性の配位子としては、
アセチルアセトナート基,置換アセチルアセトナート基
などを例示できる。Aは共有結合による架橋を示す。
a,b,c及びdはそれぞれ独立に0〜4の整数、eは
0〜6の整数を示す。R11,R12,R13及びR14はその
2以上が互いに結合して環を形成してもよい。上記Cp
が置換基を有する場合には、該置換基は炭素数1〜20
のアルキル基が好ましい。(III)式及び(IV)式におい
て、2つのCpは同一のものであってもよく、互いに異
なるものであってもよい。
【0014】上記(II) 〜(IV)式における置換シクロ
ペンタジエニル基としては、例えばメチルシクロペンタ
ジエニル基,エチルシクロペンタジエニル基;イソプロ
ピルシクロペンタジエニル基;1,2−ジメチルシクロ
ペンタジエニル基;テトラメチルシクロペンタジエニル
基;1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基;1,
2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基;1,2,
4−トリメチルシクロペンタジエニル基;ペンタメチル
シクロペンタジエニル基;トリメチルシリルシクロペン
タジエニル基などが挙げられる。また、上記(II) 〜
(V)式におけるR 11〜R14の具体例としては、例えば
ハロゲン原子としてフッ素原子,塩素原子,臭素原子,
ヨウ素原子、炭素数1〜20のアルキル基としてメチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基としてメトキシ基,エトキシ
基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノキシ基、炭素数
6〜20のアリール基,アルキルアリール基若しくはア
リールアルキル基としてフェニル基,トリル基,キシリ
ル基,ベンジル基、炭素数1〜20のアシルオキシ基と
してヘプタデシルカルボニルオキシ基、ケイ素原子を含
む置換基としてトリメチルシリル基、(トリメチルシリ
ル)メチル基、ルイス塩基としてジメチルエーテル,ジ
エチルエーテル,テトラヒドロフランなどのエーテル
類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、エ
チルベンゾエートなどのエステル類、アセトニトリル;
ベンゾニトリルなどのニトリル類、トリメチルアミン;
トリエチルアミン;トリブチルアミン;N,N−ジメチ
ルアニリン;ピリジン;2,2’−ビピリジン;フェナ
ントロリンなどのアミン類、トリエチルホスフィン;ト
リフェニルホスフィンなどのホスフィン類、エチレン;
ブタジエン;1−ペンテン;イソプレン;ペンタジエ
ン;1−ヘキセン及びこれらの誘導体などの鎖状不飽和
炭化水素、ベンゼン;トルエン;キシレン;シクロヘプ
タトリエン;シクロオクタジエン;シクロオクタトリエ
ン;シクロオクタテトラエン及びこれらの誘導体などの
環状不飽和炭化水素などが挙げられる。また、上記(I
V)式におけるAの共有結合による架橋としては、例え
ば、メチレン架橋,ジメチルメチレン架橋,エチレン架
橋,1,1’−シクロヘキシレン架橋,ジメチルシリレ
ン架橋,ジメチルゲルミレン架橋,ジメチルスタニレン
架橋などが挙げられる。
ペンタジエニル基としては、例えばメチルシクロペンタ
ジエニル基,エチルシクロペンタジエニル基;イソプロ
ピルシクロペンタジエニル基;1,2−ジメチルシクロ
ペンタジエニル基;テトラメチルシクロペンタジエニル
基;1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基;1,
2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基;1,2,
4−トリメチルシクロペンタジエニル基;ペンタメチル
シクロペンタジエニル基;トリメチルシリルシクロペン
タジエニル基などが挙げられる。また、上記(II) 〜
(V)式におけるR 11〜R14の具体例としては、例えば
ハロゲン原子としてフッ素原子,塩素原子,臭素原子,
ヨウ素原子、炭素数1〜20のアルキル基としてメチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基としてメトキシ基,エトキシ
基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノキシ基、炭素数
6〜20のアリール基,アルキルアリール基若しくはア
リールアルキル基としてフェニル基,トリル基,キシリ
ル基,ベンジル基、炭素数1〜20のアシルオキシ基と
してヘプタデシルカルボニルオキシ基、ケイ素原子を含
む置換基としてトリメチルシリル基、(トリメチルシリ
ル)メチル基、ルイス塩基としてジメチルエーテル,ジ
エチルエーテル,テトラヒドロフランなどのエーテル
類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、エ
チルベンゾエートなどのエステル類、アセトニトリル;
ベンゾニトリルなどのニトリル類、トリメチルアミン;
トリエチルアミン;トリブチルアミン;N,N−ジメチ
ルアニリン;ピリジン;2,2’−ビピリジン;フェナ
ントロリンなどのアミン類、トリエチルホスフィン;ト
リフェニルホスフィンなどのホスフィン類、エチレン;
ブタジエン;1−ペンテン;イソプレン;ペンタジエ
ン;1−ヘキセン及びこれらの誘導体などの鎖状不飽和
炭化水素、ベンゼン;トルエン;キシレン;シクロヘプ
タトリエン;シクロオクタジエン;シクロオクタトリエ
ン;シクロオクタテトラエン及びこれらの誘導体などの
環状不飽和炭化水素などが挙げられる。また、上記(I
V)式におけるAの共有結合による架橋としては、例え
ば、メチレン架橋,ジメチルメチレン架橋,エチレン架
橋,1,1’−シクロヘキシレン架橋,ジメチルシリレ
ン架橋,ジメチルゲルミレン架橋,ジメチルスタニレン
架橋などが挙げられる。
【0015】前記一般式(II) で表される化合物として
は、例えば、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ト
リメチルジルコニウム,(ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)トリフェニルジルコニウム,(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)トリベンジルジルコニウム,(ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)トリクロロジルコニ
ウム,(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリメト
キシジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリメチ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリフェニ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリベンジ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリクロロ
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリメトキシ
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)ジメチル(メ
トキシ)ジルコニウム,(メチルシクロペンタジエニ
ル)トリメチルジルコニウム,(メチルシクロペンタジ
エニル)トリフェニルジルコニウム,(メチルシクロペ
ンタジエニル)トリベンジルジルコニウム,(メチルシ
クロペンタジエニル)トリクロロジルコニウム,(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジメチル(メトキシ)ジルコ
ニウム,(ジメチルシクロペンタジエニル)トリクロロ
ジルコニウム,(トリメチルシクロペンタジエニル)ト
リクロロジルコニウム,(トリメチルシクロペンタジエ
ニル)トリメチルジルコニウム,(テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)トリクロロジルコニウムなど、さらに
はこれらにおいて、ジルコニウムをチタン又はハフニウ
ムに置換した化合物が挙げられる。
は、例えば、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ト
リメチルジルコニウム,(ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)トリフェニルジルコニウム,(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)トリベンジルジルコニウム,(ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)トリクロロジルコニ
ウム,(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリメト
キシジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリメチ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリフェニ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリベンジ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリクロロ
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリメトキシ
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)ジメチル(メ
トキシ)ジルコニウム,(メチルシクロペンタジエニ
ル)トリメチルジルコニウム,(メチルシクロペンタジ
エニル)トリフェニルジルコニウム,(メチルシクロペ
ンタジエニル)トリベンジルジルコニウム,(メチルシ
クロペンタジエニル)トリクロロジルコニウム,(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジメチル(メトキシ)ジルコ
ニウム,(ジメチルシクロペンタジエニル)トリクロロ
ジルコニウム,(トリメチルシクロペンタジエニル)ト
リクロロジルコニウム,(トリメチルシクロペンタジエ
ニル)トリメチルジルコニウム,(テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)トリクロロジルコニウムなど、さらに
はこれらにおいて、ジルコニウムをチタン又はハフニウ
ムに置換した化合物が挙げられる。
【0016】前記一般式(III)で表される化合物として
は、例えばビス(シクロペンタジエニル)ジメチルジル
コニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジフェニルジ
ルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジエチルジ
ルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジベンジル
ジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジメトキ
シジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジクロ
ロジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジヒド
リドジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)モノ
クロロモノヒドリドジルコニウム,ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ビス(メチル
シクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウ
ム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジメチ
ルジルコニウム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)ジクロロジルコニウム,ビス(ペンタメチルシク
ロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウム,ビス(ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)クロロメチルジルコ
ニウム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒ
ドリドメチルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコ
ニウムなど、さらにはこれらにおいて、ジルコニウムを
チタン又はハフニウムに置換した化合物が挙げられる。
は、例えばビス(シクロペンタジエニル)ジメチルジル
コニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジフェニルジ
ルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジエチルジ
ルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジベンジル
ジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジメトキ
シジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジクロ
ロジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)ジヒド
リドジルコニウム,ビス(シクロペンタジエニル)モノ
クロロモノヒドリドジルコニウム,ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ビス(メチル
シクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウ
ム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジメチ
ルジルコニウム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)ジクロロジルコニウム,ビス(ペンタメチルシク
ロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウム,ビス(ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)クロロメチルジルコ
ニウム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒ
ドリドメチルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコ
ニウムなど、さらにはこれらにおいて、ジルコニウムを
チタン又はハフニウムに置換した化合物が挙げられる。
【0017】また、前記一般式(IV)で表される化合物
としては、例えばエチレンビス(インデニル)ジメチル
ジルコニウム,エチレンビス(インデニル)ジクロロジ
ルコニウム,エチレンビス(テトラヒドロインデニル)
ジメチルジルコニウム,エチレンビス(テトラヒドロイ
ンデニル)ジクロロジルコニウム,ジメチルシリレンビ
ス(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジ
メチルシリレンビス(シクロペンタジエニル)ジクロロ
ジルコニウム,イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(9−フルオレニル)ジメチルジルコニウム,イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(9−フルオレ
ニル)ジクロロジルコニウム,〔フェニル(メチル)メ
チレン〕(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニ
ル)ジメチルジルコニウム,ジフェニルメチレン(シク
ロペンタジエニル)(9−フルオレニル)ジメチルジル
コニウム,エチレン(9−フルオレニル)(シクロペン
タジエニル)ジメチルジルコニウム,シクロヘキサリデ
ン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム,シクロペンチリデン(9−フルオレ
ニル)(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウ
ム,シクロブチリデン(9−フルオレニル)(シクロペ
ンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジメチルシリレ
ン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム,ジメチルシリレンビス(2,3,5
−トリメチルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニ
ウム,ジメチルシリレンビス(2,3,5−トリメチル
シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジメチ
ルシリレンスビス(インデニル)ジクロロジルコニウム
などが、さらには、これらにおいて、ジルコニウムをチ
タン又はハフニウムに置換して化合物が挙げられる。
としては、例えばエチレンビス(インデニル)ジメチル
ジルコニウム,エチレンビス(インデニル)ジクロロジ
ルコニウム,エチレンビス(テトラヒドロインデニル)
ジメチルジルコニウム,エチレンビス(テトラヒドロイ
ンデニル)ジクロロジルコニウム,ジメチルシリレンビ
ス(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジ
メチルシリレンビス(シクロペンタジエニル)ジクロロ
ジルコニウム,イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(9−フルオレニル)ジメチルジルコニウム,イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(9−フルオレ
ニル)ジクロロジルコニウム,〔フェニル(メチル)メ
チレン〕(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニ
ル)ジメチルジルコニウム,ジフェニルメチレン(シク
ロペンタジエニル)(9−フルオレニル)ジメチルジル
コニウム,エチレン(9−フルオレニル)(シクロペン
タジエニル)ジメチルジルコニウム,シクロヘキサリデ
ン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム,シクロペンチリデン(9−フルオレ
ニル)(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウ
ム,シクロブチリデン(9−フルオレニル)(シクロペ
ンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジメチルシリレ
ン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム,ジメチルシリレンビス(2,3,5
−トリメチルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニ
ウム,ジメチルシリレンビス(2,3,5−トリメチル
シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ジメチ
ルシリレンスビス(インデニル)ジクロロジルコニウム
などが、さらには、これらにおいて、ジルコニウムをチ
タン又はハフニウムに置換して化合物が挙げられる。
【0018】さらに、前記一般式(V)で表される化合
物としては、例えばテトラメチルジルコニウム,テトラ
ベンジルジルコニウム,テトラメトキシジルコニウム,
テトラエトキシジルコニウム,テトラブトキシジルコニ
ウム,テトラクロロジルコニウム,テトラブロモジルコ
ニウム,ブトキシトリクロロジルコニウム,ジブトキシ
ジクロロジルコニウム,ビス(2,5−ジ−t−ブチル
フェノキシ)ジメチルジルコニウム,ビス(2,5−ジ
−t−ブチルフェノキシ)ジクロロジルコニウム,ジル
コニウムビス(アセチルアセトナート)など、さらに
は、これらにおいて、ジルコニウムをチタン又はハフニ
ウムに置換した化合物が挙げられる。
物としては、例えばテトラメチルジルコニウム,テトラ
ベンジルジルコニウム,テトラメトキシジルコニウム,
テトラエトキシジルコニウム,テトラブトキシジルコニ
ウム,テトラクロロジルコニウム,テトラブロモジルコ
ニウム,ブトキシトリクロロジルコニウム,ジブトキシ
ジクロロジルコニウム,ビス(2,5−ジ−t−ブチル
フェノキシ)ジメチルジルコニウム,ビス(2,5−ジ
−t−ブチルフェノキシ)ジクロロジルコニウム,ジル
コニウムビス(アセチルアセトナート)など、さらに
は、これらにおいて、ジルコニウムをチタン又はハフニ
ウムに置換した化合物が挙げられる。
【0019】さらに、(A)成分として、前記一般式
(IV) の中で、置換若しくは無置換の2個の共役シクロ
ペンタジエニル基(但し、少なくとも1個は置換シクロ
ペンタジエニル基である)が周期律表の14族から選ば
れる元素を介して互いに結合した多重配位性化合物を配
位子とする4族遷移金属化合物を好適に用いることがで
きる。このような化合物としては、例えば一般式(VI)
(IV) の中で、置換若しくは無置換の2個の共役シクロ
ペンタジエニル基(但し、少なくとも1個は置換シクロ
ペンタジエニル基である)が周期律表の14族から選ば
れる元素を介して互いに結合した多重配位性化合物を配
位子とする4族遷移金属化合物を好適に用いることがで
きる。このような化合物としては、例えば一般式(VI)
【0020】
【化4】
【0021】で表される化合物又はその誘導体を挙げる
ことができる。前記一般式(VI) 中のY1は炭素,ケイ
素,ゲルマニウム又はスズ原子,R15 t −C5 H4-t 及
びR15 u −C5 H4-u はそれぞれ置換シクロペンタジエ
ニル基、t及びuは1〜4の整数を示す。ここで、R15
は水素原子,シリル基又は炭化水素基を示し、互いに同
一であっても異なっていてもよい。また、少なくとも片
方のシクロペンタジエニル基には、Y1に結合している
炭素の隣の少なくとも片方の炭素上にR15が存在する。
R16は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素
数6〜20のアリール基,アルキルアリール基若しくは
アリールアルキル基を示す。M2 はチタン,ジルコニウ
ム又はハフニウム原子を示し、X1 は水素原子,ハロゲ
ン原子,炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20
のアリール基、アルキルアリール基若しくはアリールア
ルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基を示す。X
1 は互いに同一であっても異なっていてもよく、R16も
互いに同一であっても異なっていてもよい。
ことができる。前記一般式(VI) 中のY1は炭素,ケイ
素,ゲルマニウム又はスズ原子,R15 t −C5 H4-t 及
びR15 u −C5 H4-u はそれぞれ置換シクロペンタジエ
ニル基、t及びuは1〜4の整数を示す。ここで、R15
は水素原子,シリル基又は炭化水素基を示し、互いに同
一であっても異なっていてもよい。また、少なくとも片
方のシクロペンタジエニル基には、Y1に結合している
炭素の隣の少なくとも片方の炭素上にR15が存在する。
R16は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素
数6〜20のアリール基,アルキルアリール基若しくは
アリールアルキル基を示す。M2 はチタン,ジルコニウ
ム又はハフニウム原子を示し、X1 は水素原子,ハロゲ
ン原子,炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20
のアリール基、アルキルアリール基若しくはアリールア
ルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基を示す。X
1 は互いに同一であっても異なっていてもよく、R16も
互いに同一であっても異なっていてもよい。
【0022】上記一般式(VI) における置換シクロペン
タジエニル基としては、例えばメチルシクロペンタジエ
ニル基;エチルシクロペンタジエニル基;イソプロピル
シクロペンタジエニル基;1,2−ジメチルシクロペン
タジエニル基;1,3−ジメチルシクロペンタジエニル
基;1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基;
1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基などが
挙げられる。X1の具体例としては、ハロゲン原子とし
てF,Cl,Br,I、炭素数1〜20のアルキル基と
してメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基としてメトキシ基,
エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノキシ
基、炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール基
若しくはアリールアルキル基としてフェニル基,トリル
基,キシリル基、ベンジル基などが挙げられる。R16の
具体例としてはメチル基,エチル基,フェニル基,トリ
ル基,キシリル基、ベンジル基などが挙げられる。この
ような一般式(VI) の化合物としては、例えばジメチル
シリレンビス(2,3,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、及びこれらのジルコ
ニウムをチタン又はハフニウムに置換した化合物を挙げ
ることができる。さらに、一般式(VII)
タジエニル基としては、例えばメチルシクロペンタジエ
ニル基;エチルシクロペンタジエニル基;イソプロピル
シクロペンタジエニル基;1,2−ジメチルシクロペン
タジエニル基;1,3−ジメチルシクロペンタジエニル
基;1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基;
1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基などが
挙げられる。X1の具体例としては、ハロゲン原子とし
てF,Cl,Br,I、炭素数1〜20のアルキル基と
してメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基としてメトキシ基,
エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノキシ
