JPH0742488Y2 - 移動床型脱じん・反応装置 - Google Patents

移動床型脱じん・反応装置

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JPH0742488Y2
JPH0742488Y2 JP1989058707U JP5870789U JPH0742488Y2 JP H0742488 Y2 JPH0742488 Y2 JP H0742488Y2 JP 1989058707 U JP1989058707 U JP 1989058707U JP 5870789 U JP5870789 U JP 5870789U JP H0742488 Y2 JPH0742488 Y2 JP H0742488Y2
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    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/60Simultaneously removing sulfur oxides and nitrogen oxides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/08Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
    • B01J8/12Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10KPURIFYING OR MODIFYING THE CHEMICAL COMPOSITION OF COMBUSTIBLE GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE
    • C10K1/00Purifying combustible gases containing carbon monoxide
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本願考案は、石炭ガス化ガス、高圧循環流動層ボイラの
排ガス等の脱じん・脱硫・脱硝等を行う設備の構造に関
するものである。
[従来の技術] 第8図は従来技術の例で、実開昭60−24326号公報に記
載された乾式排煙脱硫設備の除じん装置の断面立面図で
ある。第8図において、51はケーシング、52は排ガス入
口、53は清浄ガス出口、54は活性炭投入口、55は活性炭
排出口、56はグラニュラベッド材投入口、57は粉粒体排
出口、58,59はルーバー、60,61はスクリーン、52は脱硫
域、63は除じん域である。
排ガス入口52から送入された二酸化硫黄等のガスを含ん
だ含じん排ガスは、ケーシング51内にて拡散してルーバ
ー58を通じて脱硫域62に入る。
脱硫域62は排ガスの流入側にルーバー58を張設し、排ガ
スの流出側にスクリーン60を張設し、排ガス流に平行な
両側面はケーシング51によって閉鎖されている。更に脱
硫域62の上部と下部にはそれぞれ活性炭投入口54及び活
性炭排出口55が形設されており、脱硫域62内は、常時活
性炭投入口54から投入された活性炭が充填されている、
ルーバー58を通じて脱硫域62内に流入した排ガスは比較
的大きな活性炭粒子間の間隙を通過する間にガスと活性
炭との接触によってガス中の硫黄生成物が吸着されると
ともに排ガス中のダストの内比較的粒子径の大きいもの
を捕捉された状態でスクリーン60から流出する。
ケーシング51内の脱硫域62の排ガス流路の下流側にはほ
ぼ脱硫域62と同様の構造を有し、活性炭よりも小さい粒
子径を有するグラニュラベッド材を充填した除じん域63
が配設されている。脱硫域62を流出した排ガスは除じん
域63のルーバー59を通じてグラニュラベッド材中を通過
し、排ガス中の微細なダストを捕集された後スクリーン
61を通じて清浄ガス出口53からケーシング51の外部に排
出される。
除じん域63の上下にはそれぞれグラニュラベッド材投入
口56と粉粒体排出口57が形設されており、捕捉した排ガ
ス中のダストを始め飛来した活性炭の微細片と共にグラ
ニュラベッド材は下部の粉粒体排出口57から連続的に排
出され、それと同時に上部のグラニュラベッド材投入口
56からは清浄なグラニュラベッド材が投入されて、除じ
ん域63内は常にグラニュラベッド材が充填された状態を
維持し得る。
[考案が解決しようとする課題] このように上記従来の技術においても二硫化硫黄等のガ
スとダストを含んだガス等の流体に対して一つの容器内
にて脱硫および脱じんを行わせ、清浄ガスとして排出さ
せることが可能であった。
しかしながら上記従来の技術においては、まず脱硫域62
においては、排ガス中の硫黄生成物を除去するためには
