JPH0737456B2 - ベンゼン化合物及びその製法 - Google Patents
ベンゼン化合物及びその製法Info
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- JPH0737456B2 JPH0737456B2 JP1025272A JP2527289A JPH0737456B2 JP H0737456 B2 JPH0737456 B2 JP H0737456B2 JP 1025272 A JP1025272 A JP 1025272A JP 2527289 A JP2527289 A JP 2527289A JP H0737456 B2 JPH0737456 B2 JP H0737456B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は種々の医薬化合物の新規合成中間体及びその製
法に関する。
法に関する。
（発明の構成及び効果） 本発明は次式で示される新規ベンゼン化合物及びその
塩、並びにその製法に関する。
塩、並びにその製法に関する。
（但し、R1及びR2は、R1がアルデヒド基もしくはジ低級
アルコキシメチル基であり、R2が水素原子、低級アルキ
ル基もしくは低級アルカノイル基であるか、又はR1とR2
とが互いに結合して低級アルコキシメチレン基を形成し
ていることを表し、R3及びR4は低級アルキル基、環Ａは
置換基を有してもよく、かつ異種原子として硫黄原子も
しくは窒素原子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式も
しくは二環縮合環式の芳香族性複素環を表す。） 本発明のベンゼン化合物（Ｉ）は、医薬化合物の合成中
間体として有用な化合物であり、例えば、抗脂血剤とし
て有用な各種ビフェニル誘導体〔特願昭62-294736号
（特開平１−135766号）〕を製造するための合成中間体
として用いることができる。
アルコキシメチル基であり、R2が水素原子、低級アルキ
ル基もしくは低級アルカノイル基であるか、又はR1とR2
とが互いに結合して低級アルコキシメチレン基を形成し
ていることを表し、R3及びR4は低級アルキル基、環Ａは
置換基を有してもよく、かつ異種原子として硫黄原子も
しくは窒素原子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式も
しくは二環縮合環式の芳香族性複素環を表す。） 本発明のベンゼン化合物（Ｉ）は、医薬化合物の合成中
間体として有用な化合物であり、例えば、抗脂血剤とし
て有用な各種ビフェニル誘導体〔特願昭62-294736号
（特開平１−135766号）〕を製造するための合成中間体
として用いることができる。
本発明のベンゼン化合物の具体例としては、一般式
（Ｉ）において、環Ａがフェニルスルホニル基又は低級
アルキルフェニルスルホニル基で置換されていてもよ
く、かつ異種原子として硫黄原子もしくは窒素原子又は
窒素原子と酸素原子を含む単環式もしくは二環縮合環式
の芳香族性複素環（例えば、チオフェン環、ピロール
環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、イン
ドール環、キノリン環、チアゾール環、オキサゾール
環）である化合物をあげることができる。このうち、好
ましい化合物は、環Ａがチオフェン環、ピリジン環、イ
ンドール環又はＮ−フェニルスルホニルインドール環で
ある化合物である。
（Ｉ）において、環Ａがフェニルスルホニル基又は低級
アルキルフェニルスルホニル基で置換されていてもよ
く、かつ異種原子として硫黄原子もしくは窒素原子又は
窒素原子と酸素原子を含む単環式もしくは二環縮合環式
の芳香族性複素環（例えば、チオフェン環、ピロール
環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、イン
ドール環、キノリン環、チアゾール環、オキサゾール
環）である化合物をあげることができる。このうち、好
ましい化合物は、環Ａがチオフェン環、ピリジン環、イ
ンドール環又はＮ−フェニルスルホニルインドール環で
ある化合物である。
本発明によれば、ベンゼン化合物（Ｉ）のうち、一般式 （但し、R11はアルデヒド基又はジ低級アルコキシメチ
ル基、R21は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカ
ノイル基を表し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有
する。） で示されるベンゼン化合物は、一般式 （但し、R5は低級アルキル基、X1は水素原子又はハロゲ
ン原子を表し、環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるアセタール化合物又はその塩と、一般式 （但し、R3及びR4は前記と同一意味を有する。） で示されるアルデヒド化合物とを反応させて一般式 （但し、R3〜R5及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物を得、所望により、そのジ低
級アルコキシメチル基を加水分解してアルデヒド基とす
るか、及び／又はその水酸基を常法によりアルキル化又
はアルカノイル化して製造することができる。
ル基、R21は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカ
ノイル基を表し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有
する。） で示されるベンゼン化合物は、一般式 （但し、R5は低級アルキル基、X1は水素原子又はハロゲ
ン原子を表し、環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるアセタール化合物又はその塩と、一般式 （但し、R3及びR4は前記と同一意味を有する。） で示されるアルデヒド化合物とを反応させて一般式 （但し、R3〜R5及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物を得、所望により、そのジ低
