JPH0741308A - 過酸化水素水溶液の精製方法 - Google Patents
過酸化水素水溶液の精製方法Info
- Publication number
- JPH0741308A JPH0741308A JP6105586A JP10558694A JPH0741308A JP H0741308 A JPH0741308 A JP H0741308A JP 6105586 A JP6105586 A JP 6105586A JP 10558694 A JP10558694 A JP 10558694A JP H0741308 A JPH0741308 A JP H0741308A
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- Japan
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- hydrogen peroxide
- boron
- peroxide solution
- ppb
- resin
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ホウ素系不純物をホウ素原子の重量濃度で100p
pb以下含有する過酸化水素水溶液をＮ−メチルグルカミ
ン型キレート樹脂を充填した塔に通液する。 【効果】イオン交換樹脂等による精製では完全な除去が
難しい、過酸化水素水溶液中のホウ素系の不純物を0.1p
pb以下まで除去することが出来る。
pb以下含有する過酸化水素水溶液をＮ−メチルグルカミ
ン型キレート樹脂を充填した塔に通液する。 【効果】イオン交換樹脂等による精製では完全な除去が
難しい、過酸化水素水溶液中のホウ素系の不純物を0.1p
pb以下まで除去することが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は過酸化水素水溶液中に微
量に存在するホウ素系不純物を除去する方法に関する。
本発明により高純度に精製された過酸化水素水溶液は、
特にシリコンウエハー等の洗浄に好適に用いられる。
量に存在するホウ素系不純物を除去する方法に関する。
本発明により高純度に精製された過酸化水素水溶液は、
特にシリコンウエハー等の洗浄に好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウエハーの洗浄には塩基性もし
くは酸性の過酸化水素水溶液が広く使用されているが、
当然のことながらこの用途での過酸化水素水溶液には極
めて高純度のものを使用する必要があり、過酸化水素水
溶液中の不純物濃度としては1ppb以下が要求される。最
近の集積回路の高密度化に伴い、さらに高い精製度が要
求されつつある。一般にイオン性不純物の除去にはイオ
ン交換樹脂による処理が特公平３５−１６６７７号公
報、特開平１−１５３５０９号公報などに知られてい
る。また、有機不純物の除去にハロゲン含有多孔性樹脂
による処理が特開昭６３−１５６００４号公報に知られ
ている。しかしながら、これらの方法ではホウ素を完全
に除去することが極めて困難である。
くは酸性の過酸化水素水溶液が広く使用されているが、
当然のことながらこの用途での過酸化水素水溶液には極
めて高純度のものを使用する必要があり、過酸化水素水
溶液中の不純物濃度としては1ppb以下が要求される。最
近の集積回路の高密度化に伴い、さらに高い精製度が要
求されつつある。一般にイオン性不純物の除去にはイオ
ン交換樹脂による処理が特公平３５−１６６７７号公
報、特開平１−１５３５０９号公報などに知られてい
る。また、有機不純物の除去にハロゲン含有多孔性樹脂
による処理が特開昭６３−１５６００４号公報に知られ
ている。しかしながら、これらの方法ではホウ素を完全
に除去することが極めて困難である。
【０００３】一般に高濃度のホウ素系不純物はアニオン
交換樹脂で処理することによってもある程度除去できる
が、この方法では濃度が100ppb以下のホウ素系不純物を
高い効率でさらに低濃度にまで除去することは困難であ
る。ホウ素系不純物もまた、シリコンウエハーに付着す
るとシリコンウエハーから製造した半導体の電気特性に
影響するため、従来以上の精製技術が望まれている。
交換樹脂で処理することによってもある程度除去できる
が、この方法では濃度が100ppb以下のホウ素系不純物を
高い効率でさらに低濃度にまで除去することは困難であ
る。ホウ素系不純物もまた、シリコンウエハーに付着す
るとシリコンウエハーから製造した半導体の電気特性に
影響するため、従来以上の精製技術が望まれている。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は過酸
化水素水溶液の精製における上記の問題点を解決し、イ
オン交換樹脂のみでは精製効率の低いホウ素系不純物を
高い効率で低濃度にまで除去できる実用的な精製技術を
提供することである。
化水素水溶液の精製における上記の問題点を解決し、イ
オン交換樹脂のみでは精製効率の低いホウ素系不純物を
高い効率で低濃度にまで除去できる実用的な精製技術を
提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成すべく鋭意検討を行った結果、過酸化水素水溶液
をＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂に接触させるこ
とにより、イオン交換樹脂のみでは除去効率の低いホウ
素系不純物を効率良く除去出来ることを見い出し本発明
を完成するに至った。
を達成すべく鋭意検討を行った結果、過酸化水素水溶液
をＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂に接触させるこ
とにより、イオン交換樹脂のみでは除去効率の低いホウ
素系不純物を効率良く除去出来ることを見い出し本発明
を完成するに至った。
【０００６】本発明で使用するＮ−メチルグルカミン型
キレート樹脂は、化１で表される基をキレート性官能基
として有する樹脂である。
キレート樹脂は、化１で表される基をキレート性官能基
として有する樹脂である。
【化１】 -CH2N(CH3)CH2(CHOH)nCH2OH （ここで、ｎは０〜８、好ましくは３〜５の整数であ
る。）
る。）
【０００７】本発明で使用する原料過酸化水素水溶液に
制限はないが、好ましくはホウ素系不純物濃度が100ppb
（ホウ素原子の重量濃度、以下同様）以下の過酸化水素
水溶液である。本発明で使用する原料過酸化水素水溶液
の濃度に特に制限はないが、通常は１〜７０％、好まし
くは１〜４０重量％の濃度の過酸化水素水溶液が使用さ
れる。
制限はないが、好ましくはホウ素系不純物濃度が100ppb
（ホウ素原子の重量濃度、以下同様）以下の過酸化水素
水溶液である。本発明で使用する原料過酸化水素水溶液
の濃度に特に制限はないが、通常は１〜７０％、好まし
くは１〜４０重量％の濃度の過酸化水素水溶液が使用さ
れる。
【０００８】本発明では、濃度が100ppb以上のホウ素系
不純物を含有する過酸化水素水溶液は予め、アニオン交
換樹脂処理等によりホウ素系不純物の濃度を100ppb以下
にした後、Ｎ−メチルグルカミン型キレート樹脂に接触
させることがＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂の活
性を長時間維持する上で好ましい。勿論、本発明におい
ては濃度が100ppb以上のホウ素系不純物を含有する過酸
化水素水溶液を直接Ｎ−メチルグルカミン型キレート樹
脂に接触させてホウ素系不純物を1ppb以下、好ましくは
0.1ppb以下の濃度にまで除去しても差し支えない。
不純物を含有する過酸化水素水溶液は予め、アニオン交
換樹脂処理等によりホウ素系不純物の濃度を100ppb以下
にした後、Ｎ−メチルグルカミン型キレート樹脂に接触
させることがＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂の活
性を長時間維持する上で好ましい。勿論、本発明におい
ては濃度が100ppb以上のホウ素系不純物を含有する過酸
化水素水溶液を直接Ｎ−メチルグルカミン型キレート樹
脂に接触させてホウ素系不純物を1ppb以下、好ましくは
0.1ppb以下の濃度にまで除去しても差し支えない。
【０００９】本発明で使用する原料過酸化水素水溶液と
して、添加剤を含まない過酸化水素水溶液の他、硫酸、
塩酸または硝酸などの非リン系酸性化合物またはその塩
を含む過酸化水素水溶液、エチレンジアミン四酢酸また
はその塩などの過酸化水素の安定剤を含む過酸化水素水
溶液を使用することもできる。
して、添加剤を含まない過酸化水素水溶液の他、硫酸、
塩酸または硝酸などの非リン系酸性化合物またはその塩
を含む過酸化水素水溶液、エチレンジアミン四酢酸また
はその塩などの過酸化水素の安定剤を含む過酸化水素水
溶液を使用することもできる。
【００１０】本発明を実施する温度には制限は無いが、
樹脂の劣化を抑制し樹脂の寿命を長くするため２５℃以
下の低温にするのが好ましく、−１５〜１５℃で行なう
のがより好ましい。本発明の実施はバッチ法およびカラ
ム法のいずれの方法によっても行い得るが、精製効率の
面からはＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂を充填し
た塔に通液するカラム法が好ましい。カラム法で精製す
る場合、送液方法は上昇流でも下降流でも良い。
樹脂の劣化を抑制し樹脂の寿命を長くするため２５℃以
下の低温にするのが好ましく、−１５〜１５℃で行なう
のがより好ましい。本発明の実施はバッチ法およびカラ
ム法のいずれの方法によっても行い得るが、精製効率の
面からはＮ−メチルグルカミン型キレート樹脂を充填し
た塔に通液するカラム法が好ましい。カラム法で精製す
る場合、送液方法は上昇流でも下降流でも良い。
【００１１】
【実施例】次に実施例により本発明を説明する。なお、
ホウ素系不純物含有量はＩＣＰ−ＭＳ（Inductively co
upled plasma - Mass spectrometry）法により定量し、
ホウ素原子の重量濃度で表した。
ホウ素系不純物含有量はＩＣＰ−ＭＳ（Inductively co
upled plasma - Mass spectrometry）法により定量し、
ホウ素原子の重量濃度で表した。
【００１２】実施例１ ホウ素系不純物２ｐｐｂを含む３１ｗｔ％の過酸化水素
水溶液原液１リットルを、-CH2N(CH3)CH2(CHOH)4CH2OH
