JPH0737930A - ボンディング装置及びバンプ形成方法 - Google Patents

ボンディング装置及びバンプ形成方法

Info

Publication number
JPH0737930A
JPH0737930A JP5177763A JP17776393A JPH0737930A JP H0737930 A JPH0737930 A JP H0737930A JP 5177763 A JP5177763 A JP 5177763A JP 17776393 A JP17776393 A JP 17776393A JP H0737930 A JPH0737930 A JP H0737930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capillary
gas
bonding
bonding wire
bump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5177763A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Seki
勲 関
Tsukio Funaki
月夫 船木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP5177763A priority Critical patent/JPH0737930A/ja
Publication of JPH0737930A publication Critical patent/JPH0737930A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/012Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】酸化し易い素材のボンディングワイヤを用いる
場合でも確実に一定形状のボールやバンプを形成でき、
水素などの還元性ガスを用いても危険度を低下させ、ま
た放電時のガス雰囲気を均一にする機構を簡潔にでき、
異常放電を低減できるボンディング技術を提供する。 【構成】ガス管状部13、ガス供給部12aをそれらが
導電性の場合、トーチ電極11と接続して同電位にし、
またはガス管状部及びガス供給部のみを非導電材とし、
それらを一体に連結して振動自在に形成し、振動の際キ
ャピラリ1の下端部分と交差するガス管状部の上部に開
口部15を設け、トーチ電極の電極部分を露出させる。
またキャピラリの先端からボンディングワイヤ2を一定
量送出した後クランパ16を閉じたまま上昇させ、バン
プからワイヤを切断する工程では、ワイヤを必要長さ送
出すまでキャピラリを上昇させ、完全に停止した状態で
クランパを閉じた後さらに上昇させて切断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、細線から良好なボール
を形成する技術、及び被ボンディング体に金属突起(以
下、バンプという)を形成する技術に関するものであ
り、特に半導体のチップ上の電極、リードフレームの先
端あるいはプリント基板等に導体金属のバンプを形成す
る技術もしくは微細な導体金属を正確な位置にそして確
実に供給する技術に適用して有効な技術に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】半導体の電極を形成する方法として、ボ
ンディングワイヤの先端部にこれの金ボールを形成し、
半導体素子の電極パッド面に圧着したのちに上記金ボー
ルからボンディングワイヤを切離し、バンプを形成する
ことが知られている。
【0003】この方法については、特開昭48−767
8号公報等に記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の技術
を利用してハンダバンプを形成しようとしたところ、ボ
ンディングワイヤが金以外は、真球度の高い良質のボー
ルを形成をすることができなかった。そこで本発明者
が、検討を重ねたところ、ボンディングワイヤ状態でワ
イヤ表面に酸化膜が形成されていると、そのワイヤ表面
酸化膜が起因して良質のボールが得られないこと。さら
に、形成されていくボール表面に酸化膜が出来ることも
影響して満足できる真球が得られないこと。また同じ大
きさのボール、すなわち同じ大きさのバンプを形成する
ために必要な要因であるキャピラリの先端から突出させ
るボンディングワイヤ長さ量が安定していないことなど
の問題があることを見出した。
【0005】本発明の目的は、酸化しやすい素材からな