排ガスと活性炭との接触時間をある値以上に保持する必
要があり、それに伴って脱硫域62の排ガスの流れに平行
な奥行き方向に十分な厚みを持たせる必要があり、活性
炭の投入・排出速度が遅い場合には脱硫域内における除
じん率が上昇して排ガス側の圧力損失が増大し、それを
防止するために活性炭の投入・排出速度を上昇させた際
には活性炭移送のための所要動力が上昇すると言う不具
合を有していた。
また第8図における除じん域を排ガスの上流側に、脱硫
域を排ガスの下流側に配設した際には下流側の脱硫域の
排ガス側圧力損失の増加あるいは活性炭の移送所要動力
の増加等の課題は解消するが、脱硫域からの活性炭の微
細片の排ガス側への混入と、それに伴う活性炭の微細片
が排ガス中に浮遊して排出される等の現象が発生し、そ
の解決のために更に下流側に除じん層が必要になる等の
不都合を有している。
更に脱硫剤と除じんろ過剤にそれぞれ別の処理剤を使用
していたことにより、脱硫域の上部および下部、除じん
域の上部および下部にそれぞれロックホッパ等の周辺設
備が必要になり、設備費が上昇すると言う不具合を有し
ていた。
本願考案は上記不具合を解消し、簡潔な構成によって的
確な脱硫、脱硝等の反応と脱じんを行い得る装置を提供
することを目的としている。
[課題を解決するための手段] 上記の目的は、前記実用新案登録請求の範囲に記載した
移動床型脱じん・反応装置によって達成される。すなわ
ち、 1.気密構造の移動床型脱じん・反応装置の容器にあっ
て、 ガス流出口と 吸収反応剤送入口と 貯留部と 充填層と ガス流入口と 吸収反応剤の切り出し装置 とによって構成され、 容器の中間部に、上端部は貯留部下部に通じ、下端部は
切り出し装置に通じる、粒状の吸収反応剤の充填層を垂
直に配設し、 充填層の側面はガス通過性壁によって構成し、 充填層の上部に吸収反応剤の貯留部を配設し、 充填層の下部に吸収反応剤の切り出し装置を配設し、 貯留部の上部にガス流出口および吸収反応剤送入口を形
成し、 充填層の上部分側方部にガス流入口を形成し、 充填層の水平断面積は貯留部の水平断面積よりも小さい
ものであり、 吸収反応剤送入口から送入された吸収反応剤は重力によ
り降下して充填層および貯留部に充填されるものであ
り、 充填層および貯留部に充填された吸収反応剤は、切り出
し装置によって流量を制御されて重力によって降下する
ものであり、 ガス流入口から流入したガスは充填層のガス通過性壁を
通じてほぼ水平方向に流入したのち、内部の吸収反応剤
内において上向きに方向転換するものであり、 充填層の水平断面積は貯留部の水平断面積よりも小さい
ことにより、充填部を流下する吸収反応剤の速度は大き
く、貯留部を流下する吸収反応剤の速度は小さいもので
あり、 貯留部に貯留される吸収反応剤は、ガスの貯留部通過時
間がガスの反応時間よりも長くなる厚さを有する。
移動床型脱じん・反応装置。
2.充填層のガス通過性壁がルーバー構造である1.記載の
移動床型脱じん・反応装置。
である。
[作用] 第5〜7図は本願考案者等が実施した実験の装置と結果
を示すもので、第5図は該実験設備の全体フローを示す
図、第6〜7図は該実験の結果を示す図である。第5図
において、71は集じん機I塔目、72は集じん機II塔目、7
3はろ過材、74,75はろ過材供給タンク、76はろ過材排出
タンク、77はろ過材・ダスト混合物、78は含じんガス、
79は清浄ガスである。
本実験においては2基の集じん機71,72を処理対象ガス
の流れ方向に直列に連結し、各集じん機71,72は容器の
中央部のガスの流入側にルーバー、出口側に金網を張設
し、ルーバー、金網および容器側壁によって形成される
空間内にろ過材を充填してろ過層となし、ろ過層の下部
に速度可変のろ過材切り出し装置を配設し、容器の上部
にろ過材供給タンク74,75を、下部にろ過材排出タンク7
6を配設して、ろ過層内のろ過材の流下速度を高圧条件
下においても自在に変化させ得る構造にしてある。
本実験においてはガス中の含じん濃度、各集じん機71,7
2内のろ過材の流下速度をそれぞれ変化させて下記の結
果を得た。すなわち、 ガス上流側の集じん機(集じん機I塔目71)におい
ては、第6図に示すようにろ過層内のろ過材の移動速度
(m/h)と流入するダスト負荷(g/h)との比(m/g)
が、限界値以下(第6図においては約6×10-4m/g)に
なると集じん効率が急激に低下するため、ダスト負荷が
一定の場合にはろ過材の移動速度をある限界値以上に保
持する必要がある。
一方第7図に示すように、ガス下流側の集じん機
(集じん機II塔目72)においては上流側の集じん機にお
いて大部分のダストが捕集された状態のガスが流入した
場合、逆にろ過材移動速度を一定値以下に出来るだけ遅
く抑えることによって第7図に示すように、より高い集
じん効率が得られる。
