JPH0741043B2 - 電磁式衝撃波発生装置 - Google Patents
電磁式衝撃波発生装置Info
- Publication number
- JPH0741043B2 JPH0741043B2 JP63325698A JP32569888A JPH0741043B2 JP H0741043 B2 JPH0741043 B2 JP H0741043B2 JP 63325698 A JP63325698 A JP 63325698A JP 32569888 A JP32569888 A JP 32569888A JP H0741043 B2 JPH0741043 B2 JP H0741043B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- shock wave
- wave generator
- electromagnetic shock
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000035939 shock Effects 0.000 title claims description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K9/00—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers
- G10K9/12—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers electrically operated
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
- Building Environments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、本体、少なくとも一つの線コイル、絶縁薄膜
および金属ダイアフラムを持った電磁式衝撃波発生装置
に関する。
および金属ダイアフラムを持った電磁式衝撃波発生装置
に関する。
電磁式衝撃波発生装置（EMSO）は特に体内結石の破砕に
採用され（ドイツ連邦共和国特許第3328066号公報参
照）、また衝撃波が利用される別の治療法に採用され
る。
採用され（ドイツ連邦共和国特許第3328066号公報参
照）、また衝撃波が利用される別の治療法に採用され
る。
雑誌「Akustische Beihefte」、1962年、第１号の第158
頁〜第202頁に、いわゆる衝撃波管の構造が記載されて
いる。偏平コイルの前に銅ダイアフラムが絶縁薄膜で分
離されて存在している。水が詰められた管がこの銅ダイ
アフラムに続いている。偏平コイルに２〜20KVの電圧を
印加することによって、銅ダイアフラムには磁界が誘起
され、この磁界はダイアフラムをコイルから引き離すよ
うな衝撃力を生ずる。これによって一様な圧力パルスが
生じ、これは水が詰められた管において急傾斜の衝撃波
を生じ、管端において実験に利用される。かかる衝撃波
管は例えば化学的な材料試験に採用される。
頁〜第202頁に、いわゆる衝撃波管の構造が記載されて
いる。偏平コイルの前に銅ダイアフラムが絶縁薄膜で分
離されて存在している。水が詰められた管がこの銅ダイ
アフラムに続いている。偏平コイルに２〜20KVの電圧を
印加することによって、銅ダイアフラムには磁界が誘起
され、この磁界はダイアフラムをコイルから引き離すよ
うな衝撃力を生ずる。これによって一様な圧力パルスが
生じ、これは水が詰められた管において急傾斜の衝撃波
を生じ、管端において実験に利用される。かかる衝撃波
管は例えば化学的な材料試験に採用される。
本発明は、かかる衝撃波発生装置を、その効率および寿
命が向上されるように改良する電磁式衝撃波発生装置を
提供することを目的とする。
命が向上されるように改良する電磁式衝撃波発生装置を
提供することを目的とする。
本発明によればこの目的は、冒頭に述べた形式の衝撃波
発生装置において、良伝導性の少なくとももう一つの金
属ダイアフラムが、第１のダイアフラムから少なくとも
一つの絶縁薄膜によって分離されて設けられていること
によって達成される。
発生装置において、良伝導性の少なくとももう一つの金
属ダイアフラムが、第１のダイアフラムから少なくとも
一つの絶縁薄膜によって分離されて設けられていること
によって達成される。
以下図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第１図はその上側半部に、本発明に基づく衝撃波発生装
置の有利な実施例の構造を示し、下側半部に、コイルに
高電圧を印加した場合の電位経過を示している。本発明
に基づく衝撃波発生装置はここでは本体１、線コイル
２、絶縁薄膜３、銅ダイアフラム４、絶縁薄膜５、第２
の銅ダイアフラム６、絶縁薄膜７、および接地されてい
る特殊鋼ダイアフラム８から成っている。図示していな
いが二つ以上の良伝導性の金属薄膜4,6をもって作るこ
ともできる。個々の層は一般的な方法で例えば貼着によ
って互いに接続されている。
置の有利な実施例の構造を示し、下側半部に、コイルに
高電圧を印加した場合の電位経過を示している。本発明
に基づく衝撃波発生装置はここでは本体１、線コイル
２、絶縁薄膜３、銅ダイアフラム４、絶縁薄膜５、第２
の銅ダイアフラム６、絶縁薄膜７、および接地されてい
る特殊鋼ダイアフラム８から成っている。図示していな
いが二つ以上の良伝導性の金属薄膜4,6をもって作るこ
ともできる。個々の層は一般的な方法で例えば貼着によ
って互いに接続されている。
図面は衝撃波発生装置を拡大して示している。実際には
総厚さは1.0mmまでに過ぎない。図面の下側半部には、
高電圧を印加しているときの電位経過Ｕが示されてい
る。コイル２は高電圧U0にある。特殊鋼ダイアフラム８
は接地電位にある。
総厚さは1.0mmまでに過ぎない。図面の下側半部には、
高電圧を印加しているときの電位経過Ｕが示されてい
る。コイル２は高電圧U0にある。特殊鋼ダイアフラム８
は接地電位にある。
銅ダイアフラム4,6はそれぞれ電位U0と零電位との間の
中間電位にある。絶縁薄膜3,5,7の内部において電位Ｕ
はそれぞれ高電位から低電位に降下する。
中間電位にある。絶縁薄膜3,5,7の内部において電位Ｕ
はそれぞれ高電位から低電位に降下する。
第２図は上側に、厚さ0.2mmの銅ダイアフラムにおける
電流密度分布を示し、下側に、絶縁薄膜で分離された厚
さ0.1mmの二つの銅ダイアフラムにおける電流密度分布
を示している。表皮効果に基づいて電流密度は高周波の
場合には導体断面にわたって一様に分布していない。使