基、炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール基
若しくはアリールアルキル基としてフェニル基,トリル
基,キシリル基、ベンジル基などが挙げられる。R16の
具体例としてはメチル基,エチル基,フェニル基,トリ
ル基,キシリル基、ベンジル基などが挙げられる。この
ような一般式(VI) の化合物としては、例えばジメチル
シリレンビス(2,3,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、及びこれらのジルコ
ニウムをチタン又はハフニウムに置換した化合物を挙げ
ることができる。さらに、一般式(VII)
【0023】
【化5】
【0024】で表される化合物も包含する。該一般式
(VII)の化合物において、Cpはシクロペンタジエニル
基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラ
ヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置換フルオレ
ニル基などの環状不飽和炭化水素基又は鎖状不飽和炭化
水素基を示す。M3 はチタン,ジルコニウム又はハフニ
ウム原子を示し、X2 は水素原子,ハロゲン原子,炭素
数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基又
は炭素数1〜20のアルコキシ基を示す。ZはSiR17
2 ,CR17 2 ,SiR17 2 SiR17 2 ,CR17 2 CR17
2 ,CR17 2 CR17 2 CR17 2 ,CR17=CR17,CR
17 2 SiR17 2又はGeR17 2 を示し、Y2 は−N(R
18) −,−O−,−S−又は−P(R18)−を示す。上
記R17は水素原子又は20個までの非水素原子をもつア
ルキル,アリール,シリル,ハロゲン化アルキル,ハロ
ゲン化アリール基及びそれらの組合せから選ばれた基で
あり、R18は炭素数1〜10のアルキル若しくは炭素数
6〜10のアリール基であるか、又は1個若しくはそれ
以上のR17と30個までの非水素原子の縮合環系を形成
してもよい。wは1又は2を示す。
(VII)の化合物において、Cpはシクロペンタジエニル
基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラ
ヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置換フルオレ
ニル基などの環状不飽和炭化水素基又は鎖状不飽和炭化
水素基を示す。M3 はチタン,ジルコニウム又はハフニ
ウム原子を示し、X2 は水素原子,ハロゲン原子,炭素
数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基又
は炭素数1〜20のアルコキシ基を示す。ZはSiR17
2 ,CR17 2 ,SiR17 2 SiR17 2 ,CR17 2 CR17
2 ,CR17 2 CR17 2 CR17 2 ,CR17=CR17,CR
17 2 SiR17 2又はGeR17 2 を示し、Y2 は−N(R
18) −,−O−,−S−又は−P(R18)−を示す。上
記R17は水素原子又は20個までの非水素原子をもつア
ルキル,アリール,シリル,ハロゲン化アルキル,ハロ
ゲン化アリール基及びそれらの組合せから選ばれた基で
あり、R18は炭素数1〜10のアルキル若しくは炭素数
6〜10のアリール基であるか、又は1個若しくはそれ
以上のR17と30個までの非水素原子の縮合環系を形成
してもよい。wは1又は2を示す。
【0025】また、5族〜10族の遷移金属を含む遷移
金属化合物としては特に制限はなく、クロム化合物の具
体例としては、テトラメチルクロム,テトラ(t−ブト
キシ)クロム,ビス(シクロペンタジエニル)クロム,
ヒドリドトリカルボニル(シクロペンタジエニル)クロ
ム,ヘキサカルボニル(シクロペンタジエニル)クロ
ム,ビス(ベンゼン)クロム,トリカルボニルトリス
(ホスホン酸トリフェニル)クロム,トリス(アリル)
クロム,トリフェニルトリス(テトラヒドロフラン)ク
ロム,クロムトリス(アセチルアセトナート)などが挙
げられる。マンガン化合物の具体例としては、トリカル
ボニル(シクロペンタジエニル)マンガン,ペンタカル
ボニルメチルマンガン,ビス(シクロペンタジエニル)
マンガン,マンガンビス(アセチルアセトナート)など
が挙げられる。ニッケル化合物の具体例としては、ジカ
ルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル,ジ
ブロモビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル,二窒
素ビス〔ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ニッケ
ル〕,クロロヒドリドビス(トリシクロヘキシルホスフ
ィン)ニッケル,クロロ(フェニル)ビス(トリフェニ
ルホスフィン)ニッケル,ジメチルビス(トリメチルホ
スフィン)ニッケル,ジエチル(2,2’−ビピリジ
ル)ニッケル,ビス(アリル)ニッケル,ビス(シクロ
ペンタジエニル)ニッケル,ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ニッケル,ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)ニッケル,アリル(シクロペンタジエニル)
ニッケル,(シクロペンタジエニル)(シクロオクタジ
エン)ニッケルテトラフルオロ硼酸塩,ビス(シクロオ
クタジエン)ニッケル,ニッケルビスアセチルアセトナ
ート,アリルニッケルクロライド,テトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)ニッケル,塩化ニッケル,式 (C6 H5)Ni〔OC(C6 H5)CH=P(C
6 H5)2 〕〔P(C6 H5)3 〕,(C6 H5)Ni〔OC
(C6 H5)C(SO3 Na)=P(C6 H5)2 〕〔P
(C 6 H5)3 〕で表される化合物などが挙げられる。
金属化合物としては特に制限はなく、クロム化合物の具
体例としては、テトラメチルクロム,テトラ(t−ブト
キシ)クロム,ビス(シクロペンタジエニル)クロム,
ヒドリドトリカルボニル(シクロペンタジエニル)クロ
ム,ヘキサカルボニル(シクロペンタジエニル)クロ
ム,ビス(ベンゼン)クロム,トリカルボニルトリス
(ホスホン酸トリフェニル)クロム,トリス(アリル)
クロム,トリフェニルトリス(テトラヒドロフラン)ク
ロム,クロムトリス(アセチルアセトナート)などが挙
げられる。マンガン化合物の具体例としては、トリカル
ボニル(シクロペンタジエニル)マンガン,ペンタカル
ボニルメチルマンガン,ビス(シクロペンタジエニル)
マンガン,マンガンビス(アセチルアセトナート)など
が挙げられる。ニッケル化合物の具体例としては、ジカ
ルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル,ジ
ブロモビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル,二窒
素ビス〔ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ニッケ
ル〕,クロロヒドリドビス(トリシクロヘキシルホスフ
ィン)ニッケル,クロロ(フェニル)ビス(トリフェニ
ルホスフィン)ニッケル,ジメチルビス(トリメチルホ
スフィン)ニッケル,ジエチル(2,2’−ビピリジ
ル)ニッケル,ビス(アリル)ニッケル,ビス(シクロ
ペンタジエニル)ニッケル,ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ニッケル,ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)ニッケル,アリル(シクロペンタジエニル)
ニッケル,(シクロペンタジエニル)(シクロオクタジ
エン)ニッケルテトラフルオロ硼酸塩,ビス(シクロオ
クタジエン)ニッケル,ニッケルビスアセチルアセトナ
ート,アリルニッケルクロライド,テトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)ニッケル,塩化ニッケル,式 (C6 H5)Ni〔OC(C6 H5)CH=P(C
6 H5)2 〕〔P(C6 H5)3 〕,(C6 H5)Ni〔OC
(C6 H5)C(SO3 Na)=P(C6 H5)2 〕〔P
(C 6 H5)3 〕で表される化合物などが挙げられる。
【0026】パラジウム化合物の具体例としては、ジク
ロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム,カルボニルト
リス(トリフェニルホスフィン)パラジウム,ジクロロ
ビス(トリエチルホスフィン)パラジウム,ビス(イソ
シアン化−t−ブチル)パラジウム,パラジウムビス
(アセチルアセトナート),ジクロロ(テトラフェニル
シクロブタジエン)パラジウム,ジクロロ(1,5−シ
クロオクタジエン)パラジウム,アリル(シクロペンタ
ジエニル)パラジウム,ビス(アリル)パラジウム,ア
リル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムテトラ
フルオロ硼酸塩,(アセチルアセトナート)(1,5−
シクロオクタジエン)パラジウムテトラフルオロ硼酸
塩,テトラキス(アセトニトリル)パラジウムニテトラ
フルオロ硼酸塩などが挙げられる。本発明で用いる重合
触媒においては、前記(A)成分の遷移金属化合物は一
種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
ロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム,カルボニルト
リス(トリフェニルホスフィン)パラジウム,ジクロロ
ビス(トリエチルホスフィン)パラジウム,ビス(イソ
シアン化−t−ブチル)パラジウム,パラジウムビス
(アセチルアセトナート),ジクロロ(テトラフェニル
シクロブタジエン)パラジウム,ジクロロ(1,5−シ
クロオクタジエン)パラジウム,アリル(シクロペンタ
ジエニル)パラジウム,ビス(アリル)パラジウム,ア
リル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムテトラ
フルオロ硼酸塩,(アセチルアセトナート)(1,5−
シクロオクタジエン)パラジウムテトラフルオロ硼酸
塩,テトラキス(アセトニトリル)パラジウムニテトラ
フルオロ硼酸塩などが挙げられる。本発明で用いる重合
触媒においては、前記(A)成分の遷移金属化合物は一
種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【0027】一方、該重合用触媒における(B)成分の
イオン性化合物としては、前記(A)成分の遷移金属化
合物と反応するイオン性化合物であればいずれのもので
も使用できるが、カチオンと複数の基が元素に結合した
アニオンとからなる化合物、特にカチオンと複数の基が
元素に結合したアニオンとからなる配位錯化合物を好適
に使用することができる。このようなカチオンと複数の
基が元素に結合したアニオンとからなる化合物として
は、一般式 (〔L1 −R19〕k+)p (〔M4 Z1 Z2 ・・Zn 〕(h-g)-)q ・・・(VIII) 又は (〔L2 〕k+)p (〔M5 Z1 Z2 ・・Zn 〕(h-g)-)q ・・・(IX) (但し、L2 はM6 ,R20R21M7 ,R22 3 C又はR23
M7 である)〔式中、L1 はルイス塩基、M4 及びM5
はそれぞれ周期律表の5族,6族,7族,8〜10族,
11族,12族,13族,14族及び15族から選ばれ
る元素、好ましくは13族,14族及び15族から選ば
れる元素、M6 及びM7 はそれぞれ周期律表の3族,4
族,5族,6族,7族,8〜10族,1族,11族,2
族,12族及び17族から選ばれる元素、Z1 〜Zn は
それぞれ水素原子,ジアルキルアミノ基,炭素数1〜2
0のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリールオキシ
基,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のア
リール基,アルキルアリール基,アリールアルキル基、
炭素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基、炭素数1〜
20のアシルオキシ基、有機メタロイド基又はハロゲン
原子を示し、Z1 〜Zn はその2以上が互いに結合して
環を形成していてもよい。R19は水素原子、炭素数1〜
20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基,アル
キルアリール基又はアリールアルキル基を示し、R20及
びR21はそれぞれシクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基又はフルオレニル基、
R22は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基,アル
キルアリール基又はアリールアルキル基を示す。R23は
テトラフェニルポルフィリン,フタロシアニンなどの大
環状配位子を示す。gはM4 ,M5 の原子価で1〜7の
整数、hは2〜8の整数、kは〔L1 −R19〕,
〔L2 〕のイオン価数で1〜7の整数、pは1以上の整
数、q=(p×k)/(h−g)である。〕で表される
化合物である。
イオン性化合物としては、前記(A)成分の遷移金属化
合物と反応するイオン性化合物であればいずれのもので
