JPH0735726A - 気体成分検出素子 - Google Patents
気体成分検出素子Info
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- JPH0735726A JPH0735726A JP5223989A JP22398993A JPH0735726A JP H0735726 A JPH0735726 A JP H0735726A JP 5223989 A JP5223989 A JP 5223989A JP 22398993 A JP22398993 A JP 22398993A JP H0735726 A JPH0735726 A JP H0735726A
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- Japan
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- insulating layer
- stabilized zirconia
- gas component
- electrode
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 加熱空気のように酸素濃度が減少した場合に
も補正を必要とせず、またその形状を小形化することに
より精度の高い、かつ安定性良好な気体成分検出素子を
得るとともに、始動から動作が安定するまでの時間を短
縮し、さらにその気体成分検出素子を簡単な工程と装置
により製造できるようにする。 【構成】 絶縁物又は半導体からなる基板1と、この基
板1上に形成された第1の絶縁層3と、この絶縁層の上
に形成されたヒータ層4と、このヒータ層の上に形成さ
れた第2の絶縁層5と、この第2の絶縁層5の上に形成
された安定化ジルコニア層6と、この安定化ジルコニア
層6の両端に電気的に接続した貴金属の電極7a、7b
と、この電極7a、7bと安定化ジルコニア層6上に形
成された第3の絶縁層9とを備えている。
も補正を必要とせず、またその形状を小形化することに
より精度の高い、かつ安定性良好な気体成分検出素子を
得るとともに、始動から動作が安定するまでの時間を短
縮し、さらにその気体成分検出素子を簡単な工程と装置
により製造できるようにする。 【構成】 絶縁物又は半導体からなる基板1と、この基
板1上に形成された第1の絶縁層3と、この絶縁層の上
に形成されたヒータ層4と、このヒータ層の上に形成さ
れた第2の絶縁層5と、この第2の絶縁層5の上に形成
された安定化ジルコニア層6と、この安定化ジルコニア
層6の両端に電気的に接続した貴金属の電極7a、7b
と、この電極7a、7bと安定化ジルコニア層6上に形
成された第3の絶縁層9とを備えている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、気体の酸素および湿
度を検出するのに適した気体成分検出素子に関するもの
である。
度を検出するのに適した気体成分検出素子に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図9および図10は限界電流式ジルコニ
ア酸素検出素子の原理を示す構成図、図11は図9およ
び図10の構成における電圧と電流との関係を示す特性
図、図12は印加電圧と限界電流との関係を示す特性
図、図13は湿った空気と乾燥した空気における印加電
圧と限界電流との関係を示す特性図、図14は水蒸気圧
と電流との関係を示す特性図である。まず、限界電流式
ジルコニア酸素検出素子の原理について説明する。固体
電解質であるZrO2すなわちジルコニア素子1は、摂
氏数百度に加熱すると、内部をO2−イオンを通過させ
ることができる。図9に示すように、このZrO2の両
側に電極7a、7bを設け、電源8により電圧を印加す
ると、カソード側からアノード側にO2−イオンを運ぶ
ことができる。これを酸素ポンプ作用と呼ぶ。
ア酸素検出素子の原理を示す構成図、図11は図9およ
び図10の構成における電圧と電流との関係を示す特性
図、図12は印加電圧と限界電流との関係を示す特性
図、図13は湿った空気と乾燥した空気における印加電
圧と限界電流との関係を示す特性図、図14は水蒸気圧
と電流との関係を示す特性図である。まず、限界電流式
ジルコニア酸素検出素子の原理について説明する。固体
電解質であるZrO2すなわちジルコニア素子1は、摂
氏数百度に加熱すると、内部をO2−イオンを通過させ
ることができる。図9に示すように、このZrO2の両
側に電極7a、7bを設け、電源8により電圧を印加す
ると、カソード側からアノード側にO2−イオンを運ぶ
ことができる。これを酸素ポンプ作用と呼ぶ。
【0003】さらに図10に示すように、カソード側の
電極4に小さな孔11の開いた、カバー12を設け、ガ
スの流入を制限する。
電極4に小さな孔11の開いた、カバー12を設け、ガ
スの流入を制限する。
【0004】すると、図11に示すように、印加電圧を
上昇させても、電流値は、ある一定値で平衡に達し、そ
れ以上増加しない現象が現われる。これを限界電流とい
う。これを第1限界電流IL1とする。これは、ガスの
流入が小さな孔6により制限されるためで、この限界電
流値は、雰囲気のO2濃度に比例する。