用される周波数において最大浸透深さは約0.2mmであ
る。電流密度の分布は第２図に概略的に示されている。
その図面から明らかなように、電流密度に関する積分値
は二枚のダイアフラムを使用する場合に大きくなる。こ
れによって衝撃力および発生する圧力パルスの振幅も大
きくなる。
電流密度分布を示し、下側に、絶縁薄膜で分離された厚
さ0.1mmの二つの銅ダイアフラムにおける電流密度分布
を示している。表皮効果に基づいて電流密度は高周波の
場合には導体断面にわたって一様に分布していない。使
用される周波数において最大浸透深さは約0.2mmであ
る。電流密度の分布は第２図に概略的に示されている。
その図面から明らかなように、電流密度に関する積分値
は二枚のダイアフラムを使用する場合に大きくなる。こ
れによって衝撃力および発生する圧力パルスの振幅も大
きくなる。
厚さが0.4mm以上の良導電性ダイアフラムの場合、内側
範囲における電流密度は零である。これは積層ダイアフ
ラムの場合には当てはまられない。電流密度の分布は各
ダイアフラムにおいて類似している。
範囲における電流密度は零である。これは積層ダイアフ
ラムの場合には当てはまられない。電流密度の分布は各
ダイアフラムにおいて類似している。
本発明によれば次のような利点が得られる。
1. 接地された銅ダイアフラムによる効率損失が避けら
れる。効率が改善されることにより系統全体の加熱は低
減される。
れる。効率が改善されることにより系統全体の加熱は低
減される。
2. 第２図を参照して後述するように、良伝導性のダイ
アフラムの総厚さに条件づけられた表皮効果が現れるこ
とはない。それにも拘わらず総厚さが個々のダイアフラ
ムの厚さよりも大きい複数のダイアフラムを相前後して
設けることができる。
アフラムの総厚さに条件づけられた表皮効果が現れるこ
とはない。それにも拘わらず総厚さが個々のダイアフラ
ムの厚さよりも大きい複数のダイアフラムを相前後して
設けることができる。
3. コイルとこれに続く接地された金属ダイアフラムと
の間における電位分布はより良好となる。というのは中
間位置のダイアフラムが続く金属ダイアフラムに対して
絶縁され、従って高電圧を印加した場合に所定の低い電
位となるからである。このことは、系統の寿命が線コイ
ルとダイアフラムとの間の絶縁層の破壊強度によって決
まるので、寿命を長くする効果を生ずる。電位分布が良
好であるので、絶縁層は電気的な負荷が軽減され、即ち
その寿命は長くなる。
の間における電位分布はより良好となる。というのは中
間位置のダイアフラムが続く金属ダイアフラムに対して
絶縁され、従って高電圧を印加した場合に所定の低い電
位となるからである。このことは、系統の寿命が線コイ
ルとダイアフラムとの間の絶縁層の破壊強度によって決
まるので、寿命を長くする効果を生ずる。電位分布が良
好であるので、絶縁層は電気的な負荷が軽減され、即ち
その寿命は長くなる。
4. コイルとそれと続くダイアフラムとの間の絶縁層が
相応して設置されている限りにおいて、良伝導性のダイ
アフラムはコイルに直に設置できる。これにより拡散磁
界が最小となるので、ダイアフラムと線コイルとの連結
が一層良くなる。
相応して設置されている限りにおいて、良伝導性のダイ
アフラムはコイルに直に設置できる。これにより拡散磁
界が最小となるので、ダイアフラムと線コイルとの連結
が一層良くなる。
5. うず流損失が低減する。
好適な金属として高張力ダイアフラムに対しては特殊鋼
が利用され、良導電性のダイアフラムに対して銅あるい
は銀が利用される。
が利用され、良導電性のダイアフラムに対して銅あるい
は銀が利用される。
有利な寸法は次の通りである。
特殊鋼ダイアフラム:0.1〜0.2mm 銅ダイアフラム:0.05〜0.2mm 絶縁薄膜:0.025〜0.125mm 絶縁薄膜の数および厚さについては任意に組み合わせで
きる。もっとも総厚さは1mmを越えてはならない。
きる。もっとも総厚さは1mmを越えてはならない。
第１図は本発明に基づく衝撃波発生装置の概略構造と電
位経過を示した図、第２図は異なったダイアフラムにお
ける電流密度経過を示した図である。 １……本体、２……線コイル、３……絶縁薄膜、４……
銅ダイアフラム、５……絶縁薄膜、６……銅ダイアフラ
ム、８……特殊鋼ダイアフラム。
位経過を示した図、第２図は異なったダイアフラムにお
ける電流密度経過を示した図である。 １……本体、２……線コイル、３……絶縁薄膜、４……
銅ダイアフラム、５……絶縁薄膜、６……銅ダイアフラ
ム、８……特殊鋼ダイアフラム。
Claims (5)
- 【請求項１】本体（１）、少なくとも一つの線コイル
（２）、絶縁薄膜（３）および金属ダイアフラム（８）
を持った衝撃波発生装置において、良伝導性の少なくと
も一つの別の金属ダイアフラム（4,6）が、上記金属ダ
イアフラム（８）から少なくとも一つの絶縁薄膜（5,
7）によって分離されて設けられていることを特徴とす
る電磁式衝撃波発生装置。 - 【請求項２】金属ダイアフラム（８）が高張力ダイアフ
ラムであることを特徴とする請求項１記載の電磁式衝撃
波発生装置。 - 【請求項３】別の金属ダイアフラム（4,6）が銅あるい
は銀から形成されていることを特徴とする請求項１又は
２記載の電磁式衝撃波発生装置。 - 【請求項４】高張力ダイアフラムが特殊鋼から形成され
ていることを特徴とする請求項２に記載の電磁式衝撃波
発生装置。 - 【請求項５】金属ダイアフラム（８）が厚さ0.1〜0.2mm
の特殊鋼ダイアフラム、絶縁薄膜が厚さ0.025〜0.125mm
および別の金属ダイアフラム（4,6）が厚さ0.05〜0.2mm
の銅ダイアフラムであることを特徴とする請求項１記載
の電磁式衝撃波発生装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873743822 DE3743822A1 (de) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | Elektromagnetische stosswellenquelle |
| DE3743822.0 | 1987-12-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01280451A JPH01280451A (ja) | 1989-11-10 |
| JPH0741043B2 true JPH0741043B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=6343441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63325698A Expired - Lifetime JPH0741043B2 (ja) | 1987-12-23 | 1988-12-23 | 電磁式衝撃波発生装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4924858A (ja) |