級アルコキシメチル基を加水分解してアルデヒド基とす
るか、及び／又はその水酸基を常法によりアルキル化又
はアルカノイル化して製造することができる。
或いは、ベンゼン化合物（Ｉ）のうち、一般式 （但し、R22は低級アルキル基を表し、R3、R4及び環Ａ
は前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物は一般式 （但し、環Ａは前記と同一意味を有する。） で示される複素環アルデヒド化合物又はその塩と、一般
式 （但し、X2はハロゲン原子を表し、R3及びR4は前記と同
一意味を有する。） で示されるアルコキシベンゼン化合物とを反応させ、か
くして得られる一般式 （但し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示される複素環化合物の水酸基を常法により、低級ア
ルキル化した後、ジ低級アルキルホルムアミドと反応さ
せて製造することもできる。
は前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物は一般式 （但し、環Ａは前記と同一意味を有する。） で示される複素環アルデヒド化合物又はその塩と、一般
式 （但し、X2はハロゲン原子を表し、R3及びR4は前記と同
一意味を有する。） で示されるアルコキシベンゼン化合物とを反応させ、か
くして得られる一般式 （但し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示される複素環化合物の水酸基を常法により、低級ア
ルキル化した後、ジ低級アルキルホルムアミドと反応さ
せて製造することもできる。
一方、ベンゼン化合物（Ｉ）のうち、一般式 （但し、R5は低級アルキル基を表し、R3、R4及び環Ａは
前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物は、R11がジ低級アルコキシ
メチル基、R21が水素原子であるベンゼン化合物（Ｉ−
ａ）の分子内閉環反応により製造することができる。
前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物は、R11がジ低級アルコキシ
メチル基、R21が水素原子であるベンゼン化合物（Ｉ−
ａ）の分子内閉環反応により製造することができる。
アセタール化合物（II）又はその塩とアルデヒド化合物
（III）との反応は、アルキルリチウムの存在下で実施
することができる。アルキルリチウムとしては、低級ア
ルキルリチウムを用いるのが好ましい。反応は適当な溶
媒中で実施するのが好ましく、溶媒としては、慣用の有
機溶媒をいずれも使用することができ、例えば、テトラ
ヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ヘキサン、トル
エン、キシレン等をいずれも好適に用いることができ
る。アセタール化合物（II）は、X1が水素原子又はハロ
ゲン原子である化合物をいずれも用いることができる
が、とりわけX1が水素原子又は臭素原子である化合物を
用いるのが好ましい。また、環Ａが異種原子として窒素
原子を含む場合、アセタール化合物（II）は、例えば、
無機酸付加塩（例えば、臭化水素酸塩、硫酸塩）、有機
酸付加塩（例えば、酢酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩）等として反応に供することもできる。
（III）との反応は、アルキルリチウムの存在下で実施
することができる。アルキルリチウムとしては、低級ア
ルキルリチウムを用いるのが好ましい。反応は適当な溶
媒中で実施するのが好ましく、溶媒としては、慣用の有
機溶媒をいずれも使用することができ、例えば、テトラ
ヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ヘキサン、トル
エン、キシレン等をいずれも好適に用いることができ
る。アセタール化合物（II）は、X1が水素原子又はハロ
ゲン原子である化合物をいずれも用いることができる
が、とりわけX1が水素原子又は臭素原子である化合物を
用いるのが好ましい。また、環Ａが異種原子として窒素
原子を含む場合、アセタール化合物（II）は、例えば、
無機酸付加塩（例えば、臭化水素酸塩、硫酸塩）、有機
酸付加塩（例えば、酢酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩）等として反応に供することもできる。
反応に際しては、必要に応じ、塩基（例えば、N,N′−
テトラメチルエチレンジアミン）を共存させてもよい。
本反応は、例えば、冷却〜室温で好適に実施することが
できる。
テトラメチルエチレンジアミン）を共存させてもよい。
本反応は、例えば、冷却〜室温で好適に実施することが
できる。
ベンゼン化合物（Ｉ−ｂ）の加水分解は、アセタール加
水分解の常法に従い、酸処理により実施することができ
る。酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸の如き有機
酸、及びホウ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸の如き無機酸
をいずれも好適に用いることができる。反応は例えば、
トルエンの如き適当な溶媒中で実施するのが好ましく、
室温付近で好適に進行する。
水分解の常法に従い、酸処理により実施することができ
る。酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸の如き有機
酸、及びホウ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸の如き無機酸
