JPH0737833A - 基板の光照射式熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱処理後の基板をチャンバーから取り出す際
における基板の冷却効果を高めて装置のスループットを
向上させ、チャンバー冷却時における基板の温度分布を
無くして熱処理の均一性を向上させ、ランプ寿命の短縮
といった不都合を無くす。 【構成】 光透過性材料で形成され基板10を収容するチ
ャンバー12の壁面と、チャンバー外に配設されチャンバ
ー内の基板を光照射加熱する光照射加熱用ランプ14との
間に、光透過性材料で形成されチャンバー壁面に対向す
る側に複数個の吹出し孔20が分配して穿設された吹出し
パイプ体18を介設する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばランプアニー
ル装置やＣＶＤ装置などのように、チャンバー内に収容
された基板に光照射して基板を加熱し、基板に対しアニ
ール、酸窒化、成膜等の熱処理を施す基板の光照射式熱
処理装置に関し、特に、加熱されて高温になった基板を
冷却してその温度を下げるための冷却手段に関する。

【０００２】

【従来の技術】石英ガラス等の光透過性材料で形成され
たチャンバー内に基板を１枚ずつ収容し、チャンバー外
に配設された光照射加熱用ランプからチャンバーの壁面
を透過させてチャンバー内の基板に光照射して基板を加
熱し、基板に対して所要の熱処理を施す基板の光照射式
熱処理装置、例えばランプアニール装置においては、ウ
エハは、熱処理中に約８００〜１，２００℃の高温に加
熱されるため、処理が終わったウエハをチャンバーから
取り出す際に、ウエハを約４５０〜６００℃の温度まで
冷却する必要がある。そこで、ランプアニール装置に
は、従来、図８及び図９にそれぞれ示すような冷却手段
が設けられている。

【０００３】図８は、ランプアニール装置を、その上側
のリフレクタ部分を取り去った状態で示す平面図であ
る。図中の70が石英ガラス等の光透過性材料で形成され
たチャンバーであり、このチャンバー70の上方側及び下
方側に、上・下で互いに交差するようにそれぞれ複数本
の光照射加熱用ランプがチャンバー70の壁面と平行に列
設されており、このチャンバー70の前部に設けられた扉
（図示せず）を開閉して、チャンバー70の内部にウエハ
が１枚ずつ収容される。また、チャンバー70内には、ガ
ス導入口72を通して活性又は不活性なガスが導入される
ようになっている。そして、この装置には、チャンバー
70を挾んでその左右の両側壁部に、窒素、空気等の冷却
用気体をチャンバー70に向けて側方から吹き付けるノズ
ル部74がそれぞれ設けられており、各気体導入口76を通
して前後の両ノズル部74、74にそれぞれ導入された冷却
用気体が、チャンバー70の両側面からその上面及び下面
に沿って流されるようになっている。これにより、チャ
ンバー70の壁面が冷却され、チャンバー70内のウエハの
温度が下げられる。