| EP (1) | EP0321759B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0741043B2 (ja) |
| DE (1) | DE3743822A1 (ja) |
| ES (1) | ES2056880T3 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3907605C2 (de) * | 1989-03-09 | 1996-04-04 | Dornier Medizintechnik | Stosswellenquelle |
| US5233972A (en) * | 1990-09-27 | 1993-08-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Shockwave source for acoustic shockwaves |
| DE4130796A1 (de) * | 1990-09-27 | 1992-04-02 | Siemens Ag | Elektrisch antreibbare stosswellenquelle |
| DE4041063A1 (de) * | 1990-12-20 | 1992-06-25 | Siemens Ag | Vorrichtung zum entfernen von implantierten gelenkprothesen |
| DE4125088C1 (ja) * | 1991-07-29 | 1992-06-11 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | |
| DE4201139A1 (de) * | 1992-01-17 | 1993-07-22 | Siemens Ag | Elektromagnetische akustische druckimpulsquelle mit elektrisch leitfaehigen membranmitteln |
| DE4228963C2 (de) * | 1992-08-31 | 1998-10-22 | Siemens Ag | Druckimpulsquelle mit kavitationsfest beschichteter Membran |
| US7189209B1 (en) * | 1996-03-29 | 2007-03-13 | Sanuwave, Inc. | Method for using acoustic shock waves in the treatment of a diabetic foot ulcer or a pressure sore |
| US6390995B1 (en) | 1997-02-12 | 2002-05-21 | Healthtronics Surgical Services, Inc. | Method for using acoustic shock waves in the treatment of medical conditions |
| DE10160595A1 (de) * | 2001-12-10 | 2003-06-26 | Dornier Medtech Holding Int Gmbh | Elektromagnetische Stoss- bzw. Druckwellenquelle |
| DE102004013573B3 (de) * | 2004-03-19 | 2005-09-01 | Dornier Medtech Systems Gmbh | Elektromagnetischer Wandler zur Erzeugung von Zugimpulsen |
| DE102004036526B4 (de) * | 2004-07-28 | 2008-06-05 | Dornier Medtech Systems Gmbh | Stoßwellenquelle und Stoßwellenbehandlungsgerät |
| US7925040B2 (en) * | 2005-06-07 | 2011-04-12 | Nidec Pigeon Corporation | Speaker |
| CN1878427A (zh) * | 2005-06-07 | 2006-12-13 | 日本电产鸽株式会社 | 扬声器 |
| US9997189B2 (en) * | 2016-11-07 | 2018-06-12 | Seagate Technology Llc | Three dimensional electric field data storage device utilizing shockwaves and a light source |
| US10056146B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-08-21 | Seagate Technology Llc | Electric field storage device |
| US20220072326A1 (en) * | 2020-09-10 | 2022-03-10 | Moshe Ein-Gal | Combined pulsed electromagnetic field and low intensity shockwave system and method |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3447440A1 (de) * | 1984-12-27 | 1986-07-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr fuer die zertruemmerung von konkrementen |
| DE3505894A1 (de) * | 1985-02-20 | 1986-08-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr mit spule und membran |
| EP0212352B1 (de) * | 1985-08-09 | 1989-09-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Ultraschallgenerator |