この結果を要約すると、1次集じん部においては出来る
だけろ過材の速度を大きくすることによってろ過層の閉
塞とそれに付随して生じる吹き抜け部からの高濃度含じ
んガスの通過を防止し、2次集じん部においてはろ過材
の速度を出来るだけ小さくし、ろ過材中へのダストの付
着によって更にガス通過部の間隙を縮小し、より微細な
ダストの捕集を行わせることによって高い集じん効率を
得ることが可能になる。
[実施例] 第1〜2図は本願考案に基づく第1の実施例を示す図
で、第1図はガスが吸収反応剤充填層の周方向から流入
し、吸収反応剤の貯留部を通じて清浄化されたガスが容
器上部から水平方向に排出される移動床型脱じん・反応
装置の側断面図、第2図は第1図におけるa・a線矢視
断面図である。
第3図は第2の実施例を示す図で、ガスが平板状吸収反
応剤充填層の両面から流入し、吸収反応剤の貯留部を通
じて清浄化されたガスが容器頂部から排出される移動床
型脱じん・反応装置の側断面図、第4図は第3図におけ
るb・b線矢視断面図である。第1〜4図において、1
は容器、2は貯留部、3は充填層、4は切り出し装置、
5は吸収反応剤送入口、6,6′はガス流入口、7はガス
流出口、8はルーバーである。
先ず第1〜2図において、吸収反応剤を充填した円筒状
の充填層3の上部分側方部に位置する容器1にガス流入
口6を設けて流入ガスダクト部を形設し、容器1に内設
された状態の充填層3の一部周壁をルーバー8によって
構成する。各ルーバー8はガスの流入自在な間隙を有す
るとともに充填層3内の吸収反応剤がルーバー8の間隙
から外側へ流出しないよう、吸収反応剤が安息角を形成
してルーバー8上に載置される形状および寸法を有して
いる。
充填層3の上部には充填層3よりも大きい水平断面積を
有する吸収反応剤の貯留部2が形設されており、その上
部表面は容器1内に開放され、容器1の頂部に形設され
た吸収反応剤送入口5から送入された吸収反応剤が安息
角をなして常に一定のレベルを保持している。
充填層3の下端部にはロータリバルブ等の切り出し装置
4が取り付けられており、吸収反応剤の排出量を自在に
調節し得る構造になっている。
ガス流入口6から流入したガスはガスダクト部で拡散
し、円筒状のルーバー8から充填層3内に流入する。流
入したガスは充填層3のルーバー8付近の吸収反応剤中
を通過する際含有ダストの内比較的粗大なダストを捕捉
され状態で充填層3内を流下する吸収反応剤と向流をな
して上方に流れ、更に除じんされた状態で貯留部2に至
る。
貯留部2の水平断面積は充填層3の水平断面積よりも大
きいことにより、貯留部2内を流下する吸収反応剤の速
度は充填層3内を流下する吸収反応剤の速度よりも小さ
い。
充填層3を経て貯留部2に到達したガスは貯留部2内の
吸収反応剤中を低速で上方に流れ、前記作用の項で記載
した原理によって微細なダストを捕集されるとともに吸
収反応剤との反応によってガス中の硫黄酸化物あるいは
窒素酸化物等の有害成分を除去されたのち、容器1上部
に形成されたガス流出口7から排出される。
次に第3〜4図においては、容器1内に平板状の充填層
3を形設し、該充填層3の一部のガスと接する両面をル
ーバー8によって構成する。充填層3のルーバー8部下
端部には充填層3と容器1とに接する平板を気密構造に
張設し、容器1のルーバー8部の側部にはガス流入口6,
6′を形設する。
充填層3の下端部には前記第1の実施例と同様にロータ
リバルブ等の吸収反応剤の切り出し装置4が取り付けら
れており、吸収反応剤の排出量を自在に調節し得る。
容器1内の充填層3の上部にはホッパが気密構造に構設
されており、その上部は吸収反応剤の貯留部2を形成し
ている。容器1の頂部に形設された吸収反応剤送入口5
から送入された吸収反応剤は、貯留部2、ルーバー8部
を経て切り出し装置4上の充填層3内に流下し充填さ
れ、順次ルーバー8部更には上部の貯留部2内に堆積す
る。
ガス流入口6,6′から流入したガスは容器1内で拡散
し、平板状のルーバー8を通じて充填層3内に両面から
流入する。ルーバー8部は前記第1の実施例と同様ガス
の流通自在な間隙を有するとともに、吸収反応剤が溢流
して下部の平板上に落下することのないよう、ルーバー
8の間隙部において安息角を形成してルーバー8上に載
置され得る形状および寸法を有している。
充填層3内に流入したガスはルーバー8部付近の吸収反
応剤中を通過する際に比較的粗大なダストを捕集され、
流下する吸収反応剤中をダスト含有量の少ない状態で比
較的速い速度で上方に向かって流れ、貯留部2に至る。
貯留部2は充填層3よりも十分大きい水平断面積を有
し、さらに十分な厚さを保持して吸収反応剤が貯留され
ている。貯留部2に達したガスは貯留部2内の吸収反応
剤中を低速で上方向に流れ、微細なダストを捕集される
とともに吸収反応剤との反応によってガス中の硫黄酸化