るボンディングワイヤを使用するばあいであっても、確
実に、そして一定の大きさで形状の良好なボール、また
はバンプを形成する技術を提供するものである。
【0006】本発明の目的は、水素ガスなどの引火性の
有る還元性ガスを使用しても危険度を低減しうるボンデ
ィング技術を提供するものである。
【0007】本発明の他の目的は、放電時のガス雰囲気
を一様にする機構のコンパクト化ができる技術を提供す
るものである本発明の他の目的は、異常放電を低減でき
るボンディング技術を提供するものである。
【0008】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかに
なるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【0010】すなわち、ガス管状部、ガス供給部を導電
性材である場合、トーチ電極と接続して同電位とし、あ
るいは、ガス管状部及びガス供給部のみを非導電材と
し、それらを一体的に連結し、ガス管状部の上部に部分
的に開口部を設け、上記トーチ電極の電極部分を露出さ
せるものである。
【0011】また、キャピラリの先端から一定量のボン
ディングワイヤを送りだしたのちクランパを閉じた状態
で上昇させ、バンプからボンディングワイヤを切断する
工程において、ワイヤを必要な長さ分送りだすまでキャ
ピラリを上昇させたのち、完全に停止した状態でクラン
パを閉じ、閉じたのちにさらにクランパを上昇させて切
断するものである。
【0012】さらには、キャピラリの先端でボールを押
しつぶしてバンプを形成したのちにキャピラリでバンプ
を押さえた状態で、ボンディングワイヤをバンプから引
き離すものである。
【0013】
【作用】これにより、トーチ電極からボンディングワイ
ヤへの異常放電を発生させることなく安定した状態で、
放電領域にガスを吐出するノズル口を極めて近付けるこ
とができ、またガス管状部を小さくコンパクトにするこ
とができる。また、そのため、すばやいガスの均一化が
可能となりガスの使用量も低減できると共に、爆発等の
危険要因を低減できるものである。
【0014】また、クランパが完全に閉じるまでの時
間、クランパの移動を停止させているので、正確な長さ
でボンディングワイヤをキャピラリの先端から送りだす
ことができ、一定の大きさのボール、しいてはバンプを
形成できるものである。
【0015】さらには、ボンディング面へのバンプ圧着
強度が低減することなく安定した接触面の信頼性を向上
できるものである。
【0016】
【実施例】図1は、本発明の1実施例であるバンプボン
ディング装置の主要部概略断面図、図2は、図1で使用
するキャピラリの先端部説明図、図3(a)(b)は、
バンプを形成するための説明図である。以下図面を用い
て詳細に説明する。
【0017】1は、ボンディングワイヤ2をガイドする
ためのボンデイングツールで、キャピラリといい、略中
央部にはガイド孔3が形成されている。図2で示すよう
に、キャピラリ1のガイド孔3の下端は、漏斗状部4に
なっており、前記ボンディングワイヤ2の先端部にボー
ル5を形成したさい保持するようになっている。また、
キャピラリ1のガイド孔3の下端には、部分的に幅広部
6が形成されており、基板7上にバンプ8を形成した際
に生じるヒゲ状部9を前記幅広部6で押圧して修正でき
るようになっている。10は、キャピラリ1を上下動自
在に保持するボンディングアームであり、図示しないX
Yテーブルに搭載されてXY方向に自在に動くボンディ
ングヘッドに、Z方向に揺動自在に接続されている。
【0018】11は、トーチ電極であり、本実施例では
この電極11にマイナスの電位、ボンディングワイヤ2
にプラスの電位として高電位差を付加することにより放
電させ、ボンディングワイヤ2の先端にボール5を形成
するものである。12はガス供給部であり、本実施例で
は、導電性金属の第1のガス供給部12aと第2のガス
供給部12bが2つ設けられている。第1のガス供給部
12aは、トーチ電極11の電極部11aにノズル口の
先端が近接して配設され、かつトーチ電極11と一体的
に接続されている。第2のガス供給部12bは、上記ト
ーチ電極11を収納し、さらにキャピラリ先端からでて
いるボンディングワイヤを収容できる大きさで設けられ
た中空のガス管状部13で、その一端から内部にガスが
供給できるように設けられており、第1のガス供給部1
2aから吐出するガスに対向してガスが流れ出るように
なっている。このとき、第1のガス供給部12aから流
れるガスの流速と第2のガス供給部12bから流れるガ
