JPH0743892A - ペリクル - Google Patents
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Abstract
止され、ペリクル枠表面が摩擦にも十分耐え得るもので
あるペリクルの提供を目的とするものである。 【構成】 本発明のペリクルは、ペリクル枠の側面ま
たは全面に電着塗装により塗料をコーティングしてなる
ことを特徴とするものである。
Description
I、超LSIなどの半導体デバイスあるいは液晶表示板
製造時に使用される、実質的に 500nm以下の波長の光を
用いる露光方式におけるリソグラフィー用ペリクルに関
するものである。
あるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエ
ハーあるいは液晶用原板に光を照射してパターニングを
作成するのであるが、この場合に用いられる露光原版に
ゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、あ
るいは光を曲げてしまうために転写したパターニングが
変形したり、エッジががさついたものとなり、寸法、品
質ならびに外観が損なわれるという不利が生じる。その
ため、この種の作業は通常クリーンルームで行なわれる
のであるが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に
清浄に保つことが難しいので、これには露光原版の表面
にゴミよけのために露光用の光を良く通過させるペリク
ルを装着する方法が採られている。
ペリクル枠の一端面にペリクル膜を接着剤によって張設
し、ペリクル枠の他の端面に粘着層を形成し、その粘着
層を離型性を有するシート状材料(セパレーターとも称
する)で保護した構造体になっている。このペリクルを
使用する際には離型性を有するシート状材料を剥離し除
去した後、露出した粘着層をフォトマスク(レクチルと
も称する)の所定の位置に圧着することによりペリクル
を固定する。
の際に、ペリクル膜に異物のないことを確認後、これを
所定の容器に収納し、異物が混入しないように厳重に包
装、梱包を行なうのであるが、目的地に輸送後に包装、
梱包を解いてペリクルを取り出して異物の有無を確認す
ると、トラックや鉄道、飛行機による輸送時および荷物
の積みおろし時の振動や衝撃によりペリクル膜以外に潜
在していた異物がペリクル膜に付着することもある。こ
の異物についてはペリクル膜以外に異物が潜在する可能
性のある場所としてペリクル枠表面が考えられる。この
ペリクル枠の材質としてはアルミニウム合金、ステンレ
ス、ポリエチレンなどが使用されているが、1)迷光防止
のために黒色であること、2)軽量で高強度であること、
3)表面硬度が高いこと、などが不可欠とされることか
ら、これは通常アルマイト処理をした黒色アルミニウム
合金が使用されている。
ニウム合金は黒色アルマイト処理するとアルミニウム合
金の表面に形成される黒色アルマイト層が凹凸の多い、
多孔質で硬く脆い状態のものであるために、ペリクルの
製造時に加わる各種の力や振動あるいは収納ケースとペ
リクル枠との摩擦などによって、この黒色アルマイト層
の凹凸部や多孔質部内に存在していた塵埃や黒色顔料な
どが飛散したり、脆いアルマイト層の表面の破壊により
発塵するという欠点がある。そのため、このペリクル枠
については、このような不利を防止するためにペリクル
枠の内側に粘着剤層を設けるか、内側に塗料をコーティ
ングするという方法も提案されている(特公昭63-777号
公報、特開昭64-48062号公報参照)。
に粘着剤層を設けたり、塗料を塗布する方法は内側の塵
埃の固定や塵埃の発生を防止するという点では確かに効
果を与えるけれども、これだけではペリクル枠の内側以
外の部分での塵埃の個化、発塵を防止することができな
いし、事実ペリクルは通常使用前に1個毎に収納ケース
に納められるために、ペリクル枠の上下面や外側面との
摩擦などで、ペリクル枠の内側以外からの塵埃の落下や
発塵がしばしば発生する。なお、この公知の方法によっ
てペリクル枠の内側に粘着剤や塗料を塗布する方法には
これらを均一に塗布することが工業的に難しく、塗膜の
不均一による外観不良が発生してペリクル製造の歩留り
を低下させるし、粘着剤を設けるときには粘着剤がペリ
クル枠の外側にも付着してペリクルが露光原版に装置す
る際にベタついてハンドリングが難しくなるという欠点
もあり、さらに塗料を塗布する場合には塗料中の着色物
質や伝熱性あるいは導電性物質、例えば着色顔料、染
料、金属粉、カーボン粉などが振動、衝撃や摩擦などで
塗料から欠落し、これが発塵の原因になるという不利も
あるので、これらの方法を用いてもペリクル輸送後の異
物の発生を完全に防止することは困難であるし、ペリク
ル枠内側面に塗布した粘着層や塗膜層から使用中に異物
やガスが発生してトラブルを生ずる場合もある。
を防止したペリクルを開発すべく種々検討した結果、こ
れについてはペリクル枠からの発塵の大部分はペリクル
枠の内側からの発塵よりも、むしろペリクル枠の上下面
や外側面とケースとの摩擦やこれらの面からの振動によ
るアルマイト層に存在している塵埃の発散、さらには脆
い表面層の破損による発塵にあるということを見出し、
この発塵防止方法について研究を進めたところ、これに
はペリクル枠の内側ばかりではなく、その全面を平滑に
処理することが極めて有効であることを確認し、この平
滑処理方法についてはペリクル枠の表面全体を耐光性の
優れた有機ポリマーでコーティングしてペリクル枠表面
を平滑にする方法を提案した(特願平5-109952号明細書
参照)が、これには有機ポリマーのコーティング膜が柔
らかいためにこれが摩擦などで剥れ易く、キズが付き易
いという問題点のあることが判った。
利、欠点を解決したペリクルに関するものであり、これ
はペリクル枠の側面または全面に電着塗装法で塗料をコ
ーティングしてなることを特徴とするものである。
を解決したペリクルを開発すべく種々検討した結果、ペ
リクル枠の側面または全面に電着塗装法で塗料をコーテ
ィングすると、この塗膜が電着塗装法でコーティングさ
れたものであることからアルマイト層のような凹凸や多
孔質ではなく、コーティング表面は均一でなめらがあ
り、したがってペリクルの輸送や移動による発塵が完全
に防止されるし、このものは予想されるペリクル枠表面
の摩擦にも充分耐えられることを見出し、ここに使用さ
れる塗膜の種類、ペリクル枠の材質などについて研究を
進めて本発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述す
る。
したようにペリクル枠の側面または全面に電着塗装法で
塗料をコーティングしてなることを特徴とするものであ
るが、これによればペリクルの輸送や移動による発塵が
完全に防止され、ペリクル枠表面が摩擦にも充分耐えら
れるという有利性が与えられる。
ばよく、したがってこれはペリクル膜をペリクル枠に設
着剤で張設し、このペリクル枠に粘着層を設け、離型性
のシート状材料で保護したものとすればよいが、このペ
リクル膜としてはニトロセルロース、酢酸セルロースと
するほか、ポリトリメチルビニルシラン、プルラン化合
物、非晶性フッ素系重合体、シリコーン変性ポリビニル
アルコールなどからなるものとすればよいし、このペリ
クル枠はアルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレ
ン、アルマイト処理した黒色アルミニウム合金からなる
ものとすればよい。
または全面に電着塗装法で塗料をコーティングしたもの
であるが、この電着塗装法は親水性化した塗料を水系電
解槽に溶解または分散させ、被塗物としてのペリクル枠
とカーボンや金属製の対極板との間に電圧を印加し、こ
の被塗物表面に塗料を電着させる方法であり、これには
被塗物を陽極とするアニオン型電着と、被塗物を陰極と
するカチオン型電着の2つのタイプに大別されるが、こ
れには金属イオンの溶出がないために被塗物の変色が起
きないことからカチオン型電着とすることが好ましい。
℃、印加電圧を20〜200V、好ましくは浴温を20〜30℃、
印加電圧を80〜150Vとすればよいが、この電着時間は塗
膜の厚さが5μm未満ではペリクル枠表面の凹凸を完全
に平滑にすることができない恐れがあり、50μm以上と
すると塗装に長時間かかるし、ペリクル枠から塗膜が剥
離し易くなる恐れがあることから、塗膜の厚さを5〜50
μm、より好ましくは15〜30μmとなるような時間、例
えば1分〜10分とすればよい。
記した方法とされることから水溶性または親水性の樹脂
からなるものとする必要があるが、このものはこの方法
で得られる塗膜が紫外線に対する耐久性に優れており、
強度も実用レベルの性能を有するものとすることが必要
とされることから、アクリル系樹脂またはフッ素系樹脂
とすることがよい。なお、この塗料の濃度は1〜50%、
好ましくは5〜20%とすればよく、この色は乱反射の防
止ということからは黒色のものとすることがよいので、
この塗料には黒色の染料または顔料を含有させることが
よいが、この染料または顔料の添加量は塗料の固形分の
0.1〜1%程度とすればよい。
mmであるジュラルミン製(Al−7075)のものを使用する
こととし、これにポリメタアクリレート樹脂を電着塗装
した。
ックを樹脂に対して 0.5%添加したポリメタアクリレー
ト樹脂から10%濃度のエマルジョン液20リットルを調製
してこれを25リットルの塩化ビニル製電解槽に仕込み、
この電解槽に陽極としてのステンレス板と陰極としての
上記のペリクル枠を浸漬し、浴温25℃でこれに120Vの電
圧を10分間印加することによって行なったが、これによ
ればペリクル枠の表面に厚さ15μmの塗膜が形成され
た。
ニトロセルロース製のペリクル膜をエポキシ樹脂で接着
し、膜の反対面のペリクル枠端面にポリブテン系粘着剤
を 0.5mmの厚さに形成し、その粘着面をシリコーン系離
型剤を設けたセパレーターで保護してペリクルを製作
し、これをポリエチレン製の収納容器に入れて梱包し、
東京と北海道の間のトラック輸送テストを行なった。
クル上に付着した 0.3μm以上の塵埃の数をHeレーザ
ーによる異物検査機でしらべたところ、このものには輸
送テスト後もその数に何らの増加も見られなかったが、
比較のためにこのペリクル枠に上記した電着塗装による
塗装を行なわず、その内側のみに粘着剤を塗布したもの
としたところ、この輸送テストではこの塵埃の数が12個
増加していることが確認された。
に、一般式
素置換脂肪族の炭化水素基、m、n、o、p、qは正の
整数)で示されるフッ素系樹脂を用いたほかは実施例1
と同じ方法で電着塗装を行ない、このペリクル枠を用い
て実施例1と同じペリクルを製作し、このものについて
実施例1と同じ輸送テストを行なったところ、この場合
にも塵埃の数に何らの増加も見られなかった。
これは前記したようにペリクル枠の側面または全面に電
着塗装法により塗料をコーティングしてなることを特徴
とするものであるが、このように処理して得られたペリ
クルにはその輸送や移動による発塵が完全に防止され、
予想されるペリクル枠表面は摩擦にも充分耐えられると
いう有利性が与えられる。
Claims (4)
- 【請求項1】ペリクル枠の側面または全面に電着塗装法
により塗料をコーティングしてなることを特徴とするペ
リクル。 - 【請求項2】塗料がアクリル系樹脂またはフッ素系樹脂
である請求項1に記載したペリクル。 - 【請求項3】塗料が染料または顔料を含有したものであ
る請求項1に記載したペリクル。 - 【請求項4】ペリクル枠がアルミニウム系合金の表面に
アルマイト処理したものである請求項1に記載したペリ
クル。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP18592993A JP3027073B2 (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | ペリクル |
| US08/271,037 US5470621A (en) | 1993-07-28 | 1994-07-06 | Frame-supported pellicle for dustproof protection of photomask |
| KR1019940017999A KR100307053B1 (ko) | 1993-07-28 | 1994-07-25 | 포토마스크의방진보호용프레임-지지펠리클 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP18592993A JP3027073B2 (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0743892A true JPH0743892A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3027073B2 JP3027073B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=16179351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18592993A Expired - Lifetime JP3027073B2 (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | ペリクル |
Country Status (3)
| Country | Link |
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| US (1) | US5470621A (ja) |
| JP (1) | JP3027073B2 (ja) |
| KR (1) | KR100307053B1 (ja) |
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| WO2021111780A1 (ja) | 2019-12-02 | 2021-06-10 | 日本軽金属株式会社 | 光学部材及びその製造方法 |
| KR20220108125A (ko) | 2019-12-02 | 2022-08-02 | 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤 | 광학 부재 및 그 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3027073B2 (ja) | 2000-03-27 |
| KR100307053B1 (ko) | 2001-12-15 |
| KR950004515A (ko) | 1995-02-18 |
| US5470621A (en) | 1995-11-28 |
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