JPH0749500A - 液晶表示素子およびその製造法 - Google Patents
液晶表示素子およびその製造法Info
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- JPH0749500A JPH0749500A JP5195715A JP19571593A JPH0749500A JP H0749500 A JPH0749500 A JP H0749500A JP 5195715 A JP5195715 A JP 5195715A JP 19571593 A JP19571593 A JP 19571593A JP H0749500 A JPH0749500 A JP H0749500A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、液晶を用いた光学変調素子および
その製造法に関するもので配向の不均一の少ない液晶表
示素子および液晶表示素子の製造法を提供する。 【構成】 電極上に40℃以上150 ℃以下のガラス転移点
をもつ有機高分子膜を有する液晶表示素子を作成する。
また、電極上に少なくともガラス転移点以上でゴム弾性
を示す有機高分子膜を有する液晶表示素子である。さら
に液晶と接する面に電極を設けた一対の基板のうち少な
くとも一方の電極上に、40℃以上 150℃以下のガラス転
移点を有する有機高分子膜を塗布し、一対の電極間にカ
イラルネマティック相を有する液晶を挟み込んだ後、液
晶をNI点またはガラス転移点のどちらか高い方の温度以
上に加熱し、その後室温に冷却して液晶表示素子を製造
する。
その製造法に関するもので配向の不均一の少ない液晶表
示素子および液晶表示素子の製造法を提供する。 【構成】 電極上に40℃以上150 ℃以下のガラス転移点
をもつ有機高分子膜を有する液晶表示素子を作成する。
また、電極上に少なくともガラス転移点以上でゴム弾性
を示す有機高分子膜を有する液晶表示素子である。さら
に液晶と接する面に電極を設けた一対の基板のうち少な
くとも一方の電極上に、40℃以上 150℃以下のガラス転
移点を有する有機高分子膜を塗布し、一対の電極間にカ
イラルネマティック相を有する液晶を挟み込んだ後、液
晶をNI点またはガラス転移点のどちらか高い方の温度以
上に加熱し、その後室温に冷却して液晶表示素子を製造
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶を用いた光学変調
素子およびその製造法に関する。
素子およびその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】走査電極と信号電極をマトリクス状に配
列しその電極間に液晶を充填して多数の画素を形成し画
像を表示する液晶表示素子はよく知られている。ここで
よく用いられている液晶はツイスティッドネマティック
型(TN型)液晶であった。TN型液晶を用いる場合は
電極上にポリイミドからなる薄膜を形成し、ラビングし
て液晶配向膜として用いるのが普通であった。しかしな
がらこのようなTN液晶セルは視野角がせまいという問
題があった。
列しその電極間に液晶を充填して多数の画素を形成し画
像を表示する液晶表示素子はよく知られている。ここで
よく用いられている液晶はツイスティッドネマティック
型(TN型)液晶であった。TN型液晶を用いる場合は
電極上にポリイミドからなる薄膜を形成し、ラビングし
て液晶配向膜として用いるのが普通であった。しかしな
がらこのようなTN液晶セルは視野角がせまいという問
題があった。
【0003】近年、視野角拡大を目的とする提案が都
甲、小林らにより提案されている(SID93 ダイジ
ェスト第622 頁〜625 頁)。この場合、一対の電極上に
ポリイミド配向膜を形成後ラビングしないで一定の空隙
を保ちながらカイラルネマティック液晶を注入して液晶
セルを作成するものである。この場合、カイラルネマテ
ィック液晶のカイラルピッチをセル厚の4倍に設定する
ことで平行ニコルまたは直交ニコル下で電圧印加による
光のスイッチが可能となる。
甲、小林らにより提案されている(SID93 ダイジ
ェスト第622 頁〜625 頁)。この場合、一対の電極上に
ポリイミド配向膜を形成後ラビングしないで一定の空隙
を保ちながらカイラルネマティック液晶を注入して液晶
セルを作成するものである。この場合、カイラルネマテ
ィック液晶のカイラルピッチをセル厚の4倍に設定する
