JPH0747377A - オゾン水処理方法及び装置 - Google Patents
オゾン水処理方法及び装置Info
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- JPH0747377A JPH0747377A JP5215218A JP21521893A JPH0747377A JP H0747377 A JPH0747377 A JP H0747377A JP 5215218 A JP5215218 A JP 5215218A JP 21521893 A JP21521893 A JP 21521893A JP H0747377 A JPH0747377 A JP H0747377A
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0031—Degasification of liquids by filtration
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
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- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来のオゾンを使用する純水装置では純水装
置がオゾンに対する耐性を有しないため処理済のオゾン
水を循環使用できず、又循環使用を試みる場合でも完全
にオゾン除去を達成できないため循環オゾン水により純
水装置の性能が劣化するという問題点があった。本発明
はオゾン水処理システムにおける使用済オゾン水を放流
又は循環する前に該オゾン水中の残留オゾンや酸素をほ
ぼ完全に除去できる方法及び装置を提供することを目的
とする。 【構成】 オゾン含有純水を使用して処理を行うユース
ポイント８の下流側のリターンライン９に隔膜11で内部
をオゾン水流通領域12と減圧領域13に区画した脱オゾン
装置10を設置し、該装置内のオゾン水流通領域に純水を
供給し隔膜を通して減圧することにより残留オゾン及び
酸素を減圧領域側に吸引して除去する。この使用済純水
をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがな
く、又循環再使用しても純水装置の性能を劣化させるこ
とがない。
置がオゾンに対する耐性を有しないため処理済のオゾン
水を循環使用できず、又循環使用を試みる場合でも完全
にオゾン除去を達成できないため循環オゾン水により純
水装置の性能が劣化するという問題点があった。本発明
はオゾン水処理システムにおける使用済オゾン水を放流
又は循環する前に該オゾン水中の残留オゾンや酸素をほ
ぼ完全に除去できる方法及び装置を提供することを目的
とする。 【構成】 オゾン含有純水を使用して処理を行うユース
ポイント８の下流側のリターンライン９に隔膜11で内部
をオゾン水流通領域12と減圧領域13に区画した脱オゾン
装置10を設置し、該装置内のオゾン水流通領域に純水を
供給し隔膜を通して減圧することにより残留オゾン及び
酸素を減圧領域側に吸引して除去する。この使用済純水
をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがな
く、又循環再使用しても純水装置の性能を劣化させるこ
とがない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オゾン水処理方法及び
装置に関し、より詳細には電子工業、医薬品製造等の技
術分野で殺菌及び洗浄等に利用された後のオゾン水中の
オゾンを効率的に除去するための方法及び装置に関す
る。
装置に関し、より詳細には電子工業、医薬品製造等の技
術分野で殺菌及び洗浄等に利用された後のオゾン水中の
オゾンを効率的に除去するための方法及び装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術とその問題点】電子工業における部品洗浄や
医薬品製造等の技術分野で要求される純水を製造する際
には蒸留やイオン交換等の一次精製で製造した純水を用
いたり、又ポリシャー等を含む純水製造装置に供給して
更にパーティクル等の不純物を除去し純度を向上させる
ようにして用いている。このようにして製造された純水
は供給ラインを通してユースポイントに供給され洗浄等
に使用された後、未使用あるいは使用済の純水を前記一
次精製工程に循環して再使用するようにしている。