【０００４】また、図９は、上記とは別の構成に係るラ
ンプアニール装置を示す縦断面図である。図中の80が、
ウエハ78を１枚ずつ収容する、石英ガラスからなるチャ
ンバーであり、このチャンバー80の上面及び下面に対向
するようにかつチャンバー80の壁面と平行に、それぞれ
複数本の光照射加熱用ランプ82が列設されており、これ
らチャンバー80及び光照射加熱用ランプ82が、リフレク
タ（内壁面が金めっきされた反応炉）84の内部に収容さ
れている。チャンバー80内には、一端側に設けられたガ
ス導入口86を通してガスが導入され、そのガスはチャン
バー80内を流動して、ガス排出口88から排出されるよう
になっている。そして、この装置では、ウエハ78の熱処
理中において最も温度が高くなるチャンバー80中央部の
外壁面に向けて上方から冷却用気体、例えば窒素ガスを
吹き付けるノズル部90が設けられており、窒素ガス導入
口92を通してノズル部90に導入された冷却用窒素ガス
が、チャンバー80の上壁面に吹き付けられた後、チャン
バー80の外壁面に沿ってリフレクタ84内を下方へ流れ、
リフレクタ84の底部中央に形設された排気口94から排出
されるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図８に
示したように、チャンバー70に対しその側方から冷却用
気体を吹き付けてチャンバー70の壁面を冷却するように
した構成では、チャンバー70の壁面温度が最も高くなる
壁面中央部において、ノズル部74からの距離が遠くなる
こと及び両側のノズル部74、74からの気流同士がぶつか
ることにより、冷却用気体の流速が遅くなり、壁面全体
に対する冷却効果が低くなる。この結果、チャンバー70
からのウエハの取出しに際し、ウエハの降温時間が長く
なり、スループットが低下する、といった問題点があ
る。また、チャンバー70の壁面温度が中央部において最
も高くなることに加え、チャンバー70の周辺部が中央部
より強く冷却されることにより、周辺部の温度が中央部
に比べて低くなるため、チャンバー70内のウエハにも温
度分布が生じ、熱処理の均一性が損なわれるといった品
質上の問題点もある。

【０００６】また、図９に示したように、リフレクタ84
の上部壁面部から光照射加熱用ランプ82の列設位置を越
えてチャンバー80の中央部外壁面に向け冷却用気体を吹
き付けてチャンバー80の壁面を冷却するようにした構成
では、ノズル部90からチャンバー80までに距離があり、
チャンバー80の壁面付近で気体流速が落ちることによ
り、冷却効果が低くなる。このため、上記した場合と同
様に、装置のスループットが低下する、といった問題点
がある。また、ノズル部90とチャンバー80との間に光照
射加熱用ランプが介在しているため、ノズル部90の吹出
し孔は、それぞれのランプ82の配設位置を避けるように
して形成しなければならず、任意の位置に吹出し孔を設
けることができないため、ノズル部90から冷却用気体を
チャンバー80に吹き付けてチャンバー80壁面を冷却した
ときに、温度分布が生じ、この結果、熱処理の均一性が
悪くなる、といった問題点がある。さらに、ノズル部90
から吹き出された冷却用気体が光照射加熱用ランプ82に
当たることにより、ランプ82が冷え過ぎ、ランプ82とし
てハロゲンランプを使用しているときには、ハロゲンサ
イクルが乱されてランプ寿命が短くなる、といった問題
点もある。

【０００７】この発明は、以上説明したような事情に鑑
みてなされたものであり、冷却効果を高めて、スループ
ットを向上させるとともに、チャンバー冷却時における
温度分布を無くして、熱処理の均一性を高めることがで
き、さらにランプ寿命の短縮といったような不都合も生
じない基板の光照射式熱処理装置を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明では、光透過性
材料で形成され、内部に被処理基板を１枚ずつ収容する
チャンバーと、このチャンバーの上面もしくは下面又は
上・下両面に対向するように配設され、前記チャンバー
内に収容された被処理基板に光照射して被処理基板を加
熱する光照射加熱用ランプと、前記チャンバーを冷却す
る冷却手段とを備えてなる基板の光照射式熱処理装置に
おいて、前記冷却手段を以下のように構成した。

【０００９】第１の構成として、光透過性材料でパイプ
状にかつ同一平面内において屈曲させて形成され片面側
に複数個の吹出し孔が分配して穿設された吹出しパイプ
体を、チャンバーの壁面と光照射加熱用ランプとの間
に、チャンバーの壁面と平行にかつ前記吹出し孔がチャ
ンバーの壁面に対向するように介設し、前記吹出しパイ
プ体の一端部を冷却用気体の供給源に流路接続するよう
にした。