ことで平行ニコルまたは直交ニコル下で電圧印加による
光のスイッチが可能となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこの都甲
らによるラビングしない液晶表示セルは液晶を等方相で
セルに注入しなければならず、液晶セル全体を等方相温
度以上に加熱する設備が必要になるという欠点ならびに
注入時に加熱・冷却をおこなうために注入工程の時間が
増加するという欠点があり現実的ではなかった。このラ
ビングしない液晶セル作成について従来からTN液晶表
示素子を作成する際に用いられている、液晶をネマティ
ック相で注入する方法を用いた場合は、注入時の液晶の
流れにより液晶が部分的に配向するため、肉眼で見て均
一性に乏しいという欠点があった。またこのように流れ
で配向した液晶セルは等方相で数時間保っても、その不
均一性は完全に解消されることはなかった。
らによるラビングしない液晶表示セルは液晶を等方相で
セルに注入しなければならず、液晶セル全体を等方相温
度以上に加熱する設備が必要になるという欠点ならびに
注入時に加熱・冷却をおこなうために注入工程の時間が
増加するという欠点があり現実的ではなかった。このラ
ビングしない液晶セル作成について従来からTN液晶表
示素子を作成する際に用いられている、液晶をネマティ
ック相で注入する方法を用いた場合は、注入時の液晶の
流れにより液晶が部分的に配向するため、肉眼で見て均
一性に乏しいという欠点があった。またこのように流れ
で配向した液晶セルは等方相で数時間保っても、その不
均一性は完全に解消されることはなかった。
【0005】本発明は、このような従来技術の欠点を改
善するためになされたものであり、ラビングしない液晶
表示素子の配向の不均一の少ない液晶表示素子および液
晶表示素子の製造法を提供することが本発明の課題であ
る。
善するためになされたものであり、ラビングしない液晶
表示素子の配向の不均一の少ない液晶表示素子および液
晶表示素子の製造法を提供することが本発明の課題であ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は液晶と接する面
に電極を設けた一対の基板間に液晶が挟み込まれている
液晶表示素子において、電極上にガラス転移点を有する
有機高分子膜を有し、前記有機高分子膜のガラス転移点
が40℃以上150℃以下であることを特徴とする液晶表示
素子である。
に電極を設けた一対の基板間に液晶が挟み込まれている
液晶表示素子において、電極上にガラス転移点を有する
有機高分子膜を有し、前記有機高分子膜のガラス転移点
が40℃以上150℃以下であることを特徴とする液晶表示
素子である。
【0007】また、本発明は液晶と接する面に電極を設
けた一対の基板間に液晶が挟み込まれている液晶表示素
子において、電極上にガラス転移点を有する有機高分子
膜を有し、前記有機高分子膜が前記ガラス転移点以上で
ゴム弾性を示すことを特徴とする液晶表示素子である。
けた一対の基板間に液晶が挟み込まれている液晶表示素
子において、電極上にガラス転移点を有する有機高分子
膜を有し、前記有機高分子膜が前記ガラス転移点以上で
ゴム弾性を示すことを特徴とする液晶表示素子である。
【0008】さらに液晶と接する面に電極を設けた一対
の基板のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点
を有する有機高分子膜であってそのガラス転移点が40℃
以上150℃以下である有機高分子膜を塗布し、一対の電
極間にカイラルネマティック相を有する液晶を挟み込ん
だ後、液晶をNI点またはガラス転移点のどちらか高い方
の温度以上に加熱し、その後室温に冷却することを特徴
とする液晶表示素子の製造法である。
の基板のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点
を有する有機高分子膜であってそのガラス転移点が40℃
以上150℃以下である有機高分子膜を塗布し、一対の電
極間にカイラルネマティック相を有する液晶を挟み込ん
だ後、液晶をNI点またはガラス転移点のどちらか高い方
の温度以上に加熱し、その後室温に冷却することを特徴
とする液晶表示素子の製造法である。
【0009】
【作用】本発明の液晶表示素子は電極上にガラス転移点
が40℃以上150 ℃以下の有機高分子膜あるいは、ガラス
転移点以上でゴム弾性を示す有機高分子膜を形成したも
のである。このような液晶表示素子の場合、液晶を2枚