医薬品製造等の技術分野で要求される純水を製造する際
には蒸留やイオン交換等の一次精製で製造した純水を用
いたり、又ポリシャー等を含む純水製造装置に供給して
更にパーティクル等の不純物を除去し純度を向上させる
ようにして用いている。このようにして製造された純水
は供給ラインを通してユースポイントに供給され洗浄等
に使用された後、未使用あるいは使用済の純水を前記一
次精製工程に循環して再使用するようにしている。
【０００３】そして洗浄等の処理効率を向上させるため
に前記純水中にオゾンを溶解させてオゾン含有純水とし
た後に前記洗浄等の処理操作に使用することが試みられ
ている。オゾンは塩素より酸化力が強く、殺菌、脱臭、
脱色等に効果を有し、かつ酸化作用後に比較的容易に酸
素に分解し二次公害の問題も生じないため近年その利用
範囲が拡大されつつある。
に前記純水中にオゾンを溶解させてオゾン含有純水とし
た後に前記洗浄等の処理操作に使用することが試みられ
ている。オゾンは塩素より酸化力が強く、殺菌、脱臭、
脱色等に効果を有し、かつ酸化作用後に比較的容易に酸
素に分解し二次公害の問題も生じないため近年その利用
範囲が拡大されつつある。
【０００４】しかし前記分解は完全に行われるのではな
く、少量のオゾンが残存しかつ分解生成物である酸素も
溶解している。これらの残留ガスを完全に除去するため
に現在では活性炭処理を行い、その後放流により廃棄し
ている。しかし前述の純水循環工程に戻すためには活性
炭から生ずる不純物が多くなり過ぎ、実質的に循環再使
用することは不可能であった。又前記残留ガスは純水製
造装置等に悪影響を及ぼすため、除去操作を行うことな
く循環することは不適当である。
く、少量のオゾンが残存しかつ分解生成物である酸素も
溶解している。これらの残留ガスを完全に除去するため
に現在では活性炭処理を行い、その後放流により廃棄し
ている。しかし前述の純水循環工程に戻すためには活性
炭から生ずる不純物が多くなり過ぎ、実質的に循環再使
用することは不可能であった。又前記残留ガスは純水製
造装置等に悪影響を及ぼすため、除去操作を行うことな
く循環することは不適当である。
【０００５】この欠点を解消するために配管をバクテリ
ア育成に適さない材料で構成したり前記純水製造装置の
直前で低圧紫外線オゾン分解装置によりオゾン分解を行
う方法（特開平2-144195号）が提案されているが、前記
低圧紫外線によるオゾン分解は完全には行われにくく、
純水製造装置に供給される純水中にオゾンが含まれ前記
純水製造装置の性能が十分に発揮されにくいという欠点
がある。
ア育成に適さない材料で構成したり前記純水製造装置の
直前で低圧紫外線オゾン分解装置によりオゾン分解を行
う方法（特開平2-144195号）が提案されているが、前記
低圧紫外線によるオゾン分解は完全には行われにくく、
純水製造装置に供給される純水中にオゾンが含まれ前記
純水製造装置の性能が十分に発揮されにくいという欠点
がある。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、前述の従来技術の問題点を解
消し、洗浄等に使用された後の使用済純水中に残留する
オゾン及び酸素をほぼ完全に除去し、その後放流しある
いは循環再使用できるようにしたオゾン水処理方法及び
装置を提供することを目的とする。
消し、洗浄等に使用された後の使用済純水中に残留する
オゾン及び酸素をほぼ完全に除去し、その後放流しある
いは循環再使用できるようにしたオゾン水処理方法及び
装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明は、オゾン水を
ユースポイントに送水して被処理体の処理に使用した後
の前記オゾン水を循環して再使用しあるいは放流する際
に、前記ユースポイントより下流側に隔膜により内部を
オゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱オゾン装置を
設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領域に前記使用
後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔膜を通して減
圧領域と接触させることにより残留オゾン及び残留酸素
を除去するオゾン水処理方法及び装置である。
ユースポイントに送水して被処理体の処理に使用した後
の前記オゾン水を循環して再使用しあるいは放流する際
