JPH0735921A - 光学フィルター - Google Patents
光学フィルターInfo
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- JPH0735921A JPH0735921A JP5199888A JP19988893A JPH0735921A JP H0735921 A JPH0735921 A JP H0735921A JP 5199888 A JP5199888 A JP 5199888A JP 19988893 A JP19988893 A JP 19988893A JP H0735921 A JPH0735921 A JP H0735921A
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- light
- film
- absorbing metal
- optical filter
- transparent substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定した照度分布補正機能を有する光学フィ
ルターを提供することを目的とする。 【構成】 透明基板と、透明基板の表面を覆うように設
けられた一層または積層された複数の薄層からなる反射
防止膜と、さらに前記反射防止膜表面の少なくとも一部
の領域において所定の面積比を得るように予め設計され
たパターン状に形成され、その膜厚が所定の波長の光に
対して透過率が０．１％以下となる値である光吸収性金
属膜を具える。
ルターを提供することを目的とする。 【構成】 透明基板と、透明基板の表面を覆うように設
けられた一層または積層された複数の薄層からなる反射
防止膜と、さらに前記反射防止膜表面の少なくとも一部
の領域において所定の面積比を得るように予め設計され
たパターン状に形成され、その膜厚が所定の波長の光に
対して透過率が０．１％以下となる値である光吸収性金
属膜を具える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光学フィルターに関
するものであり、例えば光源より投射される光の照度分
布を均一化するための照度分布補正板として用いられる
光学フィルターに関するものである。
するものであり、例えば光源より投射される光の照度分
布を均一化するための照度分布補正板として用いられる
光学フィルターに関するものである。
【０００２】
【従来技術】半導体素子の製造の際に使用される露光装
置においては、光源から投射される光によって、マスク
パターンによる微細パターンがウエハなどの被照射面に
投影されるが、光源から投射される光による照度分布は
被照射面の露光領域内で高い均一性を有することが要求
される。しかし、実際の露光装置においては、種々の原
因により、照度分布を十分に均一性の高いものとするこ
とは困難であり、局部的にムラが現れる。
置においては、光源から投射される光によって、マスク
パターンによる微細パターンがウエハなどの被照射面に
投影されるが、光源から投射される光による照度分布は
被照射面の露光領域内で高い均一性を有することが要求
される。しかし、実際の露光装置においては、種々の原
因により、照度分布を十分に均一性の高いものとするこ
とは困難であり、局部的にムラが現れる。
【０００３】以上のような事情から、現在では、露光装
置が組立られた後、予め被照射面における光の照度分布
を測定し、この照度分布に対応した照度分布補正板を露
光装置の光学系に装着することにより、被照射面におけ
る照度分布の均一化を図っている。
置が組立られた後、予め被照射面における光の照度分布
を測定し、この照度分布に対応した照度分布補正板を露
光装置の光学系に装着することにより、被照射面におけ
る照度分布の均一化を図っている。
【０００４】従来、照度分布補正板として用いられてい
る光学フィルターは、図６に示すように、紫外領域にお
ける光の透過率の高い石英ガラスあるいは光学ガラスよ
りなる透明基板１の両表面１ａおよび１ｂ上に、反射防
止膜２ａおよび２ｂがそれぞれ設けられ、一方の反射防
止膜２ｂの表面上には、一部の領域に金属クロムが蒸着
されて形成された光吸収性金属薄膜３０が設けらてい
る。この光吸収性金属薄膜３０が形成される領域は、予
め行われた被照射面における照度分布の測定によって検
出された照度の大きさが局部的に高い高照度領域に対応
する領域であり、例えば図７に示すように、被照射面に
おける高照度領域に相当する領域に開口５１を有するマ
スク５を用いることによって、光吸収性金属薄膜３０が
形成される領域が規制される。
る光学フィルターは、図６に示すように、紫外領域にお
ける光の透過率の高い石英ガラスあるいは光学ガラスよ
りなる透明基板１の両表面１ａおよび１ｂ上に、反射防
止膜２ａおよび２ｂがそれぞれ設けられ、一方の反射防
止膜２ｂの表面上には、一部の領域に金属クロムが蒸着