スの流速を調整し、ガス管状部13内に外気が巻き込ま
れないようになっている。
【0019】これにより、少なくとも放電時その領域の
還元ガス濃度は高い状態を維持でき、かつ引火する危険
性を低減している。尚、本実施例では還元性のガスとし
て水素ガスを、希ガスとしてアルゴンを用い、これらを
混合し使用している。
【0020】前記ガス管状部13は、第1のガス供給部
12aに接続固定され、スイングアーム14によりトー
チ電極11、第1のガス供給部12a、ガス管状部13
が一体となってスイング動作自在に取り付けられてい
る。15は、本実施例ではガス管状部13の上部に形成
された開口部であり、この開口部15をとうしてキャピ
ラリ1の先端部及びボンディングワイヤ2の下端が、ト
ーチ電極11の電極11aに近接させている。なお、本
実施例では、トーチ電極11、第1のガス供給部12
a、ガス管状部13が一体でマイナス電位であるので、
ボンディングワイヤ2に最も近いトーチ電極11に安定
してかつ確実に放電することになり、従って、開口部1
5の幅Lを狭くしても、トーチ電極11からガス管状部
13へ異常放電する等の問題は回避できる。
【0021】尚、トーチ電極11のみを導電金属とし、
第1のガス供給部12a、ガス管状部13を非導電性金
属、例えばガラス(石英)製であっても同様の効果を得
られる。また、図4で示すように、第2のガス供給部1
2bを1本のノズルで形成するのではなく、複数本のノ
ズル12c、12cで構成し、同量のガス量であっても
ガス流速を速くして、より一層外気が巻き込まないよう
にしても良い。
【0022】図5(a)〜(g)は、バンプボンディン
グ方法を説明するための工程概略図である。図5(a)
は、ボンディングワイヤ2の先端にボール5が形成され
ている状態を示しており、このときクランパ16は
「開」状態となっている。次に、図5(b)に示すよう
に、ボール5が形成されたボンディングワイヤ2をキャ
ピラリ1で漏斗状部4で保持しつつ下降させて所望の被
ボンディング体である基板7(例えば、半導体チップの
電極、プリント基板等)に押しつける。これにより、キ
ャピラリ1の漏斗状部4の内壁面でボールがつぶされ、
その内壁面の形状にあわせて図5(c)で示すようにバ
ンプ8が形成される。クランパ16はキャピラリ1に追
随して同じ上下動するよう図示しないボンディングヘッ
ドに取り付けられている。次に、基板7から距離H離れ
るまでキャピラリ1を上昇させたのち停止させる。そし
て、図5(d)で示すように、キャピラリ1が完全に停
止した後、すなわちクランパ16が完全に停止する時間
経過したのち、クランパ16を「閉」とし、ボンディン
グワイヤ2を挟持させる。この状態で、クランパ16及
びキャピラリ1を上昇させることにより、図5(e)の
ようにバンプ8の状部からボンディングワイヤ2が切断
される。なお、このときには、まだバンプ8の上部に
は、切断の際に生じるヒゲ状部9が残存している。次に
キャピラリ1が放電位置に移動して停止すると同時に、
スイングアーム14によりトーチ電極11の電極部11
aがボンディングワイヤ2の真下に近接して移動する。
ガス管状部13内には、第1のガス供給部12aと第2
のガス供給部12bから還元性のガス、例えば水素ガス
が放電領域であるボンディングワイヤ2の先端及び放電
トーチ方向に向けて噴射供給されている(図5
(e))。ガス管状部13は、移動中に、さらにはキャ
ピラリ1の移動に伴って乱れたガス管状部内のガス雰囲
気が安定する間、短時間停止している。そして、ガス雰
囲気が安定するタイミングに放電が開始されよう時間が
設定されている。図5(g)では、バンプ形成ののちボ
ンディングワイヤ2の先端にボール5が形成され、キャ
ピラリ2の漏斗状部4にボール5が位置するようになっ
ている。図6は、キャピラリ−クランパ動作説明図であ
り、縦軸はキャピラリの高さ、横軸は時間を示してい
る。例えば、点Aでは、ボンディングワイヤ2の先端に
ボール5を形成したキャピラリ2を下降させているとき
(図5(a))で、クランパ16は「開」であることを
示している。それぞれ点A〜点Gは、それぞれ図5
(a)〜図5(g)のキャピラリ−クランパ動作に該当
している。図で明らかなように、キャピラリ1が点Pか
ら点Qまで上昇したとき、すなわちキャピラリ1の先端
から所望長さHだけボンディングワイヤ2が送り出され
たとき、キャピラリ1の上動は点Qから点Rで示す時間
停止している。そのキャピラリ1が停止した時間中、キ
ャピラリ1と同様に動作しているクランパ16は、停止