の電極間に室温で挟み込んだときに生じる流れによる配
向乱れは、加熱によりなくすことが可能である。
が40℃以上150 ℃以下の有機高分子膜あるいは、ガラス
転移点以上でゴム弾性を示す有機高分子膜を形成したも
のである。このような液晶表示素子の場合、液晶を2枚
の電極間に室温で挟み込んだときに生じる流れによる配
向乱れは、加熱によりなくすことが可能である。
【0010】流れによる配向乱れは、液晶が配向膜表面
に流れの方向に沿って吸着し配向膜に変形を与えている
ことにより生じていると考えられる。配向膜が変形して
いるため液晶セルを液晶のNI点以上に加熱しても、この
配向乱れは残存する。
に流れの方向に沿って吸着し配向膜に変形を与えている
ことにより生じていると考えられる。配向膜が変形して
いるため液晶セルを液晶のNI点以上に加熱しても、この
配向乱れは残存する。
【0011】しかし本発明の液晶セルで有機高分子膜が
ガラス転移点以上に加熱された場合は、分子鎖がある程
度自由に動くことができる。ここで液晶をNI点以上に加
熱し等方性液体とすることで液晶性物質はランダムにブ
ラウン運動する。このとき電極間に液晶を挟み込んだと
きに液晶の流れにより生じた有機高分子鎖の変形は、解
消され有機高分子鎖の配列はランダムになる。そのた
め、本発明の液晶表示素子は流れによる配向乱れを原因
とする肉眼で観測できる不均一さはない。
ガラス転移点以上に加熱された場合は、分子鎖がある程
度自由に動くことができる。ここで液晶をNI点以上に加
熱し等方性液体とすることで液晶性物質はランダムにブ
ラウン運動する。このとき電極間に液晶を挟み込んだと
きに液晶の流れにより生じた有機高分子鎖の変形は、解
消され有機高分子鎖の配列はランダムになる。そのた
め、本発明の液晶表示素子は流れによる配向乱れを原因
とする肉眼で観測できる不均一さはない。
【0012】
【実施例】図1は本発明の液晶表示素子の一例の断面図
である。液晶1と接する面に透明電極2を有する基板3
間に液晶1を挟み込んで液晶表示素子を作成してある。
この液晶表示素子は、基板3の液晶1と接しない面には
偏光板4を備えている。本発明の液晶表示素子は従来か
らあるものと同様に、偏光板4および液晶1さらにもう
一つの偏光板4を通る光の透過率が液晶1へかける電界
の大きさにより変化するものである。2つの偏光板4の
配置方法は平行または垂直が最も好ましい。本発明の液
晶表示素子は基板3の透明電極2上にガラス転移点を有
する有機高分子膜5をもっている。
である。液晶1と接する面に透明電極2を有する基板3
間に液晶1を挟み込んで液晶表示素子を作成してある。
この液晶表示素子は、基板3の液晶1と接しない面には
偏光板4を備えている。本発明の液晶表示素子は従来か
らあるものと同様に、偏光板4および液晶1さらにもう
一つの偏光板4を通る光の透過率が液晶1へかける電界
の大きさにより変化するものである。2つの偏光板4の
配置方法は平行または垂直が最も好ましい。本発明の液
晶表示素子は基板3の透明電極2上にガラス転移点を有
する有機高分子膜5をもっている。
【0013】液晶1は、ネマティック液晶にカイラル剤
を少量添加したカイラルネマティック液晶を用いる。ネ
マティック液晶およびカイラル剤はツイスティッドネマ
ティック(TN)液晶表示素子やスーパーツイスティッ
ドネマティック(STN)液晶表示素子に用いられてい
る公知のものをそのまま用いることができる。カイラル
剤は、たとえばBDH社製CB15、C15、メルク社
製CN、R811、S811、R1011、S101
1、チッソ社製CM−19、CM、CM−20、CM−
21、CM−22などを用いることができる。用いる液
晶1の(液晶層厚/ピッチ)は0.1〜0.75程度が好まし
く、0.25が液晶表示素子の色付きが少なく最適である。
を少量添加したカイラルネマティック液晶を用いる。ネ
マティック液晶およびカイラル剤はツイスティッドネマ
ティック(TN)液晶表示素子やスーパーツイスティッ
ドネマティック(STN)液晶表示素子に用いられてい
る公知のものをそのまま用いることができる。カイラル
剤は、たとえばBDH社製CB15、C15、メルク社
製CN、R811、S811、R1011、S101
1、チッソ社製CM−19、CM、CM−20、CM−
21、CM−22などを用いることができる。用いる液
晶1の(液晶層厚/ピッチ)は0.1〜0.75程度が好まし
く、0.25が液晶表示素子の色付きが少なく最適である。
【0014】基板3としては可視光で透明であればよ