をいずれも好適に用いることができる。反応は例えば、
トルエンの如き適当な溶媒中で実施するのが好ましく、
室温付近で好適に進行する。
また、生成物のアルキル化又はアルカノイル化反応も、
常法に従って実施することができる。例えば、アルキル
化剤としては、低級アルキルハライドを、アルカノイル
化剤としては、低級飽和脂肪酸の反応性誘導体（例え
ば、酸ハライド、酸無水物、活性エステル、混合酸無水
物）を用い、脱酸剤の存在下で好適に実施することがで
きる。
常法に従って実施することができる。例えば、アルキル
化剤としては、低級アルキルハライドを、アルカノイル
化剤としては、低級飽和脂肪酸の反応性誘導体（例え
ば、酸ハライド、酸無水物、活性エステル、混合酸無水
物）を用い、脱酸剤の存在下で好適に実施することがで
きる。
脱酸剤としては、例えば、トリエチルアミン、リチウム
ジイソプロピルアミドを適宜用いることができる。反応
は、例えば、テトラヒドロフランの如き適当な溶媒中、
室温付近で好適に進行し、必要に応じて触媒量の４−ジ
メチルアミノピリジンを共存させてもよい。
ジイソプロピルアミドを適宜用いることができる。反応
は、例えば、テトラヒドロフランの如き適当な溶媒中、
室温付近で好適に進行し、必要に応じて触媒量の４−ジ
メチルアミノピリジンを共存させてもよい。
複素環アルデヒド化合物（IV）又はその塩とアルコキシ
ベンゼン化合物（Ｖ）との反応は，前記化合物（II）と
（III）の反応と同様の条件下で実施することができ
る。その際、アルコキシベンゼン化合物（Ｖ）として
は、X2が塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である化合
物を用いるのが好ましく、また環Ａが異種原子として窒
素原子を含む場合、複素環アルデヒド化合物（IV）はア
セタール化合物（II）と同様の無機酸又は有機酸付加塩
として反応に供することもできる。
ベンゼン化合物（Ｖ）との反応は，前記化合物（II）と
（III）の反応と同様の条件下で実施することができ
る。その際、アルコキシベンゼン化合物（Ｖ）として
は、X2が塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である化合
物を用いるのが好ましく、また環Ａが異種原子として窒
素原子を含む場合、複素環アルデヒド化合物（IV）はア
セタール化合物（II）と同様の無機酸又は有機酸付加塩
として反応に供することもできる。
更に、複素環化合物（VI）のアルキル化反応は前記と同
様、アルキル化反応の常法に従って実施することがで
き、また、続くジ低級アルキルホルムアミドとの反応
も、前記化合物（II）と（III）の反応と同様の条件下
で実施することができる。
様、アルキル化反応の常法に従って実施することがで
き、また、続くジ低級アルキルホルムアミドとの反応
も、前記化合物（II）と（III）の反応と同様の条件下
で実施することができる。
一方、R11が低級アルコキシメチル基、R21が水素原子で
ある化合物（Ｉ−ａ）の分子内閉環反応は、ホウ酸で処
理することにより実施することができる。反応は、例え
ば、トルエン、キシレンの如き有機溶媒中、加熱下、と
りわけ溶媒の還流温度付近で好適に進行する。
ある化合物（Ｉ−ａ）の分子内閉環反応は、ホウ酸で処
理することにより実施することができる。反応は、例え
ば、トルエン、キシレンの如き有機溶媒中、加熱下、と
りわけ溶媒の還流温度付近で好適に進行する。
こうして得られる目的化合物（Ｉ）において、化合物
（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｃ）には、α位の不斉炭素原子に基
づく、２種の異性体が、また、化合物（Ｉ−ｄ）にはジ
ヒドロフラン環２位及び５位の不斉炭素原子に基づく、
４種のジアステレオマーが存在するが、本発明の目的化
合物（Ｉ）は、これらいずれも包含するものである。ま
た、本発明の目的化合物（Ｉ）は、環Ａが異種原子とし
て窒素原子を含む場合及びR2が水素原子である場合、塩
としても得ることができ、かかる塩の具体例としては、
例えば、環Ａが置換基を有してもよく、かつ異種原子と
して窒素原子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式もし
くは二環縮合環式の芳香族性複素環である場合、無機酸
付加塩（例えば、臭化水素酸塩、硫酸塩）及び有機酸付
加塩（例えば、酢酸酸、シュウ酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩）
を、また、R2が水素原子である場合、アルカリ金属塩
（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩）、アルカリ土類
金属塩（例えば、カルシウム塩）、第４級アンモニウム
塩（例えば、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチ
ルアンモニウム塩）等があげられる。
（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｃ）には、α位の不斉炭素原子に基
づく、２種の異性体が、また、化合物（Ｉ−ｄ）にはジ
ヒドロフラン環２位及び５位の不斉炭素原子に基づく、
４種のジアステレオマーが存在するが、本発明の目的化
合物（Ｉ）は、これらいずれも包含するものである。ま
た、本発明の目的化合物（Ｉ）は、環Ａが異種原子とし
て窒素原子を含む場合及びR2が水素原子である場合、塩
としても得ることができ、かかる塩の具体例としては、
例えば、環Ａが置換基を有してもよく、かつ異種原子と
して窒素原子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式もし
くは二環縮合環式の芳香族性複素環である場合、無機酸
付加塩（例えば、臭化水素酸塩、硫酸塩）及び有機酸付