上昇させても、電流値は、ある一定値で平衡に達し、そ
れ以上増加しない現象が現われる。これを限界電流とい
う。これを第1限界電流IL1とする。これは、ガスの
流入が小さな孔6により制限されるためで、この限界電
流値は、雰囲気のO2濃度に比例する。
【0005】このセンサを水蒸気を含んだ雰囲気中に入
れ、印加電圧をさらに増やしてゆくと、図12のような
第2番目の限界電流すなわち第2限界電流IL2が現わ
れる。これは空気中の水分子がカソード側で水分解さ
れ、O2−イオンとなるために電流が増加するものであ
る。すなわち カソード側では H2O+2e− → H2+O2− アノード側では O2− →1/2O2+2e− この場合も限界電流値は、雰囲気の水蒸気圧に比例す
る。
れ、印加電圧をさらに増やしてゆくと、図12のような
第2番目の限界電流すなわち第2限界電流IL2が現わ
れる。これは空気中の水分子がカソード側で水分解さ
れ、O2−イオンとなるために電流が増加するものであ
る。すなわち カソード側では H2O+2e− → H2+O2− アノード側では O2− →1/2O2+2e− この場合も限界電流値は、雰囲気の水蒸気圧に比例す
る。
【0006】次にこの検出素子を用いた水蒸気の検出方
法について説明する。すなわち、図12の特性において
水蒸気量が上昇すると、図13に示すように、第1限界
電流IL1は減少し、逆に第2限界電流IL2は増加す
る。第1限界電流IL1が減少するのは、水蒸気により
酸素量すなわち酸素の比率が減少するためで、第2限界
電流IL2が増加するのは、水蒸気が電気分解されるた
めである。なお、第1限界電流IL1、第2限界電流I
L2いずれでも水蒸気量は測定できるが、水蒸気のみの
選択性を考えると、第2限界電流IL2を利用するほう
がよい。さらに、第1限界電流IL1は他のガスが混入
しても下がり、水蒸気のみとは限らない。
法について説明する。すなわち、図12の特性において
水蒸気量が上昇すると、図13に示すように、第1限界
電流IL1は減少し、逆に第2限界電流IL2は増加す
る。第1限界電流IL1が減少するのは、水蒸気により
酸素量すなわち酸素の比率が減少するためで、第2限界
電流IL2が増加するのは、水蒸気が電気分解されるた
めである。なお、第1限界電流IL1、第2限界電流I
L2いずれでも水蒸気量は測定できるが、水蒸気のみの
選択性を考えると、第2限界電流IL2を利用するほう
がよい。さらに、第1限界電流IL1は他のガスが混入
しても下がり、水蒸気のみとは限らない。
【0007】水蒸気圧と第1限界電流IL1、第2限界
電流IL2の関係を示すと図14のようになる。すなわ
ち、第1限界電流IL1、第2限界電流IL2ともに水
蒸気圧に対して直線性があるが、第2限界電流IL2は
第1限界電流IL1に比べ感度においても数倍あり、選
択性、分解能ともによいことが判る。
電流IL2の関係を示すと図14のようになる。すなわ
ち、第1限界電流IL1、第2限界電流IL2ともに水
蒸気圧に対して直線性があるが、第2限界電流IL2は
第1限界電流IL1に比べ感度においても数倍あり、選
択性、分解能ともによいことが判る。
【0008】このタイプの検出素子は、特性が原理的に
雰囲気の水蒸気圧に対してリニアであり、耐熱性に優れ
たZrO2セラミックを数百度に常時加熱して使用する
ため、室温雰囲気から100℃以上の高温で水蒸気量を
測定するのに適している。
雰囲気の水蒸気圧に対してリニアであり、耐熱性に優れ
たZrO2セラミックを数百度に常時加熱して使用する
ため、室温雰囲気から100℃以上の高温で水蒸気量を
測定するのに適している。
【0009】従来、第2限界電流IL2を検出すること
により気体成分検出素子を構成し、これをバーナー式加
熱炉等に使用した場合、バーナー等で加熱した空気に含
まれている湿度を検出しようとしたとき、その加熱空気
中の酸素の割合が通常の空気よりも少なくなり、その湿
度検出に誤差を生じている。他の原理の気体成分検出素
子の場合にも同様の現象が起きる。このためその酸素濃
度に関する補正を行なう必要がある。
により気体成分検出素子を構成し、これをバーナー式加
熱炉等に使用した場合、バーナー等で加熱した空気に含
まれている湿度を検出しようとしたとき、その加熱空気
中の酸素の割合が通常の空気よりも少なくなり、その湿
度検出に誤差を生じている。他の原理の気体成分検出素
子の場合にも同様の現象が起きる。このためその酸素濃
度に関する補正を行なう必要がある。
【0010】また従来、限界電流式又は濃淡電池式のジ
ルコニアを使用した気体成分検出素子は、ジルコニアを
通常のセラミックと同じ粉末燒結体により製造している
ため、小形化が図れず、形状や厚さが大きいので、ヒー
タの加熱に時間がかかり、測定できる状態に至るのに数
分から数十分必要である。さらに工程が複雑であり、様
々な設備が必要となる。すなわちジルコニアの粉末化お
よび燒結のための加熱焼成炉や、ジルコニア上への電極
取付けおよびヒータの作成のための印刷機や焼成炉ある
いは各センサ素子への切り離しおよび電極ワイヤ取付け
のためのカッターやワイヤボンディング等の各種の工程
とそれらの装置を必要とする。
ルコニアを使用した気体成分検出素子は、ジルコニアを
通常のセラミックと同じ粉末燒結体により製造している