した状態で閉じることになり、そのため確実に所望長さ
Hだけ送り出されたときにワイヤ2をつかんでいる。そ
の後ワイヤ2を切断するために、点Rから点Sまでキャ
ピラリ1を上動させていることがわかる。
【0023】上述のようにして形成したバンプ8の接続
が完了したのち、バンプ8のヒゲ状部9を図3(a)で
示すようにキャピラリ1のガイド孔3内にワイヤ2を引
っ込めておき、図3(b)で示すようにキャピラリ1の
先端部に設けた幅広部6にて複数個続けてたたきつぶし
修正している。
【0024】図7は、上記説明とは異なるバンプ形成方
法の概略説明図である。図7(a)で示すように、キャ
ピラリ21にガイドされたボンディングワイヤ22の先
端部の下方にトーチ電極を内蔵したガス管状部26をを
駆動させ、放電によりワイヤ先端にボール27を形成す
る。このときキャピラリ21とクランパ25との離間距
離は、幅L1であったとする。次に、幅L1を保ったまま
キャピラリ21とクランパ25を下降させていき、予め
設定した位置(この位置をテール長設定点と呼ぶことに
する)でクランパ25のみ停止する(図7(b))。キ
ャピラリ21はそのままさらに下降し、被ボンディング
点23にボール27が当接したとき停止するようになっ
ている。このときキャピラリ21は、テール長設定点か
ら図7(c)の場合、幅L2下降したことになる。次に
図7(d)で示すようにクランパ25を「閉」としワイ
ヤ22を挾持する。その後クランパ25をL3上昇させ
バンプ24からワイヤ22を分離する。次にキャピラリ
21とクランパ25の離間距離を幅L1となるようクラ
ンパ25を移動させ、キャピラリ21の先端からテール
長l(l=L2)分突出することになる。その後、図7
(a)で説明した工程にもどり、これを繰返し動作させ
ることにより複数のバンプを形成することが可能とな
る。この方法によれば、形成したバンプをキャピラリで
押さえつつ形成できるので、バンプからボンディングワ
イヤを分離できるので、バンプが剥離するなどのダメー
ジがないなどの効果が得られる。
【0025】図9は、本発明を利用した半導体基板の一
例の部分断面斜視図である。30は絶縁基板、例えばエ
ポキシ樹脂等からなるプリント基板であり、その表面、
裏面もしくはその内部には外部端子や他の半導体部品に
接続するため銅(Cu)などの配線31が形成されてい
る。32は上述のバンプボンディング方法にて形成した
バンプであり、各々配線31に接続している。このバン
プ32上にLSI33の外部リード34を位置合わせし
て載置し、加熱(リフロー)して接続できるようになっ
ている。
【0026】なお、35はLSI33のハンドリング部
材である。
【0027】図10は本発明を利用した半導体装置の一
例の断面図である。36は半導体チップであり、その主
表面上には半導体回路のパターンが形成されている。チ
ップ36には電極パッド上にバンプ37が前述のように
形成され接続されている。38は絶縁基板であり、その
表面にはチップ36の電極パッドと接続する配線39が
裏面には外部端子40と接続する配線41が形成され、
かつ配線39と配線41とを電気的に接続するコンタク
ト導体42が配設されている。なお、上述した外部端子
40を前述したバンプ形成方法にて作っても良い。この
場合、ボンディングワイヤの線径を外部端子の半田量に
応じて太くするか、あるいはバンプを重ね打ちして加熱
し、合体させることにより作ることが出来る。なお43
は、レジンである。
【0028】次に、本実施例の作用及び効果について説
明する。
【0029】(1)雰囲気ガス吹き出し用のノズルをト
ーチ電極と一体化させることにより、トーチ電極から雰
囲気ガス吹き出し用のノズルへ異常放電することを防止
できるので、ボンデイングワイヤに確実かつ安定してボ
ールを形成することができるという効果が得られる。
【0030】(2)雰囲気ガス吹き出し用のノズルを有
するガス供給部をトーチ電極と一体化させることによ
り、トーチ電極から雰囲気ガス吹き出し用のノズルへ異
常放電を防止できるので、ガス雰囲気を維持するための
ガス管状部を小型化でき、しかも開口部を狭くすること
ができる。従って、所定のガス雰囲気に短時間で回復
し、また安定した一様のガス雰囲気を作りやすいとうい
う効果が得られる。
【0031】(3)また、上記によりガスの消費量を低
減できるという効果が得られる。
【0032】(4)トーチ電極と第1のガス供給部を一
体に接続し同電位となっているので、ボンディングワイ
ヤ先端に近付けて雰囲気ガスを吹き付けることが可能と
なり、よってボールを安定した形状(真球)に形成する