も使用できるが、カチオンと複数の基が元素に結合した
アニオンとからなる化合物、特にカチオンと複数の基が
元素に結合したアニオンとからなる配位錯化合物を好適
に使用することができる。このようなカチオンと複数の
基が元素に結合したアニオンとからなる化合物として
は、一般式 (〔L1 −R19〕k+)p (〔M4 Z1 Z2 ・・Zn 〕(h-g)-)q ・・・(VIII) 又は (〔L2 〕k+)p (〔M5 Z1 Z2 ・・Zn 〕(h-g)-)q ・・・(IX) (但し、L2 はM6 ,R20R21M7 ,R22 3 C又はR23
M7 である)〔式中、L1 はルイス塩基、M4 及びM5
はそれぞれ周期律表の5族,6族,7族,8〜10族,
11族,12族,13族,14族及び15族から選ばれ
る元素、好ましくは13族,14族及び15族から選ば
れる元素、M6 及びM7 はそれぞれ周期律表の3族,4
族,5族,6族,7族,8〜10族,1族,11族,2
族,12族及び17族から選ばれる元素、Z1 〜Zn は
それぞれ水素原子,ジアルキルアミノ基,炭素数1〜2
0のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリールオキシ
基,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のア
リール基,アルキルアリール基,アリールアルキル基、
炭素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基、炭素数1〜
20のアシルオキシ基、有機メタロイド基又はハロゲン
原子を示し、Z1 〜Zn はその2以上が互いに結合して
環を形成していてもよい。R19は水素原子、炭素数1〜
20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基,アル
キルアリール基又はアリールアルキル基を示し、R20及
びR21はそれぞれシクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基又はフルオレニル基、
R22は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基,アル
キルアリール基又はアリールアルキル基を示す。R23は
テトラフェニルポルフィリン,フタロシアニンなどの大
環状配位子を示す。gはM4 ,M5 の原子価で1〜7の
整数、hは2〜8の整数、kは〔L1 −R19〕,
〔L2 〕のイオン価数で1〜7の整数、pは1以上の整
数、q=(p×k)/(h−g)である。〕で表される
化合物である。
【0028】ここで、上記L1 で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリ
ン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,N−メチルアニ
リン,ジフェニルアミン,トリメチルアミン,トリエチ
ルアミン,トリ−n−ブチルアミン,N,N−ジメチル
アニリン,メチルジフェニルアミン,ピリジン,p−ブ
ロモ−N,N−ジメチルアニリン,p−ニトロ−N,N
−ジメチルアニリンなどのアミン類、トリエチルフォス
フィン,トリフェニルフォスフィン,ジフェニルフォス
フィンなどのフォスフィン類、ジメチルエーテル,ジエ
チルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサンなどの
エーテル類、ジエチルチオエーテル,テトラヒドロチオ
フェンなどのチオエーテル類、エチルベンゾエートなど
のエステル類などが挙げられる。
具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリ
ン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,N−メチルアニ
リン,ジフェニルアミン,トリメチルアミン,トリエチ
ルアミン,トリ−n−ブチルアミン,N,N−ジメチル
アニリン,メチルジフェニルアミン,ピリジン,p−ブ
ロモ−N,N−ジメチルアニリン,p−ニトロ−N,N
−ジメチルアニリンなどのアミン類、トリエチルフォス
フィン,トリフェニルフォスフィン,ジフェニルフォス
フィンなどのフォスフィン類、ジメチルエーテル,ジエ
チルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサンなどの
エーテル類、ジエチルチオエーテル,テトラヒドロチオ
フェンなどのチオエーテル類、エチルベンゾエートなど
のエステル類などが挙げられる。
【0029】また、M4 及びM5 の具体例としては、
B,Al,Si,P,As,Sbなど、好ましくはB又
はP,M6 の具体例としては、Li,Na,Ag,C
u,Br,Iなど、M7 の具体例としては、Mn,F
e,Co,Ni,Znなどが挙げられる。Z1 〜Zn の
具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基としてジ
メチルアミノ基;ジエチルアミノ基、炭素数1〜20の
アルコキシ基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブト
キシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基としてフェ
ノキシ基;2,6−ジメチルフェノキシ基;ナフチルオ
キシ基、炭素数1〜20のアルキル基としてメチル基;
エチル基;n−プロピル基;イソプロピル基;n−ブチ
ル基;n−オクチル基;2−エチルヘキシル基、炭素数
6〜20のアリール基;アルキルアリール基若しくはア
リールアルキル基としてフェニル基;p−トリル基;ベ
ンジル基;4−t−ブチルフェニル基;2,6−ジメチ
ルフェニル基;3,5−ジメチルフェニル基;2,4−
ジメチルフェニル基;2,3−ジメチルフェニル基、炭
素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基としてp−フル
オロフェニル基;3,5−ジフルオロフェニル基;ペン
タクロロフェニル基;3,4,5−トリフルオロフェニ
ル基;ペンタフルオロフェニル基;3,5−ジ(トリフ
ルオロメチル)フェニル基、ハロゲン原子としてF,C
l,Br,I、有機メタロイド基として五メチルアンチ
モン基,トリメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,
ジフェニルアルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン
基,ジフェニル硼素基が挙げられる。R19,R22の具体
例としては先に挙げたものと同様なものが挙げられる。
R20及びR21の置換シクロペンタジエニル基の具体例と
しては、メチルシクロペンタジエニル基,ブチルシクロ
ペンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル
基などのアルキル基で置換されたものが挙げられる。こ
こで、アルキル基は通常炭素数が1〜6であり、置換さ
れたアルキル基の数は1〜5の整数である。
B,Al,Si,P,As,Sbなど、好ましくはB又
はP,M6 の具体例としては、Li,Na,Ag,C
u,Br,Iなど、M7 の具体例としては、Mn,F
e,Co,Ni,Znなどが挙げられる。Z1 〜Zn の
具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基としてジ
メチルアミノ基;ジエチルアミノ基、炭素数1〜20の
アルコキシ基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブト
キシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基としてフェ
ノキシ基;2,6−ジメチルフェノキシ基;ナフチルオ
キシ基、炭素数1〜20のアルキル基としてメチル基;
エチル基;n−プロピル基;イソプロピル基;n−ブチ
ル基;n−オクチル基;2−エチルヘキシル基、炭素数
6〜20のアリール基;アルキルアリール基若しくはア
リールアルキル基としてフェニル基;p−トリル基;ベ
ンジル基;4−t−ブチルフェニル基;2,6−ジメチ
ルフェニル基;3,5−ジメチルフェニル基;2,4−
ジメチルフェニル基;2,3−ジメチルフェニル基、炭
素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基としてp−フル
オロフェニル基;3,5−ジフルオロフェニル基;ペン
タクロロフェニル基;3,4,5−トリフルオロフェニ
ル基;ペンタフルオロフェニル基;3,5−ジ(トリフ
ルオロメチル)フェニル基、ハロゲン原子としてF,C
l,Br,I、有機メタロイド基として五メチルアンチ
モン基,トリメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,
ジフェニルアルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン
基,ジフェニル硼素基が挙げられる。R19,R22の具体
例としては先に挙げたものと同様なものが挙げられる。
R20及びR21の置換シクロペンタジエニル基の具体例と
しては、メチルシクロペンタジエニル基,ブチルシクロ
ペンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル
基などのアルキル基で置換されたものが挙げられる。こ
こで、アルキル基は通常炭素数が1〜6であり、置換さ
れたアルキル基の数は1〜5の整数である。
【0030】上記一般式(VIII),(IX)の化合物の中で
は、M4 ,M5 が硼素であるものが好ましい。一般式
(VIII),(IX)の化合物の中で、具体的には、下記のも
のが特に好適に使用できる。例えば、一般式(VIII) の
化合物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリ(n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,
テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラ
フェニル硼酸メチルトリ(n−ブチル)アンモニウム,
テトラフェニル硼酸ベンジルトリ(n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸メチルトリフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム,
テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフェニ
ル硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸メチ
ル(2−シアノピリジニウム),テトラフェニル硼酸ト
リメチルスルホニウム,テトラフェニル硼酸ベンジルメ
チルスルホニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸トリ(n−ブチル)アンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフ
ェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸テトラブチルアンモニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸テトラエチルアンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸〔メチ
ルトリ(n−ブチル)アンモニウム〕,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸〔ベンジルトリ(n−ブチ
ル)アンモニウム〕,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルトリフェニルア
ンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸アニリニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニリニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルア
ニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸トリメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸ジメチル(m−ニトロアニリニウ
ム),テトラキス(ペンタフルオロフェニルメチル)硼
酸ジメチル(p−ブロモアニリニウム),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸ピリジニウム,テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(p−シアノピリ
ジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸(N−メチルピリジニウム),テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(N−ベンジルピリジニウム),
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(O−シア
ノ−N−メチルピリジニウム),テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(p−シアノ−N−メチルピリジ
ニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
(p−シアノ−N−ベンジルピリジニウム),テトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリメチルスルホニ
ウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベン
ジルジメチルスルホニウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸テトラフェルホスホニウム,テトラキ
ス(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)硼酸ジメ
チルアニリウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)
(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニル)硼
酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニ
ル)硼酸トリエチルアンモニウム,トリス(ペンタフル
オロフェニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオ
ロフェニル)硼酸ピリジニウム,トリス(ペンタフルオ
ロフェニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオロ
フェニル)硼酸(N−メチルピリジニウム),トリス
(ペンタフルオロフェニル)(p−トリフルオロメチル
テトラフルオロフェニル)硼酸(O−シアノ−N−メチ
ルピリジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)
(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニル)硼
酸(p−シアノ−N−ベンジルピリジニウム),トリス
(ペンタフルオロフェニル)(p−トリフルオロメチル
テトラフルオロフェニル)硼酸トリフェニルホスホニウ
ム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,5,
6−テトラフルオロピリジニル)硼酸ジメチルアニリニ
ウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,
5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸トリエチルア
ンモニウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,
3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸ピリジニ
ウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,
5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸(N−メチル
ピリジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)
(2,3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸
(O−シアノ−N−メチルピリジニウム),トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)(2,3,5,6−テトラフル
オロピリジニル)硼酸(p−シアノ−N−ベンジルピリ
ジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,
3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸トリフェ
ニルホスホニウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)
(フェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペン
タフルオロフェニル)〔3,5−ジ(トリフルオロメチ
ル)フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)(4−トリフルオロメチルフェ
ニル)硼酸ジメチルアニリニウム,トリフェニル(ペン
タフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,ヘキ
サフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウムなどが挙げら
れる。
は、M4 ,M5 が硼素であるものが好ましい。一般式
(VIII),(IX)の化合物の中で、具体的には、下記のも
のが特に好適に使用できる。例えば、一般式(VIII) の
化合物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリ(n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,
テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラ
フェニル硼酸メチルトリ(n−ブチル)アンモニウム,
テトラフェニル硼酸ベンジルトリ(n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸メチルトリフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム,
テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフェニ
ル硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸メチ
ル(2−シアノピリジニウム),テトラフェニル硼酸ト
リメチルスルホニウム,テトラフェニル硼酸ベンジルメ
チルスルホニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸トリ(n−ブチル)アンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフ
ェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸テトラブチルアンモニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸テトラエチルアンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸〔メチ
ルトリ(n−ブチル)アンモニウム〕,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸〔ベンジルトリ(n−ブチ
ル)アンモニウム〕,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルトリフェニルア
ンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸アニリニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニリニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルア
ニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸トリメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸ジメチル(m−ニトロアニリニウ
ム),テトラキス(ペンタフルオロフェニルメチル)硼
酸ジメチル(p−ブロモアニリニウム),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸ピリジニウム,テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(p−シアノピリ
ジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼
酸(N−メチルピリジニウム),テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(N−ベンジルピリジニウム),
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(O−シア
ノ−N−メチルピリジニウム),テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(p−シアノ−N−メチルピリジ
ニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
(p−シアノ−N−ベンジルピリジニウム),テトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリメチルスルホニ
ウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベン
ジルジメチルスルホニウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸テトラフェルホスホニウム,テトラキ
ス(3,5−ジトリフルオロメチルフェニル)硼酸ジメ
チルアニリウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)
(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニル)硼
酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニ
ル)硼酸トリエチルアンモニウム,トリス(ペンタフル
オロフェニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオ
ロフェニル)硼酸ピリジニウム,トリス(ペンタフルオ
ロフェニル)(p−トリフルオロメチルテトラフルオロ
フェニル)硼酸(N−メチルピリジニウム),トリス
(ペンタフルオロフェニル)(p−トリフルオロメチル
テトラフルオロフェニル)硼酸(O−シアノ−N−メチ
ルピリジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)
(p−トリフルオロメチルテトラフルオロフェニル)硼
酸(p−シアノ−N−ベンジルピリジニウム),トリス
(ペンタフルオロフェニル)(p−トリフルオロメチル
テトラフルオロフェニル)硼酸トリフェニルホスホニウ
ム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,5,
6−テトラフルオロピリジニル)硼酸ジメチルアニリニ
ウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,
5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸トリエチルア
ンモニウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,
3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸ピリジニ
ウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,3,
5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸(N−メチル
ピリジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)
(2,3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸
(O−シアノ−N−メチルピリジニウム),トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)(2,3,5,6−テトラフル
オロピリジニル)硼酸(p−シアノ−N−ベンジルピリ
ジニウム),トリス(ペンタフルオロフェニル)(2,
3,5,6−テトラフルオロピリジニル)硼酸トリフェ
ニルホスホニウム,トリス(ペンタフルオロフェニル)
(フェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペン
タフルオロフェニル)〔3,5−ジ(トリフルオロメチ
ル)フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム,トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)(4−トリフルオロメチルフェ
ニル)硼酸ジメチルアニリニウム,トリフェニル(ペン
タフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,ヘキ
サフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウムなどが挙げら
れる。
【0031】一方、一般式(IX)の化合物としては、テ
トラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラフェニル硼酸
銀,テトラフェニル硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸
(テトラフェニルポルフィリンマンガン),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸フェロセニウム,テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(1,1’−ジ
メチルフェロセニウム),テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸アセチルフェロセニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ホルミ
ルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸シアノフェロセニウム,テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸銀,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸トリチル,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸リチウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸(テトラフェニルポルフィリンマンガ
ン),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テ
トラフェニルポルフィリン鉄クロライド),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポル
フィリン亜鉛),テトラフルオロ硼酸銀,ヘキサフルオ
ロ砒素酸銀,ヘキサフルオロアンチモン酸銀などが挙げ
られる。また、前記一般式(VIII),(IX)以外の化合物
としては、例えば、トリス(ペンタフルオロフェニル)
硼素,トリス〔3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェ
ニル〕硼素,トリフェニル硼素なども使用することがで
きる。この(B)成分である、該(A)成分の遷移金属
化合物と反応するイオン性化合物は一種用いてもよく、
また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
トラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラフェニル硼酸
銀,テトラフェニル硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸
(テトラフェニルポルフィリンマンガン),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸フェロセニウム,テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(1,1’−ジ
メチルフェロセニウム),テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム,テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸アセチルフェロセニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ホルミ
ルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸シアノフェロセニウム,テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸銀,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸トリチル,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸リチウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸(テトラフェニルポルフィリンマンガ
ン),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テ
トラフェニルポルフィリン鉄クロライド),テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポル
フィリン亜鉛),テトラフルオロ硼酸銀,ヘキサフルオ
ロ砒素酸銀,ヘキサフルオロアンチモン酸銀などが挙げ
られる。また、前記一般式(VIII),(IX)以外の化合物
としては、例えば、トリス(ペンタフルオロフェニル)
硼素,トリス〔3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェ
ニル〕硼素,トリフェニル硼素なども使用することがで
きる。この(B)成分である、該(A)成分の遷移金属
化合物と反応するイオン性化合物は一種用いてもよく、
また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0032】本発明で用いられる重合用触媒において
は、所望により(C)成分として、一般式(X) R24 r AlQ3-r ・・・(X) (式中、R24は炭素数1〜20、好ましくは1〜12の
アルキル基,アルケニル基,アリール基,アリールアル
キル基などの炭化水素基、Qは水素原子,炭素数1〜2
0のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、rは1〜3
の数である。)で表される有機アルミニウム化合物を用
いることができる。この(C)成分の有機アルミニウム
化合物を併用することによって、高い活性を有する重合
用触媒を得ることができる。前記一般式(X)で表され
る化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム,
トリエチルアルミニウム, トリイソプロピルアルミニウ
ム, トリイソブチルアルミニウム, ジメチルアルミニウ
ムクロリド, ジエチルアルミニウムクロリド, メチルア
ルミニウムジクロリド, エチルアルミニウムジクロリ
ド, ジメチルアルミニウムフルオリド, ジイソブチルア
ルミニウムハイドライド, ジエチルアルミニウムハイド
ライド, エチルアルミニウムセスキクロリドなどが挙げ
られる。
は、所望により(C)成分として、一般式(X) R24 r AlQ3-r ・・・(X) (式中、R24は炭素数1〜20、好ましくは1〜12の
アルキル基,アルケニル基,アリール基,アリールアル
キル基などの炭化水素基、Qは水素原子,炭素数1〜2
0のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、rは1〜3
の数である。)で表される有機アルミニウム化合物を用
いることができる。この(C)成分の有機アルミニウム
化合物を併用することによって、高い活性を有する重合
用触媒を得ることができる。前記一般式(X)で表され
る化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム,
トリエチルアルミニウム, トリイソプロピルアルミニウ
ム, トリイソブチルアルミニウム, ジメチルアルミニウ
ムクロリド, ジエチルアルミニウムクロリド, メチルア
ルミニウムジクロリド, エチルアルミニウムジクロリ
ド, ジメチルアルミニウムフルオリド, ジイソブチルア
ルミニウムハイドライド, ジエチルアルミニウムハイド
ライド, エチルアルミニウムセスキクロリドなどが挙げ
られる。
【0033】次に、本発明においては、前記(A),
(B)及び所望に応じて用いられる(C)触媒成分の少
なくとも一種を適当な担体に担持して用いることができ
る。該担体の種類については特に制限はなく、無機酸化
物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用
いることができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ
以外の無機担体が好ましい。無機酸化物担体としては、
具体的には、SiO2 ,Al2 O3 ,MgO,Zr
O2 ,TiO2 ,Fe2 O3 ,B2 O3 ,CaO,Zn
O,BaO,ThO2 やこれらの混合物、例えばシリカ
アルミナ,ゼオライト,フェライト,グラスファイバー
などが挙げられる。これらの中では、特にSiO2 ,A
l2 O3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体は、少
量の炭酸塩,硝酸塩,硫酸塩などを含有してもよい。一
方、上記以外の無機担体として、MgCl2 ,Mg(O
C2 H5)2 などのマグネシウム化合物やその錯塩、ある
いはMgR25 X X3 y で表される有機マグネシウム化合
物などを挙げることができる。ここで、R25は炭素数1
〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又
は炭素数6〜20のアリール基、X3はハロゲン原子又
は炭素数1〜20のアルキル基を示し、xは0〜2、y
は0〜2である。
(B)及び所望に応じて用いられる(C)触媒成分の少
なくとも一種を適当な担体に担持して用いることができ
る。該担体の種類については特に制限はなく、無機酸化
物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用
いることができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ
以外の無機担体が好ましい。無機酸化物担体としては、
具体的には、SiO2 ,Al2 O3 ,MgO,Zr
O2 ,TiO2 ,Fe2 O3 ,B2 O3 ,CaO,Zn
O,BaO,ThO2 やこれらの混合物、例えばシリカ
アルミナ,ゼオライト,フェライト,グラスファイバー
などが挙げられる。これらの中では、特にSiO2 ,A
l2 O3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体は、少
量の炭酸塩,硝酸塩,硫酸塩などを含有してもよい。一
方、上記以外の無機担体として、MgCl2 ,Mg(O
C2 H5)2 などのマグネシウム化合物やその錯塩、ある
いはMgR25 X X3 y で表される有機マグネシウム化合
物などを挙げることができる。ここで、R25は炭素数1
〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又
は炭素数6〜20のアリール基、X3はハロゲン原子又
は炭素数1〜20のアルキル基を示し、xは0〜2、y
は0〜2である。
【0034】また、有機担体としては、ポリスチレン,
ポリエチレン,ポリプロピレン,置換ポリスチレン,ポ
リアリレートなどの重合体やスターチ,カーボンなどを
挙げることができる。ここで、用いられる担体の性状
は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常
1〜300μm、好ましくは10〜200μm、より好
ましくは20〜100μmである。粒径が小さいと重合
体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒
子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因にな
る。また、担体の比表面積は、通常1〜1000m2 /
g、好ましくは50〜500m2 /g、細孔容積は通常
0.1〜5cm3 /g、好ましくは0.3〜3cm3 /gで
ある。比表面積又は細孔容積のいずれかが上記範囲を逸
脱すると、触媒活性が低下することがある。なお、比表
面積及び細孔容積は、例えばBET法に従って吸着され
た窒素ガスの体積から求めることができる(ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサィエティ,第60
巻,第309ページ(1983年)参照)。さらに、上
記担体は、通常150〜1000℃、好ましくは200
〜800℃で焼成して用いることが望ましい。担体に担
持させる方法については特に制限はなく、従来慣用され
ている方法を用いることができる。
ポリエチレン,ポリプロピレン,置換ポリスチレン,ポ
リアリレートなどの重合体やスターチ,カーボンなどを
挙げることができる。ここで、用いられる担体の性状
は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常
1〜300μm、好ましくは10〜200μm、より好
ましくは20〜100μmである。粒径が小さいと重合
体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒
子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因にな
る。また、担体の比表面積は、通常1〜1000m2 /
g、好ましくは50〜500m2 /g、細孔容積は通常
0.1〜5cm3 /g、好ましくは0.3〜3cm3 /gで
ある。比表面積又は細孔容積のいずれかが上記範囲を逸
脱すると、触媒活性が低下することがある。なお、比表
面積及び細孔容積は、例えばBET法に従って吸着され
た窒素ガスの体積から求めることができる(ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサィエティ,第60
巻,第309ページ(1983年)参照)。さらに、上
記担体は、通常150〜1000℃、好ましくは200
〜800℃で焼成して用いることが望ましい。担体に担
持させる方法については特に制限はなく、従来慣用され
ている方法を用いることができる。
【0035】次に、本発明における各触媒成分の使用割
合について説明する。触媒成分として(1)(A)成分
と(B)成分とを用いる場合には、(A)成分/(B)
成分モル比が1/0.1〜1/100、好ましくは1/0.