ため、小形化が図れず、形状や厚さが大きいので、ヒー
タの加熱に時間がかかり、測定できる状態に至るのに数
分から数十分必要である。さらに工程が複雑であり、様
々な設備が必要となる。すなわちジルコニアの粉末化お
よび燒結のための加熱焼成炉や、ジルコニア上への電極
取付けおよびヒータの作成のための印刷機や焼成炉ある
いは各センサ素子への切り離しおよび電極ワイヤ取付け
のためのカッターやワイヤボンディング等の各種の工程
とそれらの装置を必要とする。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の気
体成分検出素子においては、加熱空気中における酸素濃
度の減少により湿度検出に誤差が生じ、また他のガスが
存在する場合、酸素濃度が変わり、これが測定誤差とな
る。また測定に当り、ヒータが十分加熱されるまでに時
間がかかり、したがって測定状態に至る迄に多くの時間
を必要とする。さらに検出素子の製造工程が複雑であ
り、様々な設備が必要となる等の問題点があった。
体成分検出素子においては、加熱空気中における酸素濃
度の減少により湿度検出に誤差が生じ、また他のガスが
存在する場合、酸素濃度が変わり、これが測定誤差とな
る。また測定に当り、ヒータが十分加熱されるまでに時
間がかかり、したがって測定状態に至る迄に多くの時間
を必要とする。さらに検出素子の製造工程が複雑であ
り、様々な設備が必要となる等の問題点があった。
【0012】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、加熱空気のように酸素濃度が減
少した場合にも補正を必要とせず、またその形状を小形
化することにより精度の高い、かつ安定性良好な素子を
得るとともに、始動から動作が安定するまでの時間を短
縮し、さらに薄膜製造技術を用いた簡単な工程と装置に
より製造できることを目的とするものである。
ためになされたもので、加熱空気のように酸素濃度が減
少した場合にも補正を必要とせず、またその形状を小形
化することにより精度の高い、かつ安定性良好な素子を
得るとともに、始動から動作が安定するまでの時間を短
縮し、さらに薄膜製造技術を用いた簡単な工程と装置に
より製造できることを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明に係る気体成分
検出素子は、絶縁物又は半導体からなる基板と、この基
板上に形成された第1の絶縁層と、この絶縁層の上に形
成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成された第
2の絶縁層と、この第2の絶縁層の上に形成された安定
化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端に電
気的に接続した貴金属電極と、この貴金属電極と安定化
ジルコニア層上に形成された第3の絶縁層とを有する。
検出素子は、絶縁物又は半導体からなる基板と、この基
板上に形成された第1の絶縁層と、この絶縁層の上に形
成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成された第
2の絶縁層と、この第2の絶縁層の上に形成された安定
化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端に電
気的に接続した貴金属電極と、この貴金属電極と安定化
ジルコニア層上に形成された第3の絶縁層とを有する。
【0014】
【作用】この発明における気体成分検出素子は、薄膜製
造技術を用いて構成され、全体として層形状を成すこと
から素子そのものが薄形となる。この気体成分検出素子
に1.4V以下の電圧を印加すると酸素センサとして、
また1.4V以上の電圧を印加すると湿度センサとして
使用される。したがって2つの素子を並設し、たがいに
異なる2つの電圧をそれぞれ印加するとの同一場所にお
いて、酸素と湿度とが同時に計測される。この気体成分
検出素子を酸素や水蒸気中に置くとそれらの気体の検出
出力は濃度に比例した値となる。
造技術を用いて構成され、全体として層形状を成すこと
から素子そのものが薄形となる。この気体成分検出素子
に1.4V以下の電圧を印加すると酸素センサとして、
また1.4V以上の電圧を印加すると湿度センサとして
使用される。したがって2つの素子を並設し、たがいに
異なる2つの電圧をそれぞれ印加するとの同一場所にお
いて、酸素と湿度とが同時に計測される。この気体成分
検出素子を酸素や水蒸気中に置くとそれらの気体の検出
出力は濃度に比例した値となる。
【0015】
実施例1.以下、この発明の第1の実施例を図によって
説明する。図1はこの発明における気体成分検出素子の
縦断面図、図2は同平面図である。図8は酸素センサと
湿度検出センサとをとを1つの基板上に形成した気体成
分検出素子の平面図である。図において、1は基板で、
この基板はシリコン等の半導体により形成される。この
基板1の一部には薄肉部2が設けられている。この薄肉
部2は熱容量を小さくし、電源投入時から動作安定時間
での時間を短縮し、高速化を図るためのものである。な
お、基板1の熱容量が全体として十分小さい場合にはと
くに薄肉部2を設ける必要はない。4はこの第1の絶縁