加塩（例えば、酢酸酸、シュウ酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩）
を、また、R2が水素原子である場合、アルカリ金属塩
（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩）、アルカリ土類
金属塩（例えば、カルシウム塩）、第４級アンモニウム
塩（例えば、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチ
ルアンモニウム塩）等があげられる。
上記方法により得られる本発明の目的化合物（Ｉ）及び
その塩は、各種医薬化合物の合成中間体として有用な化
合物であり、例えば、ベンゼン化合物（Ｉ）又はその塩
と一般式 R6−Ｃ≡Ｃ−R7 （VII） （但し、R6は水素原子又は低級アルコキシカルボニル
基、R7は低級アルコキシカルボニル基を表す。） で示されるアセチレン化合物とを、無溶媒又は適当な溶
媒中、有機酸（例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−
トルエンスルホン酸）の存在下で反応させることによ
り、抗脂血剤として優れた諸特性を有する一般式 （但し、R3、R4、R6、R7及び環Ａは前記と同一意味を有
する。） で示されるビフェニル誘導体（特願昭62-294736号（特
開平１−135766号））に導くことができる。
その塩は、各種医薬化合物の合成中間体として有用な化
合物であり、例えば、ベンゼン化合物（Ｉ）又はその塩
と一般式 R6−Ｃ≡Ｃ−R7 （VII） （但し、R6は水素原子又は低級アルコキシカルボニル
基、R7は低級アルコキシカルボニル基を表す。） で示されるアセチレン化合物とを、無溶媒又は適当な溶
媒中、有機酸（例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−
トルエンスルホン酸）の存在下で反応させることによ
り、抗脂血剤として優れた諸特性を有する一般式 （但し、R3、R4、R6、R7及び環Ａは前記と同一意味を有
する。） で示されるビフェニル誘導体（特願昭62-294736号（特
開平１−135766号））に導くことができる。
実施例１ （１）３−ジメトキシメチルチオフェン10.0gのテトラ
ヒドロフラン100ml溶液に、攪拌下、−70〜−50℃で1.5
5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液45mlを約10分要し
て加える。混液を−70〜−60℃で30分間攪拌後、更に3,
4−ジメトキシベンズアルデヒド10.5gのテトラヒドロフ
ラン50ml溶液を−70〜−50℃で約10分要して加える。同
温にて30分間攪拌後、反応液を水300mlに注ぎ、更に酢
酸エチル500mlを加えて振とう後、有機層を分取する。
該有機層を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラム〔溶媒：ヘキサン−酢酸エチル（2:1）〕で精製
し、溶出液から溶媒をを減圧留去して２−（α−ヒドロ
キシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−ジメトキシメ
チルチオフェン18gをシラップとして得る。
ヒドロフラン100ml溶液に、攪拌下、−70〜−50℃で1.5
5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液45mlを約10分要し
て加える。混液を−70〜−60℃で30分間攪拌後、更に3,
4−ジメトキシベンズアルデヒド10.5gのテトラヒドロフ
ラン50ml溶液を−70〜−50℃で約10分要して加える。同
温にて30分間攪拌後、反応液を水300mlに注ぎ、更に酢
酸エチル500mlを加えて振とう後、有機層を分取する。
該有機層を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラム〔溶媒：ヘキサン−酢酸エチル（2:1）〕で精製
し、溶出液から溶媒をを減圧留去して２−（α−ヒドロ
キシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−ジメトキシメ
チルチオフェン18gをシラップとして得る。
（２）上記（１）の生成物1.0gのトルエン溶液にホウ酸
1.9gを加え、加熱還流する。冷却後、反応液より溶媒を
減圧留去し、残渣に酢酸エチルを加え洗浄、乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、２−
（α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−
チオフェンカルボアルデヒド470mgを無色結晶として得
る。
1.9gを加え、加熱還流する。冷却後、反応液より溶媒を
減圧留去し、残渣に酢酸エチルを加え洗浄、乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、２−
（α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−
チオフェンカルボアルデヒド470mgを無色結晶として得
る。
（３）上記（２）の生成物1.5g、無水酢酸661mg、４−
ジメチルアミノピリジン20mgのテトラヒドロフラン溶液
に氷水冷下、トリエチルアミン818mgのテトラヒドロフ
ラン溶液を加え、攪拌する。反応液にメタノールを加
え、溶媒を減圧留去する。残査に酢酸エチルを加え、飽
和重炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾燥後、溶媒を
減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、２−（α−
アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−チオフ
