JPH0749478B2 - ポリフェニレンエーテルの製造法、それに使用する触媒及び得られる樹脂組成物 - Google Patents
ポリフェニレンエーテルの製造法、それに使用する触媒及び得られる樹脂組成物Info
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- JPH0749478B2 JPH0749478B2 JP3233773A JP23377391A JPH0749478B2 JP H0749478 B2 JPH0749478 B2 JP H0749478B2 JP 3233773 A JP3233773 A JP 3233773A JP 23377391 A JP23377391 A JP 23377391A JP H0749478 B2 JPH0749478 B2 JP H0749478B2
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Description
フェニレンエーテル(ポリフェニレンオキシド)の新規
な製造法及びそのための触媒組成物に関する。この方法
によって製造されたポリフェニレンエーテルは低減され
た臭気を有する。
造法は当該技術において既知であり、Hay の米国特許第
3,306,874号及び同第3,306,875号明
細書を包含する多数の刊行物に記載されている。他の製
造法はVan Dortの米国特許第3,365,422号明細
書、Bennett 及びCooperの米国特許第3,639,65
6号、同第3,642,699号、同第3,733,2
99号、同第3,838,102号、同第3,661,
848号及び同第4,092,294号明細書及びOlan
derの米国特許第4,055,553号明細書に記載さ
れている。これらの特許文献のすべてをこゝに参考文献
として引用する。
っとも一般的に使用されている方法は一価フェノール化
合物を酸素含有ガス及び触媒の存在下で自己縮合させる
ことからなる。
カップリングによるポリフェニレンエーテルの製造のた
めの種々の改良された触媒系がすでに開発されている。
かゝる触媒系は前述した米国特許第4,092,294
号明細書に開示されている。この特許明細書は銅化合
物;2個のアミノ窒素原子が少なくとも2個でかつ3個
を超えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ
窒素原子が結合されている炭素原子が脂肪族型である型
のジアミン;第3級アミン及び臭化水素、アルカリ金属
臭化物、アルカリ土類金属臭化物、4−ブロムフェノー
ル及びそれらの混合物からなる群から選んだ臭素含有化
合物とある割合の第1級又は第2級モノアミン、多くの
場合式RNHR′(式中、R及びR′は低級アルキル基
である)の第2級モノアミンとを含んでなる触媒を教示
している。
第2級モノアミンは米国特許第4,092,294号及
び同第4,477,651号明細書に示されるごとく反
応速度に対して主たる効果を示す。ほとんどすべての第
1級又は第2級モノアミンはポリフェニレンエーテル中
に結合されるようになる。この方法で製造された重合体
は典型的には該重合体中に結合された窒素を600−1
000ppm の量で含有する。かゝるモノアミンの結合は
主として式:
してであると考えられる。このアミンの結合は利点及び
欠点の両方をもつ。
中のアミン基は次後の加工又は配合工程中の加熱によっ
て失なわれ、その結果重合体上にキノンメチド構造のよ
うな反応性官能基の形成をもたらし得る。かゝる反応性
官能基は互いに又は他の物質(たとえばゴム、耐衝撃性
ポリスチレン等)とカップリングを生起し得、それによ
って分子量の増加及びかゝる他の物質とのグラフト化生
成物の形成をもたらす。この有利な効果は相溶性を助長
しかつ配合物の衝撃強さを改良し得る。この自己カップ
リングが重合体をその重合反応の終了時に加熱すること