されて形成された光吸収性金属薄膜３０が設けらてい
る。この光吸収性金属薄膜３０が形成される領域は、予
め行われた被照射面における照度分布の測定によって検
出された照度の大きさが局部的に高い高照度領域に対応
する領域であり、例えば図７に示すように、被照射面に
おける高照度領域に相当する領域に開口５１を有するマ
スク５を用いることによって、光吸収性金属薄膜３０が
形成される領域が規制される。
【０００５】上記のような光学フィルターによれば、光
吸収性金属薄膜３０が形成されている領域では透過光量
が減少し、しかもその光透過率は、当該光吸収性金属薄
膜３０の厚みを調整することによって制御することがで
きる。従って、そのような光学フィルターを用いること
により、被照射面の全領域における照度分布の均一化を
図ることができる。
吸収性金属薄膜３０が形成されている領域では透過光量
が減少し、しかもその光透過率は、当該光吸収性金属薄
膜３０の厚みを調整することによって制御することがで
きる。従って、そのような光学フィルターを用いること
により、被照射面の全領域における照度分布の均一化を
図ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし上述の光学フィ
ルターにおいては、光吸収性金属薄膜が外面に露出され
た状態で形成されているため、経時的に酸化される。生
成した酸化膜の厚みの分だけ実質的に当該光吸収性金属
薄の膜厚が減少するので、経時的に当該光吸収性金属薄
膜による光吸収が減少する。すなわち透過光量が増加す
る。よって、当初は照度分布補正板としての所期の性能
を有するものであっても、その使用寿命が比較的短いと
いう問題がある。
ルターにおいては、光吸収性金属薄膜が外面に露出され
た状態で形成されているため、経時的に酸化される。生
成した酸化膜の厚みの分だけ実質的に当該光吸収性金属
薄の膜厚が減少するので、経時的に当該光吸収性金属薄
膜による光吸収が減少する。すなわち透過光量が増加す
る。よって、当初は照度分布補正板としての所期の性能
を有するものであっても、その使用寿命が比較的短いと
いう問題がある。
【０００７】そこで本発明はかかる事情に鑑みてなされ
たものであり、特性の経時的劣化が生ずることが少なく
て使用寿命が長い光学フィルターを提供することを目的
とする。
たものであり、特性の経時的劣化が生ずることが少なく
て使用寿命が長い光学フィルターを提供することを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は、透明基板と透明基板の表面を覆うよう
に設けられた一層または積重された複数の薄層からなる
反射防止膜と、更に前記反射防止膜上表面の少なくとも
一部の領域において、所定の面積比を得るように予め設
計されたパターン状に光吸収性金属膜を形成し、その膜
厚を所定の波長の光に対して透過率が０．１％以下とな
る値とする。
めに、本発明は、透明基板と透明基板の表面を覆うよう
に設けられた一層または積重された複数の薄層からなる
反射防止膜と、更に前記反射防止膜上表面の少なくとも
一部の領域において、所定の面積比を得るように予め設
計されたパターン状に光吸収性金属膜を形成し、その膜
厚を所定の波長の光に対して透過率が０．１％以下とな
る値とする。
【０００９】
【作用】このような構成によれば、光吸収性金属膜は、
反射防止膜上表面の少なくとも一部の領域に所定の面積
比を得るように予め設計されたパターン状に形成される
ので、この面積比を制御することにより、光の透過率を
制御できる。また所定の波長の光に対して透過率が０．
１％以下となる膜厚の本光吸収性金属膜は、経時的に酸
化されてもその酸化膜の生成分と比較して充分な膜厚で
あるので、実質的に経時的な当該光吸収性金属膜による
光吸収の変化は著しく減少する。よって照度分布補正板
としての使用寿命が長くなる。
反射防止膜上表面の少なくとも一部の領域に所定の面積
比を得るように予め設計されたパターン状に形成される
ので、この面積比を制御することにより、光の透過率を
制御できる。また所定の波長の光に対して透過率が０．
１％以下となる膜厚の本光吸収性金属膜は、経時的に酸
化されてもその酸化膜の生成分と比較して充分な膜厚で
あるので、実質的に経時的な当該光吸収性金属膜による
光吸収の変化は著しく減少する。よって照度分布補正板
としての使用寿命が長くなる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１、図２、図３は本発明に基づいた光学フィルターの形
成工程を説明する説明図である。この例においては、例
えば直径１３６ｍｍ、厚さ３ｍｍの円形石英板よりなる
透明基板の両表面１ａ、１ｂ上に、酸化アルミニウム
（Ａｌ2 Ｏ3 ）を蒸着してなる第１の薄層２１ａ、２１
ｂをそれぞれ形成し、この第１の薄層２１ａ、２１ｂ上