ことができる。
【0033】(5)還元性ガスを供給することにより、
ボンディングワイヤの表面に自然に形成された酸化膜
も、放電の際の熱で還元されるので、不活性ガスに比べ
極めて真球性の高いボールが得られという効果がえられ
るものである。
【0034】(6)ガス管状部の移動を停止したのち放
電まで遅延時間を設定することにより、ガス管状部内の
ガス雰囲気が安定した状態でボールを形成できるもので
ある。
【0035】(7)クランパの上昇を一端止めクランパ
を閉じるのでワイヤのキャピラリからの突出量が安定
し、バンプ体積のバラツキのないバンプ供給が可能であ
る。
【0036】(8)バンプをキャピラリで押さえつけな
がらワイヤを引きちぎるので、バンプの接続面の信頼性
を向上させることが可能となる。
【0037】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種種変更可能であることはいうまでもない。
【0038】例えば、第7図で示すように、先に形成し
たバンプ17aのヒゲ状部18をつぶしつつ隣接するバ
ンプ17bを形成できるよう、バンプ間距離Dを考慮し
てキャピラリ19の先端形状を設計し、これを用いて効
率的にバンプボンディングするようにしてもよい。
【0039】また、ボンディングワイヤ材としてハンダ
を用いているが、その他の線材、例えば金、アルミニウ
ム、銅、その他合金にも適用することができる。また、
バンプの取り付ける基板は、半導体チップの電極やリー
ドフレームのリード部、プリント配線基板等へのボンデ
ィングの限定されるものではなく、その他の電極や配線
の一部として、バンプが利用しうる部材に適用すること
ができる。
【0040】またバンプ自体が電極の一部として利用さ
れる電子部品に限定されず、例えば小片部品を取り付け
るための接着剤としてバンプを利用する分野にも適用す
ることができる。
【0041】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0042】すなわち、安定したガス雰囲気中で、水素
ガスを利用しても安全で、かつ安定した放電により真球
度の良いボールを形成でき、しかも品質の良いバンプが
得られるという効果が得られる。
【0043】また、上記理由により、品質の良いIC、
LSI等の半導体装置やそれらを組み込んだ製品の性能
を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるバンプボンディング装
置の主要部概略断面図、
【図2】本発明の一実施例に用いるキャピラリの先端部
説明図、
【図3】本発明の一実施例のバンプ形成説明図、
【図4】本発明の他の実施例であるノズルの断面図、
【図5】本発明の一実施例であるバンプボンディングの
工程概略図、
【図6】本発明の一実施例であるキャピラリ−クランパ
動作説明図、
【図7】本発明の他の実施例であるバンプボンディング
の工程概略図、
【図8】本発明の他の実施例に用いるキャピラリの先端
断面図、
【図9】本発明を利用したプリント基板の一例の部分断
面斜視図、
【図10】本発明を利用したLSIの一例の断面図であ
る。
【符号の説明】
1……キャピラリ、2……ボンディングワイヤ、3……
ガイド孔、4……漏斗状部、5……ボール、6……幅広
部、7……基板、8……バンプ、9……ヒゲ状部、10
……ボンディングアーム、11……トーチ電極、12a
……第1のガス供給部、12b……第2のガス供給部、
13……ガス管状部、14……スイングアーム、15…
…開口部、16……クランパ、17a……バンプ、17
b……バンプ、18……ヒゲ状部、19……キャピラ
リ、21……キャピラリ、22……ボンディングワイ
ヤ、23……被ボンディング体、24……バンプ、25
……クランパ、26……ガス管状部、27……ボール、
30……プリント基板、31……配線、32……バン
プ、33……LSI、34……外部リード、35……ハ
ンドリング部材、36……半導体チップ、37……バン
プ、38……絶縁基板、39……表面配線、40……バ
ンプ、41……裏面配線、42……コンタクト導体、4
3……樹脂。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ボンディングワイヤをガイドするキャピラ
    リと、先端部においてキャピラリを保持できるボンディ
    ングアームと、ボンディングアームをZ方向に可動自在
    に支持するボンディングヘッドと、ボンディングヘッド
    をXY方向に移動させるXYテーブルと、キャピラリに