によって達成される場合には、この方法は“IVジャン
プ(jump)”として知られている。換言すれば、分子量
を反映する固有粘度が上向きに、倍率2の程度に、ジャ
ンプする。一般に、重合体の機械的性質は分子量の増加
に従って改善されるので、これは望ましい現象である。
さえ、重合体からおそらくは化学的脱離反応によって第
2級アミンが徐々に放出される結果、重合体は不快な臭
気を発するようになる。
型的な銅基触媒系に使用される他のアミン、すなわち典
型的には分枝鎖アルキル置換ジアミン、第3級アミン及
び第4級アンモニウム化合物は第1級又は第2級モノア
ミン成分とは著しく異なり、重合体の有意の部分とはな
らず、したがって認め得るほどに臭気の原因とはならな
い。
るための手段が探求されてきた。米国特許第4,80
6,602号明細書に教示されている一手段は該重合体
をさらに別の反応手段によって末端置換させる方法であ
る。しかしながら、重合体とのかゝる別反応の実施はコ
スト高なかつ面倒な工程であり、しかも反応を完全に達
成させることは困難である。
造における反応速度を何等有意に低下させることなしに
又は得られる重合体の性質を損うことなしに、かゝる第
2級モノアミンの代替となり得る触媒成分を見出すこと
によって臭気の問題を解決するにある。保有することが
重要である重合体の性質の一つは固有粘度によって明示
されるごとき分子量である。保有することが望ましい別
の関連する性質は前述したごとき“IVジャンプ”性で
ある。したがって、本発明の別の目的は分子量の低下を
伴うことなしにかつ好ましくは“IVジャンプ”性を損
うことなしに臭気の問題を克服するにある。
ンエーテルの改良製造法において、触媒系の第2級ジア
ルキルアミン成分をアミンではない、したがって重合体
中に望ましくない臭気を随伴するようなアミン構造を生
じ得ないある特定の不飽和化合物に換えることによって
達成される。この第2級モノアミンの全量又は実質的に
全量を本発明の不飽和化合物で置換する場合には、該触
媒系の効果は変らず、そして好ましい不飽和化合物を使
用すれば該重合体の“IVジャンプ”性もそのままであ
る。
合物を、つぎの成分: (a)銅化合物; (b)2個のアミノ基が少なくとも2個でかつ3個を超
えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ窒素
原子が結合されている炭素原子が脂肪族であるタイプの
ジアミン; (c)第3級アミン; (d)第4級アンモニウム化合物;及び (e)オレフィン系、アセチレン系、イミン系及びニト
リル系からなる群から選んだ、非妨害性置換基をもつ不
飽和化合物; を含んでなる触媒組成物の触媒有効量の存在下でかつ前
記第3級アミン以外のモノアミンの実質的な不存在下
で、酸化的カップリングさせることからなる低臭気性を
もつポリフェニレンエーテル樹脂の製造法を提供するも
のである。
された改善された低臭気性のポリフェニレンエーテル及
び該ポリフェニレンエーテルとスチレン系重合体との配
合物を提供する。
法の詳細、したがって本発明によるポリフェニレンエー
テルの製造法の詳細及び最良の実施態様を説明する。
テルの製造のための酸化的重合工程を包含する。上記構
造単位の各々において独立的に、各Q1 はそれぞれハロ
ゲン、第1級又は第2級低級アルキル基(すなわち7個
までの炭素原子を含むアルキル基)、フェニル基、ハロ
アルキル基、炭化水素オキシ基又は少なくとも2個の炭
素原子によってハロゲン原子及び酸素原子が分離されて
いる型のハロ炭化水素オキシ基であり;そして各Q2 は
それぞれ水素、ハロゲン、第1級又は第2級低級アルキ
ル基、フェニル基、ハロアルキル基、炭化水素オキシ基
又はQ1 について定義したごときハロ炭化水素オキシ基
である。適当な第1級低級アルキル基の例はメチル、エ
チル、n−プロピル、n−ブチル、イソブチル、n−ア