【００１０】第２の構成として、光透過性材料で密閉容
器状に形成されて冷却用気体の導入口が形設され片面側
に複数個の吹出し孔が分配して穿設された吹出し容器体
を、チャンバーの壁面と光照射加熱用ランプとの間に、
チャンバーの壁面と平行にかつ前記吹出し孔がチャンバ
ーの壁面に対向するように介設し、前記吹出し容器体の
前記導入口を冷却用気体の供給源に流路接続するように
した。この場合、吹出し容器体を円盤状とし、その周縁
部に冷却用気体の導入口を形設するとともに、その導入
口から吹出し容器体の内部に導入された冷却用気体が周
辺部から中心へ向かう渦巻流を形成するように、導入口
付近にガイドを設けるようにするとよい。

【００１１】第３の構成として、光透過性材料で密閉容
器状に形成されて冷却用気体の導入口及び導出口が形設
された容器体を、チャンバーの、光照射加熱用ランプに
対向する外壁面に接触又は近接させ、前記容器体の前記
導入口を冷却用気体の供給源に流路接続して構成するよ
うにした。この場合、容器体を円盤状に形成し、その周
縁部に冷却用気体の導入口を形設しかつ中心部に冷却用
気体の導出口を形設するとともに、前記導入口から容器
体の内部に導入された冷却用気体が周辺部から中心へ向
かう渦巻流を形成するように、導入口付近にガイドを設
けるようにするとよい。

【００１２】第４の構成として、光透過性材料で皿状に
形成されて冷却用気体の導入口及び導出口が形設された
皿状体を、チャンバーの、光照射加熱用ランプに対向す
る外壁面に接合して、皿状体とチャンバーの外壁面とで
囲まれた気流室を形成し、前記皿状体の前記導入口を冷
却用気体の供給源に流路接続して構成するようにした。
この場合、皿状体を円盤状に形成し、その周縁部に冷却
用気体の導入口を形設しかつ中心部に冷却用気体の導出
口を形設するとともに、前記導入口から皿状体とチャン
バーの外壁面とで囲まれた気流室内に導入された冷却用
気体が周辺部から中心へ向かう渦巻流を形成するよう
に、導入口付近にガイドを設けるようにするとよい。

【００１３】また、上記した各構成の装置において、吹
出し孔から吹き出され或いは冷却用気体の導出口から流
出した冷却用気体を装置外へ強制的に排気するための排
気手段を設けるようにしてもよい。

【００１４】

【作用】上記した各構成の光照射式熱処理装置では、冷
却用気体の吹出し孔が形成された吹出しパイプ体、冷却
用気体の吹出し孔が形成された吹出し容器体又は内部に
冷却用気体が流される容器体が、チャンバーの壁面と光
照射加熱用ランプとの間に介設されており、或いは、冷
却用気体が流される気流室を形成する皿状体がチャンバ
ーの外壁面に接合されているので、チャンバー壁面に対
する冷却効果が高い。また、前記吹出しパイプ体、前記
吹出し容器体又は前記容器体は、光照射加熱用ランプに
対向する外壁面に対面又は接触するように配置され、或
いは、皿状体は、気流室が形成されるようにチャンバー
の外壁面に接合されているので、チャンバーの周辺部が
中央部より強く冷却されたり、チャンバー壁面において
冷却される部分と冷却されない部分が生じたりするとい
ったことが起こらないため、チャンバー壁面の冷却時に
温度分布の均一性が乱されることが抑えられる。さら
に、チャンバー壁面に冷却用気体を吹き付ける吹出しパ
イプ体や吹出し容器体は、光照射加熱用ランプとチャン
バー壁面との間に配置されているので、吹出しパイプ体
や吹出し容器体から吹き出された冷却用気体が光照射加
熱用ランプに当たってランプが冷え過ぎるといった心配
が無い。そして、吹出しパイプ体、吹出し容器体、容器
体又は皿状体は、光透過性材料で形成されているので、
それらが光照射加熱用ランプとチャンバーの壁面との間
に介設されていても、チャンバー内の基板を加熱するの
に何ら支障は無い。