に、酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）が蒸着してなる第２の
薄層２２ａ、２２ｂがそれぞれ形成し、さらにこの第２
の薄層２２ａ、２２ｂ上に、フッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2 ）が蒸着してなる第３の薄層２３ａ、２３ｂをそれ
ぞれ形成しており、これらの第１の薄層２１ａ、２１
ｂ、第２の薄層２２ａ、２２ｂ、第３の薄層２３ａ、２
３ｂの積重体により反射防止膜２ａ、２ｂを構成する。
１、図２、図３は本発明に基づいた光学フィルターの形
成工程を説明する説明図である。この例においては、例
えば直径１３６ｍｍ、厚さ３ｍｍの円形石英板よりなる
透明基板の両表面１ａ、１ｂ上に、酸化アルミニウム
（Ａｌ2 Ｏ3 ）を蒸着してなる第１の薄層２１ａ、２１
ｂをそれぞれ形成し、この第１の薄層２１ａ、２１ｂ上
に、酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）が蒸着してなる第２の
薄層２２ａ、２２ｂがそれぞれ形成し、さらにこの第２
の薄層２２ａ、２２ｂ上に、フッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2 ）が蒸着してなる第３の薄層２３ａ、２３ｂをそれ
ぞれ形成しており、これらの第１の薄層２１ａ、２１
ｂ、第２の薄層２２ａ、２２ｂ、第３の薄層２３ａ、２
３ｂの積重体により反射防止膜２ａ、２ｂを構成する。
【００１１】ここに、第１の薄層２１ａ、２１ｂの厚さ
は、対象とされる光の波長の４分の１に相当する光学的
膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれば９１．
２５ｎｍとされる。第２の薄層２２ａ、２２ｂの厚さ
は、対象とされる光の波長の２分の１に相当する光学的
膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれば１８
２．５ｎｍとされる。さらに、第３の薄層２３ａ、２３
ｂの厚さは、対象とされる光の波長の４分の１に相当す
る光学的膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれ
ば９１．２５ｎｍとされる。
は、対象とされる光の波長の４分の１に相当する光学的
膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれば９１．
２５ｎｍとされる。第２の薄層２２ａ、２２ｂの厚さ
は、対象とされる光の波長の２分の１に相当する光学的
膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれば１８
２．５ｎｍとされる。さらに、第３の薄層２３ａ、２３
ｂの厚さは、対象とされる光の波長の４分の１に相当す
る光学的膜厚とされ、当該光の波長が３６５ｎｍであれ
ば９１．２５ｎｍとされる。
【００１２】これら第１の薄層２１ａ、２１ｂ、第２の
薄層２２ａ、２２ｂおよび第３の薄層２３ａ、２３ｂ
は、それぞれ選定された条件に従って蒸着法によって形
成することができる。例えば、第１の薄層２１ａ、２１
ｂは、蒸着速度６．０Å／ｓｅｃ、透明基板１の温度３
００℃、真空槽内圧力１０-4Ｐａ乃至１０-3Ｐａの条件
で蒸着形成することができる。第２の薄層２２ａ、２２
ｂの蒸着形成においては、蒸着速度３．６Å／ｓｅｃ、
透明基板１の温度３００℃とされるが、蒸着される酸化
タンタルより形成される当該第２の薄層２２ａ、２２ｂ
には酸素欠損が生じやすいため、真空槽内に自動酸素分
圧制御装置を用いて制御された割合で酸素を供給し、真
空槽内圧力を１０-2Ｐａ程度に保つことによって形成さ
れる。一方、第３の薄層２３ａ、２３ｂは、例えば蒸着
速度５．０Å／ｓｅｃ、透明基板１の温度３００℃、真
空槽内圧力１０-4Ｐａ乃至１０-3Ｐａの条件で蒸着形成
することができる。
薄層２２ａ、２２ｂおよび第３の薄層２３ａ、２３ｂ
は、それぞれ選定された条件に従って蒸着法によって形
成することができる。例えば、第１の薄層２１ａ、２１
ｂは、蒸着速度６．０Å／ｓｅｃ、透明基板１の温度３
００℃、真空槽内圧力１０-4Ｐａ乃至１０-3Ｐａの条件
で蒸着形成することができる。第２の薄層２２ａ、２２
ｂの蒸着形成においては、蒸着速度３．６Å／ｓｅｃ、
透明基板１の温度３００℃とされるが、蒸着される酸化
タンタルより形成される当該第２の薄層２２ａ、２２ｂ
には酸素欠損が生じやすいため、真空槽内に自動酸素分
圧制御装置を用いて制御された割合で酸素を供給し、真
空槽内圧力を１０-2Ｐａ程度に保つことによって形成さ
れる。一方、第３の薄層２３ａ、２３ｂは、例えば蒸着
速度５．０Å／ｓｅｃ、透明基板１の温度３００℃、真
空槽内圧力１０-4Ｐａ乃至１０-3Ｐａの条件で蒸着形成
することができる。
【００１３】次に図２に示すように、例えば反射防止膜
２ａの表面上に金属クロムを蒸着してなる光吸収性金属
