JPH0740548B2 - レジスト硬化装置 - Google Patents
レジスト硬化装置Info
- Publication number
- JPH0740548B2 JPH0740548B2 JP62099664A JP9966487A JPH0740548B2 JP H0740548 B2 JPH0740548 B2 JP H0740548B2 JP 62099664 A JP62099664 A JP 62099664A JP 9966487 A JP9966487 A JP 9966487A JP H0740548 B2 JPH0740548 B2 JP H0740548B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating plate
- wafer
- heating
- temperature
- plate
- Prior art date
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- Expired - Fee Related
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェーハの加熱部分を改良したレジス
ト硬化装置に関する。
ト硬化装置に関する。
(従来の技術) 半導体ウェーハ上のレジストをUV光で硬化する場合、加
熱板(ホットプレート)の急激な加熱と急激な冷却(降
温)を行ない、スループットを改善する必要がある。
熱板(ホットプレート)の急激な加熱と急激な冷却(降
温)を行ない、スループットを改善する必要がある。
(発明が解決しようとする問題点) 従来の電熱ヒータ方式では、上記温度の急激な昇温、降
温はむずかしい。
温はむずかしい。
本発明の目的は、電磁誘導方式加熱を利用し、加熱板に
クリアーカーボンを使用することによりウェーハの昇
温、降温を急激に行なうようにしたレジスト硬化装置を
提供することにある。
クリアーカーボンを使用することによりウェーハの昇
温、降温を急激に行なうようにしたレジスト硬化装置を
提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明はウェーハを加熱板上で加熱し、かつUV光を照射
してウェーハ上のレジストを硬化させる装置に関するも
ので、前記加熱板としてクリアカーボンを用いると共
に、この加熱板近くに電流コイルを設けて、加熱板を電
磁誘導加熱することを特徴とする。
してウェーハ上のレジストを硬化させる装置に関するも
ので、前記加熱板としてクリアカーボンを用いると共
に、この加熱板近くに電流コイルを設けて、加熱板を電
磁誘導加熱することを特徴とする。
(作用) 本発明では、加熱板の昇温、降温スピードを早くするた
めに電磁誘導方式加熱を利用し、加熱板に熱伝導の良
い、クリンルーム用クリアカーボンを使用したことを特
徴としており、これによってスループットを改善でき
た。
めに電磁誘導方式加熱を利用し、加熱板に熱伝導の良
い、クリンルーム用クリアカーボンを使用したことを特
徴としており、これによってスループットを改善でき
た。
(実施例) 以下に本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図において、1はクリアカーボン製の加熱板で、ウ
ェーハの形に合せて円板のものを用いており、ウェーハ
の直径(最大)より約1.2倍の直径を有するように大き
く作る。
ェーハの形に合せて円板のものを用いており、ウェーハ
の直径(最大)より約1.2倍の直径を有するように大き
く作る。
すなわち、ある大きさのウェーハ(例えば6″)を加熱
する場合加熱板1の外側の温度が低くなりやすいので、
ウェーハの直径より約1.2倍大きくすることにより、ウ
ェーハ上の温度ムラを均一になるようにしている。
する場合加熱板1の外側の温度が低くなりやすいので、
ウェーハの直径より約1.2倍大きくすることにより、ウ
ェーハ上の温度ムラを均一になるようにしている。
2はウェーハ保持用の溝で、加熱板1上に同心状に設け
られその最外側の溝は、加熱板1中に穿設された通気孔
7を介して図示しない真空ポンプに連通する。また内側
の溝は、径方向に形成された溝2aにより最外側の溝と連
通する。この溝2は、幅2mm、深さ0.5mm程度のもので、
その上面に載置されるウェーハを吸着保持する。また、
この溝は加熱時におけるウェーハの温度ムラを少なくす
る働きをも持つ。
られその最外側の溝は、加熱板1中に穿設された通気孔
7を介して図示しない真空ポンプに連通する。また内側
の溝は、径方向に形成された溝2aにより最外側の溝と連
通する。この溝2は、幅2mm、深さ0.5mm程度のもので、
その上面に載置されるウェーハを吸着保持する。また、
この溝は加熱時におけるウェーハの温度ムラを少なくす
る働きをも持つ。
3は温度センサーの挿入穴で、加熱板1の温度を測定す
るべく、加熱板1内に、その中心方向ら2.5φ×40lの穴
を堀って形成し、この中に温度センサーを挿入する。
るべく、加熱板1内に、その中心方向ら2.5φ×40lの穴
を堀って形成し、この中に温度センサーを挿入する。
4はピン貫通孔で、加熱板1の下側に位置する図示しな
い水冷却板(材質Al)上に設けられた複数本のピンを、
エアシリンダー等による水冷板の上昇に伴い加熱板1上
に突出させ、ウェーハを持ち上げて図示しないウェーハ
搬送機構にチャックさせ、外部に搬出させるために用い
る。なお、水冷却板は上述した上昇時、加熱板1と接触
し、急速降温させる役目を持つ。5は固定板で、加熱板
1を図示しないフレームに固定するために用いられる。
なお、固定具としては断熱性セラミック材によるものを
用いる。
い水冷却板(材質Al)上に設けられた複数本のピンを、
エアシリンダー等による水冷板の上昇に伴い加熱板1上
に突出させ、ウェーハを持ち上げて図示しないウェーハ
搬送機構にチャックさせ、外部に搬出させるために用い
る。なお、水冷却板は上述した上昇時、加熱板1と接触
し、急速降温させる役目を持つ。5は固定板で、加熱板
1を図示しないフレームに固定するために用いられる。
なお、固定具としては断熱性セラミック材によるものを
用いる。
上記加熱板1に対して、従来の電熱ヒータに代って、図
示しないが、電磁コイルを用い、電磁誘導により加熱板
1を急速加熱する。
示しないが、電磁コイルを用い、電磁誘導により加熱板
1を急速加熱する。
第2図は加熱板1の材質による昇温特性を示す。この図
では加熱板1を20℃から180℃迄昇温するのに、電磁誘
導によりクリアカーボン(外形220φ、厚さ5t)を加熱
すると75秒、SUS430(外形220φ、厚さ5t)を加熱する