に、前記ユースポイントより下流側に隔膜により内部を
オゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱オゾン装置を
設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領域に前記使用
後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔膜を通して減
圧領域と接触させることにより残留オゾン及び残留酸素
を除去するオゾン水処理方法及び装置である。
【０００８】以下本発明を詳細に説明する。オゾンは前
述の通りその利用範囲が拡大されつつあり、液晶洗浄水
等の水処理、医療、食品関係等の多方面でオゾンが使用
されている。
述の通りその利用範囲が拡大されつつあり、液晶洗浄水
等の水処理、医療、食品関係等の多方面でオゾンが使用
されている。
【０００９】本発明でもオゾンの有する殺菌力を利用し
て半導性基板や液晶の洗浄や殺菌等の処理を行う。本発
明におけるオゾン水処理システムでは通常の手法例えば
蒸留やイオン交換及び膜処理によりその抵抗値が可能な
限り18.25 ＭΩに近い純水を製造するが該純水には金属
不純物は殆ど含まれていない。その後該純水に通常はオ
ゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを注入して
溶解させオゾン水（酸素ガスも溶存する）とする。この
オゾン水を供給ラインを通して各ユースポイントに供給
しオゾンの殺菌作用を利用して前記液晶等の処理を行
う。
て半導性基板や液晶の洗浄や殺菌等の処理を行う。本発
明におけるオゾン水処理システムでは通常の手法例えば
蒸留やイオン交換及び膜処理によりその抵抗値が可能な
限り18.25 ＭΩに近い純水を製造するが該純水には金属
不純物は殆ど含まれていない。その後該純水に通常はオ
ゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを注入して
溶解させオゾン水（酸素ガスも溶存する）とする。この
オゾン水を供給ラインを通して各ユースポイントに供給
しオゾンの殺菌作用を利用して前記液晶等の処理を行
う。
【００１０】該ユースポイントから排出される使用済オ
ゾン水中にはオゾンが残存する。本発明ではこのオゾン
水中のオゾン（及び酸素）を該オゾン水を脱オゾン装置
に供給することにより除去する。該脱オゾン装置はその
内部に隔膜を装着してオゾン水流通領域と減圧領域に区
画し、真空ポンプ等で該減圧領域を減圧に維持しながら
前記オゾン水を前記オゾン水流通領域に供給する。供給
されたオゾン水は前記隔膜を通して前記減圧領域と接触
して残留しているオゾン及び酸素が該減圧領域側に前記
隔膜を通して吸引され除去され、殆どオゾン及び酸素を
含まない純水となって前記脱オゾン装置から取り出され
て放流されあるいは循環再使用される。この残留オゾン
除去では活性炭処理と異なり不純物が混入しにくく、オ
ゾンや不純物を含まない純水に変換される。
ゾン水中にはオゾンが残存する。本発明ではこのオゾン
水中のオゾン（及び酸素）を該オゾン水を脱オゾン装置
に供給することにより除去する。該脱オゾン装置はその
内部に隔膜を装着してオゾン水流通領域と減圧領域に区
画し、真空ポンプ等で該減圧領域を減圧に維持しながら
前記オゾン水を前記オゾン水流通領域に供給する。供給
されたオゾン水は前記隔膜を通して前記減圧領域と接触
して残留しているオゾン及び酸素が該減圧領域側に前記
隔膜を通して吸引され除去され、殆どオゾン及び酸素を
含まない純水となって前記脱オゾン装置から取り出され
て放流されあるいは循環再使用される。この残留オゾン
除去では活性炭処理と異なり不純物が混入しにくく、オ
ゾンや不純物を含まない純水に変換される。
【００１１】この純水はそのまま放流しても不純物含有
量がほぼ零であるため環境問題が生ずることがなく、又
純水製造装置に悪影響を及ぼすオゾンを含まないため純
水製造装置に循環して再使用することができる。前記脱
オゾン装置に装着される隔膜は特に限定されず耐オゾン
性のある材料例えば所謂テフロンと呼ばれるＰＴＦＥ
（四ふっ化エチレン樹脂）、ＰＦＡ（四ふっ化エチレン
・パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂）、ＰＶ
ＤＦ（ふっ化ビニリデン樹脂）、ＦＥＰ（四ふっ化エチ
レン・六ふっ化プロピレン共重合樹脂）及びＥＴＦＥ