膜３を形成し、さらにフォトレジスト４を塗布する。光
吸収性金属膜３の膜厚は例えば１５０ｎｍであり、室温
で、蒸着速度０．４Å／ｓｅｃ、真空槽内圧力１０-4Ｐ
ａ乃至１０-3Ｐａとして蒸着形成することができる。
２ａの表面上に金属クロムを蒸着してなる光吸収性金属
膜３を形成し、さらにフォトレジスト４を塗布する。光
吸収性金属膜３の膜厚は例えば１５０ｎｍであり、室温
で、蒸着速度０．４Å／ｓｅｃ、真空槽内圧力１０-4Ｐ
ａ乃至１０-3Ｐａとして蒸着形成することができる。
【００１４】その後、一般的な方法なのでここでは詳細
な説明を省くが、図３に示すように所定のマスクパター
ンを持ったマスク５をフォトレジスト４に密着させた状
態で露光後、エッチング処理を施し、所定のパターン状
の光吸収性金属膜３を構築する。尚、マスク５のマスク
パターンは、予め行われた被照射面における照度分布の
測定に対応した例えば縞状のパターンであり、目的とす
る透過光量に応じて縞のライン＆スペースが決定され
る。従って、図４に示すように光吸収性金属膜３も、目
的とする透過光量に対応したライン＆スペースを持つ縞
パターン状に構築される。すなわち光源から投射される
光量Ｉ０に対して光吸収性金属膜３で形成されたライン
の間隔が狭い場合の透過光量Ｉ１は、その間隔が広い場
合の透過光量Ｉ２よりも小さくなるので、縞パターンの
ライン＆スペースを制御することにより、所望の透過光
量を得ることができる。従って、このような光学系フィ
ルターを用いることにより、被照射面の全領域における
照度分布の均一化を図ることができる。
な説明を省くが、図３に示すように所定のマスクパター
ンを持ったマスク５をフォトレジスト４に密着させた状
態で露光後、エッチング処理を施し、所定のパターン状
の光吸収性金属膜３を構築する。尚、マスク５のマスク
パターンは、予め行われた被照射面における照度分布の
測定に対応した例えば縞状のパターンであり、目的とす
る透過光量に応じて縞のライン＆スペースが決定され
る。従って、図４に示すように光吸収性金属膜３も、目
的とする透過光量に対応したライン＆スペースを持つ縞
パターン状に構築される。すなわち光源から投射される
光量Ｉ０に対して光吸収性金属膜３で形成されたライン
の間隔が狭い場合の透過光量Ｉ１は、その間隔が広い場
合の透過光量Ｉ２よりも小さくなるので、縞パターンの
ライン＆スペースを制御することにより、所望の透過光
量を得ることができる。従って、このような光学系フィ
ルターを用いることにより、被照射面の全領域における
照度分布の均一化を図ることができる。
【００１５】また光吸収性金属膜３の膜厚と光透過率の
関係は、例えば光吸収性金属膜３を金属クロム、光の波
長を３５０ｎｍとした場合、図５のようになる。前述の
実施例において、金属クロムを蒸着してなる光吸収性金
属膜３の膜厚は１５０ｎｍであり、波長３５０ｎｍの光
に対しては膜厚が７０ｎｍ以下となるまでは透過率がゼ
ロであって変化しない。従来の方法においては、例えば
金属クロムを蒸着してなる光吸収性金属膜３の膜厚は１
０ｎｍ以下であって、実質的に膜厚が１ｎｍ変化すると
波長３５０ｎｍの光の透過率は数％変化する。よって本
発明においては従来の方法に比較して、酸化に対して長
期的な安定性を示すことが分かる。
関係は、例えば光吸収性金属膜３を金属クロム、光の波
長を３５０ｎｍとした場合、図５のようになる。前述の
実施例において、金属クロムを蒸着してなる光吸収性金
属膜３の膜厚は１５０ｎｍであり、波長３５０ｎｍの光
に対しては膜厚が７０ｎｍ以下となるまでは透過率がゼ
ロであって変化しない。従来の方法においては、例えば
金属クロムを蒸着してなる光吸収性金属膜３の膜厚は１
０ｎｍ以下であって、実質的に膜厚が１ｎｍ変化すると
波長３５０ｎｍの光の透過率は数％変化する。よって本
発明においては従来の方法に比較して、酸化に対して長
期的な安定性を示すことが分かる。
【００１６】本発明の効果を確認するために、直径３０
ｍｍ、厚さ１ｍｍの石英基板上に、金属クロムを、
（１）膜厚６．２８ｎｍ、（２）膜厚２．３４ｎｍ、
（３）膜厚１５０ｎｍ（縞形状、ライン＆スペースの面
積比５０：５０）で蒸着し、２４時間空気中に室温２２
℃で放置したときの透過光量の変化を測定した。光源に
超高圧水銀灯を使用し、透過光量の測定は、波長３６５
ｎｍに感度を持つＳｉフォトダイオードの出力電圧を比
較することにより求めた。その結果、（１）においては
透過光量が５４．５％から５４．８％へ、（２）におい
ては透過光量が７５．５％から７６．５％と変化したの
に対し、（３）においては透過光量が４７．０％から４
７．０％と変化せず、自然酸化に対して高い安定性を示
すことが確認された。
ｍｍ、厚さ１ｍｍの石英基板上に、金属クロムを、
（１）膜厚６．２８ｎｍ、（２）膜厚２．３４ｎｍ、
（３）膜厚１５０ｎｍ（縞形状、ライン＆スペースの面
積比５０：５０）で蒸着し、２４時間空気中に室温２２