【００１５】第２の構成に係る装置において吹出し容器
体を円盤状とし、第３の構成に係る装置において容器体
を円盤状とし、又は、第４の構成に係る装置において皿
状体を円盤状として、周縁部に形設された導入口から吹
出し容器体、容器体又は皿状体とチャンバー外壁面とで
囲まれた気流室の内部に冷却用気体を導入し、導入口付
近に設けられたガイドによって冷却用気体が周辺部から
中心へ向かう渦巻流を形成するようにしたときは、冷却
用気体の流速が増すとともに、気体と吹出し容器体、容
器体、気流室の内壁面との接触長が増すことにより、冷
却用気体の流量をそれ程多くしなくても、冷却用気体に
よる冷却効果が上がって、チャンバー壁面からの輻射熱
が効果的に除去されることにもなりチャンバー壁面が効
率良く冷される。また、第２の構成に係る装置におい
て、吹出し容器体に複数個の吹出し孔が同心円上に穿設
されていると、吹出し容器体の内部で冷却用気体の渦巻
流が形成されることにより、各吹出し孔からそれぞれ吐
出される冷却用気体の流速が均一化する。

【００１６】また、上記した各構成の装置において、吹
出し孔から吹き出され或いは冷却用気体の導出口から流
出した冷却用気体を装置外へ強制的に排気するための排
気手段を設けるようにしたときは、装置内において熱気
が局部的に溜ったりせず、冷却用気体の流れが良くなっ
て、冷却効果がより向上する。

【００１７】

【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。

【００１８】図１及び図２は、この発明に係るランプア
ニール装置の構成の１例を示し、図１は、その中央縦断
面図、図２は、その上側のリフレクタ部分を取り去った
状態で示す平面図である。これらの図において、ウエハ
10を１枚ずつ収容するチャンバー12は、石英ガラス、耐
熱ガラス（例えば硼硅酸ガラス）等の光透過性材料で形
成されている。このチャンバー12の上・下両面に対向す
るようにそれぞれ複数本の光照射加熱用ランプ14が、チ
ャンバー12の壁面と平行にかつ上・下で互いに交差する
ように列設されており、これらの光照射加熱用ランプ14
からチャンバー12の壁面を透過させてチャンバー12内の
ウエハ10に光照射し、ウエハ10を加熱する。また、チャ
ンバー12内には、ガス導入口16を通して活性又は不活性
なガスが導入される。尚、チャンバー12内へのウエハ10
の出し入れは、チャンバー12の前面に設けられた扉（図
示せず）を開閉して行われる。

【００１９】そして、この装置には、チャンバー12の壁
面と上方側の光照射加熱用ランプ14との間に、パイプ状
にかつ同一平面内において所要形状に屈曲させて形成さ
れた吹出しパイプ体18が、チャンバー12の壁面と平行に
介設されている。吹出しパイプ体18は、チャンバー12と
同様に、石英ガラス、耐熱ガラス等の光透過性材料で形
成されている。また、吹出しパイプ体18の、チャンバー
12の壁面に対面する側（下面側）には、複数個の吹出し
孔20が分配して穿設されている。吹出しパイプ体18の一
端側に形設された気体導入口22は、窒素、空気等の冷却
用気体の供給源（図示せず）に流路接続されている。そ
して、チャンバー12、光照射加熱用ランプ14及び吹出し
パイプ体18が、リフレクタ24の内部に収容されている。

