JPH0734749B2 - エリスリトールの製造方法 - Google Patents

エリスリトールの製造方法

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JPH0734749B2
JPH0734749B2 JP63024813A JP2481388A JPH0734749B2 JP H0734749 B2 JPH0734749 B2 JP H0734749B2 JP 63024813 A JP63024813 A JP 63024813A JP 2481388 A JP2481388 A JP 2481388A JP H0734749 B2 JPH0734749 B2 JP H0734749B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はエリスリトール生産菌を用いてポリオールの一
種であるエリスリトールを製造する方法の改良に関する
ものである。
(従来の技術) エリスリトール(erythritol CH2OH-CHOH-CHOH-CH2OH)
は融点122℃、分解温度329℃の糖アルコールの一種で、
蔗糖の70〜80%程度の甘味を持つ物質として近年需要が
増加している。
エリスリトール生産菌を用いてグルコース等の発酵性糖
類からエリスリトールを製造する方法は、例えば特開昭
60−110295号、特開昭61−31091号公報に、また炭化水
素からエリスリトールを製造する方法は、例えば米国特
許明細書第3,756,917にも示されるように既に知られて
いる。ところがこれらの公報にも示されているように、
従来は基質とエリスリトール生産菌とを槽内に投入して
1〜2週間発酵させ、その後槽内液を取出して反応生成
物を分離するというバッチ式の製造方法が採用されてい
たため、装置容量が大きく生産コストが高くなるうえ、
エリスリトールの生産速度を1.5g/・H以上に向上さ
せることができなかった。また本発明者等はこのような
バッチ式の問題点を解決するため、基質を連続的に投入
しつつ槽内液を抜出す連続発酵法を試みたが、菌体の流
出が多く菌体濃度を高いレベルに維持することが困難で
あるために、やはりエリスリトールの生産速度を十分に
向上させることができなかった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明はこのような従来の問題点を解決して、コンパク
トな装置により高い生産速度を確保することができるエ
リスリトールの製造方法を提供するために完成されたも
のである。
(課題を解決するための手段) 上記の目的を達成する為になされた本願第1の発明は、
エリスリトール生産菌を好気的条件下で培養することに
より、エリスリトールを連続的に製造する方法におい
て、発酵槽内の培養液中の溶存酸素濃度を0.2ppm以上に
維持するとともに、培養液の一部を菌体分離装置により
菌体濃度の高められた濃縮液と清澄液とに分離し、該濃
縮液を発酵槽内に戻して、清澄液として系外に抜き出す
量と培養液または/および濃縮液を系外に抜き出す量と
を調節することにより、発酵槽内の培養液中の菌体濃度
を乾燥菌体重量とて40〜200g/に維持調節しつつ、該
清澄液からエリスリトールを回収することを特徴とする
ものであり、また本願第2の発明はエリスリトール生産
菌を好気的条件下で培養することにより、エリスリトー
ルを連続的に製造する方法において、発酵槽内の培養液
中の溶存酸素濃度を0.2ppm以上に維持するとともに、発
酵槽内に設けた菌体分離装置により該培養液からエリス
リトールを含有する清澄液を分離し、該菌体分離装置に
より分離した清澄液を抜き出す量と培養液を抜き出す量
とを調節することにより、発酵槽内の培養液中の菌体濃
度を乾燥菌体重量として40〜200g/に維持調節しつ
つ、該清澄液からエリスリトールを回収することを特徴