℃で放置したときの透過光量の変化を測定した。光源に
超高圧水銀灯を使用し、透過光量の測定は、波長３６５
ｎｍに感度を持つＳｉフォトダイオードの出力電圧を比
較することにより求めた。その結果、（１）においては
透過光量が５４．５％から５４．８％へ、（２）におい
ては透過光量が７５．５％から７６．５％と変化したの
に対し、（３）においては透過光量が４７．０％から４
７．０％と変化せず、自然酸化に対して高い安定性を示
すことが確認された。
【００１７】本発明において、光吸収性金属膜３の材料
はクロムに限定されるものではなく、例えば金（Ａ
ｕ）、銀（Ａｇ）などを用いることができる。また光吸
収性金属膜３の形成パターンも縞状に限定されるもので
はなく、面積比を制御できる形状、例えばメッシュ形状
としてもよい。
はクロムに限定されるものではなく、例えば金（Ａ
ｕ）、銀（Ａｇ）などを用いることができる。また光吸
収性金属膜３の形成パターンも縞状に限定されるもので
はなく、面積比を制御できる形状、例えばメッシュ形状
としてもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光吸収性金属膜は、反射防止膜上表面の少なくとも一部
の領域に所定の面積比を得るように予め設計されたパタ
ーン状に形成されるので、この面積比を制御することに
より、光の透過率を制御できる。また本光吸収性金属膜
は経時的に酸化されても、その生成した酸化膜の厚みの
分と比較して充分な膜厚であるので、実質的に酸化劣化
による経時的な当該光吸収性金属膜による光吸収の変化
は著しく減少させることができる。従って、本発明に係
る光学フィルターは、その特性の経時的劣化が生ずるこ
とがなく長期の使用に十分耐え得るものであるため、こ
の光学フィルターを用いることによって、光源からの照
度分布を均一化させ、しかも経時的に安定した照度分布
を長期にわたり維持することができる。
光吸収性金属膜は、反射防止膜上表面の少なくとも一部
の領域に所定の面積比を得るように予め設計されたパタ
ーン状に形成されるので、この面積比を制御することに
より、光の透過率を制御できる。また本光吸収性金属膜
は経時的に酸化されても、その生成した酸化膜の厚みの
分と比較して充分な膜厚であるので、実質的に酸化劣化
による経時的な当該光吸収性金属膜による光吸収の変化
は著しく減少させることができる。従って、本発明に係
る光学フィルターは、その特性の経時的劣化が生ずるこ
とがなく長期の使用に十分耐え得るものであるため、こ
の光学フィルターを用いることによって、光源からの照
度分布を均一化させ、しかも経時的に安定した照度分布
を長期にわたり維持することができる。
【図１】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図２】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図３】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図４】本発明の実施例における光吸収性金属膜の形状
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例における光吸収性金属膜の膜厚
と波長３５０ｎｍの光の透過率を示す説明図である。
と波長３５０ｎｍの光の透過率を示す説明図である。
【図６】従来の光学フィルターの構成の一例を示す断面
概略説明図である。
概略説明図である。
【図６】従来の光学フィルターの形成方法の説明図であ
る。
る。
１ 透明基板 １ａ 透明基板の表面 １ｂ 透明基板の表面 ２ａ 反射防止膜 ２ｂ 反射防止膜 ２１ａ 第１の薄層 ２１ｂ 第１の薄層 ２２ａ 第２の薄層 ２２ｂ 第２の薄層 ２３ａ 第３の薄層 ２３ｂ 第３の薄層 ３０光吸収性金属薄膜 ３ 光吸収性金属膜 ４ ホトレジスト ５ マスク ５１ 開口 Ｉ０ 光源から投射される光量 Ｉ１ 透過光量 Ｉ２ 透過光量
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年４月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図２】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図３】本発明に基づいた光学フィルターの形成工程を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図４】本発明の実施例における光吸収性金属膜の形状
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例における光吸収性金属膜の膜厚
と波長３５０ｎｍの光の透過率を示す説明図である。
と波長３５０ｎｍの光の透過率を示す説明図である。
【図６】従来の光学フィルターの構成の一例を示す断面