（四ふっ化エチレン・エチレン共重合樹脂）等により形
成し、該隔膜の開口径は使用する減圧度において実質的
な水の浸透が生じないように設定すれば良く、好ましく
は0.01〜10μｍ、より好ましくは0.1 〜２μｍ程度とす
る。又前記減圧度は隔膜を通して前記オゾン水に溶存し
ている実質的に全てのオゾン及び酸素を吸引できるよう
に設定すれば良く、好ましくは15〜110 torr、より好ま
しくは30〜80torrとする。
量がほぼ零であるため環境問題が生ずることがなく、又
純水製造装置に悪影響を及ぼすオゾンを含まないため純
水製造装置に循環して再使用することができる。前記脱
オゾン装置に装着される隔膜は特に限定されず耐オゾン
性のある材料例えば所謂テフロンと呼ばれるＰＴＦＥ
（四ふっ化エチレン樹脂）、ＰＦＡ（四ふっ化エチレン
・パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂）、ＰＶ
ＤＦ（ふっ化ビニリデン樹脂）、ＦＥＰ（四ふっ化エチ
レン・六ふっ化プロピレン共重合樹脂）及びＥＴＦＥ
（四ふっ化エチレン・エチレン共重合樹脂）等により形
成し、該隔膜の開口径は使用する減圧度において実質的
な水の浸透が生じないように設定すれば良く、好ましく
は0.01〜10μｍ、より好ましくは0.1 〜２μｍ程度とす
る。又前記減圧度は隔膜を通して前記オゾン水に溶存し
ている実質的に全てのオゾン及び酸素を吸引できるよう
に設定すれば良く、好ましくは15〜110 torr、より好ま
しくは30〜80torrとする。
【００１２】本発明で使用するオゾンは不純物を殆ど含
まない高純度オゾンであることが必要である。該オゾン
は酸素ガスに高電圧を印加して酸素の一部をオゾンに変
換する無声放電方式により製造することもできるが、該
方式により製造されるオゾンはパーティクルや金属の混
入がかなりあり、特に電子工業での洗浄用としては望ま
しくない。本発明では前記無声放電方式で得られるオゾ
ンより高純度のオゾンが得られる電気分解方式による酸
素混合オゾンガスを使用することが望ましく、該混合ガ
ス中のオゾンガス濃度は14〜20重量％程度である。
まない高純度オゾンであることが必要である。該オゾン
は酸素ガスに高電圧を印加して酸素の一部をオゾンに変
換する無声放電方式により製造することもできるが、該
方式により製造されるオゾンはパーティクルや金属の混
入がかなりあり、特に電子工業での洗浄用としては望ま
しくない。本発明では前記無声放電方式で得られるオゾ
ンより高純度のオゾンが得られる電気分解方式による酸
素混合オゾンガスを使用することが望ましく、該混合ガ
ス中のオゾンガス濃度は14〜20重量％程度である。
【００１３】純水を電気分解して前記酸素−オゾン混合
ガスを得るためには、固体電解質の一方に陽極として耐
オゾン性を有する基材例えばチタン基材上に酸化鉛や酸
化スズを被覆した材料を、又他方に陰極としてステンレ
スや炭素等を基材とし白金等の白金族金属を被覆した材
料をそれぞれ用い、陽極に純水を連続的又は間欠的に供
給し、陽極／陰極間に直流電圧を印加すればよい。
ガスを得るためには、固体電解質の一方に陽極として耐
オゾン性を有する基材例えばチタン基材上に酸化鉛や酸
化スズを被覆した材料を、又他方に陰極としてステンレ
スや炭素等を基材とし白金等の白金族金属を被覆した材
料をそれぞれ用い、陽極に純水を連続的又は間欠的に供
給し、陽極／陰極間に直流電圧を印加すればよい。
【００１４】次に添付図面に基づいて本発明に係わるオ
ゾン水処理方法の一例を説明する。図１は、本発明方法
に係わるオゾン水処理方法の一例を示すフローシートで
ある。蒸留器１やイオン交換器２を含む純水製造装置３
により製造された純水は循環ポンプ４により供給ライン
５に設置されたオゾン水製造装置６に供給される。
ゾン水処理方法の一例を説明する。図１は、本発明方法
に係わるオゾン水処理方法の一例を示すフローシートで
ある。蒸留器１やイオン交換器２を含む純水製造装置３
により製造された純水は循環ポンプ４により供給ライン
５に設置されたオゾン水製造装置６に供給される。
【００１５】該装置６に供給された純水には隣接するオ
ゾナイザー７で製造したオゾン含有ガスが注入されてオ
ゾン水に変換される。このオゾン水は、図示の例では２
ヵ所のユースポイント８に並列的に供給され、該ユース
ポイント８において電子部品の洗浄等の操作を行い被処
理体の処理を行う。この処理操作で使用されあるいは過
剰に供給されて使用されなかったオゾンや酸素を含む使