ェンカルボアルデヒド1.7gを無色結晶として得る。
ジメチルアミノピリジン20mgのテトラヒドロフラン溶液
に氷水冷下、トリエチルアミン818mgのテトラヒドロフ
ラン溶液を加え、攪拌する。反応液にメタノールを加
え、溶媒を減圧留去する。残査に酢酸エチルを加え、飽
和重炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾燥後、溶媒を
減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、２−（α−
アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−チオフ
ェンカルボアルデヒド1.7gを無色結晶として得る。
M.p.91〜92℃（酢酸エチル−ヘキサンから再結晶） 実施例２ 対応原料化合物を実施例１と同様に処理して２−（α−
アセトキシ−3,4−ジエトキシベンジル）−３−チオフ
ェンカルボアルデヒドを得る。
アセトキシ−3,4−ジエトキシベンジル）−３−チオフ
ェンカルボアルデヒドを得る。
M.p.68℃ 実施例３ （１）４−ブロモベラトロール10.85gのテトラヒドロフ
ラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液24mlを滴下し、撹拌後、３−チオフェンカルボア
ルデヒド5.61gを加えて撹拌し、室温にもどす。水を加
え、酢酸エチル抽出し、乾燥後、溶媒を減圧留去して、
３−（α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）チ
オフェンを得る。該化合物のジメチルホルムアミド溶液
に水素化ナトリウム2.8gを加え、室温で撹拌し、さらに
ヨウ化メチル4.7mlを加えて撹拌する。少量の水を加え
たのち、溶媒を減圧留去し、残査に水を加え、酢酸エチ
ル抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去する。残査
をシリカゲルカラムで精製して、３−（α−メトキシ−
3,4−ジメトキシベンジル）チオフェン10.5gを得る。
ラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液24mlを滴下し、撹拌後、３−チオフェンカルボア
ルデヒド5.61gを加えて撹拌し、室温にもどす。水を加
え、酢酸エチル抽出し、乾燥後、溶媒を減圧留去して、
３−（α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）チ
オフェンを得る。該化合物のジメチルホルムアミド溶液
に水素化ナトリウム2.8gを加え、室温で撹拌し、さらに
ヨウ化メチル4.7mlを加えて撹拌する。少量の水を加え
たのち、溶媒を減圧留去し、残査に水を加え、酢酸エチ
ル抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去する。残査
をシリカゲルカラムで精製して、３−（α−メトキシ−
3,4−ジメトキシベンジル）チオフェン10.5gを得る。
（２）上記（１）の生成物4.10gのテトラヒドロフラン
溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液6.8mlを滴下し、撹拌したのち、N,N−ジメチルホルム
アミド1.25gを加えて撹拌する。反応液を室温にもどし
たのち、水を加え、酢酸エチル抽出し、抽出液を乾燥
後、溶媒を減圧留去する。残査をシリカゲルカラムで精
製して、３−（α−メトキシ−3,4−ジメトキシベンジ
ル）−２−チオフェンカルボアルデヒド3.81gを得る。
溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液6.8mlを滴下し、撹拌したのち、N,N−ジメチルホルム
アミド1.25gを加えて撹拌する。反応液を室温にもどし
たのち、水を加え、酢酸エチル抽出し、抽出液を乾燥
後、溶媒を減圧留去する。残査をシリカゲルカラムで精
製して、３−（α−メトキシ−3,4−ジメトキシベンジ
ル）−２−チオフェンカルボアルデヒド3.81gを得る。
実施例４ （１）２−ブロモ−３−ジメトキシメチルピリジン11.6
gのテトラヒドロフラン溶液に撹拌冷却下、1.55Mn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液32.6mlを加える。混液を冷
却下撹拌後、該混液に3,4−ジメトキシベンズアルデヒ
ド8.3gのテトラヒドロフラン溶液を加える。撹拌後、反
応液を水の注ぎ、さらに酢酸エチルを加え有機層を分取
する。該有機層を洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、残
査をシリカゲルカラムで精製して、２−（α−ヒドロキ
シ−3,4−メトキシベンジル）−３−ジメトキシメチル
ピリジル8.4gを黄色結晶として得る。
gのテトラヒドロフラン溶液に撹拌冷却下、1.55Mn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液32.6mlを加える。混液を冷
却下撹拌後、該混液に3,4−ジメトキシベンズアルデヒ
ド8.3gのテトラヒドロフラン溶液を加える。撹拌後、反
応液を水の注ぎ、さらに酢酸エチルを加え有機層を分取
する。該有機層を洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、残
査をシリカゲルカラムで精製して、２−（α−ヒドロキ
シ−3,4−メトキシベンジル）−３−ジメトキシメチル
ピリジル8.4gを黄色結晶として得る。
M.p.91〜92℃（酢酸エチル−ヘキサンから再結晶） （２）上記（１）の生成物11gをトルエンに加熱溶解
し、ホウ酸32gを加えて加熱還流する。反応液を冷却
後、溶媒を減圧留去する。残査に酢酸エチルを加え、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精