とするものである。
第1の発明においては、例えば第1図に示されるように
発酵槽(1)の内部に基質をK2H2PO4、MgSO4、K2SO4、C
aSO4、FeSO4、MnSO4、ZnSO4、(NH42HPO4、CaCl2等の
無機塩、(NH42SO4、尿素、NH4NO3、NH4Cl等の窒素
源、コーンスティープリカー、酵母エキス、ペプトン、
各種アミノ酸、チアミン、ピオチン等の栄養源ととも
に、連続的に投入し、発酵槽内の液は攪拌機(2)によ
って攪拌されつつ底部の通気管(3)からエアフィルタ
ー(4)により浄化された空気を吹込み、槽内液中のエ
リスリトール生産菌による連続発酵が行われる。吹込空
気量は0.5〜2m3/m3・分程度として溶存酸素濃度が0.2pp
m以上に維持されている。第1図の(5)は発酵槽外に
設置された菌体分離装置であり、発酵槽内の液はこの菌
体分離装置(5)によってエリスリトール生産菌を含む
濃縮液とエリスリトール生産菌の含量のないもしくは小
さいエリスリトール清澄液とに分離され、濃縮液はライ
ン(6)から発酵槽(1)内へ戻される。一方、清澄液
は発酵生産物として発酵系外へ抜出される。ところがこ
のようにして発酵槽外へのエリスリトール生産菌の流出
を止めると発酵槽内の液中の菌体濃度が次第に上昇し、
エリスリトールの生産速度の低下を招くとともに菌体分
離装置での菌体分離が困難となるので、本発明において
は抜出ライン(7)から発酵槽内の液の一部を外部へ抜
き出し、これによって発酵槽内の菌体量の調節を行って
いる。菌体濃度の調節は主として抜出ライン(7)を用
いて培養液の一部を系外に抜出すことにより行われる
が、しかし前記したライン(6)の濃縮液の一部を系外
に抜出すことによって行ってもなんら差しつかえない。
このようにして、抜き出した培養液を固液分離装置にか
け清澄液と菌体濃縮液とに分離し、清澄液を発酵生産物
とし利用してもよい。
次に本発明における各構成要件についてより具体的に説
明する。
まず発酵槽内の溶存酸素濃度を0.2ppm以上としたのは、
この反応が好気性条件下で行われ、第3図に示すように
0.2ppm未満となると嫌気発酵が生じてエタノールが生産
され、従ってエリスリトールの生産速度が低下するから
である。なお第3図のグラフを得るための実験は菌体濃
度を100g/に保ち、吹込空気量を種々に変化させて溶
存酸素濃度を変えて行った。
菌体分離装置としては通常の固液分離に用いられる猶体
サイクロンや沈降分離槽等の固液分離槽を用いることも
できるがエリスリトール生産菌の大きさの点より、1000
〜10,000Gの遠心力を利用し、菌体と液を連続分離でき
る例えば分離板形(DeLaval式)や傾斜形(Super Decan
ter)などの遠心沈降機及び精密濾過膜や限外濾過膜等
の膜分離装置が好ましい。
菌体分離装置として膜分離装置を用いる場合の分離膜は
菌体を確実に分離するために、孔径1μ以下の精密濾過
膜もしくは分画分子量1万以上の限外濾過膜を用いるこ
とが好ましい。孔径が1μを越えると酵母等が膜の孔の
内部に詰まり易くなり、透過流束が短時間で減少する傾
向を示す。同様に分画分子量が1万以下の場合にも透過
流速が低くなり好ましい分離を行うことができない。第
4図はこのような分離膜の特性を平膜試験機により試験
した結果を示したもので、〜の数字はフィルターの
孔径を、〜の数字は分画分子量の値を示している。
試験は菌体濃度94g/、エリスリトール濃度19%、グリ
コース2%の液を1kg/cm2の圧力で2時間連続的に流
し、2時間後の透過流束と流束減少率mで評価した。な
お流束減少率mの値は次式によって求めた。
J/J0-(T/T0))−m 但し、J:T時間後の流束 J0:初期T0時間目の流束 上記のように適切な分離膜(5)を用いることにより発
酵槽内の液を菌体を含む濃縮液とエリスリトールを含む