5〜1/10、より好ましくは1/1〜1/5の範囲に
あるように両成分を用いるのが望ましい。(2)(A)
成分と(B)成分と(C)成分とを用いる場合には、
(A)成分/(B)成分モル比は前記(1)の場合と同
様であるが、(A)成分/(C)成分モル比は1/20
00〜1/1、好ましくは1/1000〜1/5、より
好ましくは1/500〜1/10の範囲にあるのが望ま
しい。この重合反応においては、前記環状ジエンは重合
開始時に仕込んでおいてもよいし、重合の途中に添加し
てもよく、添加方法については特に制限はなく、一括添
加又は分割添加あるいは連続添加のいずれでもよい。
合について説明する。触媒成分として(1)(A)成分
と(B)成分とを用いる場合には、(A)成分/(B)
成分モル比が1/0.1〜1/100、好ましくは1/0.
5〜1/10、より好ましくは1/1〜1/5の範囲に
あるように両成分を用いるのが望ましい。(2)(A)
成分と(B)成分と(C)成分とを用いる場合には、
(A)成分/(B)成分モル比は前記(1)の場合と同
様であるが、(A)成分/(C)成分モル比は1/20
00〜1/1、好ましくは1/1000〜1/5、より
好ましくは1/500〜1/10の範囲にあるのが望ま
しい。この重合反応においては、前記環状ジエンは重合
開始時に仕込んでおいてもよいし、重合の途中に添加し
てもよく、添加方法については特に制限はなく、一括添
加又は分割添加あるいは連続添加のいずれでもよい。
【0036】また、重合方法については特に制限はな
く、不活性炭化水素などを用いる溶媒重合法(懸濁重
合,溶液重合)又は実質上不活性炭化水素溶媒の存在し
ない条件で重合する塊状重合法、気相重合法も利用でき
る。共重合に際して使用される炭化水素系溶媒として
は、例えばブタン,ペンタン,ヘキサン,ヘプタン,オ
クタン,ノナン,デカン,シクロペンタン,シクロヘキ
サンなどの飽和炭化水素、ベンゼン,トルエン,キシレ
ンなどの芳香族炭化水素、クロロホルム,ジクロロメタ
ン,二塩化エチレン,クロロベンゼンなどの塩素含有溶
媒などが挙げられる。重合温度としては、−100〜2
00℃、重合圧力としては常圧〜100kg/cm2 で
行うのが一般的であるが、好ましくは−50〜100
℃、常圧〜50kg/cm2 、さらに好ましくは0〜1
00℃、常圧〜20kg/cm2 の範囲である。本発明
における共重合体は水素や第三成分の添加及び重合温度
などの公知技術の組合せで調節できる。
く、不活性炭化水素などを用いる溶媒重合法(懸濁重
合,溶液重合)又は実質上不活性炭化水素溶媒の存在し
ない条件で重合する塊状重合法、気相重合法も利用でき
る。共重合に際して使用される炭化水素系溶媒として
は、例えばブタン,ペンタン,ヘキサン,ヘプタン,オ
クタン,ノナン,デカン,シクロペンタン,シクロヘキ
サンなどの飽和炭化水素、ベンゼン,トルエン,キシレ
ンなどの芳香族炭化水素、クロロホルム,ジクロロメタ
ン,二塩化エチレン,クロロベンゼンなどの塩素含有溶
媒などが挙げられる。重合温度としては、−100〜2
00℃、重合圧力としては常圧〜100kg/cm2 で
行うのが一般的であるが、好ましくは−50〜100
℃、常圧〜50kg/cm2 、さらに好ましくは0〜1
00℃、常圧〜20kg/cm2 の範囲である。本発明
における共重合体は水素や第三成分の添加及び重合温度
などの公知技術の組合せで調節できる。
【0037】本発明におけるエチレン系共重合体は、前
記一般式(I)で表される環状ジエンに由来する単位を
0.01〜5.0モル%、好ましくは0.01〜4.0モル%、
より好ましくは0.01〜3.5モル%の割合で含有するこ
とが必要である。また、温度135℃のデカリン中で測
定した極限粘度〔η〕の値としては0.01〜30デシリ
ットル/g、好ましくは0.05〜20デシリットル/g
である。また、このエチレン系共重合体の分子量につい
ては特に制限はないが、1,2,4−トリクロロベンゼ
ンを溶媒として用い、温度135℃においてゲルパーミ
エーションクロマトグラフィ(GPC)で求めた分子量
(ポリエチレン換算)が、重量平均分子量(Mw)で1,
000〜2,000,000、好ましくは5,000〜1,00
0,000の範囲にあり、かつ数平均分子量(Mn)が5
00〜1,000,000の範囲にあるのが望ましい。さら
に、該エチレン系共重合体は、示差走査熱量計(DS
C)で測定した結晶化エンタルピー(ΔH)が75J/
g以上、好ましくは80〜200J/gである。該ΔH
が75J/g未満では実質的に非晶質の共重合体と同等
であり、本発明の意図するところではない。ここで、D
SCの測定条件については、パーキンエルマー社製DS
C−7型装置を用い、全系窒素ガス雰囲気下において、
室温から20℃/分の速度で190℃まで昇温して3分
間維持したのち、20℃/分の速度で室温まで温度を下
げて5分間維持し、次いで20℃/分の速度で昇温を行
い、この過程でΔHと融点(Tm)を測定した。
記一般式(I)で表される環状ジエンに由来する単位を
0.01〜5.0モル%、好ましくは0.01〜4.0モル%、
より好ましくは0.01〜3.5モル%の割合で含有するこ
とが必要である。また、温度135℃のデカリン中で測
定した極限粘度〔η〕の値としては0.01〜30デシリ
ットル/g、好ましくは0.05〜20デシリットル/g
である。また、このエチレン系共重合体の分子量につい
ては特に制限はないが、1,2,4−トリクロロベンゼ
ンを溶媒として用い、温度135℃においてゲルパーミ
エーションクロマトグラフィ(GPC)で求めた分子量
(ポリエチレン換算)が、重量平均分子量(Mw)で1,
000〜2,000,000、好ましくは5,000〜1,00
0,000の範囲にあり、かつ数平均分子量(Mn)が5
00〜1,000,000の範囲にあるのが望ましい。さら
に、該エチレン系共重合体は、示差走査熱量計(DS
C)で測定した結晶化エンタルピー(ΔH)が75J/
g以上、好ましくは80〜200J/gである。該ΔH
が75J/g未満では実質的に非晶質の共重合体と同等
であり、本発明の意図するところではない。ここで、D
SCの測定条件については、パーキンエルマー社製DS
C−7型装置を用い、全系窒素ガス雰囲気下において、
室温から20℃/分の速度で190℃まで昇温して3分
間維持したのち、20℃/分の速度で室温まで温度を下
げて5分間維持し、次いで20℃/分の速度で昇温を行
い、この過程でΔHと融点(Tm)を測定した。
【0038】また、該エチレン系共重合体においては、
環状ジエン成分と環状ジエン成分のアルケニル基又はア
ルキリデン基に由来する不飽和基とのモル比〔アルケニ
ル基又はアルキリデン基〕/〔環状ジエン〕が通常0.8
2〜1.00、好ましくは0.85〜1.00、より好ましく
は0.87〜1.00の範囲にある。ここで環状ジエン量は
重合により消費された量を用い、アルケニル基又はアル
キリデン基の量はNMRから算出した値を使用した。す
なわち、本発明においては、該環状ジエンは、エチレン
又はエチレン及びα−オレフィンとの共重合に際して、
ノルボルネン骨格の不飽和基のみで実質的に反応に関与
していることが分かる。
環状ジエン成分と環状ジエン成分のアルケニル基又はア
ルキリデン基に由来する不飽和基とのモル比〔アルケニ
ル基又はアルキリデン基〕/〔環状ジエン〕が通常0.8
2〜1.00、好ましくは0.85〜1.00、より好ましく
は0.87〜1.00の範囲にある。ここで環状ジエン量は
重合により消費された量を用い、アルケニル基又はアル
キリデン基の量はNMRから算出した値を使用した。す
なわち、本発明においては、該環状ジエンは、エチレン
又はエチレン及びα−オレフィンとの共重合に際して、
ノルボルネン骨格の不飽和基のみで実質的に反応に関与
していることが分かる。
【0039】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。 実施例1 (1)テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメ
チルアニリニウムの調製 ブロモペンタフルオロベンゼン152ミリモルとブチル
リチウム152ミリモルとから調製したペンタフルオロ
フェニルリチウムをヘキサン中で45ミリモルの三塩化
硼素と反応させ、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼
素を白色固体として得た。得られたトリス(ペンタフル
オロフェニル)硼素41ミリモルとペンタフルオロフェ
ニルリチウム41ミリモルとを反応させ、リチウムテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼素を白色固体とし
て単離した。次に、リチウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼素16ミリモルとジメチルアニリン塩酸
塩16ミリモルとを水中で反応させることにより、テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリ
ニウムを白色固体として11.4ミリモル得た。生成物が
目的物であることは、 1H−NMR、13C−NMRで確
認した。 (2)エチレンと5−ビニル−2−ノルボルネンとの共
重合 窒素雰囲気下、室温において1リットルのオートクレー
ブにトルエン400ミリリットル、トリイソブチルアル
ミニウム(TIBA)0.6ミリモル、ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド2マイクロモル、
上記(1)で調製したテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸ジメチルアニリニウム4マイクロモルをこの
順で入れ、続いて5−ビニル−2−ノルボルネン0.10
モルを加え、80℃に昇温したのち、エチレン分圧が7
kg/cm2 Gになるように連続的にエチレンを導入し
つつ30分間反応を行った。反応終了後、ポリマー溶液
を2リットルのメタノール中に投入して共重合体を析出
させ、この共重合体をろ取、乾燥した。共重合体の収量
及び性状を第1表に示す。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。 実施例1 (1)テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメ
チルアニリニウムの調製 ブロモペンタフルオロベンゼン152ミリモルとブチル
リチウム152ミリモルとから調製したペンタフルオロ
フェニルリチウムをヘキサン中で45ミリモルの三塩化