層3の上に形成されたヒータ層で、このヒータ層4は白
金や金等の貴金属により形成され、その製法にはスパッ
タやフォトリソグラフィ等の方法が用いられる。このヒ
ータ層4の上面には第2の絶縁層5が形成される。この
第2の絶縁層5の上面にはポーラス性を有する安定化ジ
ルコニア層6がスパッタ、電子ビーム蒸着法等やフォト
リソグラフィ等の半導体薄膜作成方法により形成され
る。この安定化ジルコニア層6の上面の両端には貴金属
製の電極7a、7bが安定化ジルコニア層6の形成方法
と同様の方法すなわちスパッタ、電子ビーム蒸着法等や
フォトリソグラフィ等の方法により形成され、かつ安定
化ジルコニア層6に電気的に接続される。このとき、一
方の電極7aすなわちカソード側の電極の長さL1は他
方の電極7bすなわちアノード側電極の長さL2に比し
短く(L1<L2)形成される。あるいは一方の電極7
aの安定化ジルコニア層6に対する接触面積S1を他方
の電極7bの安定化ジルコニア層6に対する接触面積S
2に比し狭く(S1<S2)設定される。なお、両電極
7a、7bはポーラス性を有する。また両電極7a、7
bは図2に示すように、電源8間に接続される。これら
の電極7a、7bと安定化ジルコニア層6上面には第3
の絶縁層9が形成され、この第3の絶縁層9によって安
定化ジルコニア層6、両電極7a、7bが汚れや湿度あ
るいは多の腐食性ガス等から保護される。これによって
気体成分検出素子10が構成される。
説明する。図1はこの発明における気体成分検出素子の
縦断面図、図2は同平面図である。図8は酸素センサと
湿度検出センサとをとを1つの基板上に形成した気体成
分検出素子の平面図である。図において、1は基板で、
この基板はシリコン等の半導体により形成される。この
基板1の一部には薄肉部2が設けられている。この薄肉
部2は熱容量を小さくし、電源投入時から動作安定時間
での時間を短縮し、高速化を図るためのものである。な
お、基板1の熱容量が全体として十分小さい場合にはと
くに薄肉部2を設ける必要はない。4はこの第1の絶縁
層3の上に形成されたヒータ層で、このヒータ層4は白
金や金等の貴金属により形成され、その製法にはスパッ
タやフォトリソグラフィ等の方法が用いられる。このヒ
ータ層4の上面には第2の絶縁層5が形成される。この
第2の絶縁層5の上面にはポーラス性を有する安定化ジ
ルコニア層6がスパッタ、電子ビーム蒸着法等やフォト
リソグラフィ等の半導体薄膜作成方法により形成され
る。この安定化ジルコニア層6の上面の両端には貴金属
製の電極7a、7bが安定化ジルコニア層6の形成方法
と同様の方法すなわちスパッタ、電子ビーム蒸着法等や
フォトリソグラフィ等の方法により形成され、かつ安定
化ジルコニア層6に電気的に接続される。このとき、一
方の電極7aすなわちカソード側の電極の長さL1は他
方の電極7bすなわちアノード側電極の長さL2に比し
短く(L1<L2)形成される。あるいは一方の電極7
aの安定化ジルコニア層6に対する接触面積S1を他方
の電極7bの安定化ジルコニア層6に対する接触面積S
2に比し狭く(S1<S2)設定される。なお、両電極
7a、7bはポーラス性を有する。また両電極7a、7
bは図2に示すように、電源8間に接続される。これら
の電極7a、7bと安定化ジルコニア層6上面には第3
の絶縁層9が形成され、この第3の絶縁層9によって安
定化ジルコニア層6、両電極7a、7bが汚れや湿度あ
るいは多の腐食性ガス等から保護される。これによって
気体成分検出素子10が構成される。
【0016】上記構成を有する気体成分検出素子10を
数百度℃に加熱された気体中に置くと、電極7a、7b
と安定化ジルコニア層6はそのポーラス性により酸素イ
オンを透過させる。この状態で、気体成分検出素子10
に1.4V以下の電圧を印加すると、図12に示す1番
目の限界電流IL1が流れ、気体中の酸素濃度が測定さ
れる。なお、酸素ガスの透過量は一方の電極7a側のポ
ーラス性によって制限される。
数百度℃に加熱された気体中に置くと、電極7a、7b
と安定化ジルコニア層6はそのポーラス性により酸素イ
オンを透過させる。この状態で、気体成分検出素子10
に1.4V以下の電圧を印加すると、図12に示す1番
目の限界電流IL1が流れ、気体中の酸素濃度が測定さ
れる。なお、酸素ガスの透過量は一方の電極7a側のポ
ーラス性によって制限される。
【0017】さらにこの状態で、気体成分検出素子10
に1.4V以上の電圧を印加すると、図12に示す2番
目の限界電流IL2が流れ、気体中の湿度が測定され
る。これは空気中の水分子が電極上で分解され、酸素イ
オンとなるために、電流が増加することによる。この第
2番目の限界電流値は酸素濃度と水蒸気圧に比例する。
なお、水蒸気の透過量も一方の電極7a側のポーラス性
によって制限される。
に1.4V以上の電圧を印加すると、図12に示す2番
目の限界電流IL2が流れ、気体中の湿度が測定され
る。これは空気中の水分子が電極上で分解され、酸素イ
オンとなるために、電流が増加することによる。この第
2番目の限界電流値は酸素濃度と水蒸気圧に比例する。
なお、水蒸気の透過量も一方の電極7a側のポーラス性
によって制限される。
【0018】実施例2.次にこの発明の第2の実施例に
ついて図3によって説明する。図3はこの発明の第2の