ミル、イソアミル、2−メチルブチル、n−ヘキシル、
2,3−ジメチルブチル、2−,3−又は4−メチルペ
ンチル及び対応するヘプチル基である。第2級低級アル
キル基の例はイソプロピル、第2級ブチル及び3−ペン
チル基である。すべてのアルキル基は分枝鎖よりも直鎖
型であることが好ましい。多くの場合、各Q1 はアルキ
ル又はフェニル基、特にC1-4 アルキル基でありそして
各Q2 は水素である。ポリフェニレンエーテルの構造に
ついての詳細はたとえばこゝに参考文献として引用する
米国特許第4,806,602号明細書に記載されてい
る。
体を以下簡単化のためにポリフェニレンエーテルと呼ぶ
こととする。かゝるポリフェニレンエーテルが前記した
ごとき置換基を有することは理解されるであろう。酸化
的重合のための出発物質であるフェノール化合物は上記
と同一の置換基Q1 及びQ2 を有するものである。簡単
化のために本明細書において2,6−ジ置換フェノール
化合物と称する場合、これらのフェノール化合物は3位
及び/又は5位に1個又は2個の前記定義したごとき追
加の置換基をもつものを包含する意味で使用するもので
ある。
用される代表的なフェノール化合物は一般式:
てxは水素又はハロゲンを表わす)をもつものである。
ハロゲンとしては臭素及び塩素が好ましい。
ポリフェニレンエーテルは2個のQ1 基がともに1−8
個の炭素原子をもつ炭化水素基でありそしてQ2 基がそ
れぞれ水素であるか又は1個のQ2 基が水素で、他方の
Q2 基が1−8個の炭素原子をもつ炭化水素基であるも
のである。特に好ましいポリフェニレンエーテルは2個
のQ1 基がともにメチル基でありそして少なくとも1個
のQ2 基が水素で、残りの1個又は0個のQ2 基がメチ
ル基であるものである。好ましいポリフェニレンエーテ
ルは2,6−ジメチルフェノール又は2,6−ジメチル
フェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの組
合せから製造されるものである。
として使用される特定の銅化合物は臨界的ではない。代
表的な銅化合物は塩化第一銅、臭化第一銅、硫酸第一
銅、第一銅アジド、硫酸第一銅テトラミン、酢酸第一
銅、酪酸第一銅、トルイル酸第一銅、塩化第二銅、臭化
第二銅、硫酸第二銅、第二銅アジド、硫酸第二銅テトラ
ミン、酢酸第二銅、トルイル酸第二銅等を包含する。好
ましい第一銅塩及び第二銅塩はハライドであり、臭化第
一銅及び臭化第二銅がもっとも好ましい。これらの化合
物は臭素又は臭化水素とたとえば第一銅エーテル又は炭
酸第二銅とをその場で反応させることによって製造する
ことができる。
として使用されるジアミンは式: R1 HN−R2 −NHR1 (式中、各R1 は独立的にイソプロピル、C4-8 第3級
アルキル又はα−炭素原子上に水素をもたないシクロア
ルキル基でありそしてR2 は2個の窒素原子を分離する
少なくとも2個でかつ3個を超えない炭素原子を有する
ものでありかつC2-4 アルキレン又はC3-7 シクロアル
キレン基である)のジアミンを包含する。これらの化合
物の例はN,N′−ジ−t−ブチルエチレンジアミン、
N,N′−ジ−t−アミルエチレンジアミン及びN,
N′−ジ−イソプロピルエチレンジアミンを包含する。
として使用される第3級アミンは低い立体構造であると
いう条件を満たすものであるべきである。これらの化合
物の例はアルキル基中に1−6個の炭素原子をもつトリ
−低級アルキルアミン、たとえばトリメチルアミン又は
n−ブチルジメチルアミンである。さらに、N−メチル
ピロリジンのような環式アミンも使用し得る。好ましい
第3級アミンはn−ブチルジメチルアミンである。
は第4級アンモニウム化合物である。これらの化合物の
代表的な例は式: [N(Ra1 )(Ra2 )(Ra3 )(Ra4 )]+ Xa− (式中、Ra1 ,Ra2 ,Ra3 及びRa4 はそれぞれ
