JPH0741197B2 - 基板に液体を散布する方法、及びその方法に使用する装置 - Google Patents
基板に液体を散布する方法、及びその方法に使用する装置Info
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- JPH0741197B2 JPH0741197B2 JP61033697A JP3369786A JPH0741197B2 JP H0741197 B2 JPH0741197 B2 JP H0741197B2 JP 61033697 A JP61033697 A JP 61033697A JP 3369786 A JP3369786 A JP 3369786A JP H0741197 B2 JPH0741197 B2 JP H0741197B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板に、液体を散布する方法、及びその方法
に使用する装置に関する。
に使用する装置に関する。
本発明で使用する用語“液体”は、通常の、いわゆる液
体の他に、ペンキ等微粒子が分散しているエマルジョ
ン、或いは溶融金属等固体の溶融物質を包含する。
体の他に、ペンキ等微粒子が分散しているエマルジョ
ン、或いは溶融金属等固体の溶融物質を包含する。
液体を均等な厚さで基板に散布させることは、長手の課
題であった。従来、種々の解決策が提案されてきた。例
えば、イギリス国特許第1455862号明細書に記載されて
いる発明においては、１次ガスノズルによって微粒子化
された噴霧液が、２次ガスノズルによって周期的に偏向
させられて基板を走査する。
題であった。従来、種々の解決策が提案されてきた。例
えば、イギリス国特許第1455862号明細書に記載されて
いる発明においては、１次ガスノズルによって微粒子化
された噴霧液が、２次ガスノズルによって周期的に偏向
させられて基板を走査する。
然しながら、この従来技術は、散布効率の点で改良の余
地がある。
地がある。
発明が解決しようとする課題は、従来、基板に液体を効
率よく散布することが出来なかった点である。
率よく散布することが出来なかった点である。
発明が解決しようとする別の課題は、以下逐次明らかに
される。
される。
課題を解決するための手段である本発明は、 基板に液体を散布する方法であって； 所定の位置に基板を設置すること； 基板に散布させようとする液体を所定の落下手段を備
えた容器に収容すること； 樋形状のガス流からなるシュートを斜め下方に射出す
ること； 前記液体を、前記落下手段を介して、前記シュートに
向けて落下させること； 基板に向けて垂直に連続的にガスナイフを射出するこ
と； 前記液体流と、前記ガスナイフを接触させて、液体流
を１次偏向させること； 前記ガスナイフの射出位置より下方の位置から、複数
のガスナイフを、交互に、斜め下方に射出させ、前記シ
ュートの中心線上の点で直角に交差させ、下方に設置さ
れている基板に対して垂直、或いはほぼ垂直な面を形成
させ、その交差点で80度以下の角度で拡散させ、同時に
前記１次偏向させた液体流を更に２次偏向させて、基板
に散布することを特徴とする基板に液体を散布する方法
である。
えた容器に収容すること； 樋形状のガス流からなるシュートを斜め下方に射出す
ること； 前記液体を、前記落下手段を介して、前記シュートに
向けて落下させること； 基板に向けて垂直に連続的にガスナイフを射出するこ
と； 前記液体流と、前記ガスナイフを接触させて、液体流
を１次偏向させること； 前記ガスナイフの射出位置より下方の位置から、複数
のガスナイフを、交互に、斜め下方に射出させ、前記シ
ュートの中心線上の点で直角に交差させ、下方に設置さ
れている基板に対して垂直、或いはほぼ垂直な面を形成
させ、その交差点で80度以下の角度で拡散させ、同時に
前記１次偏向させた液体流を更に２次偏向させて、基板
に散布することを特徴とする基板に液体を散布する方法
である。
さらに、前記課題を解決する手段である本発明は、 所定の位置に設置された基板、 基板に散布する液体を落下させる手段を備えた液体収
容容器、 前記液体収容容器から落下させられた液体と接触す
る、断面が樋形状のガス流シュートを形成させる手段、 基板に向けて垂直にガスナイフを射出する手段、 基板に向けて垂直ガスナイフを射出する手段より下の
位置に設置されていて、前記基板に向けて垂直に射出さ
れたガスナイフと接触し、且つ前記シュート中心線上で
垂直に交差し、その交差点で80度以下の角度で基板に対
して拡散するガスナイフを斜め下方に交互に射出する複
数個の手段とから構成される基板に液体を散布するため
の装置である。
容容器、 前記液体収容容器から落下させられた液体と接触す