と250秒以上、電熱ヒータ方式にてAlを加熱(外形170
φ、厚さ7t、材質Al)した場合は、158秒かかり、昇温
特性は、クリアカーボンがヒータ方式加熱により2倍以
上、早いことを実験データが示している。第3図は降
(冷却)特性を示しており、130℃→70℃迄降温するの
にクリアーカーボンでは10秒、SUS304では17秒、ヒータ
方式では63秒かかりクリアカーボンがヒータ式より6.3
倍早いことを実験データが示している。
では加熱板1を20℃から180℃迄昇温するのに、電磁誘
導によりクリアカーボン(外形220φ、厚さ5t)を加熱
すると75秒、SUS430(外形220φ、厚さ5t)を加熱する
と250秒以上、電熱ヒータ方式にてAlを加熱(外形170
φ、厚さ7t、材質Al)した場合は、158秒かかり、昇温
特性は、クリアカーボンがヒータ方式加熱により2倍以
上、早いことを実験データが示している。第3図は降
(冷却)特性を示しており、130℃→70℃迄降温するの
にクリアーカーボンでは10秒、SUS304では17秒、ヒータ
方式では63秒かかりクリアカーボンがヒータ式より6.3
倍早いことを実験データが示している。
以上電磁誘導方式加熱を使用する場合加熱板の材質とし
てクリアスーボンを使用すれば、昇温、降温スピードが
早いことが分る。またクリアカーボンはシリコシンウェ
ーハと材質が似ており熱伝導度が良く、固有抵抗が大き
く、複雑な加工が容易で、クリンルーム用に使用でき、
ウェーハの加熱板としては最適である。
てクリアスーボンを使用すれば、昇温、降温スピードが
早いことが分る。またクリアカーボンはシリコシンウェ
ーハと材質が似ており熱伝導度が良く、固有抵抗が大き
く、複雑な加工が容易で、クリンルーム用に使用でき、
ウェーハの加熱板としては最適である。
以下、電磁誘導方式加熱に対しクリアーカーボンを加熱
板1に使用した場合の特長を列挙する。
板1に使用した場合の特長を列挙する。
(1)加熱板は固有抵抗が高く、また熱伝導が良いので
急激な昇温、降温を実施しても加熱板上の温度ムラが少
ない。
急激な昇温、降温を実施しても加熱板上の温度ムラが少
ない。
(2)急激な昇温、降温ができるため、スループットが
大きく改善される。
大きく改善される。
(3)クリアーカーボンは複雑な加工が容易にできる。
このためウェーハの吸着溝、温度センサー挿入穴等を容
易に加工できる。
このためウェーハの吸着溝、温度センサー挿入穴等を容
易に加工できる。
(4)クリンルーム内で使用できる。ガスの発生、発
塵、汚れ等がなくクリーンである。また、表面はSiCで
コーティングされているため、ウェーハと材質は同じで
あり、物性的に安定する。
塵、汚れ等がなくクリーンである。また、表面はSiCで
コーティングされているため、ウェーハと材質は同じで
あり、物性的に安定する。
(5)間接加熱(非接触)であるので、寿命が長くメイ
ンテナンスが簡単である。
ンテナンスが簡単である。
以上のように本発明によれば、加熱板にクリアカーボン
を用い、これを電磁誘導加熱するので、急速温度および
降温ができ、スループットを改善できる。
を用い、これを電磁誘導加熱するので、急速温度および
降温ができ、スループットを改善できる。
第1図は本発明によるレジスト硬化装置の一実施例に用
いる加熱板の平面図、第2図および第3図は加熱板の昇
温特性および降温特性を示す特性図である。 1…加熱板、2…ウェーハ保持用の溝 3…温度計の挿入穴
いる加熱板の平面図、第2図および第3図は加熱板の昇
温特性および降温特性を示す特性図である。 1…加熱板、2…ウェーハ保持用の溝 3…温度計の挿入穴
Claims (1)
- 【請求項1】ウェーハ加熱板上で加熱し、かつUV光を照
射してウェーハ上のレジストを硬化させる装置におい
て、 前記加熱板としてクリアカーボンを用いると共に、この
加熱板近くに電磁コイルを設けて、加熱板を電磁誘導加
熱することを特徴とするレジスト硬化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62099664A JPH0740548B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | レジスト硬化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62099664A JPH0740548B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | レジスト硬化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63266824A JPS63266824A (ja) | 1988-11-02 |
| JPH0740548B2 true JPH0740548B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=14253306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62099664A Expired - Fee Related JPH0740548B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | レジスト硬化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740548B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100603925B1 (ko) * | 1999-01-13 | 2006-07-24 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 애싱설비 |
| JP4075527B2 (ja) * | 2002-08-28 | 2008-04-16 | 日本電気株式会社 | レジスト塗布方法およびレジスト塗布装置 |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP62099664A patent/JPH0740548B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63266824A (ja) | 1988-11-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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