1−24個の炭素原子をもつアルキル、アラルキル又は
アルケニル基でありそしてXaは陰イオンである)の化
合物である。好ましい陰イオンはハライド(ブロマイド
又はクロライド)イオン、サルフェート又はホスフェー
トイオンである。
ことができそしてRa1 ,Ra2 ,Ra3 及びRa4 置
換基中の炭素原子の合計数は好ましくは少なくとも10
であるべきである。第4級アンモニウム塩は有機反応溶
剤に基づいて100−2000ppm の範囲、より好まし
くは有機反応溶剤に基づいて500−1500ppm の範
囲の濃度で使用し得る。
ル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、セチル、ヘ
キサデシル基及びそれらの異性体基であり得る。これら
の基の混合物も使用し得る。アラルキル(すなわちアリ
ール置換アルキル)置換基は7−20個の炭素原子をも
つアラルキル基、たとえばベンジル、フェニルエチル基
等を包含し得る。アルケニル置換基は1個又はそれ以上
の二重結合を含む炭素数1−24個の直鎖及び分枝鎖不
飽和炭化水素基を包含する。
つそれらの多くのものは商業的に入手可能である。たと
えばKirk-Othmer 編、Encyclopedia of Chemical Techn
ology,第2版、第16巻、第859−865頁;Arquad
s,Armour Industrial Co.(1956) 及びSchwartz,A.M. ら
“Surface Active Agents,第I巻、第156−171
頁、Interscience Publishers(1949) ;及び第II巻、第
112−118頁(1958)を参照されたい。登録商
標“アドジェン(Adogen)464 ”(Aldrich Chemical C
o.製)の名称で商業的に入手し得る特に有用な物質はメ
チルトリアルキル(C8-10)アンモニウムクロライドの
化学組成をもつ。
触媒系の利点は成分(e)として不飽和化合物を使用す
ること及び成分(c)である第3級アミン以外のモノア
ミンを実質的に存在させないことである。成分(e)は
触媒有効量(すなわち他の触媒成分と組合わせて触媒と
して有効である量)のオレフィン系、アセチレン系、イ
ミン系及びニトリル系からなる群から選んだ不飽和化合
物である。
はそれ以上によって置換され得る。本発明は非妨害性基
がハイドロカルビル基(すなわち炭化水素から水素原子
を除いた基)である場合に広く実施し得る。オレフィン
(C=C不飽和)又はイミン(C=N不飽和)の場合に
は、二官能性ハイドロカルビル(ハイドロカルビレン)
基はC=C部分と環を形成し得る。ハイドロカルビル基
はさらにアルコキシ、ハロゲン及びヒドロキシのような
非妨害性基によって置換され得る。したがって、成分
(e)についての代表的な不飽和化合物はエチレン、プ
ロピレン、ブチレン、1−オクテン、6−ドデセン、シ
クロヘキセン、スチレン、インデン、スチルベン、シク
ロオクタジエン及びジシクロペンタジエンのようなオレ
フィンを包含する。本発明はまた成分(e)としてメチ
ルアセチレン、フェニルアセチレン、ジフェニルアセチ
レン、ジメチルアセチレン、プロパルギルアルコール、
ブチノール及びブチンジオールのようなアセチレン系不
飽和化合物を使用しても実施可能である。さらに本発明
は触媒系の成分(e)として2−(メチルイミノ)プロ
パン、オキサゾール、オキサゾリン、ベンゾオキサゾー
ルのようなイミン又はアセトニトリル、バレロニトリ
ル、アジポニトリル、及びベンゾニトリルのようなニト
リルを使用しても実施し得る。不飽和分子部分上のかゝ
る置換基はまたアシル、カルボアルコキシ基等のごとき
電子求引性基であることもできる。成分(e)として使
用するために好ましい不飽和化合物は不飽和分子部分が
少なくともモノ置換されるC=Cである型の化合物であ
り、該置換基はハイドロカルビル、アシル、エステル又