い。すなわち基板3としてはガラス、アクリル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂等公知の透明物質を用いることがで
きる。この基板3上に蒸着・スパッタ・CVD等の手段
で酸化スズやITO(インジウムスズオキシド)による
透明電極2を形成する。さらにこの表面にガラス転移点
を有する有機高分子膜5を作成する。
い。すなわち基板3としてはガラス、アクリル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂等公知の透明物質を用いることがで
きる。この基板3上に蒸着・スパッタ・CVD等の手段
で酸化スズやITO(インジウムスズオキシド)による
透明電極2を形成する。さらにこの表面にガラス転移点
を有する有機高分子膜5を作成する。
【0015】本発明のガラス転移点を有する有機高分子
膜5はどのようなタイプでも構わないが、ガラス転移点
が40℃以上150 ℃以下であることが好ましい。ガラス転
移点が40℃未満の場合は室温で液晶表示素子を駆動中に
液晶配向性が変化してしまうので不適である。またガラ
ス転移点が150 ℃より大きい場合は、配向乱れをなくす
ためのガラス転移点以上の加熱処理の間に液晶1やシー
ル樹脂等に変化が生じるので好ましくない。
膜5はどのようなタイプでも構わないが、ガラス転移点
が40℃以上150 ℃以下であることが好ましい。ガラス転
移点が40℃未満の場合は室温で液晶表示素子を駆動中に
液晶配向性が変化してしまうので不適である。またガラ
ス転移点が150 ℃より大きい場合は、配向乱れをなくす
ためのガラス転移点以上の加熱処理の間に液晶1やシー
ル樹脂等に変化が生じるので好ましくない。
【0016】また本発明のガラス転移点を有する有機高
分子膜5はガラス転移点以上でゴム弾性を示すものであ
れば、無定形、結晶性、部分結晶性高分子などのどれで
も構わない。ここでゴム弾性とは伸びが100%以上で、外
力を除くと原型にほぼ回復するものをいう。さらに本発
明の有機高分子膜5はガラス転移温度以下で液晶の配向
を固定化するために部分結晶性高分子あるいは架橋高分
子となっているべきである。ただし、液晶に溶解するよ
うな樹脂や著しく着色している樹脂が本発明の有機高分
子膜5としては用いることができないのは明白である。
分子膜5はガラス転移点以上でゴム弾性を示すものであ
れば、無定形、結晶性、部分結晶性高分子などのどれで
も構わない。ここでゴム弾性とは伸びが100%以上で、外
力を除くと原型にほぼ回復するものをいう。さらに本発
明の有機高分子膜5はガラス転移温度以下で液晶の配向
を固定化するために部分結晶性高分子あるいは架橋高分
子となっているべきである。ただし、液晶に溶解するよ
うな樹脂や著しく着色している樹脂が本発明の有機高分
子膜5としては用いることができないのは明白である。
【0017】本発明で用いることのできる有機高分子膜
5としては、たとえばポリメチルメタクリレート、ポリ
(t−ブチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポ
リシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリウレタン系材料、ポリ(2ーヒドロキシ
エチルメタクリレート)、ポリ(イソボルニルメタクリ
レート)などや、これらの共重合体、一部架橋物などで
ガラス転移点が40℃以上150 ℃以下のものを用いること
ができる。一般にガラス転移点を下げるために低分子の
可塑剤を添加することがおこなわれているが、本発明の
有機高分子膜5では低分子の可塑剤を添加した有機高分
子膜をもちいることは好ましくない。低分子の可塑剤入
り有機高分子膜を用いて液晶表示素子を作成した場合、
可塑剤が低分子でなおかつガラス転移点が0 ℃以下と低
いため、液晶中に可塑剤が溶け出してきて表示に悪影響
を及ぼすことがあるからである。また、有機高分子膜の
液晶を配向させる能力については特に考慮する必要はな
い。側鎖にアルキル鎖やトリフロロメチル基を有する有
機高分子膜はたいてい液晶を垂直配向させる性質を有し
ており、それ以外の有機高分子膜は、水平配向性を有し
ている。本発明の液晶表示素子ではどちらを用いること
もできる。しかし液晶を垂直配向させる膜を用いる場合
は誘電率異方性が負の液晶を、水平配向の場合は正の液
晶を用いる必要があるのはいうまでもない。
5としては、たとえばポリメチルメタクリレート、ポリ