【００２０】図１及び図２に示した上記ランプアニール
装置では、チャンバー12内にウエハ10を収納し、光照射
加熱用ランプ14を駆動して加熱処理を行なう。加熱処理
終了後、ウエハ10を取り出すに先だって、ウエハ10の温
度を降下させる処理を行なう。ここでは、冷却用気体の
供給源から気体導入口22を通って吹出しパイプ体18内に
供給された窒素、空気等の冷却用気体が、吹出しパイプ
体18の管内部を通って先端まで流動する間に、その流れ
の方向に順次形成された各吹出し孔20から略均一な流速
でそれぞれ吹き出し、吹出し孔20から吹き出された冷却
用気体がチャンバー12の上壁外面に吹き付けられる。こ
れにより、チャンバー12の壁面が冷却され、チャンバー
12内のウエハ10の温度が降下する。チャンバー12の壁面
に吹き付けられた冷却用気体は、チャンバー12壁面を冷
した後、リフレクタ24の隙間を通って装置外へ流出す
る。そして、この装置では、吹出しパイプ体18が、チャ
ンバー12の壁面と光照射加熱用ランプ14との間に介設さ
れており、チャンバー12の壁面の至近距離からチャンバ
ー12壁面に冷却用気体が吹き付けられるため、チャンバ
ー12壁面に対する冷却効果が高くなる。また、吹出しパ
イプ体18をチャンバー12内のウエハ10に対応した大きさ
・形状に形成するとともに、吹出し孔20の直径、個数及
び配置を適切に設定することにより、ウエハの種類や直
径が多少変わるようなことがあっても、常にチャンバー
12内のウエハ10全面を均一に冷却して、ウエハ10面上の
温度分布の偏りを殆ど無くすことができる。

【００２１】尚、吹出しパイプ体の形状は、図示例以外
のものであってもよいことは勿論であり、また、吹出し
パイプ体をチャンバーの上・下両側に配設するようにし
てもよい。この場合には、上下の各吹出しパイプ体の吹
出し孔からそれぞれ吹き出された冷却用気体がチャンバ
ー壁面に当たる位置が上・下でずれるように、吹出しパ
イプ体に吹出し孔を穿設してもよい。また、光照射加熱
用ランプは、チャンバーの上面側だけに設けるようにし
てもよく、この場合には、吹出しパイプ体もチャンバー
の上面側だけに配設するようにしてもよい。

【００２２】次に、図３に中央縦断面図を、図４に上蓋
部分を取り去った状態の平面図をそれぞれ示したランプ
アニール装置は、チャンバーの外壁面に対し冷却用気体
を供給する手段を、パイプ体に代えて容器体とした例で
ある。図３及び図４において、図１及び図２で使用した
符号と同一符号を付した部材は、上記説明のものと同一
部材を示し、その説明を省略する。

【００２３】図３及び図４に示した装置には、石英ガラ
ス、耐熱ガラス等の光透過性材料で薄肉の扁平密閉容器
状に形成された円盤状の吹出し容器体26が、チャンバー
12の壁面と上方側の光照射加熱用ランプ14との間に、チ
ャンバー12の壁面と平行に介設されている。吹出し容器
体26の、チャンバー12の壁面に対面する側（下面側）に
は、同心円上に複数個の吹出し孔28が分配して穿設され
ている。また、吹出し容器体26には、その周縁部に導入
パイプ30が連通接続されており、導入パイプ30は、その
先端部分がリフレクタ24の外部に導き出され、その先端
の気体導入口32が窒素、空気等の冷却用気体の供給源に
流路接続されている。さらに、吹出し容器体26の内部に
は、導入パイプ30との接続部付近にガイド34が設けられ
ている。このガイド34の作用により、冷却用気体の供給
源から導入パイプ30を通して吹出し容器体26の内部に導
入された冷却用気体は、吹出し容器体26の周縁に沿うよ
うに導かれ、周辺部から中心へ向かう渦巻流を形成する
ようになっている。冷却用気体をチャンバー12に吹き付
けて直接的に冷却することに加えて、このように、吹出
し容器体26の内部において冷却用気体の渦巻流が形成さ
れることにより、冷却用気体の流速が増すとともに、冷
却用気体と吹出し容器体26の内壁面との接触長が増すこ
とになるため、冷却用気体の流量をそれ程多くすること
なく冷却用気体による冷却効果を上げて吹出し容器体26
自体を冷却し、チャンバー12からの輻射熱をも効果的に
除去し、冷却効果を上げることができる。また、吹出し
容器体26の内部で冷却用気体の渦巻流が形成されること
により、各吹出し孔28からそれぞれ吐出される冷却用気
体の流速を均一化させることができる。それ以外の作用
効果は、図１及び図２に示した上記装置と同様である。