用済又は未使用純水は集められリターンライン９を流通
する際に該ライン９に設置された脱オゾン装置10に供給
される。
ゾナイザー７で製造したオゾン含有ガスが注入されてオ
ゾン水に変換される。このオゾン水は、図示の例では２
ヵ所のユースポイント８に並列的に供給され、該ユース
ポイント８において電子部品の洗浄等の操作を行い被処
理体の処理を行う。この処理操作で使用されあるいは過
剰に供給されて使用されなかったオゾンや酸素を含む使
用済又は未使用純水は集められリターンライン９を流通
する際に該ライン９に設置された脱オゾン装置10に供給
される。
【００１６】該脱オゾン装置10は隔膜11によりオゾン水
流通領域12と減圧領域13に区画され、該減圧領域13には
真空ポンプ14が接続されて該減圧領域13を所定の減圧度
に維持している。該脱オゾン装置10のオゾン水流通領域
12に供給されたオゾン水は前記隔膜11を通して前記減圧
領域13に接触しているため、溶存しているオゾン及び酸
素が減圧領域13側に吸引されて除去され純水に変換され
る。オゾン及び酸素が除去された純水は系外に放流され
あるいは前記純水製造装置３に循環される。
流通領域12と減圧領域13に区画され、該減圧領域13には
真空ポンプ14が接続されて該減圧領域13を所定の減圧度
に維持している。該脱オゾン装置10のオゾン水流通領域
12に供給されたオゾン水は前記隔膜11を通して前記減圧
領域13に接触しているため、溶存しているオゾン及び酸
素が減圧領域13側に吸引されて除去され純水に変換され
る。オゾン及び酸素が除去された純水は系外に放流され
あるいは前記純水製造装置３に循環される。
【００１７】純水製造装置３に循環した純水中には殆ど
残留オゾンがなく、該純水製造装置３の性能に悪影響を
及ぼすことがない。又系外に放流される純水もオゾンや
酸素を含まないため環境衛生上の問題を生じさせること
がない。
残留オゾンがなく、該純水製造装置３の性能に悪影響を
及ぼすことがない。又系外に放流される純水もオゾンや
酸素を含まないため環境衛生上の問題を生じさせること
がない。
【００１８】
【実施例】次に本発明によるオゾン水処理方法の実施例
を記載するが、該実施例は本発明を限定するものではな
い。
を記載するが、該実施例は本発明を限定するものではな
い。
【００１９】
【実施例１】図１に示したフローチャートに従ってオゾ
ン水による被処理体の洗浄処理を行った。比抵抗が104
Ωｃｍである原水を純水製造装置内でアニオン及びカチ
オン交換樹脂と接触させて不純物を除去し比抵抗が２Ｍ
Ωｃｍの純水を製造した。該純水中の酸素濃度は0.5 ｍ
ｇ／リットルであった。この純水をオゾン水製造装置に
10リットル／分の速度で供給し、10ｇ−Ｏ3 ／時の割合
でオゾン含有ガスと接触させてオゾン水を調製した。こ
のオゾン水のオゾン濃度は10ｍｇ／リットルであり、又
その溶存酸素濃度は９ｍｇ／リットル以上で過飽和の状
態であった。
ン水による被処理体の洗浄処理を行った。比抵抗が104
Ωｃｍである原水を純水製造装置内でアニオン及びカチ
オン交換樹脂と接触させて不純物を除去し比抵抗が２Ｍ
Ωｃｍの純水を製造した。該純水中の酸素濃度は0.5 ｍ
ｇ／リットルであった。この純水をオゾン水製造装置に
10リットル／分の速度で供給し、10ｇ−Ｏ3 ／時の割合
でオゾン含有ガスと接触させてオゾン水を調製した。こ
のオゾン水のオゾン濃度は10ｍｇ／リットルであり、又
その溶存酸素濃度は９ｍｇ／リットル以上で過飽和の状
態であった。
【００２０】このオゾン水をユースポイントに供給して
液晶の洗浄に使用し、使用後の純水中のオゾン濃度を測
定したところ３ｍｇ／リットルに減少していたが、溶存
酸素濃度は９ｍｇ／リットル以上で過飽和の状態のまま
であった。このオゾン含有水を、材質がＰＴＦＥである
隔膜を装着してオゾン水流通領域と減圧領域に区画した
脱オゾン装置の前記オゾン水流通領域に導き、かつ前記
減圧領域の減圧度を真空ポンプにより30torrに維持して
オゾン水処理を行ったところ、前記脱オゾン装置から取
り出される純水中のオゾン濃度は零となり溶存酸素濃度
も0.5 ｐｐｍ以下まで減少した。
液晶の洗浄に使用し、使用後の純水中のオゾン濃度を測
定したところ３ｍｇ／リットルに減少していたが、溶存
酸素濃度は９ｍｇ／リットル以上で過飽和の状態のまま
であった。このオゾン含有水を、材質がＰＴＦＥである
隔膜を装着してオゾン水流通領域と減圧領域に区画した
脱オゾン装置の前記オゾン水流通領域に導き、かつ前記