実施例を示す縦断面図である。図1および図2の構成に
おいては、基板1を半導体により構成したものについて
説明したがこの基板1を絶縁物例えばセラミックや石英
およびサファイアなどで構成する場合には基板1が図1
に示す第1の絶縁層3を兼ねる。この場合には図3に示
すように基板1上にヒータ層4を直接形成する。その他
の構成は図1および図2に示すものと同一であるのでそ
の説明を省略する。
ついて図3によって説明する。図3はこの発明の第2の
実施例を示す縦断面図である。図1および図2の構成に
おいては、基板1を半導体により構成したものについて
説明したがこの基板1を絶縁物例えばセラミックや石英
およびサファイアなどで構成する場合には基板1が図1
に示す第1の絶縁層3を兼ねる。この場合には図3に示
すように基板1上にヒータ層4を直接形成する。その他
の構成は図1および図2に示すものと同一であるのでそ
の説明を省略する。
【0019】実施例3.次にこの発明の第3の実施例に
ついて図4および図5によって説明する。図4はこの発
明における第3の実施例を示す縦断面図、図5は同平面
図である。図において、基板1、第1の絶縁層3、ヒー
タ層4、第2の絶縁層5、安定化ジルコニア層6、貴金
属電極7a、7b、第3の絶縁層9についてはその構成
および製造方法ともに図1および図2に示すものと同一
であるので、その説明を省略する。図4および図5にお
いて図1および図2と異なる点は第2の絶縁層5と第3
の絶縁層9との間に安定化ジルコニア層6を大気と連通
させる気体導入口11が形成されていることである。こ
の気体導入口11は薄膜の微細加工技術を利用して高精
度に形成される。例えばポリシリコン等で薄膜を形成
し、第3の絶縁層9を形成後水酸化ナトリウム(NaO
H)等でエッチングすることにより形成される。またこ
の気体導入口11の面積はアノード側電極7aの面積よ
りも小さく形成され、これによって実施例1および実施
例2の電極のポーラス性と同等の特性を持たせ、気体の
拡散速度を律速させることにより、気体の濃度に比例し
た拡散速度になるように設定される。
ついて図4および図5によって説明する。図4はこの発
明における第3の実施例を示す縦断面図、図5は同平面
図である。図において、基板1、第1の絶縁層3、ヒー
タ層4、第2の絶縁層5、安定化ジルコニア層6、貴金
属電極7a、7b、第3の絶縁層9についてはその構成
および製造方法ともに図1および図2に示すものと同一
であるので、その説明を省略する。図4および図5にお
いて図1および図2と異なる点は第2の絶縁層5と第3
の絶縁層9との間に安定化ジルコニア層6を大気と連通
させる気体導入口11が形成されていることである。こ
の気体導入口11は薄膜の微細加工技術を利用して高精
度に形成される。例えばポリシリコン等で薄膜を形成
し、第3の絶縁層9を形成後水酸化ナトリウム(NaO
H)等でエッチングすることにより形成される。またこ
の気体導入口11の面積はアノード側電極7aの面積よ
りも小さく形成され、これによって実施例1および実施
例2の電極のポーラス性と同等の特性を持たせ、気体の
拡散速度を律速させることにより、気体の濃度に比例し
た拡散速度になるように設定される。
【0020】図4および図5における基本的な動作は図
1および図2に示すものと同一である。ただ図1および
図2に示すものと異なる点は電極7a、7bのポーラス
性を利用していないことである。したがって酸素イオン
および水蒸気の水分解された酸素イオンは直接安定化ジ
ルコニア層6を透過する。
1および図2に示すものと同一である。ただ図1および
図2に示すものと異なる点は電極7a、7bのポーラス
性を利用していないことである。したがって酸素イオン
および水蒸気の水分解された酸素イオンは直接安定化ジ
ルコニア層6を透過する。
【0021】実施例4.次にこの発明の第4の実施例に
ついて図6によって説明する。図6はこの発明における
気体成分検出装置の第4の実施例を示す平面図で、基板
1上の電極構造のみが示されている。図において一方の
電極7aすなわちアノード側の電極を円板上に形成し、
また他方の電極7bすなわちカソード側の電極を一方の
電極を囲むように同心円状の帯により形成したもので、
これによって図2に示すものと同様に、一方の電極7a
の安定化ジルコニア層6と接する面積S1を他方の電極
7bの安定化ジルコニア層6と接する面積S2に比し狭
くしたものである。
ついて図6によって説明する。図6はこの発明における
気体成分検出装置の第4の実施例を示す平面図で、基板
1上の電極構造のみが示されている。図において一方の
電極7aすなわちアノード側の電極を円板上に形成し、
また他方の電極7bすなわちカソード側の電極を一方の
電極を囲むように同心円状の帯により形成したもので、
これによって図2に示すものと同様に、一方の電極7a
の安定化ジルコニア層6と接する面積S1を他方の電極
7bの安定化ジルコニア層6と接する面積S2に比し狭
くしたものである。
【0022】実施例5.次にこの発明の第5の実施例に
ついて図7によって説明する。図7はこの発明における
気体成分検出装置の第5の実施例を示す平面図である。
図において一方の電極7aすなわちカソード側の電極お
よび他方の電極7bすなわちアノード側の電極はともに