は非妨害性基によって置換されたハイドロカルビル基で
あり、該非妨害性基の例はハロゲン又はヒドロキシ基で
ある。この好ましい一群の化合物は高い固有粘度(分子
量)をもたらす。
例はプロペン、1−ブテン、1−ドデセン、スチレン、
メチルスチレン、メチルビニルケトン、塩化アリル、ア
リルアルコール、メチルメタクリレート、ブチルクロト
ネート、エチルシンナメート、1,4−ジクロル−2−
ブテン、t−2−ブテン−1,4−ジオール及びテトラ
メチルエチレンである。
の観点から予想外にきわめて良好な結果が1,2−ジベ
ンゾイルエチレン、2−ブテン−1,4−ジオール及び
スチルベン(1,2−ジフェニルエチレン)の使用によ
って達成される。触媒系の成分(e)としてこれらの不
飽和化合物を使用することによって得られるポリフェニ
レンエーテルはその高分子量を反映する機械的性質が特
に顕著に優れており、かゝるポリフェニレンエーテルと
スチレン系重合体との配合物(これについては後に詳述
する)は有利な機械的性質を有する。
として使用される不飽和化合物は非妨害性置換基をもた
なければならず、かゝる非妨害性置換基は銅がフェノー
ル基体に十分に結合するのを阻止するように又はアミン
基が触媒組成物中の銅に十分に結合するのを阻止するよ
うに、銅に又はアミン基に十分強力に結合するようなも
のである。したがって、たとえば−COOH,−SO3
H,−PO(OH)2 ,−CH2 OPO(OH)2 及び
類似の酸基のような酸基によるC=Cの置換はアミンを
アンモニウムにプロトン化せしめるので許容し得ないも
のである。妨害性基はまた銅をきわめて強固に結合する
ような基、たとえばスルフヒドリル基又はビシナルジニ
トリル基を包含する。均一系触媒反応技術に関与する当
業者はかゝる妨害性置換基を直ちに認知し得るであろ
う。
なわち2,6−ジ置換フェノール化合物)1モル当りの
不飽和化合物の使用量は単量体1モル当り約0.001
モルないし約0.01モルの範囲であることができ、も
っとも典型的な範囲は単量体1モル当り約0.0015
モルないし約0.006モルである。
り第3級アミン約10−100モル、もっとも典型的に
は銅1g原子当り約20−50モルの範囲であり得る。
2,6−ジ置換フェノール化合物対銅のモル比は100
ないし1200、もっとも典型的には700ないし10
00の範囲である。銅1原子当りの臭素の原子数は2な
いし20、もっとも典型的には3ないし10である。ジ
アミンは銅1g原子当りジアミン1ないし5モル、もっ
とも典型的には銅1g原子当り1.1ないし2.5モル
の割合であり得る。
成分は臭素化合物である。本発明の方法における触媒系
の成分の一部として使用するに適当な臭素化合物はブロ
ムフェノール類及び無機臭化物の両方を包含する。有用
な4−ブロムフェノールは4−ブロム−2,6−ジ置換
フェノール類、たとえば4−ブロムキシレノール等を包
含する。有用な無機臭化物はアルカリ金属臭化物及びア
ルカリ土類金属臭化物、たとえば臭化ナトリウム、臭化
カルシウム等を包含する。その他の臭化物はこゝに参考
文献として引用する米国特許第3,733,299号明
細書に列挙されている。
ブロムキシレノール溶液は過剰量の2,6−キシレノー
ルを含有するメタノール中の炭酸第二銅又は第一銅エー
テルの懸濁物に臭素を添加することによって製造するこ
とができる。臭素は2,6−キシレノールと反応して4
−ブロムキシレノールを形成し、この反応で生じた臭化
水素は銅化合物を臭化銅に転化せしめる。本発明の方法
は低臭気性のポリフェニレンエーテル樹脂の生成を可能
にし、かゝる低臭気のポリフェニレンエーテル樹脂はス
チレン系熱可塑性樹脂と配合して特に低臭気の有用なプ
ラスチック配合物を製造するために適当である。本発明
の新規ポリフェニレンエーテルは低窒素含量、すなわち
触媒系の成分としてジアルキルアミンを使用して製造さ
れた従来技術の樹脂について典型的である900ppm の