減圧領域の減圧度を真空ポンプにより30torrに維持して
オゾン水処理を行ったところ、前記脱オゾン装置から取
り出される純水中のオゾン濃度は零となり溶存酸素濃度
も0.5 ｐｐｍ以下まで減少した。
【００２１】
【発明の効果】本発明は、純水にオゾン含有ガスを注入
してオゾン水を調製し、該オゾン水をユースポイントに
送水して被処理体の処理に使用し使用後の前記オゾン水
を循環して再使用しあるいは放流するようにしたオゾン
水処理方法において、ユースポイントより下流側に隔膜
により内部をオゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱
オゾン装置を設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領
域に前記使用後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔
膜を通して減圧領域と接触させることにより残留オゾン
及び残留酸素を除去することを特徴とするオゾン水処理
方法、及び該方法に使用する装置である。
してオゾン水を調製し、該オゾン水をユースポイントに
送水して被処理体の処理に使用し使用後の前記オゾン水
を循環して再使用しあるいは放流するようにしたオゾン
水処理方法において、ユースポイントより下流側に隔膜
により内部をオゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱
オゾン装置を設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領
域に前記使用後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔
膜を通して減圧領域と接触させることにより残留オゾン
及び残留酸素を除去することを特徴とするオゾン水処理
方法、及び該方法に使用する装置である。
【００２２】本発明では、ユースポイントにおいて液晶
洗浄等に使用された使用後の純水中に含まれる残留オゾ
ンや酸素が、該純水を隔膜を介して減圧領域に接触させ
ることによりほぼ完全に除去される。従って使用済の純
水をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがな
い。又この純水を純水製造装置に循環して再使用しても
残留オゾンを含まないため、オゾンに対する耐性に劣る
前記純水製造装置の性能を劣化させることがなく、又運
転を停止することなく連続的に純水製造−オゾン水製造
−被処理体処理のサイクルを継続することができる。又
本発明に使用するオゾン含有ガスは、水電解により生成
する陽極ガスとすることができ、これらのガスは不純物
含有量が非常に小さくオゾン水及び循環する純水の純度
を向上させることを可能にする。
洗浄等に使用された使用後の純水中に含まれる残留オゾ
ンや酸素が、該純水を隔膜を介して減圧領域に接触させ
ることによりほぼ完全に除去される。従って使用済の純
水をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがな
い。又この純水を純水製造装置に循環して再使用しても
残留オゾンを含まないため、オゾンに対する耐性に劣る
前記純水製造装置の性能を劣化させることがなく、又運
転を停止することなく連続的に純水製造−オゾン水製造
−被処理体処理のサイクルを継続することができる。又
本発明に使用するオゾン含有ガスは、水電解により生成
する陽極ガスとすることができ、これらのガスは不純物
含有量が非常に小さくオゾン水及び循環する純水の純度
を向上させることを可能にする。
【図１】本発明によるオゾン水処理システムを例示する
フローシート。
フローシート。
１・・・蒸留器 ２・・・イオン交換器 ３・・・純水
製造装置 ４・・・循環ポンプ ５・・・供給ライン
６・・・オゾン水製造装置 ７・・・オゾナイザー ８
・・・ユースポイント ９・・・リターンライン 10・
・・脱オゾン装置 11・・・隔膜 12・・・オゾン水流
通領域 13・・・減圧領域 14・・・真空ポンプ
製造装置 ４・・・循環ポンプ ５・・・供給ライン
６・・・オゾン水製造装置 ７・・・オゾナイザー ８
・・・ユースポイント ９・・・リターンライン 10・
・・脱オゾン装置 11・・・隔膜 12・・・オゾン水流
通領域 13・・・減圧領域 14・・・真空ポンプ
Claims (2)
- 【請求項１】 純水にオゾン含有ガスを注入してオゾン