櫛形に形成され、刃の部分がたがいに食い込むように配
設されている。この図においては一方の電極7aが2個
の刃により構成され、また他方の電極7bが2個の刃の
周囲を囲むように構成され、これによって図2および図
6に示すものと同様に、一方の電極7aの安定化ジルコ
ニア層6と接する面積S1を他方の電極7bの安定化ジ
ルコニア層6と接する面積S2に比し狭くしたものであ
る。
ついて図7によって説明する。図7はこの発明における
気体成分検出装置の第5の実施例を示す平面図である。
図において一方の電極7aすなわちカソード側の電極お
よび他方の電極7bすなわちアノード側の電極はともに
櫛形に形成され、刃の部分がたがいに食い込むように配
設されている。この図においては一方の電極7aが2個
の刃により構成され、また他方の電極7bが2個の刃の
周囲を囲むように構成され、これによって図2および図
6に示すものと同様に、一方の電極7aの安定化ジルコ
ニア層6と接する面積S1を他方の電極7bの安定化ジ
ルコニア層6と接する面積S2に比し狭くしたものであ
る。
【0023】実施例6.次にこの発明の第6の実施例に
ついて図8によって説明する。図8はこの発明における
気体成分検出装置の第6の実施例を示す平面図である。
図において気体成分検出素子10は1つの基板1上に2
個配設される。一方の気体成分検出素子10aは1.4
V以下に設定された一方の電源8aに接続されて、酸素
センサとして用いられる。また他方の気体成分検出素子
10bは1.4V以上の電圧に設定された他方の電源8
bに接続されて、湿度センサとして用いられる。
ついて図8によって説明する。図8はこの発明における
気体成分検出装置の第6の実施例を示す平面図である。
図において気体成分検出素子10は1つの基板1上に2
個配設される。一方の気体成分検出素子10aは1.4
V以下に設定された一方の電源8aに接続されて、酸素
センサとして用いられる。また他方の気体成分検出素子
10bは1.4V以上の電圧に設定された他方の電源8
bに接続されて、湿度センサとして用いられる。
【0024】図8において、一方の気体成分検出素子1
0aによって気体中の酸素濃度が検出される。また他方
の気体成分検出素子10bによって気体中の水蒸気量が
検出される。すなわちこれらの気体成分検出素子10
a、10bは同一気体中で、かつ実質的に同一地点にお
いて、その気体の酸素濃度と水蒸気量を検出する。
0aによって気体中の酸素濃度が検出される。また他方
の気体成分検出素子10bによって気体中の水蒸気量が
検出される。すなわちこれらの気体成分検出素子10
a、10bは同一気体中で、かつ実質的に同一地点にお
いて、その気体の酸素濃度と水蒸気量を検出する。
【0025】なお、この発明は次の実施態様により適宜
実施される。 (1)上記第2の絶縁層5と第3の絶縁層9との間に気
体導入口11を設けた請求項1または請求項2の気体成
分検出素子。 (2)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aの長さL1を、他方の電極7bの長
さL2に比し、短くするか、または上記安定化ジルコニ
ア層6のカソード側に接続される一方の電極7aと安定
化ジルコニア層6と接する面積S1を、他方の電極7b
と上記安定化ジルコニア層6と接する面積S2に比し、
狭くした請求項1の気体成分検出素子。 (3)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aと上記安定化ジルコニア層6のアノ
ード側に接続される他方の電極7bをたがいに同心円上
に形成し、上記一方の電極7aの上記安定化ジルコニア
層6と接する面積を他方の電極7bと上記安定化ジルコ
ニア層6と接する面積S2に比し、狭くした請求項1の
気体成分検出素子。 (4)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aと上記安定化ジルコニア層6のアノ
ード側に接続される他方の電極7bをたがいに櫛形に形
成し、それぞれの歯がたがいに組み合うように配設し、
上記一方の電極7aの上記安定化ジルコニア層6と接す
る面積を他方の電極7bと上記安定化ジルコニア層6と
接する面積S2に比し、狭くした請求項1の気体成分検
出素子。
実施される。 (1)上記第2の絶縁層5と第3の絶縁層9との間に気
体導入口11を設けた請求項1または請求項2の気体成
分検出素子。 (2)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aの長さL1を、他方の電極7bの長
さL2に比し、短くするか、または上記安定化ジルコニ
ア層6のカソード側に接続される一方の電極7aと安定
化ジルコニア層6と接する面積S1を、他方の電極7b
と上記安定化ジルコニア層6と接する面積S2に比し、
狭くした請求項1の気体成分検出素子。 (3)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aと上記安定化ジルコニア層6のアノ
ード側に接続される他方の電極7bをたがいに同心円上
に形成し、上記一方の電極7aの上記安定化ジルコニア
層6と接する面積を他方の電極7bと上記安定化ジルコ
ニア層6と接する面積S2に比し、狭くした請求項1の