物あるいは窒素酸化物等の成分を除去されて容器1頂部
に形設されたガス流出口7から排出される。
上記第1の実施例および第2の実施例は、ともにガスが
充填層3中を上方向に流れる間にも吸収反応剤と反応し
てガス中の硫黄酸化物あるいは窒素酸化物等の除去も行
われるが、ガスが充填層3内を通過する時間が短いこと
により、反応の大部分は上部の貯留部2内において行わ
れる。
[発明の効果] 本願考案は前記作用の項および上記の実施例から明らか
なように下記の効果を奏するものである。
脱じんと反応吸収とを同時に、また同一処理剤によ
って行うことにより、設備全体がコンパクトになり、操
作も簡単になる。
ガスが最終段階で、ガスの通過断面積が大きく層厚
が厚い貯留部を通過することによって、ガスの移動速度
が小さくガスと吸収反応剤との接触時間を十分長くとり
得ることにより、ガス中の硫黄酸化物や窒素酸化物等の
有害成分の反応除去が完全に行われるほか、貯留部にお
いて十分な集じんが行われることにより、捕集したダス
トの再飛散や吸収反応剤の微細片等がガス中に浮遊され
て容器外に排出されるという不具合が生じるのを防止す
ることが可能になる。
ガスの成分、ダスト含有量、流量等に応じて吸収反
応剤の移動速度を最適値に容易に調節することが可能に
なる。
高圧系で使用する際、高圧を保持した状態で吸収反
応剤の供給、排出を行い得る。
【図面の簡単な説明】
第1〜4図は本願考案に基づく実施例を示す図で、第1
図は第1の実施例の移動床型脱じん・反応装置の側断面
図、第2図は第1図におけるa・a線矢視断面図、第3
図は第2の実施例の移動床型脱じん・反応装置の側断面
図、第4図は第3図におけるb・b線矢視断面図であ
る。 第5図は本願考案におけるろ過材の速度とガス中ダスト
濃度および集じん効率との相関を確認する実験設備の全
体フローを示す図、第6〜7図はその実験結果を示す図
である。 第8図は従来技術の例である。 1……容器、2……貯留部、3……充填層、4……切り
出し装置、5……吸収反応剤送入口、6,6′……ガス流
入口、7……ガス流出口、8……ルーバー、51……ケー
シング、52……排ガス入口、53……清浄ガス出口、54…
…活性炭投入口、55……活性炭排出口、56……グラニュ
ラベッド材投入口、57……粉粒体排出口、58,59……ル
ーバー、60,61……スクリーン、62……脱硫域、63……
除じん域、71……集じん機I塔目、72……集じん機II塔
目、73……ろ過材、74,75……ろ過材供給タンク、76…
…ろ過材排出タンク、77……ろ過材・ダスト混合物、78
……含じんガス、79……清浄ガス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/56 53/60 53/74 53/81 B01J 8/12 331 B01D 53/34 129 A

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】気密構造の移動床型脱じん・反応装置の容
    器にあって、 ガス流出口と 吸収反応剤送入口と 貯留部と 充填層と ガス流入口と 吸収反応剤の切り出し装置 とによって構成され、 容器の中間部に、上端部は貯留部下部に通じ、下端部は
    切り出し装置に通じる、粒状の吸収反応剤の充填層を垂
    直に配設し、 充填層の側面はガス通過性壁によって構成し、 充填層の上部に吸収反応剤の貯留部を配設し、 充填層の下部に吸収反応剤の切り出し装置を配設し、 貯留部の上部にガス流出口および吸収反応剤送入口を形
    成し、 充填層の上部分側方部にガス流入口を形成し、 充填層の水平断面積は貯留部の水平断面積よりも小さい
    ものであり、 吸収反応剤送入口から送入された吸収反応剤は重力によ
    り降下して充填層および貯留部に充填されるものであ
    り、 充填層および貯留部に充填された吸収反応剤は、切り出
    し装置によって流量を制御されて重力によって降下する
    ものであり、 ガス流入口から流入したガスは充填層のガス通過性壁を
    通じてほぼ水平方向に流入したのち、内部の吸収反応剤
    内において上向きに方向転換するものであり、 充填層の水平断面積は貯留部の水平断面積よりも小さい
    ことにより、充填部を流下する吸収反応剤の速度は大き
    く、貯留部を流下する吸収反応剤の速度は小さいもので
    あり、 貯留部に貯留される吸収反応剤は、ガスの貯留部通過時
    間がガスの反応時間よりも長くなる厚さを有する ことを特徴とする移動床型脱じん・反応装置。
  2. 【請求項2】充填層のガス通過性壁がルーバー構造であ
    る請求項1.記載の移動床型脱じん・反応装置。
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