濃度よりも実質的に低い窒素含量をもつものである。も
っとも典型的には、本発明によって製造されるポリフェ
ニレンエーテルは600ppm 未満の窒素含量を有する。
これは触媒系の成分(e)として使用される不飽和化合
物がイミン又はニトリルである場合にも当てはまる。こ
の低減された窒素含量に関連する臭気の改善は商業上実
質的に重要なものであり、したがって本発明の方法によ
って製造されたポリフェニレンエーテル生成物は低臭気
及び低窒素含量の両方によって特徴付けられるものであ
る。
ルはスチレン系樹脂との配合用として優れた樹脂であ
り、その低臭気性の特徴はかゝる配合物にも付与され
る。
にポリフェニレンエーテル樹脂と配合されるスチレン系
樹脂は周知であり、それらは式:
級)アルキル及びアルケニル基及び水素からなる群から
選ばれ;R3 及びR4 は水素及び1−6個の炭素原子を
もつ(低級)アルキル及びアルケニル基からなる群から
選ばれ;そしてR5 及びR6 は水素及び1−6個の炭素
原子をもつ(低級)アルキル及びアルケニル基からなる
群から選ばれ、あるいはR5 及びR6 はハイドロカルビ
ル基とともに連結してナフチル基を形成してもよい)の
単量体から誘導される単位を少なくとも25重量%含む
であろう。これらの化合物は3級炭素原子をもついかな
る置換基も含有しないものである。本発明に使用される
スチレン系樹脂の製造にもっとも好ましい単量体はスチ
レンである。ポリフェニレンエーテル及びスチレン系樹
脂の組成物はこゝに参考文献として引用するCizek の米
国特許第3,383,435号明細書に記載されてい
る。
C(R8)−−(CH2)m−R9(式中、点線は炭素
−炭素一重結合又は二重結合を表し、R7及びR8は一
緒にC(=O)−O−(=O)C(無水物基)結合を表
し、R9は水素、ビニル、1−12個の炭素原子をもつ
アルキル、アルケニル、アルキルカルボン酸及びアルケ
ニルカルボン酸基からなる群から選ばれ、nは炭素−炭
素二重結合の位置に応じて1又は2であり、そしてmは
0ないし約10の整数である)のα,β−不飽和環式無
水物から誘導される単位を包含する。かゝる無水物の例
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン
酸、無水アコニツト酸等を包含する。
てゴムを使用することによってこれらの樹脂の物理的性
質を改善することができる。使用されるゴムはポリブタ
ジエンゴム、ブチルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、
アクリロニトリルゴム、エチレン−プロピレン共重合
体、天然ゴム、EPDMゴム、ポリスルフィドゴム、ポ
リウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム等であり得
る。
でき、あるいはα,β−不飽和環式無水物40−1重量
部、スチレン化合物60−99重量部及びゴム0−25
重量部、好ましくは5−15重量部を含むこともでき
る。好ましいスチレン樹脂の一例は耐衝撃性ゴム変性ポ
リスチレンである。かゝる有用な耐衝撃性ゴム変性ポリ
スチレン樹脂の一例は約8%のポリブタジエンゴムを含
有するフオスター・グラント(Foster Grant)834で
ある。
ましくは酸素を酸素含有ガスとして使用することによっ
て行なわれるが、空気又は空気と不活性ガスとの混合物
を使用することもできる。ベンゼン又はトルエンのよう
な不活性芳香族溶剤を反応媒質として使用することが有
利である。前記引用したHay の特許明細書に記載される
他の溶剤も使用し得る。用語“不活性芳香族溶剤”は所
望の反応過程に介入せず悪影響を及ぼさないような芳香
族溶剤を意味する。
態様によれば、攪拌手段及び熱の除去手段を備えた適当
な反応器にまず溶剤及び触媒成分を裝入する。ついで酸
素流を反応器の底部近くに導入しかつ単量体をゆっくり