水を調製し、該オゾン水をユースポイントに送水して被
処理体の処理に使用し使用後の前記オゾン水を循環して
再使用しあるいは放流するようにしたオゾン水処理方法
において、ユースポイントより下流側に隔膜により内部
をオゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱オゾン装置
を設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領域に前記使
用後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔膜を通して
減圧領域と接触させることにより残留オゾン及び残留酸
素を除去することを特徴とするオゾン水処理方法。 - 【請求項２】 純水製造装置、該装置で製造された純水
中にオゾン含有ガスを注入してオゾン水を調製するオゾ
ン水製造装置、供給ラインを通して供給されるオゾン水
で被処理体を処理する１又は２以上のユースポイント、
該ユースポイントでの使用済オゾン水を放流しあるいは
前記純水製造装置へ循環するリターンラインを含んで成
るオゾン水処理装置において、前記リターンラインに隔
膜により内部をオゾン水流通領域と減圧領域に区画した
脱オゾン装置を設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通
領域に前記使用後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記
隔膜を通して減圧領域と接触させることにより残留オゾ
ン及び残留酸素を除去することを特徴とするオゾン水処
理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5215218A JPH0747377A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | オゾン水処理方法及び装置 |
| US08/285,698 US5626769A (en) | 1993-08-06 | 1994-08-04 | Ozone water treatment method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5215218A JPH0747377A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | オゾン水処理方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0747377A true JPH0747377A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16668660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5215218A Pending JPH0747377A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | オゾン水処理方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5626769A (ja) |
| JP (1) | JPH0747377A (ja) |
Cited By (3)
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| JP2002210477A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-30 | Japan Organo Co Ltd | オゾン含有排水の処理方法及び処理装置 |
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1993
- 1993-08-06 JP JP5215218A patent/JPH0747377A/ja active Pending
-
1994
- 1994-08-04 US US08/285,698 patent/US5626769A/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| US5626769A (en) | 1997-05-06 |
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