硼素と反応させ、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼
素を白色固体として得た。得られたトリス(ペンタフル
オロフェニル)硼素41ミリモルとペンタフルオロフェ
ニルリチウム41ミリモルとを反応させ、リチウムテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼素を白色固体とし
て単離した。次に、リチウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼素16ミリモルとジメチルアニリン塩酸
塩16ミリモルとを水中で反応させることにより、テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリ
ニウムを白色固体として11.4ミリモル得た。生成物が
目的物であることは、 1H−NMR、13C−NMRで確
認した。 (2)エチレンと5−ビニル−2−ノルボルネンとの共
重合 窒素雰囲気下、室温において1リットルのオートクレー
ブにトルエン400ミリリットル、トリイソブチルアル
ミニウム(TIBA)0.6ミリモル、ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド2マイクロモル、
上記(1)で調製したテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸ジメチルアニリニウム4マイクロモルをこの
順で入れ、続いて5−ビニル−2−ノルボルネン0.10
モルを加え、80℃に昇温したのち、エチレン分圧が7
kg/cm2 Gになるように連続的にエチレンを導入し
つつ30分間反応を行った。反応終了後、ポリマー溶液
を2リットルのメタノール中に投入して共重合体を析出
させ、この共重合体をろ取、乾燥した。共重合体の収量
及び性状を第1表に示す。
【0040】実施例2〜8 第1表に示す触媒及びエチレン以外のモノマーを用い、
実施例1と同様にして共重合体を製造した。それぞれの
共重合体の収量及び物性を第1表に示す。
実施例1と同様にして共重合体を製造した。それぞれの
共重合体の収量及び物性を第1表に示す。
【0041】比較例1 実施例1において、触媒系としてマグネシウム担持の三
塩化チタニウム0.016ミリモルとトリエチルアルミニ
ウム10ミリモルとの組合せを用い、かつ重合温度を7
0℃とした以外は、同様な操作により、重合体57.5g
を得た。この重合体は、Tm 136.2℃、ΔH200.1
J/gであった。また、IRの測定結果、5−ビニル−
2−ノルボルネン単位に由来すると思われる900cm
-1、1640cm-1のピークは確認できなかった。
塩化チタニウム0.016ミリモルとトリエチルアルミニ
ウム10ミリモルとの組合せを用い、かつ重合温度を7
0℃とした以外は、同様な操作により、重合体57.5g
を得た。この重合体は、Tm 136.2℃、ΔH200.1
J/gであった。また、IRの測定結果、5−ビニル−
2−ノルボルネン単位に由来すると思われる900cm
-1、1640cm-1のピークは確認できなかった。
【0042】
【表1】
【0043】
【表2】
【0044】〔注〕 ZC2:ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロジルコ
ニウム ZC4:四塩化ジルコニウム TC2:(第3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル)シランジクロロチタ
ニウム 5−VNB:5−ビニル−2−ノルボルネン 5−ENB:5−エチリデン−2−ノルボルネン US:〔残留アルケニル基又はアルキリデン基〕/〔環
状ジエン〕(モル比) なお、実施例2〜8においては、助触媒と有機アルミニ
ウム化合物、及び重合条件は実施例1と同様である。
ニウム ZC4:四塩化ジルコニウム TC2:(第3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル)シランジクロロチタ
ニウム 5−VNB:5−ビニル−2−ノルボルネン 5−ENB:5−エチリデン−2−ノルボルネン US:〔残留アルケニル基又はアルキリデン基〕/〔環
状ジエン〕(モル比) なお、実施例2〜8においては、助触媒と有機アルミニ
ウム化合物、及び重合条件は実施例1と同様である。
【0045】
【発明の効果】本発明の方法によると、良質な不飽和基
を有し、変性反応により種々の官能基の導入が可能な結
晶性のエチレン系共重合体を、架橋反応や環化反応を生
じることなく、したがってゲルの発生を完全に抑制しう
るとともに、効率よく製造することができる。該エチレ
ン系共重合体は接着性に優れ、かつ強度が高い上、他樹
脂との相溶性に優れるポリオレフィン系材料を与えるこ
とができる。
を有し、変性反応により種々の官能基の導入が可能な結
晶性のエチレン系共重合体を、架橋反応や環化反応を生
じることなく、したがってゲルの発生を完全に抑制しう
るとともに、効率よく製造することができる。該エチレ
ン系共重合体は接着性に優れ、かつ強度が高い上、他樹
脂との相溶性に優れるポリオレフィン系材料を与えるこ
とができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)遷移金属化合物及び(B)該遷移
金属化合物と反応するイオン性化合物を主成分とする重
合用触媒の存在下、(イ)エチレン又はエチレン及びα
−オレフィンと(ロ)一般式(I) 【化1】 (式中、R1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子
又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、それらはたが
いに同一でも異なっていてもよく、nは0以上の整数で
あり、Rは炭素数2〜20のアルケニル基又はアルキリ
デン基を示す。)で表されるノルボルネン骨格と不飽和
基とからなる環状ジエンとを共重合させて、該環状ジエ
ンに由来する単位の含有量が0.01〜5モル%、温度1
35℃のデカリン中で測定した極限粘度が0.01〜30
デシリットル/g及び示差走査熱量計(DSC)による
結晶化エンタルピー(ΔH)が75J/g以上であるエ
チレン系共重合体を製造する方法。 - 【請求項2】 エチレン系共重合体が、環状ジエン成分
と環状ジエン成分のアルケニル基又はアルキリデン基に
由来する不飽和基とのモル比〔アルケニル基又はアルキ
リデン基〕/〔環状ジエン〕が0.82〜1.00の範囲に
あるものである請求項1記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17894593A JP3501410B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | エチレン系共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17894593A JP3501410B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | エチレン系共重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733826A true JPH0733826A (ja) | 1995-02-03 |
| JP3501410B2 JP3501410B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=16057399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17894593A Expired - Fee Related JP3501410B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | エチレン系共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3501410B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114927707A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-08-19 | 重庆大学锂电及新材料遂宁研究院 | 一种电池催化剂及其制备方法和应用 |
| JP2023091323A (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-30 | 三井化学株式会社 | ゴム組成物およびその用途 |
| JP2023091322A (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-30 | 三井化学株式会社 | エチレン・非共役ポリエン共重合体 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP17894593A patent/JP3501410B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023091323A (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-30 | 三井化学株式会社 | ゴム組成物およびその用途 |
| JP2023091322A (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-30 | 三井化学株式会社 | エチレン・非共役ポリエン共重合体 |
| CN114927707A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-08-19 | 重庆大学锂电及新材料遂宁研究院 | 一种电池催化剂及其制备方法和应用 |
| CN114927707B (zh) * | 2022-06-17 | 2023-08-22 | 重庆大学锂电及新材料遂宁研究院 | 一种电池催化剂及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3501410B2 (ja) | 2004-03-02 |
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Legal Events
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