約30−40分間にわたって添加する。重合はクロロホ
ルム中、30℃で測定して約0.4−0.6の固有粘度
をもつ重合体が得られるまで行なう。生成重合体は標準
的方法に従って反応混合物から回収し得る。典型的な反
応温度は約10−60℃であり、典型的な反応時間は1
0分−2時間であり、典型的な圧力は大気圧又は大気圧
近くの圧力であり、これらの条件はいずれもさきに引用
した米国特許第4,092,294号明細書に開示され
ているとおりである。
製造法及びそれに使用される触媒系の製造法を実施例に
よって説明する。
50重量%溶液20gにつぎのものを添加、溶解した:
ジメチル−n−ブチルアミン0.34g及びN,N′−
ジ−t−ブチルエチレンジアミン0.4243g、アド
ジエン(Adogen)464メチルトリアルキル(C8 −C
10)アンモニウムクロライド0.22g及びトルエン5
88.75gの配合溶液23.55g。さらに不飽和化
合物を2,6−キシレノール:不飽和化合物のモル比が
108:1になるのに必要な量で添加した。この混合物
を攪拌しつつ、臭化水素の40%水溶液中の第一銅エー
テル7.8重量%の溶液38.9μlを添加した。均質
な液体が得られたら直ちに酸素をこの溶液を通じて泡出
させた。この酸化的重合反応は30℃で2時間行なっ
た。生成した重合体を溶液からメタノール中に沈殿させ
ることによって単離し、そして濾過によって集め、つい
で真空下で乾燥した。
間加熱する前後の両時点でその固有粘度を測定すること
によって行なった。当初の及び最後の固有粘度の間の差
を“IVジャンプ”として記録した。室温貯蔵時の臭気
についても記録した。固有粘度から計算された数平均分
子量を包含する結果を次表に示す。
として使用して製造した比較のためのポリフェニレンエ
ーテルを除く前記のごとく製造されたすべての組成物は
密閉容器内に室温で24時間貯蔵した場合低臭気を示し
た。これらの低臭気組成物と耐衝撃性ポリスチレンとの
配合物も低臭気特性を示した。
Claims (18)
- 【請求項1】 2,6−ジ置換フェノール化合物を、つ
ぎの成分: (a)銅化合物; (b)2個のアミノ基が少なくとも2個でかつ3個を超
えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ窒素
原子が結合されている炭素原子が脂肪族であるタイプの
ジアミン; (c)第3級アミン; (d)第4級アンモニウム化合物;及び (e)オレフィン系、アセチレン系、イミン系及びニト
リル系からなる群から選んだ、非妨害性置換基をもつ不
飽和化合物; を含んでなる触媒組成物の触媒有効量の存在下でかつ前
記第3級アミン以外のモノアミンの実質的な不存在下
で、酸化的カップリングさせることからなる低臭気性を
もつポリフェニレンエーテル樹脂の製造法。 - 【請求項2】 フェノール化合物が2,6−ジメチルフ
ェノール及び2,6−ジメチルフェノールと2,3,6
−トリメチルフェノールとの混合物から選ばれる請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】 不飽和化合物(e)がハイドロカルビル
及び非妨害性電子求引性置換基からなる群から選んだ少
なくとも1個の基によって置換されたオレフィンである
請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 置換基がハイドロカルビル、アシル、エ
ステル、又は非妨害性基によって置換されたハイドロカ
ルビル基から選ばれる請求項3記載の方法。 - 【請求項5】 オレフィンがハイドロカルビル置換エチ
レンである請求項3記載の方法。 - 【請求項6】 オレフィンがスチルベンである請求項3
記載の方法。 - 【請求項7】 オレフィンが1,2−ジベンゾイルエチ
レンである請求項3記載の方法。 - 【請求項8】 オレフィンが1−オクテンである請求項