(t−ブチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポ
リシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリウレタン系材料、ポリ(2ーヒドロキシ
エチルメタクリレート)、ポリ(イソボルニルメタクリ
レート)などや、これらの共重合体、一部架橋物などで
ガラス転移点が40℃以上150 ℃以下のものを用いること
ができる。一般にガラス転移点を下げるために低分子の
可塑剤を添加することがおこなわれているが、本発明の
有機高分子膜5では低分子の可塑剤を添加した有機高分
子膜をもちいることは好ましくない。低分子の可塑剤入
り有機高分子膜を用いて液晶表示素子を作成した場合、
可塑剤が低分子でなおかつガラス転移点が0 ℃以下と低
いため、液晶中に可塑剤が溶け出してきて表示に悪影響
を及ぼすことがあるからである。また、有機高分子膜の
液晶を配向させる能力については特に考慮する必要はな
い。側鎖にアルキル鎖やトリフロロメチル基を有する有
機高分子膜はたいてい液晶を垂直配向させる性質を有し
ており、それ以外の有機高分子膜は、水平配向性を有し
ている。本発明の液晶表示素子ではどちらを用いること
もできる。しかし液晶を垂直配向させる膜を用いる場合
は誘電率異方性が負の液晶を、水平配向の場合は正の液
晶を用いる必要があるのはいうまでもない。
【0018】本発明のガラス転移点を有する有機高分子
膜は透明電極を有する基板上に溶液状態で塗布されたの
ち溶媒を除去することにより作成される。塗布方法とし
てはスピンコート法や印刷法、ディップ法など公知の方
法を用いることができる。基板上に製膜したガラス転移
点を有する有機高分子膜は、溶媒を除去するために加熱
する必要がある。加熱温度は溶媒によって異なるが、溶
媒としてN−メチルピロリドンを用いた場合は100 ℃の
ホットプレート上で1分間加熱する程度で十分である。
本発明のガラス転移点を有する有機高分子膜の膜厚は特
に限定しない。しかしながら膜厚は20nm以上200nm 以下
にするのが最適である。膜厚が20nm未満だと膜が全面を
均一に覆うことができなくなり、200nm より厚い場合は
膜による電圧降下が大きくなり、液晶表示素子としての
表示品位が低下する。
膜は透明電極を有する基板上に溶液状態で塗布されたの
ち溶媒を除去することにより作成される。塗布方法とし
てはスピンコート法や印刷法、ディップ法など公知の方
法を用いることができる。基板上に製膜したガラス転移
点を有する有機高分子膜は、溶媒を除去するために加熱
する必要がある。加熱温度は溶媒によって異なるが、溶
媒としてN−メチルピロリドンを用いた場合は100 ℃の
ホットプレート上で1分間加熱する程度で十分である。
本発明のガラス転移点を有する有機高分子膜の膜厚は特
に限定しない。しかしながら膜厚は20nm以上200nm 以下
にするのが最適である。膜厚が20nm未満だと膜が全面を
均一に覆うことができなくなり、200nm より厚い場合は
膜による電圧降下が大きくなり、液晶表示素子としての
表示品位が低下する。
【0019】本発明のガラス転移点を有する有機高分子
膜は基板上の透明電極を有する面に作成される。電極と
配向膜の間に上下基板のショート防止のため絶縁層が形
成されてあっても構わない。絶縁層はどのような材料で
あっても構わないが、たとえば酸化珪素、酸化チタンが
絶縁性と透明性で優れている。
膜は基板上の透明電極を有する面に作成される。電極と
配向膜の間に上下基板のショート防止のため絶縁層が形
成されてあっても構わない。絶縁層はどのような材料で
あっても構わないが、たとえば酸化珪素、酸化チタンが
絶縁性と透明性で優れている。
【0020】作成されたガラス転移点を有する有機高分
子膜はラビング処理等の配向処理をおこなう必要はな
い。ガラス転移点を有する有機高分子膜と透明電極を有
する2枚の基板を、それぞれの基板上の配向膜が相対す
るように適切な間隔を保持してその間隙に液晶を挟み込
む。この挟み込む方法としては、真空注入法や液晶滴下
法などの公知の方法を用いることができる。2枚の基板
の間隔を一定に保つために通常ガラスあるいは合成樹脂
の球状粒子を基板間に配置するのが一般的である。また
液晶を挟み込む前または挟み込むのと同時に2枚の基板
を接着剤を用いて貼り合わせるのが好ましい。接着剤と
してはエポキシ樹脂がよく用いられる。
子膜はラビング処理等の配向処理をおこなう必要はな