【００２４】尚、図３及び図４に示したような構成の装
置においても、吹出し容器体をチャンバーの上・下両側
に配設するようにすることができ、この場合に、上下の
各吹出し容器体の吹出し孔からそれぞれ吹き出された冷
却用気体がチャンバー壁面に当たる位置が上・下でずれ
るように、吹出し容器体に吹出し孔を穿設するとよい。

【００２５】図５は、チャンバー12を冷却する冷却手段
の別の構成例を示し、ランプアニール装置の一部を縦断
面で示した図である。この装置では、石英ガラス、耐熱
ガラス等の光透過性材料で底浅の扁平皿状に形成され図
６に平面図を示すように円盤形状をなす皿状体36を、チ
ャンバー12の、光照射加熱用ランプ（図５には図示を省
略）に対向する外壁面に接合し、皿状体36とチャンバー
12の外壁面とで囲まれた気流室38を形成するようにして
いる。皿状体36の周縁部には、気流室38に連通する導入
パイプ40が接続されており、導入パイプ40は、窒素、空
気等の冷却用気体の供給源に流路接続されている。ま
た、皿状体36の中心部には、冷却用気体の導出口42が形
設されている。さらに、皿状体36と導入パイプ40との接
続部付近には、図３及び図４に示した装置と同様、冷却
用気体の供給源から導入パイプ40を通して気流室38内に
導入された冷却用気体が周辺部から中心へ向かう渦巻流
を形成するようにガイド44が設けられている。このガイ
ド44の作用によって気流室38内に冷却用気体の渦巻流が
形成されることにより、冷却用気体の流速が増すととも
に、冷却用気体とチャンバー12の外壁面との接触長が増
し、冷却用気体による冷却効果が上がることになる。

【００２６】尚、図５に示したような構成の装置におい
て、一対の皿状体をチャンバーの上・下両壁面にそれぞ
れ接合して上・下に気流室を形成するようにしてもよ
い。また、図５に示した装置では、皿状体とチャンバー
の外壁面とで気流室を形成するようにしているが、チャ
ンバー壁面とは別体で、光透過性材料で薄肉の扁平密閉
容器状に形成され冷却用気体の導入パイプが接続される
とともに冷却用気体の導出口が形設された容器体を構成
し、この容器体をチャンバーの、光照射加熱用ランプに
対向する外壁面に接触させるようにしてもよく、また、
その容器体をチャンバー外壁面に近接させるようにして
もよい。この場合にも、容器体の内部において冷却用気
体の渦巻流が形成されるようにガイドを設けるようにす
ることが好ましい。

【００２７】また、上記したそれぞれの構成の装置にお
いて、図７にランプアニール装置の中央縦断面図を示し
たように、吹出し孔から吹き出され或いは冷却用気体の
導出口から流出した冷却用気体を装置外へ強制的に排気
するための排気手段を設けるようにしてもよい。すなわ
ち、図７に示した装置では、リフレクタ46の両側壁部に
それぞれ、図示しない真空ポンプ等の気体吸引手段に連
通接続される排気口48が形設されており、上・下の吹出
し容器体50、50の複数個の吹出し孔52、52からチャンバ
ー12の上・下の壁面に向かって吹き出された冷却用気体
が、チャンバー12壁面を冷した後、リフレクタ46の両側
壁部の排気口48を通って強制的に装置外へ排気されるよ
うになっている。このような構成としたときは、リフレ
クタ46内において熱気が局部的に溜ったりせず、冷却用
気体の流れが良くなって、冷却効果がより向上すること
になる。

【００２８】尚、以上の記載では、熱処理が終わった基
板をチャンバーから取り出す際に、熱処理中に高温にな
った基板の温度を降下させるため、チャンバーの壁面を
冷却する場合について説明してきたが、上記説明及び図
面に示した構成の装置を使用し、熱処理後の基板の取出
し時にチャンバー壁面を冷却するだけでなく、熱処理の
間も常時チャンバー壁面を冷却するようにすることもで
きる。このときは、チャンバー壁面が冷却されて低温に
保たれることにより、チャンバー壁面からの熱輻射が無
くなって、基板がチャンバー壁面からの不均一な熱輻射
による影響を受けなくなり、熱処理中における基板の温
度分布の偏りが無くなって、基板全面において温度が均
一化し、この結果、処理品質の向上が図られることにな
る。

【００２９】

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係る基板の光照射式熱処
理装置を使用したときは、熱処理後の基板をチャンバー
から取り出す際の基板の冷却効果が上がり、基板冷却時
間の短縮による装置のスループットの向上が図られると
ともに、チャンバー冷却時における基板の温度分布の偏
りが無くなって、膜厚分布等の熱処理の均一性が向上
し、さらに、従来の装置のように、ランプとしてハロゲ
ンランプを用いる場合であっても、ランプ寿命の短縮と
いった不都合が生じる心配も無い。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１に記載の発明の１実施例を示すランプ
アニール装置の中央縦断面図である。