製して、３−（3,4−ジメトキシフェニル）−１−メト
キシ−1H,3H−ピリジノ〔2,3−ｃ〕フラン6.5gを淡褐色
シラップとして得る。
し、ホウ酸32gを加えて加熱還流する。反応液を冷却
後、溶媒を減圧留去する。残査に酢酸エチルを加え、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精
製して、３−（3,4−ジメトキシフェニル）−１−メト
キシ−1H,3H−ピリジノ〔2,3−ｃ〕フラン6.5gを淡褐色
シラップとして得る。
実施例５ （１）１−フェニルスルホニル−３−ジメトキシメチル
インドール19gとN,N,N′,N′，−テトラメチルエチレン
ジアミン6.5gのテトラヒドロフラン溶液に撹拌冷却下、
1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液40mlを加える。
混液を室温で撹拌後、再び冷却下にて3,4−ジメトキシ
ベンズアルデヒド9.3gのテトラヒドロフラン溶液を加
え、室温で撹拌後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出
する。抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲル
カラムで精製して、１−フェニルスルホニル−２−（α
−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−ジメ
トキシメチルインドール17gをシラップとして得る。
インドール19gとN,N,N′,N′，−テトラメチルエチレン
ジアミン6.5gのテトラヒドロフラン溶液に撹拌冷却下、
1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液40mlを加える。
混液を室温で撹拌後、再び冷却下にて3,4−ジメトキシ
ベンズアルデヒド9.3gのテトラヒドロフラン溶液を加
え、室温で撹拌後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出
する。抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲル
カラムで精製して、１−フェニルスルホニル−２−（α
−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−３−ジメ
トキシメチルインドール17gをシラップとして得る。
（２）上記（１）の生成物0.5gのトルエン溶液にホウ酸
0.6gを加えて加熱還流する。反応液を冷却後、溶媒を減
圧留去する。残査に酢酸エチルを加え水洗、乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、３−
（3,4−ジメトキシフェニル）−１−メトキシ−４−フ
ェニルスルホニル−1H,3H−インドロ〔2,3−ｃ〕フラン
370mgを淡黄色結晶として得る。
0.6gを加えて加熱還流する。反応液を冷却後、溶媒を減
圧留去する。残査に酢酸エチルを加え水洗、乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、３−
（3,4−ジメトキシフェニル）−１−メトキシ−４−フ
ェニルスルホニル−1H,3H−インドロ〔2,3−ｃ〕フラン
370mgを淡黄色結晶として得る。
M.p.131〜132℃ 参考例１ ２−（α−アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル）−
３−チオフェンカルボアルデヒド1.5g及びアセチレンジ
カルボン酸ジメチルエステル1.8gのベンゼン溶液にトリ
フルオロ酢酸を加え、加熱還流する。反応液から溶媒を
留去し、残査をシリカゲルカラムで精製して４−ヒドロ
キシ−5,6−ビス（メトキシカルボニル）−７−（3,4−
ジメトキシフェニル）ベンゾ〔ｂ〕チオフェン350mgを
無色結晶として得る。
３−チオフェンカルボアルデヒド1.5g及びアセチレンジ
カルボン酸ジメチルエステル1.8gのベンゼン溶液にトリ
フルオロ酢酸を加え、加熱還流する。反応液から溶媒を
留去し、残査をシリカゲルカラムで精製して４−ヒドロ
キシ−5,6−ビス（メトキシカルボニル）−７−（3,4−
ジメトキシフェニル）ベンゾ〔ｂ〕チオフェン350mgを
無色結晶として得る。
該結晶を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して無色プリ
ズムを得る。
ズムを得る。
M.p.147〜148℃ 参考例２〜５ 対応原料化合物を参考例１と同様に処理して下記第１表
記載の化合物を得る。（表中、Meはメチル基、Etはエチ
ル基を表す。以下同様。） 参考例６ ジイソプロピルアミン7.0gのテトラヒドロフラン溶液に
冷却下、1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を加え
る。混液を冷却、撹拌後、３−（3,4−ジメトキシフェ
ニル）−１−メトキシ−1H,3H−ピリジノ〔2,3−Ｃ〕フ
ラン5.0gのテトラヒドロフラン溶液を加える。反応終了
後。反応液にアセチレンジカルボン酸ジメチルエステル
2.7g及び酢酸のテトラヒドロフラン溶液を加えて撹拌す
る。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液か
ら溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムで精製する。
得られた淡褐色油状物1.8gのベンゼンに溶液に、トリフ
ルオロ酢酸を加え、室温で撹拌する。反応液より溶液を
留去し、残査を酢酸エチル中、飽和重炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で中和し、更に、エーテルで洗浄して、５−ヒ