濾過液とに分離することができる。
抜出ライン(7)からの発酵槽内の液の抜き出し量は、
発酵槽内の菌体量が乾燥菌体重量として40〜200g/の
範囲に維持できるように決定されるが、反応系が正常で
ある場合には液の抜出し量は清澄液として抜き出す液量
以下とされる。第5図に示されるように、菌体量が40g/
未満であると菌体が不足するためエリスリトールの生
産速度を低下し、200g/を越えると菌体が過剰となっ
て生産速度が低下するとともに、必要酸素量が多くなる
こととなり動力当たりの生産速度が低下することとな
る。このため菌体量は40〜200g/、より好ましくは80
〜150g/程度とされる。
なお第5図のグラフは次の実験条件下で得られた。
基質:グルコース40%、酵母エキス2% 分離膜:セラミック製多孔質膜、孔径0.2μ 発酵槽量:発酵槽2.5、循環ライン1.5 吹込気量:1〜2m3/m3・分 基質投入量:2/日(滞留時間48時間) 以上に記したところからも明らかなように、本発明によ
ればエリスリトールの生産速度を従来の1.5g/・Hか
ら4.0g/・H程度まで著しく増加させることが可能と
なる。
なお第2図は第2の発明に用いられる反応装置を示すも
ので、分離膜(5)を筒状として発酵槽(1)の内部に
設置したものである。この場合には第1図のライン
(6)を省くことができる。またこの場合には発酵槽
(1)の上面を密封し、液面を加圧することにより分離
膜(5)に濾過圧をかけるようにすることもできる。
以下に本発明の実施例を示す。実施例1・2は第1の発
明の実施例であり、実施例3は第2の発明の実施例であ
る。
実施例1 グルコール30%(w/v)及び酵母エキス1%(w/v)から
成る液体培地200mlでエリスリトール生産菌(Aureobasi
dium sp.SN−G42)を35℃、72時間振とう培養し、これ
をグルコース40%(w/v)、酵母エキス2%(w/v)の入
った初期培地3.8に加え通気量1vvm、温度35℃、攪拌
速度800rpmで回分培養を行った。培地中のグルコース濃
度が5%以下となった時点で孔径0.2μのセラミック膜
と直結した循環ポンプを始動させ、初期培地と同一組成
の基質の供給を83.3ml/hで開始した。上記セラミック膜
からも同様の速度で培養濾液を引き抜き連続培養を行っ
た。発酵槽内の菌体濃度が100g(乾燥重量)/となっ
た時点で菌体濃度を一定に保つ為に培養濾液の引き抜き
速度を42ml/hに落とすと同時に発酵槽内から直接培養液
を41.3ml/hの速度で引き抜いた。これ以後、菌体濃度を
約100g/に保ち連続濾過培養を行った。この間の平均
のエリスリトール生成速度は4.2g/・hであった。
実施例2 グルコール30%(w/v)及び酵母エキス0.675%(w/v)
の組成の培養液中で30%72時間ロータリーシェイカーで
振とう培養したエリスリトール生産菌(Aureobasidium
sp.SN-G42)の種菌1.5を、50発酵槽に入ったグルコ
ース40%(w/v)、コーンスティープリカー6.7%(w/
v)、PH=4.2に調整した初期培地25に加え温度35℃、
圧力0.5kg/cm2のもと600rpmで強制攪拌しながら無菌空
気を37.5/分の速度で供給し充分に好気的な条件下で
培養を行う。90時間後に培地中のグルコース濃度が2%
(w/v)に達したので初期培地と同一組成の基質の供給
を開始した。基質の供給速度は以後0.58/h一定とし、
発酵槽内の液面の上昇をさけるため分離板式(De Laval
式)の遠心沈降機に1.74/hで発酵槽内の液を供給し、
6000Gの遠心力で菌体と液を分離し0.58/hの清澄液を
系外に生成物として抜出し残りの菌体濃縮液は発酵槽に
戻した。発酵槽内の菌体濃度が乾燥菌体として100g/
に達した時点から遠心沈降機への供給量を0.95/hに減
少させるとともに遠心分離機から取出す清澄液の量を0.