気体成分検出素子。 (4)上記安定化ジルコニア層6のカソード側に接続さ
れる一方の電極7aと上記安定化ジルコニア層6のアノ
ード側に接続される他方の電極7bをたがいに櫛形に形
成し、それぞれの歯がたがいに組み合うように配設し、
上記一方の電極7aの上記安定化ジルコニア層6と接す
る面積を他方の電極7bと上記安定化ジルコニア層6と
接する面積S2に比し、狭くした請求項1の気体成分検
出素子。
【0026】
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明における
気体成分検出素子によれば、半導体からなる基板と、こ
の基板上に形成された第1の絶縁層と、この絶縁層の上
に形成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成され
た第2の絶縁層と、この第2の絶縁層の上に形成された
安定化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端
に電気的に接続した貴金属の電極と、この電極と安定化
ジルコニア層上に形成された第3の絶縁層とを備えてい
るので、半導体の薄膜技術により構成することができ、
したがって製造工程が簡単となり、さらに小形にするこ
とができる。その上、特性の均一な、かつ信頼性の高
い、しかも歩留まりの高い素子を得ることができ、また
量産化を図ることができるなどの効果がある。
気体成分検出素子によれば、半導体からなる基板と、こ
の基板上に形成された第1の絶縁層と、この絶縁層の上
に形成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成され
た第2の絶縁層と、この第2の絶縁層の上に形成された
安定化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端
に電気的に接続した貴金属の電極と、この電極と安定化
ジルコニア層上に形成された第3の絶縁層とを備えてい
るので、半導体の薄膜技術により構成することができ、
したがって製造工程が簡単となり、さらに小形にするこ
とができる。その上、特性の均一な、かつ信頼性の高
い、しかも歩留まりの高い素子を得ることができ、また
量産化を図ることができるなどの効果がある。
【0027】また請求項2の発明における気体成分検出
素子によれば、絶縁物からなる基板と、この基板上に形
成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成された第
1の絶縁層と、この第1の絶縁層の上に形成された安定
化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端に電
気的に接続した貴金属の電極と、この電極と安定化ジル
コニア層上に形成された第2の絶縁層とを備えているの
で、請求項1の発明と同様に製造工程が簡単で、特性の
均一な、かつ信頼性の高い、しかも歩留まりの高い素子
を得ることができるのみでなく、さらに絶縁層の少ない
検出素子を得ることができる。
素子によれば、絶縁物からなる基板と、この基板上に形
成されたヒータ層と、このヒータ層の上に形成された第
1の絶縁層と、この第1の絶縁層の上に形成された安定
化ジルコニア層と、この安定化ジルコニア層の両端に電
気的に接続した貴金属の電極と、この電極と安定化ジル
コニア層上に形成された第2の絶縁層とを備えているの
で、請求項1の発明と同様に製造工程が簡単で、特性の
均一な、かつ信頼性の高い、しかも歩留まりの高い素子
を得ることができるのみでなく、さらに絶縁層の少ない
検出素子を得ることができる。
【図1】この発明における気体成分検出素子の第1の実
施例を示す縦断面図である。
施例を示す縦断面図である。
【図2】図1の気体成分検出素子の平面図である。
【図3】この発明における気体成分検出素子の第2の実
施例を示す縦断面図である。
施例を示す縦断面図である。
【図4】この発明における気体成分検出素子の第3の実
施例を示す縦断面図である。
施例を示す縦断面図である。
【図5】図4の気体成分検出素子の平面図である。
【図6】この発明における気体成分検出素子の第5の実
施例を示す平面図である。
施例を示す平面図である。
【図7】この発明における気体成分検出素子の第5の実
施例を示す平面図である。
施例を示す平面図である。
【図8】この発明における気体成分検出素子の第6の実
施例を示す平面図である。
施例を示す平面図である。
【図9】限界電流式ジルコニア酸素検出素子の原理を示
す構成図である。
す構成図である。
【図10】図9の限界電流式ジルコニア酸素検出素子の
原理において、カバーを設けた状態の構成図である。
原理において、カバーを設けた状態の構成図である。
【図11】図9および図10の構成における電圧と電流
との関係を示す特性図である。
との関係を示す特性図である。
【図12】印加電圧と限界電流との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図13】湿った空気と乾燥した空気における印加電圧
と限界電流との関係を示す特性図である。
と限界電流との関係を示す特性図である。
【図14】水蒸気圧と限界電流との関係を示す特性図で
ある。
ある。