    同期して上下動し、ボンディングワイヤを挾持できる開
    閉自在なクランパと、キャピラリにガイドされたボンデ
    ィングワイヤの先端にボールを形成するためのトーチ電
    極と、上部に開口部を有し、ボンディングワイヤ先端部
    の周辺雰囲気を所望のガス不雰囲気に維持し、かつ上記
    開口部からトーチ電極の電極部が露出した状態で収納し
    ている中空のガス管状部と、上記ガス管状部に配設され
    たガス供給部とを有しており、トーチ電極、ガス管状部
    及びガス供給部が一体的に接続され、かつボンディング
    時はキャピラリの下方向から退避し、放電時はキャピラ
    リの下方向にくるようスイング自在となっていることを
    特徴とするボンディング装置。
  2. 【請求項2】上記ガス管状部内へガスを供給するガス供
    給部のうち、少なくともその一つはトーチ電極の電極部
    にそのガス吹き出しのノズル口が近接して配設されてい
    ることを特徴とする請求項1記載のボンディング装置。
  3. 【請求項3】ガス供給部及びガス管状部は金属製であ
    り、トーチ電極と電気的に接続され同電位に設定されて
    いることを特徴とする請求項1記載のボンディング装
    置。
  4. 【請求項4】ガス供給部及びガス管状部は、非導電性材
    からなることを特徴とする請求項1記載のボンディング
    装置。
  5. 【請求項5】ガスは還元性ガスまたは還元性ガスと希ガ
    スの混合ガスであることを特徴とする請求項1から4記
    載のボンディング装置。
  6. 【請求項6】キャピラリの先端であって、ガイド孔の周
    囲には、バンプの上部を押圧するための幅広部が設けら
    れていることを特徴とする請求項1記載のボンディング
    装置。
  7. 【請求項7】幅広部はガイド孔の全周に設けられている
    ことを特徴とする請求項6記載のボンディング装置。
  8. 【請求項8】クランパを「開」とし、ボンディングワイ
    ヤを開放した状態でキャピラリを下降させ、上記キャピ
    ラリによりガイドされたボンディングワイヤの先端に形
    成されたボールを基板に押しつけ、ボールをつぶしバン
    プを形成する工程と、キャピラリを上昇させて、上記キ
    ャピラリの先端からボンディングワイヤをバンプを形成
    するに必要な所定の長さ分を突出させる工程と、所定の
    長さ分突出させた際キャピラリ及びクランパの上動を停
    止させ、完全に停止した状態でクランパを「閉」としボ
    ンディングワイヤを挾持する工程と、「閉」となったク
    ランパをボンディングワイヤを挾持した状態で上昇さ
    せ、前記バンプからボンディングワイヤを切り放す切断
    工程とを有することを特徴とするバンプ形成方法。
  9. 【請求項9】キャピラリによりガイドされたボンディン
    グワイヤの先端にボールを形成する工程と、上記キャピ
    ラリによりボールを基板に押しつけてボールをつぶしバ
    ンプを形成する工程と、キャピラリでバンプを押さえた
    状態でクランパがボンディングワイヤを挾み上昇させバ
    ンプからボンディングワイヤを切り離す工程と、その後
    にキャピラリ及びクランパを相対的に移動させて、キャ
    ピラリの先端から所定の長さのワイヤを突出させる工程
    とを有するバンプ形成方法。
JP5177763A 1993-07-19 1993-07-19 ボンディング装置及びバンプ形成方法 Pending JPH0737930A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5177763A JPH0737930A (ja) 1993-07-19 1993-07-19 ボンディング装置及びバンプ形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5177763A JPH0737930A (ja) 1993-07-19 1993-07-19 ボンディング装置及びバンプ形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0737930A true JPH0737930A (ja) 1995-02-07

Family

ID=16036706