る、断面が樋形状のガス流シュートを形成させる手段、 基板に向けて垂直にガスナイフを射出する手段、 基板に向けて垂直ガスナイフを射出する手段より下の
位置に設置されていて、前記基板に向けて垂直に射出さ
れたガスナイフと接触し、且つ前記シュート中心線上で
垂直に交差し、その交差点で80度以下の角度で基板に対
して拡散するガスナイフを斜め下方に交互に射出する複
数個の手段とから構成される基板に液体を散布するため
の装置である。
本発明において、液体の落下は、ノズル、または１つ、
若しくは２つの電極でアークを飛ばすことによって行な
われる。
若しくは２つの電極でアークを飛ばすことによって行な
われる。
本発明において、シュートは、一連の密集ガスジェット
からなり、断面がＶ字樋形状で、垂直に対し15度乃至30
度で、下方に向け、基板に向けて垂直に連続的に射出さ
れたガスナイフと、交互に斜め下方に射出された複数の
ガスナイフとが形成する垂直、或いはほぼ垂直な面にお
ける一点に集められるのがよい。また、基板に散布しよ
うとする液体は、シュートの中心線上に落下させるのが
よい。
からなり、断面がＶ字樋形状で、垂直に対し15度乃至30
度で、下方に向け、基板に向けて垂直に連続的に射出さ
れたガスナイフと、交互に斜め下方に射出された複数の
ガスナイフとが形成する垂直、或いはほぼ垂直な面にお
ける一点に集められるのがよい。また、基板に散布しよ
うとする液体は、シュートの中心線上に落下させるのが
よい。
本発明において、シュート内のガス流量は、ガスナイフ
の流量弐1/3乃至1/2の間であるが、その最小割合は、液
体の沈着が均一且つ微細になるように決定される。ガス
の量比をわずかに変化させることにより、均一で平滑な
沈着が歪むのを調整することができる。全ガス流量は、
液体流の分散に関する公知の関係式によって算出され
る。
の流量弐1/3乃至1/2の間であるが、その最小割合は、液
体の沈着が均一且つ微細になるように決定される。ガス
の量比をわずかに変化させることにより、均一で平滑な
沈着が歪むのを調整することができる。全ガス流量は、
液体流の分散に関する公知の関係式によって算出され
る。
本発明において、複数のガスナイフは、一方が射出され
ている時は、他方を停止させ、他方が射出されている時
は、一方を停止させて、交互に射出される少なくとも２
つのガスナイフである。
ている時は、他方を停止させ、他方が射出されている時
は、一方を停止させて、交互に射出される少なくとも２
つのガスナイフである。
本発明において、基板に向けて垂直に連続的に射出され
たガスナイフと、交互に斜め下方に射出された複数のガ
スナイフが垂直、或いはほぼ垂直な面を形成する。
たガスナイフと、交互に斜め下方に射出された複数のガ
スナイフが垂直、或いはほぼ垂直な面を形成する。
本発明において、液体は、基板に向けて垂直に連続的に
射出されるガスナイフ、及びガスナイフの射出位置より
下方の位置から、交互に、斜め下方に射出される複数の
ガスナイフと接触される。
射出されるガスナイフ、及びガスナイフの射出位置より
下方の位置から、交互に、斜め下方に射出される複数の
ガスナイフと接触される。
本発明において、基板は、基板に向けて垂直に連続的に
射出されたガスナイフと、交互に斜め下方に射出された
複数のガスナイフとが形成する垂直、或いはほぼ垂直の
面と交差して移動させることが好ましい。
射出されたガスナイフと、交互に斜め下方に射出された
複数のガスナイフとが形成する垂直、或いはほぼ垂直の
面と交差して移動させることが好ましい。
本発明において、落下させられる液体の垂直軸の周り
に、シュート、及びガスナイフ、特に一つのガスナイフ
のみを動かすことが好ましい。
に、シュート、及びガスナイフ、特に一つのガスナイフ
のみを動かすことが好ましい。
本発明において、基板に向けて垂直にガスナイフを射出
する手段は、固定された垂直ノズルブロックが好まし
い。
する手段は、固定された垂直ノズルブロックが好まし
い。
本発明において、基板に向けて垂直にガスナイフを射出
する手段より下の位置に設置されていて、前記基板に向
けて垂直に射出されたガスナイフと接触し、且つ前記シ
ュートの中心線上で垂直に交差し、その交差点で80度以
下の角度で基板に対して拡散するガスナイフを斜め下方
に交互に射出する複数個の手段は、射出角度を変えるこ
とが可能な傾斜ノズルブロックである。
する手段より下の位置に設置されていて、前記基板に向
けて垂直に射出されたガスナイフと接触し、且つ前記シ
ュートの中心線上で垂直に交差し、その交差点で80度以
下の角度で基板に対して拡散するガスナイフを斜め下方
に交互に射出する複数個の手段は、射出角度を変えるこ
とが可能な傾斜ノズルブロックである。
以下、実施例を掲げて本発明を具体的に説明する； 第１図は従来の散布方法を示す図であり、それにおい
て、及び第２図において、基板（３）に散布される溶融