| EP0256203A1 (de) * | 1986-06-05 | 1988-02-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Stosswellengenerator zum berührungslosen Zertrümmern von Konkrementen im Körper eines Lebewesens |
| US4796608A (en) * | 1986-06-16 | 1989-01-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Shock wave generator for an apparatus for non-contacting disintegration of calculi in the body of a life form |
| DE8627238U1 (de) * | 1986-10-06 | 1988-02-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stoßwellenquelle |
| EP0278304A1 (de) * | 1987-02-04 | 1988-08-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Lithotripter mit integrierter Ortungseinrichtung |
-
1987
- 1987-12-23 DE DE19873743822 patent/DE3743822A1/de active Granted
-
1988
- 1988-12-03 ES ES88120217T patent/ES2056880T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-03 EP EP88120217A patent/EP0321759B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-19 US US07/286,965 patent/US4924858A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-23 JP JP63325698A patent/JPH0741043B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4924858A (en) | 1990-05-15 |
| JPH01280451A (ja) | 1989-11-10 |
| EP0321759B1 (de) | 1994-06-01 |
| DE3743822C2 (ja) | 1989-10-12 |
| EP0321759A2 (de) | 1989-06-28 |
| ES2056880T3 (es) | 1994-10-16 |
| EP0321759A3 (en) | 1989-10-04 |
| DE3743822A1 (de) | 1989-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4924858A (en) | Electromagnetic shockwave generator transducer | |
| WO2004099800A2 (de) | Messeinrichtung und verfahren zur ortung einer teilentladung | |
| US5572129A (en) | RF shield for gradient coil | |
| RU99102691A (ru) | Устройство технического контроля с помощью вихревых токов | |
| GB1597774A (en) | Heavy-ion accelerating structure | |
| US4484085A (en) | Spiral line voltage pulse generator characterized by secondary winding | |
| ATE23073T1 (de) | Koaxialkabel. | |
| US3160702A (en) | Alternating current pipe cable system with magnetic field trap | |
| JPH045151Y2 (ja) | ||
| US5214620A (en) | Electrically driveable shockwave source | |
| US5233972A (en) | Shockwave source for acoustic shockwaves | |
| JPH0636808Y2 (ja) | 衝撃波源 | |
| US4796608A (en) | Shock wave generator for an apparatus for non-contacting disintegration of calculi in the body of a life form | |
| US5137014A (en) | Coil for lithotripter | |
| US2854593A (en) | Magnetostriction device and method | |
| US5230328A (en) | Electromagnetic acoustic pressure pulse source | |
| US4766888A (en) | Shock wave generator for an apparatus for non-contacting disintegration of calculi in the body of a life form | |
| JPH11185542A (ja) | 薄膜磁性体シ−ルド付きケ−ブル | |
| JP3072020B2 (ja) | 電気的に絶縁された建造物 | |
| JPS58212110A (ja) | 電磁誘導機器 | |
| JPS60157060A (ja) | トランスデユ−サ | |
| JPH05107301A (ja) | 電力ケーブルの部分放電検出方法および装置 | |
| JP2645256B2 (ja) | ノイズカットトランス | |
| JPH0414904Y2 (ja) | ||
| US4035761A (en) | Sonar transducer having inertial inductor |