概略説明図である。
概略説明図である。
【図７】従来の光学フィルターの形成方法の説明図であ
る。
る。
【符号の簡単な説明】 １ 透明基板 １ａ 透明基板の表面 １ｂ 透明基板の表面 ２ａ 反射防止膜 ２ｂ 反射防止膜 ２１ａ 第１の薄層 ２ｉｂ 第１の薄層 ２２ａ 第２の薄層 ２２ｂ 第２の薄層 ２３ａ 第３の薄層 ２３ｂ 第３の薄層 ３０光吸収性金属薄膜 ３ 光吸収性金属膜 ４ ホトレジスト ５ マスク ５１ 開口 １０ 光源から投射される光量 １１ 透過光量 １２ 透過光量
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板と、透明基板の表面を覆うよう
に設けられた一層または積重された複数の薄層からなる
反射防止膜と、更に前記反射防止膜上表面の少なくとも
一部の領域において所定の面積比を得るように予め設計
されたパターン状に形成され、その膜厚が所定の波長の
光に対して透過率が０．１％以下となる値である光吸収
性金属膜とを具えてなることを特徴とする光学フィルタ
ー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5199888A JPH0735921A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 光学フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5199888A JPH0735921A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 光学フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0735921A true JPH0735921A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16415282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5199888A Pending JPH0735921A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 光学フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735921A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1882678A1 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-30 | Sony Corporation | Antireflection film, method for heating metal film, and heating apparatus |
| JP2008020882A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Lg Electronics Inc | フィルタ及びそれを利用したプラズマディスプレイ装置 |
| US7918101B2 (en) | 2004-12-02 | 2011-04-05 | Fujitsu General Limited | Outdoor unit of air conditioner |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP5199888A patent/JPH0735921A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7918101B2 (en) | 2004-12-02 | 2011-04-05 | Fujitsu General Limited | Outdoor unit of air conditioner |
| JP2008020882A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Lg Electronics Inc | フィルタ及びそれを利用したプラズマディスプレイ装置 |
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| US8693099B2 (en) | 2006-07-28 | 2014-04-08 | Japan Display West Inc. | Antireflection film |
| KR101388570B1 (ko) * | 2006-07-28 | 2014-04-23 | 재팬 디스프레이 웨스트 인코포레이트 | 반사 방지막, 금속막의 가열 방법 및 가열 장치 |
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