基を有するＮ−メチルグルカミン型のキレート樹脂（Ｈ
型、三菱化成（株）製、商品名ダイヤイオンＣＲＢ−０
２）２０ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍの
テフロン製カラムに空間速度１０(1/hr)の流速で通液し
精製した。カラム温度は５℃とした。精製後の過酸化水
素水溶液のホウ素含有量は定量下限の０．１ｐｐｂ以下
であった。
水溶液原液１リットルを、-CH2N(CH3)CH2(CHOH)4CH2OH
基を有するＮ−メチルグルカミン型のキレート樹脂（Ｈ
型、三菱化成（株）製、商品名ダイヤイオンＣＲＢ−０
２）２０ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍの
テフロン製カラムに空間速度１０(1/hr)の流速で通液し
精製した。カラム温度は５℃とした。精製後の過酸化水
素水溶液のホウ素含有量は定量下限の０．１ｐｐｂ以下
であった。
【００１３】比較例１ ホウ素系不純物２ｐｐｂを含む３１ｗｔ％の過酸化水素
水溶液原液１リットルを、カチオン交換樹脂（Ｈ型、オ
ルガノ（株）製、商品名アンバーライトＩＲ−１２０
Ｂ）２０ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍの
テフロン製カラムに空間速度１０(1/hr)の流速で通液
し、次いで、アニオン交換樹脂（重炭酸塩型、オルガノ
（株）製、商品名アンバーライトＩＲＡ−４００）２０
ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍのテフロン
カラムに空間速度１０(1/hr)で通液し、精製した。カラ
ム温度は両カラム共、５℃とした。精製後の過酸化水素
水溶液のホウ素含有量は１．５ｐｐｂであった。
水溶液原液１リットルを、カチオン交換樹脂（Ｈ型、オ
ルガノ（株）製、商品名アンバーライトＩＲ−１２０
Ｂ）２０ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍの
テフロン製カラムに空間速度１０(1/hr)の流速で通液
し、次いで、アニオン交換樹脂（重炭酸塩型、オルガノ
（株）製、商品名アンバーライトＩＲＡ−４００）２０
ｍｌを充填した内径１５ｍｍ、長さ３０ｃｍのテフロン
カラムに空間速度１０(1/hr)で通液し、精製した。カラ
ム温度は両カラム共、５℃とした。精製後の過酸化水素
水溶液のホウ素含有量は１．５ｐｐｂであった。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、特にイオン交換樹脂処
理のみでは除去効率の悪い過酸化水素水溶液中のホウ素
系不純物を0.1ppb以下の極めて低い濃度にまで除去する
ことが出来る。本発明により得られた高純度の過酸化水
素水溶液はシリコンウエハーの洗浄等に好適に使用し得
るものである。
理のみでは除去効率の悪い過酸化水素水溶液中のホウ素
系不純物を0.1ppb以下の極めて低い濃度にまで除去する
ことが出来る。本発明により得られた高純度の過酸化水
素水溶液はシリコンウエハーの洗浄等に好適に使用し得
るものである。
Claims (2)
- 【請求項１】 過酸化水素水溶液を、Ｎ−メチルグルカ
ミン型キレート樹脂と接触させることを特徴とする過酸
化水素水溶液の精製方法。 - 【請求項２】 ホウ素系不純物をホウ素原子の重量濃度
で100ppb以下含有する過酸化水素水溶液を、Ｎ−メチル
グルカミン型キレート樹脂を充填した塔に通液すること
を特徴とする請求項１記載の過酸化水素水溶液の精製方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6105586A JPH0741308A (ja) | 1993-05-28 | 1994-05-19 | 過酸化水素水溶液の精製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-127310 | 1993-05-28 | ||
| JP12731093 | 1993-05-28 | ||
| JP6105586A JPH0741308A (ja) | 1993-05-28 | 1994-05-19 | 過酸化水素水溶液の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0741308A true JPH0741308A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=26445844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6105586A Pending JPH0741308A (ja) | 1993-05-28 | 1994-05-19 | 過酸化水素水溶液の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741308A (ja) |
-
1994
- 1994-05-19 JP JP6105586A patent/JPH0741308A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |