JPH0746853Y2 - 差動排気系 - Google Patents
差動排気系Info
- Publication number
- JPH0746853Y2 JPH0746853Y2 JP1990124960U JP12496090U JPH0746853Y2 JP H0746853 Y2 JPH0746853 Y2 JP H0746853Y2 JP 1990124960 U JP1990124960 U JP 1990124960U JP 12496090 U JP12496090 U JP 12496090U JP H0746853 Y2 JPH0746853 Y2 JP H0746853Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- space
- gate valve
- vacuum region
- vacuum
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、イオン源が大気圧下にある質量分析装置、
具体的には高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-
MS）、液体クロマトグラフ質量分析装置（LC-MS）或い
は走査型電子顕微鏡、等の高真空状態の二つの空間と空
間を開閉する場合の差動排気系に関する。
具体的には高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-
MS）、液体クロマトグラフ質量分析装置（LC-MS）或い
は走査型電子顕微鏡、等の高真空状態の二つの空間と空
間を開閉する場合の差動排気系に関する。
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置や液体クロマトグ
ラフ質量分析装置等では高真空下で試料分析を行う。即
ち、従来は第１図に示すように、ゲートバルブ５を矢印
方向に移動させてイオン源のある大気圧空間１と試料分
析室等の空間４とを遮断し、試料分析室等の空間４を油
拡散ポンプやターボ分子ポンプ等のポンプで真空引して
おいて、更に大気圧下にあった空間１及び初段真空領域
空間２をロータリーポンプで真空引きして真空状態と
し、前記ゲートバルブ５を更に移動させ該ゲートバルブ
５に穿設した穴51（後述）により両空間を連通させて両
空間を「開」状態としていた。そしてイオン化した試料
を空間１から初段真空領域２を通して試料分析室等の空
間４へと導く操作を行っていた。
ラフ質量分析装置等では高真空下で試料分析を行う。即
ち、従来は第１図に示すように、ゲートバルブ５を矢印
方向に移動させてイオン源のある大気圧空間１と試料分
析室等の空間４とを遮断し、試料分析室等の空間４を油
拡散ポンプやターボ分子ポンプ等のポンプで真空引して
おいて、更に大気圧下にあった空間１及び初段真空領域
空間２をロータリーポンプで真空引きして真空状態と
し、前記ゲートバルブ５を更に移動させ該ゲートバルブ
５に穿設した穴51（後述）により両空間を連通させて両
空間を「開」状態としていた。そしてイオン化した試料
を空間１から初段真空領域２を通して試料分析室等の空
間４へと導く操作を行っていた。
上記するように、試料分析室等の空間４とイオン源のあ
る大気圧空間１及び初段真空領域空間２を高真空状態と
してからゲートバルブ５を移動させる場合、ゲートバル
ブ５と初段真空領域空間２との間にデッドスペース３が
存在するため、該デッドスペース３の残存ガスが高真空
状態の試料分析室等の空間４に急激に流入する。そのた
めポンプ負荷が急変したり、真空度を低下させる等のト
ラブルが発生しやすいという問題があった。この考案は
かかる課題を解決するためになされたものであって、高
真空状態とした試料分析室等の空間４とデッドスペース
３を伴う初段真空領域空間２との両空間を連通させる場
合、このような真空度の低下や急激な圧力変動によるポ
ンプ負荷の急変を回避しスムーズに分析状態に移行する
ことのできる差動排気系を提供することを目的とする。
る大気圧空間１及び初段真空領域空間２を高真空状態と
してからゲートバルブ５を移動させる場合、ゲートバル
ブ５と初段真空領域空間２との間にデッドスペース３が
存在するため、該デッドスペース３の残存ガスが高真空
状態の試料分析室等の空間４に急激に流入する。そのた
めポンプ負荷が急変したり、真空度を低下させる等のト
ラブルが発生しやすいという問題があった。この考案は
かかる課題を解決するためになされたものであって、高
真空状態とした試料分析室等の空間４とデッドスペース
３を伴う初段真空領域空間２との両空間を連通させる場
合、このような真空度の低下や急激な圧力変動によるポ
ンプ負荷の急変を回避しスムーズに分析状態に移行する
ことのできる差動排気系を提供することを目的とする。
即ち、この考案は上記課題を解決するために、差動排気
系が、大気圧下の空間と初段真空領域空間と高真空領域
空間が順に連設されている差動排気系であって、移動さ
せることにより「開」状態とする穴を穿設したゲートバ
ルブを前記初段真空領域空間と前記高真空領域空間の間
に有し、前記初段真空領域空間と前記ゲートバルブの間
に存在するデッドスペースと前記高真空領域空間との間
を、前記穴より先に連通させる小孔を前記ゲートバルブ
に穿設したことを特徴とする。
系が、大気圧下の空間と初段真空領域空間と高真空領域
空間が順に連設されている差動排気系であって、移動さ
せることにより「開」状態とする穴を穿設したゲートバ
ルブを前記初段真空領域空間と前記高真空領域空間の間
に有し、前記初段真空領域空間と前記ゲートバルブの間
に存在するデッドスペースと前記高真空領域空間との間
を、前記穴より先に連通させる小孔を前記ゲートバルブ
に穿設したことを特徴とする。
差動排気系を上記手段とすると、初段真空領域空間と高
真空領域空間の間を遮断状態として両空間を真空とする
際、少しゲートバルブを移動させ、先ず小さな孔を介し
て二つの真空室を連通させてデッドスペース領域の排気
を行う。そうすると、両真空領域空間を充分真空度の高
い状態でゲートバルブを開くことが可能となり瞬間的な
真空度の低下が起きたり、真空ポンプの負荷の急変がな
くなる。
真空領域空間の間を遮断状態として両空間を真空とする
際、少しゲートバルブを移動させ、先ず小さな孔を介し
て二つの真空室を連通させてデッドスペース領域の排気
を行う。そうすると、両真空領域空間を充分真空度の高
い状態でゲートバルブを開くことが可能となり瞬間的な
真空度の低下が起きたり、真空ポンプの負荷の急変がな
くなる。
以下、この考案の具体的実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
第１図はこの考案の差動排気系のイオン源のある大気圧
空間１と初段真空領域空間２と試料分析室等の高真空領
域空間４との間に設置されるゲートバルブ付近の断面略
図であり、第２図は第１図のゲートバルブ５の正面図で
ある。
空間１と初段真空領域空間２と試料分析室等の高真空領
域空間４との間に設置されるゲートバルブ付近の断面略
図であり、第２図は第１図のゲートバルブ５の正面図で
ある。
このゲートバルブ５には、通常の試料分析室の高真空領
域空間４と初段真空領域空間２とを「開」とする穴51の
上部に小さな孔52（オリフィス）を穿設してある。即
ち、大気圧下の空間１のイオン源からイオンをサンプリ
ングし、質量分析計へ導入するシステムでは、イオン源
のある空間１と初段真空領域空間２とをロータリーポン
プ等で排気し、この初段領域領域２を数Torr程度の真空
に保ちゲートバルブ５を開くことで質量分析計の動作す
る真空度を維持している。この系で、ゲートバルブ５を
開く時に、該初段真空領域空間２と試料分析室等の高真
空領域空間４を隔てるゲートバルブ５との間のデッドス
ペース３が前記空間４よりも圧力が高い領域となりゲー
トバルブ５を開けるときに空間４の真空度に影響を及ぼ
す。
域空間４と初段真空領域空間２とを「開」とする穴51の
上部に小さな孔52（オリフィス）を穿設してある。即
ち、大気圧下の空間１のイオン源からイオンをサンプリ
ングし、質量分析計へ導入するシステムでは、イオン源
のある空間１と初段真空領域空間２とをロータリーポン
プ等で排気し、この初段領域領域２を数Torr程度の真空
に保ちゲートバルブ５を開くことで質量分析計の動作す
る真空度を維持している。この系で、ゲートバルブ５を
開く時に、該初段真空領域空間２と試料分析室等の高真
空領域空間４を隔てるゲートバルブ５との間のデッドス
ペース３が前記空間４よりも圧力が高い領域となりゲー
トバルブ５を開けるときに空間４の真空度に影響を及ぼ
す。
このデッドスペース３の真空度を上げるため、試料分析
室等の高真空領域空間４を真空排気する時にゲートバル
ブ２を第３図の遮断状態から第４図の状態まで移動させ
た状態で該ゲートバルブ５に穿設したオリフィス52で予
め排気する。そして第５図に示すように、デッドスペー
ス３を初段真空領域空間２と同等又はそれ以上の真空度
にした後、ゲートバルブ５を完全に開ける。
室等の高真空領域空間４を真空排気する時にゲートバル
ブ２を第３図の遮断状態から第４図の状態まで移動させ
た状態で該ゲートバルブ５に穿設したオリフィス52で予
め排気する。そして第５図に示すように、デッドスペー
ス３を初段真空領域空間２と同等又はそれ以上の真空度
にした後、ゲートバルブ５を完全に開ける。
その差動排気系では要するに、ゲートバルブ５に、初段
真空領域空間２と試料分析空間４とを開通させる穴51の
他に予備的に小さな孔52を穿設するものである。こうす
るとゲートバルブ５が移動するときに、先ず該オリフィ
ス52を介してデードスペース３領域の排気が行われ、こ
の結果、両空間を充分真空度の高い状態でゲートバルブ
５を開くことが可能となり瞬間的な真空度の低下が起き
なくなるのである。
真空領域空間２と試料分析空間４とを開通させる穴51の
他に予備的に小さな孔52を穿設するものである。こうす
るとゲートバルブ５が移動するときに、先ず該オリフィ
ス52を介してデードスペース３領域の排気が行われ、こ
の結果、両空間を充分真空度の高い状態でゲートバルブ
５を開くことが可能となり瞬間的な真空度の低下が起き
なくなるのである。
第６図と第７図はこの考案の差動排気バルブの変形実施
例図である。即ち、これらの図に示すように孔52（オリ
フィス）は大きな穴51につながるような縦方向（勿論、
横方向でも可）の長孔52′であっても或いは第２図の孔
52の代わりに長孔52″としても良く、その形状は問わな
い。
例図である。即ち、これらの図に示すように孔52（オリ
フィス）は大きな穴51につながるような縦方向（勿論、
横方向でも可）の長孔52′であっても或いは第２図の孔