【図２】図１に示した装置の上蓋部分を取り去った状態
で示す平面図である。

【図３】請求項２に記載の発明の１実施例を示すランプ
アニール装置の中央縦断面図である。

【図４】図３に示した装置の上蓋部分を取り去った状態
で示す平面図である。

【図５】請求項７に記載の発明の１実施例を示すランプ
アニール装置の一部縦断面である。

【図６】図５に示した装置の構成の一部をなす皿状体の
平面図である。

【図７】請求項２に記載の発明の別の実施例を示すラン
プアニール装置の中央縦断面図である。

【図８】従来のランプアニール装置の構成の１例を、そ
の上蓋部分を取り去った状態で示す平面図である。

【図９】従来のランプアニール装置の別の構成例を示す
中央縦断面図である。

【符号の説明】 10 ウエハ 12 チャンバー 14 光照射加熱用ランプ 18 吹出しパイプ体 20 吹出しパイプ体の吹出し孔 22、32 気体導入口 24、46 リフレクタ 26、50 吹出し容器体 28、52 吹出し容器体の吹出し孔 30、40 導入パイプ 34、44 ガイド 36 皿状体 38 気流室 42 冷却用気体の導出口 48 排気口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 千葉 隆俊 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 安江 淳 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光透過性材料で形成され、内部に被処理
   基板を１枚ずつ収容するチャンバーと、 このチャンバーの上面もしくは下面又は上・下両面に対
   向するように配設され、 前記チャンバー内に収容された被処理基板に光照射して
   被処理基板を加熱する光照射加熱用ランプと、 前記チャンバーを冷却する冷却手段とを備えてなる基板
   の光照射式熱処理装置において、 前記冷却手段を、 光透過性材料でパイプ状にかつ同一平面内において屈曲
   させて形成され片面側に複数個の吹出し孔が分配して穿
   設された吹出しパイプ体を、前記チャンバーの壁面と前
   記光照射加熱用ランプとの間に、チャンバーの壁面と平
   行にかつ前記吹出し孔がチャンバーの壁面に対向するよ
   うに介設し、 前記吹出しパイプ体の一端部を冷却用気体の供給源に流
   路接続して構成したことを特徴とする基板の光照射式熱
   処理装置。
2. 【請求項２】 光透過性材料で形成され、内部に被処理
   基板を１枚ずつ収容するチャンバーと、 このチャンバーの上面もしくは下面又は上・下両面に対
   向するように配設され、前記チャンバー内に収容された
   被処理基板に光照射して被処理基板を加熱する光照射加
   熱用ランプと、 前記チャンバーを冷却する冷却手段とを備えてなる基板
   の光照射式熱処理装置において、 前記冷却手段を、 光透過性材料で密閉容器状に形成されて冷却用気体の導
   入口が形設され片面側に複数個の吹出し孔が分配して穿
   設された吹出し容器体を、前記チャンバーの壁面と前記
   光照射加熱用ランプとの間に、チャンバーの壁面と平行
   にかつ前記吹出し孔がチャンバーの壁面に対向するよう
   に介設し、 前記吹出し容器体の前記導入口を冷却用気体の供給源に
   流路接続して構成したことを特徴とする基板の光照射式
   熱処理装置。
3. 【請求項３】 吹出し容器体が円盤状に形成され、その
   周縁部に冷却用気体の導入口が形設されるとともに、そ
   の導入口から吹出し容器体の内部に導入された冷却用気
   体が周辺部から中心へ向かう渦巻流を形成するように、
   導入口付近にガイドが設けられた請求項２記載の基板の
   光照射式熱処理装置。
4. 【請求項４】 吹出し孔からチャンバーの外壁面に向け
   て吹き出された冷却用気体を装置外へ強制的に排気する
   ための排気手段が設けられた請求項１ないし請求項３の
   いずれかに記載の基板の光照射式熱処理装置。
5. 【請求項５】 光透過性材料で形成され、内部に被処理
   基板を１枚ずつ収容するチャンバーと、 このチャンバーの上面もしくは下面又は上・下両面に対
   向するように配設され、前記チャンバー内に収容された
   被処理基板に光照射して被処理基板を加熱する光照射加
   熱用ランプと、 前記チャンバーを冷却する冷却手段とを備えてなる基板
   の光照射式熱処理装置において、 前記冷却手段を、 光透過性材料で密閉容器状に形成されて冷却用気体の導
   入口及び導出口が形設された容器体を、前記チャンバー
   の、前記光照射加熱用ランプに対向する外壁面に接触又
   は近接させ、 前記容器体の前記導入口を冷却用気体の供給源に流路接
   続して構成したことを特徴とする基板の光照射式熱処理
   装置。
6. 【請求項６】 容器体が円盤状に形成され、その周縁部
   に冷却用気体の導入口が形設されかつ中心部に冷却用気
   体の導出口が形設されるとともに、前記導入口から容器
   体の内部に導入された冷却用気体が周辺部から中心へ向
   かう渦巻流を形成するように、導入口付近にガイドが設
   けられた請求項５記載の基板の光照射式熱処理装置。
7. 【請求項７】 光透過性材料で形成され、内部に被処理
   基板を１枚ずつ収容するチャンバーと、 このチャンバーの上面もしくは下面又は上・下両面に対
   向するように配設され、前記チャンバー内に収容された
   被処理基板に光照射して被処理基板を加熱する光照射加
   熱用ランプと、 前記チャンバーを冷却する冷却手段とを備えてなる基板
   の光照射式熱処理装置において、 前記冷却手段を、 光透過性材料で皿状に形成されて冷却用気体の導入口及
   び導出口が形設された皿状体を、前記チャンバーの、前
   記光照射加熱用ランプに対向する外壁面に接合して、皿
   状体とチャンバーの外壁面とで囲まれた気流室を形成
   し、 前記皿状体の前記導入口を冷却用気体の供給源に流路接
   続して構成したことを特徴とする基板の光照射式熱処理
   装置。
8. 【請求項８】 皿状体が円盤状に形成され、その周縁部
   に冷却用気体の導入口が形設されかつ中心部に冷却用気
   体の導出口が形設されるとともに、前記導入口から皿状
   体とチャンバーの外壁面とで囲まれた気流室内に導入さ
   れた冷却用気体が周辺部から中心へ向かう渦巻流を形成
   するように、導入口付近にガイドが設けられた請求項７
   記載の基板の光照射式熱処理装置。
9. 【請求項９】 冷却用気体の導出口から流出した冷却用
   気体を装置外へ強制的に排気するための排気手段が設け
   られた請求項５ないし請求項８のいずれかに記載の基板
   の光照射式熱処理装置。