ドロキシ−6,7−ビス（メトキシカルボニル）−８−
（3,4−ジメトキシフェニル）キノリン1.3gを得る。
記載の化合物を得る。（表中、Meはメチル基、Etはエチ
ル基を表す。以下同様。） 参考例６ ジイソプロピルアミン7.0gのテトラヒドロフラン溶液に
冷却下、1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を加え
る。混液を冷却、撹拌後、３−（3,4−ジメトキシフェ
ニル）−１−メトキシ−1H,3H−ピリジノ〔2,3−Ｃ〕フ
ラン5.0gのテトラヒドロフラン溶液を加える。反応終了
後。反応液にアセチレンジカルボン酸ジメチルエステル
2.7g及び酢酸のテトラヒドロフラン溶液を加えて撹拌す
る。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液か
ら溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムで精製する。
得られた淡褐色油状物1.8gのベンゼンに溶液に、トリフ
ルオロ酢酸を加え、室温で撹拌する。反応液より溶液を
留去し、残査を酢酸エチル中、飽和重炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で中和し、更に、エーテルで洗浄して、５−ヒ
ドロキシ−6,7−ビス（メトキシカルボニル）−８−
（3,4−ジメトキシフェニル）キノリン1.3gを得る。
該結晶を酢酸エチル−ヘキサン混液から再結晶して、淡
褐色針状晶を得る。
褐色針状晶を得る。
M.p.183〜184℃ 参考例７ ３−（3,4−ジメトキシフェニル）−１−メトキシ−４
−フェニルスルホニル−1H,3H−インドロ〔2,3−ｃ〕フ
ラン31.4g及びアセチレンジカルボン酸ジメチル28.5gの
ベンゼン溶液を加熱還流する。反応液にｐ−トルエンス
ルホン酸・１水和物を加え、更に加熱還流する。反応液
から溶媒を留去し、エーテルを加えて析出晶を濾取する
ことにより、４−ヒドロキシ−2,3−ビス（メトキシカ
ルボニル）−１−（3,4−ジメトキシフェニル）−９−
フェニルスルホニルカルバゾール27.5gを得る。
−フェニルスルホニル−1H,3H−インドロ〔2,3−ｃ〕フ
ラン31.4g及びアセチレンジカルボン酸ジメチル28.5gの
ベンゼン溶液を加熱還流する。反応液にｐ−トルエンス
ルホン酸・１水和物を加え、更に加熱還流する。反応液
から溶媒を留去し、エーテルを加えて析出晶を濾取する
ことにより、４−ヒドロキシ−2,3−ビス（メトキシカ
ルボニル）−１−（3,4−ジメトキシフェニル）−９−
フェニルスルホニルカルバゾール27.5gを得る。
M.p.192〜193℃ 参考例８ 対応原料化合物を参考例７と同様に処理して４−ヒドロ
キシ−2,3−ビス（エトキシカルボニル）−１−（3,4−
ジメトキシフェニル）−９−フェニルスルホニルカルバ
ゾールを得る。
キシ−2,3−ビス（エトキシカルボニル）−１−（3,4−
ジメトキシフェニル）−９−フェニルスルホニルカルバ
ゾールを得る。
M.p.202〜203℃
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 233/64 １０３ 239/26 333/22 491/048 7019−4Ｃ // Ｃ０７Ｄ 215/48 333/54 (56)参考文献 Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第96巻第17号 （1982）要約番号 143124ｍ Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第96巻第11号 （1982）要約番号 85569ｘ Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第83巻第12号 （1975）要約番号 103200ｈ Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第77巻第15号 （1972）要約番号 101943ｅ Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第71巻第17号 （1969）要約番号 81585ｋ Ｃｈｅｍ．Ａｂ． 第69巻第７号 （1968）要約番号 27222ｋ
Claims (6)
- 【請求項１】一般式 （但し、R1及びR2は、R1がアルデヒド基もしくはジ低級
アルコキシメチル基であり、R2が水素原子、低級アルキ
ル基もしくは低級アルカノイル基であるか、又はR1とR2
とが互いに結合して低級アルコキシメチレン基を形成し
ていることを表し、R3及びR4は低級アルキル基、環Ａは
置換基を有してもよく、かつ異種原子として硫黄原子も
しくは窒素原子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式も
しくは二環縮合環式の芳香族性複素環を表す。） で示されるベンゼン化合物又はその塩。 - 【請求項２】環Ａがフェニルスルホニル基又は低級アル
キルフェニルスルホニル基で置換されていてもよい、チ
オフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン
環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、チアゾ
ール環又はオキサゾール環である特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 - 【請求項３】環Ａがチオフェン環、ピリジン環、インド
ール環又はＮ−フェニルスルホニルインドール環である
特許請求の範囲第２項記載の化合物。 - 【請求項４】一般式 （但し、R5は低級アルキル基、X1は水素原子又はハロゲ
ン原子、環Ａは置換基を有してもよく、かつ異種原子と
して硫黄原子もしくは窒素原子又は窒素原子と酸素原子
を含む単環式もしくは二環縮合環式の芳香族性複素環を