52の代わりに長孔52″としても良く、その形状は問わな
い。
この考案の差動排気バルブは以上詳述したような構成と
したので、ゲートバルブ近くにデッドスペースが存在す
るために生じる真空度の低下、真空ポンプの負荷の急変
等がなくなる。また、最初の真空排気を始めてからゲー
トバルブを開きシステムが作動する状態に移行するのに
ようする時間を短縮することが出来る。
したので、ゲートバルブ近くにデッドスペースが存在す
るために生じる真空度の低下、真空ポンプの負荷の急変
等がなくなる。また、最初の真空排気を始めてからゲー
トバルブを開きシステムが作動する状態に移行するのに
ようする時間を短縮することが出来る。
第１図はこの考案の差動排気系のイオン源のある空間と
試料分析室等の空間との間に設置されるゲートバルブ付
近の断面略図、第２図はゲートバルブの正面図、第３図
はゲートバルブを完全に閉鎖し二つの空間を遮断状態態
とした断面図、第４図はこの考案のゲートバルブに穿設
した孔（オリフィス）でデッドスペースの排気を行う時
の断面図、第５図は試料分析室等の空間とイオン源のあ
る空間との間を開通させた状態の断面図、第６図と第７
図はゲートバルブの変形実施例を示す図である。 １……イオン源のある空間、２……初段真空領域 ３……デッドスペース、４……試料分析室等の空間 ５……ゲートバルブ、51……ゲートバルブ穴 52……孔（オリフィス）
試料分析室等の空間との間に設置されるゲートバルブ付
近の断面略図、第２図はゲートバルブの正面図、第３図
はゲートバルブを完全に閉鎖し二つの空間を遮断状態態
とした断面図、第４図はこの考案のゲートバルブに穿設
した孔（オリフィス）でデッドスペースの排気を行う時
の断面図、第５図は試料分析室等の空間とイオン源のあ
る空間との間を開通させた状態の断面図、第６図と第７
図はゲートバルブの変形実施例を示す図である。 １……イオン源のある空間、２……初段真空領域 ３……デッドスペース、４……試料分析室等の空間 ５……ゲートバルブ、51……ゲートバルブ穴 52……孔（オリフィス）
Claims (1)
- 【請求項１】大気圧下の空間と初段真空領域空間と高真
空領域空間が順に連設されている差動排気系であって、
移動させることにより、「開」状態とする穴を穿設した
ゲートバルブを前記初段真空領域空間と前記高真空領域
空間の間に有し、前記初段真空領域空間と前記ゲートバ
ルブの間に存在するデッドスペースと前記高真空領域空
間との間を、前記穴より先に連通させる小孔を前記ゲー
トバルブに穿設したことを特徴とする差動排気系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990124960U JPH0746853Y2 (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 差動排気系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990124960U JPH0746853Y2 (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 差動排気系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480983U JPH0480983U (ja) | 1992-07-14 |
| JPH0746853Y2 true JPH0746853Y2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=31872586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990124960U Expired - Lifetime JPH0746853Y2 (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | 差動排気系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0746853Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7278444B2 (en) * | 2005-02-22 | 2007-10-09 | Mks Instruments, Inc. | Valve assembly having improved pump-down performance |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5839885A (ja) * | 1981-08-31 | 1983-03-08 | Shimadzu Corp | パイプライン用ゲ−トバルブ |
| JPS58165584A (ja) * | 1982-03-26 | 1983-09-30 | Tokuda Seisakusho Ltd | 真空排気装置 |
-
1990
- 1990-11-26 JP JP1990124960U patent/JPH0746853Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0480983U (ja) | 1992-07-14 |
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