亜鉛アルミニウム合金を、シリコーン窒化物製の直径3m
mの垂直、下向きのノズル（１）から、4kg/分の速度で
液体流（２）として落下させた。
て、及び第２図において、基板（３）に散布される溶融
亜鉛アルミニウム合金を、シリコーン窒化物製の直径3m
mの垂直、下向きのノズル（１）から、4kg/分の速度で
液体流（２）として落下させた。
断面がＶ字形状のガス流が、インゼクターノズルブロッ
ク（図示されていない）から、斜め下方に射出され、垂
直に対して25度を向くシュート（10）が形成される。Ｖ
字形の角度は、90度、各アームの高さは、それぞれ15mm
である。シュート（10）を形成するガス流は、Ｘ点に集
められる。液体流（２）は、僅かなずれがあっても大き
な影響を受けるので、シュート（10）の頂角部に落下し
て、偏向され、且つ僅かに破壊される。液体流（２）の
液体粒子は、シュート（10）を形成しているガス流の頂
部に乗り、そして加速されて、シュート（10）の幾分上
方に跳躍しようとする。この段階を液体の１次偏向段階
という。
ク（図示されていない）から、斜め下方に射出され、垂
直に対して25度を向くシュート（10）が形成される。Ｖ
字形の角度は、90度、各アームの高さは、それぞれ15mm
である。シュート（10）を形成するガス流は、Ｘ点に集
められる。液体流（２）は、僅かなずれがあっても大き
な影響を受けるので、シュート（10）の頂角部に落下し
て、偏向され、且つ僅かに破壊される。液体流（２）の
液体粒子は、シュート（10）を形成しているガス流の頂
部に乗り、そして加速されて、シュート（10）の幾分上
方に跳躍しようとする。この段階を液体の１次偏向段階
という。
全ガス消費量は、ガス対溶融金属の比で、１対３であ
る。ガスは、シュート（10）用として１部、固定垂直ノ
ズルブロック（20）用として２部使用した。
る。ガスは、シュート（10）用として１部、固定垂直ノ
ズルブロック（20）用として２部使用した。
第１図において、固定垂直ノズルブロック（20）は、垂
直方向下方に向くように固定されていて、点Ｘを含む面
で垂直下方に向くガスナイフを射出している。このガス
ナイフは、シュート（10）の水平成分と直交し、かつす
でに一度偏向させられた液体流（２）を、下方へ偏向さ
せるのに十分の幅を有している。
直方向下方に向くように固定されていて、点Ｘを含む面
で垂直下方に向くガスナイフを射出している。このガス
ナイフは、シュート（10）の水平成分と直交し、かつす
でに一度偏向させられた液体流（２）を、下方へ偏向さ
せるのに十分の幅を有している。
基板（３）を、この垂直面に交差して水平に2m/分で移
動させて液体を基板（３）面に散布した。
動させて液体を基板（３）面に散布した。
上述した散布方法は、目的によって、散布面の均一性が
十分ではないので、第２図に示す本願発明の方法が考え
られたのである。
十分ではないので、第２図に示す本願発明の方法が考え
られたのである。
第２図において、第１図に示した固定垂直ノズルブロッ
ク（20）他に、２つの傾斜ノズルブロック（12,13）
が、固定垂直ノズル（20）より下の位置に、シュート
（10）に対して左右対称に設置されている。傾斜ノズル
ブロック（12,13）は、一方がガスナイフを射出してい
る時は、他方を停止させ、他方がガスナイフを射出して
いる時は、一方を停止させて、交互に作動させる。この
ように作動させることによって、傾斜ノズルブロック
（12,13）は、液体流（２）と交差する垂直のガスナイ
フを形成する。いずれの場合にも、このガスナイフは、
各ノズルブロックの垂直面内で、垂直に対して36度の角
度で斜め下方に射出される。
ク（20）他に、２つの傾斜ノズルブロック（12,13）
が、固定垂直ノズル（20）より下の位置に、シュート
（10）に対して左右対称に設置されている。傾斜ノズル
ブロック（12,13）は、一方がガスナイフを射出してい
る時は、他方を停止させ、他方がガスナイフを射出して
いる時は、一方を停止させて、交互に作動させる。この
ように作動させることによって、傾斜ノズルブロック
（12,13）は、液体流（２）と交差する垂直のガスナイ
フを形成する。いずれの場合にも、このガスナイフは、
各ノズルブロックの垂直面内で、垂直に対して36度の角
度で斜め下方に射出される。
シュート（10）は、ガスナイフの傾斜している垂直面に
液体粒子を噴射して分散させるインジェクターと見做す
ことができる。シュート（10）が会合する点Ｘは、この
垂直面内にある。
液体粒子を噴射して分散させるインジェクターと見做す
ことができる。シュート（10）が会合する点Ｘは、この
垂直面内にある。
傾斜ノズルブロック（12,13）を、上述したように作動
させることによって、固定垂直ノズルブロック（20）か
ら射出されたガスナイフによって１次偏向された液体流