表す。） で示されるアセタール化合物又はその塩と、一般式 （但し、R3及びR4は低級アルキル基を表す。） で示されるアルデヒド化合物とを反応させて、一般式 （但し、R3〜R5及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物を得、所望により、そのジ低
級アルコキシメチル基を加水分解してアルデヒド基とす
るか、及び／又はその水酸基をアルキル化もしくはアル
カノイル化し、さらに必要であれば生成物を塩とするこ
とを特徴とする一般式 （但し、R11はアルデヒド基又はジ低級アルコキシメチ
ル基、R21は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカ
ノイル基を表し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有
する。） で示されるベンゼン化合物又はその塩の製法。 - 【請求項５】一般式 （但し、環Ａは置換基を有してもよく、かつ異種原子と
して硫黄原子もしくは窒素原子又は窒素原子と酸素原子
を含む単環式もしくは二環縮合環式の芳香族性複素環を
表す。） で示される複素環アルデヒド化合物又はその塩と一般式 （但し、X2はハロゲン原子を表し、R3及びR4は低級アル
キル基を表す。） で示されるアルコキシベンゼン化合物とを反応させ、か
くして得られる、一般式 （但し、R3、R4及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示される複素環化合物の水酸基を低級アルキル化した
後、ジ低級アルキルホルムアミドと反応させ、所望によ
り生成物を塩とすることを特徴とする、一般式 （但し、R22は低級アルキル基を表し、R3、R4及び環Ａ
は前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物又はその塩の製法。 - 【請求項６】一般式 （但し、R3〜R5は低級アルキル基、環Ａは置換基を有し
てもよく、かつ異種原子として硫黄原子もしくは窒素原
子又は窒素原子と酸素原子を含む単環式もしくは二環縮
合環式の芳香族性複素環を表す。） で示されるベンゼン化合物又はその塩を分子内閉環反応
させ、所望により生成物を塩とすることを特徴とする、
一般式 （但し、R3〜R5及び環Ａは前記と同一意味を有する。） で示されるベンゼン化合物又はその塩の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1025272A JPH0737456B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ベンゼン化合物及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1025272A JPH0737456B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ベンゼン化合物及びその製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62294736A Division JPH01135766A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | ビフェニル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01265072A JPH01265072A (ja) | 1989-10-23 |
| JPH0737456B2 true JPH0737456B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=12161395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1025272A Expired - Lifetime JPH0737456B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ベンゼン化合物及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737456B2 (ja) |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP1025272A patent/JPH0737456B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (6)
| Title |
|---|
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第６９巻第７号（１９６８）要約番号２７２２２ｋ |
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第７１巻第１７号（１９６９）要約番号８１５８５ｋ |
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第７７巻第１５号（１９７２）要約番号１０１９４３ｅ |
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第８３巻第１２号（１９７５）要約番号１０３２００ｈ |
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第９６巻第１１号（１９８２）要約番号８５５６９ｘ |
| Ｃｈｅｍ．Ａｂ．第９６巻第１７号（１９８２）要約番号１４３１２４ｍ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01265072A (ja) | 1989-10-23 |
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