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5177763A Pending JPH0737930A (ja) 1993-07-19 1993-07-19 ボンディング装置及びバンプ形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0737930A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5958259A (en) * 1996-10-17 1999-09-28 Kabushiki Kaisha Shinkawa Method for forming a ball in wire bonding
US5988482A (en) * 1997-02-24 1999-11-23 Kabushiki Kaisha Shinkawa Discharge abnormality detection device and method for use in wire bonding apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5958259A (en) * 1996-10-17 1999-09-28 Kabushiki Kaisha Shinkawa Method for forming a ball in wire bonding
US5988482A (en) * 1997-02-24 1999-11-23 Kabushiki Kaisha Shinkawa Discharge abnormality detection device and method for use in wire bonding apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0276928B1 (en) Wire Bonding
JP3935370B2 (ja) バンプ付き半導体素子の製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US6267290B1 (en) Control of size and heat affected zone for fine pitch wire bonding
US4909427A (en) Bonding wire ball formation
JP2003197669A (ja) ボンディング方法及びボンディング装置
JP2004221257A (ja) ワイヤボンディング方法及びワイヤボンディング装置
JP3584930B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US5285949A (en) Wire-bonding method, wire-bonding apparatus, and semiconductor device produced by the wire-bonding method
US4564734A (en) Wire bonder
US5538176A (en) Method of forming a ball end for a solder wire
US5152450A (en) Wire-bonding method, wire-bonding apparatus,and semiconductor device produced by the wire-bonding method
US4549059A (en) Wire bonder with controlled atmosphere
JPH0737930A (ja) ボンディング装置及びバンプ形成方法
JP2000106381A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH03253045A (ja) ワイヤボンディング装置
JPH1154541A (ja) ワイヤボンディング方法及びワイヤボンディング装置
JP3740260B2 (ja) バンプボンダー
JP2894344B1 (ja) ワイヤボンディング方法
JP3417659B2 (ja) ワイヤボンディング装置
JPH0461134A (ja) 半導体製造装置
JP4318533B2 (ja) ボールバンプ形成用リボン
JPS63266845A (ja) ワイヤボンデイング装置
JP2645014B2 (ja) ワイヤボンディング装置
JPH06232209A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0677277A (ja) 絶縁被覆ワイヤのボールボンディング装置とボンディング方法