（２）が、傾斜ノズルブロック（12,13）が交互の射出
するガスナイフが形成する垂直面内に入った時、70度の
角度で離れている２つのガス流に偏向される。この偏向
段階を、２次偏向段階という。
させることによって、固定垂直ノズルブロック（20）か
ら射出されたガスナイフによって１次偏向された液体流
（２）が、傾斜ノズルブロック（12,13）が交互の射出
するガスナイフが形成する垂直面内に入った時、70度の
角度で離れている２つのガス流に偏向される。この偏向
段階を、２次偏向段階という。
傾斜ノズルブロック（12,13）は、両ガスナイフが構成
する概念上の垂直菱形が、この菱形の底部に近い点Ｘ、
即ちシュート（10）の頂点と交差する点を含む大きさを
有し、かつそのような方向を向いている。点Ｘは、前記
菱形の垂直軸の下端から1/4の位置にあるのが好まし
い。１次偏向された液体流（２）は、通常、菱形の上半
分に向う。幅1/2mの基板（３）は、菱形の下方約1/2m
で、この垂直面と交差させて移動させる。
する概念上の垂直菱形が、この菱形の底部に近い点Ｘ、
即ちシュート（10）の頂点と交差する点を含む大きさを
有し、かつそのような方向を向いている。点Ｘは、前記
菱形の垂直軸の下端から1/4の位置にあるのが好まし
い。１次偏向された液体流（２）は、通常、菱形の上半
分に向う。幅1/2mの基板（３）は、菱形の下方約1/2m
で、この垂直面と交差させて移動させる。
実施例において、傾斜ノズルブロック（12,13）のガス
ナイフの幅を20mm、概念上の菱形の高さを、おおよそ6c
m、傾斜ノズルブロック（12,13）用として２部のガス
量、及び傾斜ノズルブロック（12,13）に対するガス流
を、10Hzで交互に変換させた以外には参考と同じ実施条
件で実施した。
ナイフの幅を20mm、概念上の菱形の高さを、おおよそ6c
m、傾斜ノズルブロック（12,13）用として２部のガス
量、及び傾斜ノズルブロック（12,13）に対するガス流
を、10Hzで交互に変換させた以外には参考と同じ実施条
件で実施した。
第１図は、従来の散布方法を示す参考図である。 第２図は、本発明の実施例を示す概念図である。 （１）ノズル、（２）液体流 （３）基板、（10）シュート （12）（13）傾斜ノズルブロック、（20）固定垂直ノズ
ルブロック
ルブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−39364（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−95004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−211004（ＪＰ，Ａ) 実公 昭50−38804（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (17)
- 【請求項１】基板に液体を散布する方法であって； 所定の位置に基板を設置すること； 基板に散布させようとする液体を所定の落下手段を備
えた容器に収容すること； 樋形状のガス流からなるシュートを斜め下方に射出す
ること； 前記液体を、前記落下手段を介して、前記シュートに
向けて落下させること； 基板に向けて垂直に連続的にガスナイフを射出するこ
と； 前記液体流と、前記ガスナイフを接触させて、液体流
を１次偏向させること； 前記ガスナイフの射出位置より下方の位置から、複数
のガスナイフを、交互に、斜め下方に射出させ、前記シ
ュートの中心線上の点で直角に交差させ、下方に設置さ
れている基板に対して垂直、或いはほぼ垂直な面を形成
させ、その交差点で80度以下の角度で拡散させ、同時に
前記１次偏向させた液体流を更に２次偏向させて、基板
に散布すること； を特徴とする基板に液体を散布する方法。 - 【請求項２】液体の落下を、ノズル、或いは１つ、若し
くは２つの電極でアークを飛ばすことによって行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の基板
に液体を散布する方法。 - 【請求項３】シュートが、Ｖ字樋形状ガスであることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の基板に液
体を散布する方法。 - 【請求項４】シュートが、垂直に対し15度乃至30度で、
下方を向いていることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項乃至第（３）項に記載の基板に液体を散布する
方法。 - 【請求項５】複数のガスナイフが、一方が射出されてい
る時は、他方を停止させ、他方が射出されている時は、
一方を停止させて、交互に射出される２つのガスナイフ
であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記
載の基板に液体を散布する方法。 - 【請求項６】垂直、或いはほぼ垂直な面が、基板に向け
て垂直に連続的に射出されるガスナイフを含むことを特
徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の基板に液体
を散布する方法。 - 【請求項７】液体が、基板に向けて垂直に連続的に射出
されるガスナイフ、及び前記ガスナイフの射出位置より
下方の位置から、交互に、斜め下方に射出される複数の
ガスナイフと接触することを特徴とする特許請求の範囲
第（１）項に記載の基板に液体を散布する方法。 - 【請求項８】基板が、前記面と交差して移動することを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項乃至第（７）項の
いずれかに記載の基板に液体を散布する方法。 - 【請求項９】シュートが、一連の密集ガスジェットから
なることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項乃至第
（８）項のいずれかに記載の基板に液体を散布する方
法。 - 【請求項１０】シュートが、前記面における一点に集め
られることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項乃至
第（９）のいずれかに記載の基板に液体を散布する方
法。 - 【請求項１１】液体が、シュートの中心線に落下させら
れることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項乃至第
（10）項のいずれかに記載の基板に液体を散布する方
法。 - 【請求項１２】シュートのガス流が、ガスナイフの流量
の1/3乃至1/2の間であることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項乃至第（11）項のいずれかに記載の基板に
液体を散布する方法。 - 【請求項１３】落下させられる液体の垂直軸の周りに、
シュート、及びガスナイフを動かすことを特徴とする特
許請求の範囲第（１）項乃至第（12）項のいずれかに記
載の基板に液体を散布する方法。 - 【請求項１４】所定の位置に設置された基板； 基板に散布する液体を落下させる手段を備えた液体収
容容器； 前記液体収容容器から落下させられた液体と接触す
る、断面が樋形状のガス流シュートを形成させる手段； 基板に向けて垂直にガスナイフを射出する手段； 基板に向けて垂直にガスナイフを射出する手段より下
の位置に設置されていて、前記基板に向けて垂直に射出
されたガスナイフと接触し、且つ前記シュートの中心線
上で垂直に交差し、その交差点で80度以下の角度で基板
に対して拡散するガスナイフを斜め下方に交互に射出す
る複数個の手段； とから構成される基板に液体を散布するための装置。 - 【請求項１５】シュートが、垂直に対して15度乃至30度
で下方に向いていることを特徴とする特許請求の範囲第
（14）項に記載の基板に液体を散布するための装置。 - 【請求項１６】シュートを形成する手段が、ガスナイフ
を含む面で一点に集められたガスジェットを備えている
ことを特徴とする特許請求の範囲第（14）項または第
（15）項に記載の基板に液体を散布するための装置。 - 【請求項１７】ガスナイフと交差する方向に基板を移動
させる手段をさらに備えていることを特徴とする特許請
求の範囲第（14）項または第（16）項に記載の基板に液
体を散布するための装置。
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|---|---|---|---|
| GB8504047 | 1985-02-18 | ||
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| GB8512502 | 1985-05-17 |
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|---|---|
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| JP (1) | JPH0741197B2 (ja) |
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- 1986-02-18 JP JP61033697A patent/JPH0741197B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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