1 基板 2 薄肉部 3 第1の絶縁層 4 ヒータ層 5 第2の絶縁層 6 安定化ジルコニア層 7a、7b 電極 8 電源 9 第3の絶縁層9 10 気体成分検出素子
Claims (2)
- 【請求項1】 半導体からなる基板1と、この基板上1
に形成された第1の絶縁層3と、この絶縁層3の上に形
成されたヒータ層4と、このヒータ層4の上に形成され
た第2の絶縁層5と、この第2の絶縁層5の上に形成さ
れた安定化ジルコニア層6と、この安定化ジルコニア層
6の両端に電気的に接続した貴金属の電極7a、7b
と、この電極7a、7bと上記安定化ジルコニア層6上
に形成された第3の絶縁層9とを備えた気体成分検出素
子。 - 【請求項2】 絶縁物からなり、実質的に第1の絶縁層
3を形成する基板1と、この基板1上に形成されたヒー
タ層4と、このヒータ層4の上に形成された第2の絶縁
層5と、この第2の絶縁層5の上に形成された安定化ジ
ルコニア層6と、この安定化ジルコニア層6の両端に電
気的に接続した貴金属の電極7a、7bと、この電極7
a、7bと上記安定化ジルコニア層6上に形成された第
3の絶縁層9とを備えた気体成分検出素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223989A JPH0735726A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 気体成分検出素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223989A JPH0735726A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 気体成分検出素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0735726A true JPH0735726A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16806845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5223989A Pending JPH0735726A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 気体成分検出素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735726A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11194111A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-07-21 | Robert Bosch Gmbh | 平坦なセンサエレメント |
| US6095103A (en) * | 1997-05-23 | 2000-08-01 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust control valve structure for 2-cycle engine |
| JP2014196995A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-10-16 | ローム株式会社 | 限界電流式ガスセンサ、限界電流式ガスセンサの製造方法、およびセンサネットワークシステム |
| WO2017014033A1 (ja) * | 2015-07-21 | 2017-01-26 | ローム株式会社 | 限界電流式ガスセンサ |
-
1993
- 1993-07-21 JP JP5223989A patent/JPH0735726A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6095103A (en) * | 1997-05-23 | 2000-08-01 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust control valve structure for 2-cycle engine |
| JPH11194111A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-07-21 | Robert Bosch Gmbh | 平坦なセンサエレメント |
| JP2014196995A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-10-16 | ローム株式会社 | 限界電流式ガスセンサ、限界電流式ガスセンサの製造方法、およびセンサネットワークシステム |
| WO2017014033A1 (ja) * | 2015-07-21 | 2017-01-26 | ローム株式会社 | 限界電流式ガスセンサ |
| JPWO2017014033A1 (ja) * | 2015-07-21 | 2018-05-10 | ローム株式会社 | 限界電流式ガスセンサ |
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