32/hにしぼりこんだ。一方発酵槽内の菌体濃度を一定
に保つため、発酵槽内の培養液を直接0.26/hで抜きだ
した。培養スタート後250時間で定常状態に達し以後150
時間培養を継続した。定常状態達成以後の清澄液0.32
/hと抜出し培養液0.26/hの混合液中のエリスリトール
平均濃度は194g/でエリスリトール収率は48.5%、エ
リスリトール生成速度は4.5g//hであった。
実施例3 種菌としてエリスリトール生産菌(Aureobasidium sp.S
N-G42)を500ml容三角フラスコに入ったグルコース30%
(w/v)、酵母エキス1%(w/v)から成る液体培地200m
lで35℃、48時間振とう培養し、これをグルコース40%
(w/v))、コーンスティープリカー8%(w/v)培地3
の入った、シャンベラン濾過筒を用いた菌体分離装置
(第2図に番号5として示す)付きの7容発酵槽に移
植し、PH=4.2、通気量1vvm、温度35℃、攪拌速度1000r
pmで回分培養を行った。70時間後、培地中のグルコース
濃度が5%以下になった時点で基質としてグルコース40
%(w/v)、コーンスティープリカー8%(w/v)から成
る培地を83.3ml/hで供給した。シャンベラン濾過筒を用
いた菌体濾過器からも同様の速度で培養濾液を引き抜き
連続培養を行った。培養時間113時間後、菌体濃度が98.
5g(乾燥菌体重量)/となった時点で菌体濃度を一定
に保つ為に培養濾液の引き抜き速度を41.68ml/hに落と
すと同時に発酵槽内から直接培養液を41.65ml/hの速度
で引き抜いた。これ以降167時間菌体濃度を約100g/に
保ち連続濾過培養を行った。この間の平均のエリスリト
ール生産速度は5.1g//h、エリスリトール収率は50%
であった。
(発明の効果) 本発明は以上の説明からも明らかなように、溶存酸素濃
度の管理を行うとともに、菌体の分離と槽内の液の外部
への引き出しとの併用により菌体濃度を適正なレベルに
維持し、エリスリトールの生産速度を従来の2倍以上に
引上げることに成功したものである。また本発明によれ
ば、従来のバッチ式生産の場合のように大型の発酵槽を
用いる必要もなくなり、装置全体をコンパクトなものと
することができる。よって本発明は従来の問題点を一掃
したエリスリトールの製造方法として、産業の発展に寄
与するところは極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に使用される装置の断面図、第2図はそ
の変形例を示す断面図、第3図は溶存酸素濃度とエリス
リトール生産速度等との関係を示すグラフ、第4図は各
種の分離膜の特性試験の結果を示すラフ、第5図は菌体
濃度とエリスリトール生産速度との関係を示すグラフで
ある。 (1):…発酵槽、(2):攪拌機、(3):通気管、
(4):フィルター、(5):菌体分離装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高木 弥平 愛知県名古屋市瑞穂区岳見町1丁目34番地 (日本碍子岳見寮) (72)発明者 川口 嶽 埼玉県行田市壱里山町21番地16 (72)発明者 前田 敏弘 神奈川県座間市相模が丘2丁目20番31号

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エリスリトール生産菌を好気的条件下で培
    養することにより、エリスリトールを連続的に製造する
    方法において、発酵槽内の培養液中の溶存酸素濃度を0.
    2ppm以上に維持するとともに、培養液の一部を菌体分離
    装置により菌体濃度の高高められた濃縮液と清澄液とに
    分離し、該濃縮液を発酵槽内に戻して、清澄液として系
    外に抜き出す量と培養液または/および濃縮液を系外に
    抜き出す量とを調節することにより、発酵槽内の培養液
    中の菌体濃度を乾燥菌体重量として40〜200g/に維持
    調節しつつ、該清澄液からエリスリトールを回収するこ
    とを特徴とするエリスリトールの製造方法。
  2. 【請求項2】エリスリトール生産菌を好気的条件下で培
    養することにより、エリスリトールを連続的に製造する
    方法において、発酵槽内の培養液中の溶存酸素濃度を0.
    2ppm以上に維持するとともに、発酵槽内に設けた菌体分
    離装置により該培養液からエリスリトールを含有する清
    澄液を分離し、該菌体分離装置により分離した清澄液を
    抜き出す量と培養液を抜き出す量とを調節することによ
    り、発酵槽内の培養液中の菌体濃度を乾燥菌体重量とし
    て40〜200g/に維持調節しつつ、該清澄液からエリス
    リトールを回収することを特徴とするエリスリトールの
    製造方法。
JP63024813A 1988-02-03 1988-02-03 エリスリトールの製造方法 Expired - Lifetime JPH0734749B2 (ja)

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