3記載の方法。 - 【請求項9】 オレフィンがジシクロペンタジエンであ
る請求項3記載の方法。 - 【請求項10】 不飽和化合物がアセチレン系化合物で
ある請求項1記載の方法。 - 【請求項11】 アセチレン系化合物が2−ブチン−
1,4−ジオールである請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 不飽和化合物がニトリルである請求項
1記載の方法。 - 【請求項13】 ニトリルがベンゾニトリルである請求
項12記載の方法。 - 【請求項14】 不飽和化合物がイミンである請求項1
記載の方法。 - 【請求項15】 イミンがベンゾオキサゾールである請
求項14記載の方法。 - 【請求項16】 2,6−ジ置換フェノール化合物を、
つぎの成分: (a)銅化合物、たゞし前記2,6−ジ置換フェノール
化合物対該銅化合物中の銅のモル比は100ないし12
00の範囲である; (b)2個のアミノ基が少なくとも2個でかつ3個を超
えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ窒素
原子が結合されている炭素原子が脂肪族であるタイプの
ジアミン、たゞし該ジアミン対前記銅化合物中の銅のモ
ル比は1ないし5の範囲である; (c)第3級アミン、たゞし該第3級アミン対前記銅化
合物中の銅のモル比は10ないし100の範囲である; (d)100−2000ppmの範囲の濃度で存在する
第4級アンモニウム化合物;及び (e)オレフィン系、アセチレン系、イミン系及びニト
リル系からなる群から選んだ、非妨害性置換基をもつ不
飽和化合物、たゞし該不飽和化合物対前記2,6−ジ置
換フェノール化合物のモル比は0.001ないし0.1
5の範囲である; を含んでなる触媒組成物の触媒有効量の存在下でかつ前
記第3級アミン以外のモノアミンの実質的な不存在下
で、酸化的にカップリングさせることからなる低臭気性
をもつポリフェニレンエーテル樹脂の製造法。 - 【請求項17】 2,6−ジ置換フェノール化合物を、
つぎの成分: (a)銅化合物、たゞし前記2,6−ジ置換フェノール
化合物対該銅化合物中の銅のモル比は700ないし10
00の範囲である; (b)2個のアミン基が少なくとも2個でかつ3個を超
えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ窒素
原子が結合されている炭素原子が脂肪族であるタイプの
ジアミン、たゞし該ジアミン対前記銅化合物中の銅のモ
ル比は1.1ないし2.5の範囲である; (c)第3級アミン、たゞし該第3級アミン対前記銅化
合物中の銅のモル比は20ないし50の範囲である; (d)500−1500ppmの範囲の濃度で存在する
第4級アンモニウム化合物;及び (e)オレフィン系、アセチレン系、イミン系及びニト
リル系からなる群から選んだ、非妨害性置換基をもつ不
飽和化合物、たゞし該不飽和化合物対前記2,6−ジ置
換フェノール化合物のモル比は0.001ないし0.1
5の範囲である; を含んでなる触媒組成物の触媒有効量の存在下でかつ前
記第3級アミン以外のモノアミンの実質的な不存在下
で、酸化的カップリングさせることからなる低臭気性を
もつポリフェニレンエーテルの製造法。 - 【請求項18】 つぎの成分: (a)銅化合物; (b)2個のアミノ基が少なくとも2個でかつ3個を超
えない炭素原子によって分離されておりかつアミノ窒素
原子が結合されている炭素原子が脂肪族であるタイプの
ジアミン; (c)第3級アミン; (d)第4級アンモニウム化合物;及び (e)オレフィン系、アセチレン系、イミン系及びニト
リル系からなる群から選んだ、非妨害性置換基をもつ不
飽和化合物; を含んでなる、低臭気性ポリフェニレンエーテル製造用
触媒組成物。
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