い。ガラス転移点を有する有機高分子膜と透明電極を有
する2枚の基板を、それぞれの基板上の配向膜が相対す
るように適切な間隔を保持してその間隙に液晶を挟み込
む。この挟み込む方法としては、真空注入法や液晶滴下
法などの公知の方法を用いることができる。2枚の基板
の間隔を一定に保つために通常ガラスあるいは合成樹脂
の球状粒子を基板間に配置するのが一般的である。また
液晶を挟み込む前または挟み込むのと同時に2枚の基板
を接着剤を用いて貼り合わせるのが好ましい。接着剤と
してはエポキシ樹脂がよく用いられる。
【0021】さらにこのようにして基板間に液晶を挟み
込んだのち、液晶のNI点あるいは基板上に形成した有機
高分子膜のガラス転移点のどちらか高い方の温度にこの
液晶を挟持した基板を保持する。保持する時間は特に限
定しないが、熱風乾燥器を用いる場合は2時間程度で十
分である。液晶セルをあまり長い時間高温で保持すると
液晶が一部分解する可能性があるので好ましくない。
込んだのち、液晶のNI点あるいは基板上に形成した有機
高分子膜のガラス転移点のどちらか高い方の温度にこの
液晶を挟持した基板を保持する。保持する時間は特に限
定しないが、熱風乾燥器を用いる場合は2時間程度で十
分である。液晶セルをあまり長い時間高温で保持すると
液晶が一部分解する可能性があるので好ましくない。
【0022】以下に具体的な実施例を述べる。 (実施例1)ITOを用いた面積2cm2の円形電極を有す
るガラス基板上の電極を有する表面上にガラス転移温度
81℃のポリエチレンテレフタレート(サイエンティフィ
ックポリマープロダクツ社製)のニトロベンゼン溶液を
塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポリエ
チレンテレフタレートで50μmのフィルムを作成し、ガ
ラス転移点以上で伸びを測定したところ、200%以上あり
ゴム弾性を示した。また、フィルムはX線回折ピークを
示し一部結晶性を有していた。
るガラス基板上の電極を有する表面上にガラス転移温度
81℃のポリエチレンテレフタレート(サイエンティフィ
ックポリマープロダクツ社製)のニトロベンゼン溶液を
塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポリエ
チレンテレフタレートで50μmのフィルムを作成し、ガ
ラス転移点以上で伸びを測定したところ、200%以上あり
ゴム弾性を示した。また、フィルムはX線回折ピークを
示し一部結晶性を有していた。
【0023】さらにこのポリエチレンテレフタレート膜
を形成した基板2枚を配向膜が相対するように組み合わ
せた。基板の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキ
シ樹脂で一箇所を除きシールしたのち、真空注入法によ
りNI点64℃のネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.
メルク社製)を基板間に封入して液晶表示素子を作成し
た。ここで注入した液晶は、カイラル剤(商品名R81
1、E.メルク社製)を液晶のピッチが30μmになるよ
うに添加したものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器
中120 ℃で1時間保持したのち室温に冷却した。
を形成した基板2枚を配向膜が相対するように組み合わ
せた。基板の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキ
シ樹脂で一箇所を除きシールしたのち、真空注入法によ
りNI点64℃のネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.
メルク社製)を基板間に封入して液晶表示素子を作成し
た。ここで注入した液晶は、カイラル剤(商品名R81
1、E.メルク社製)を液晶のピッチが30μmになるよ
うに添加したものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器
中120 ℃で1時間保持したのち室温に冷却した。
【0024】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
【0025】(実施例2)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点150 ℃で平均分子量64000 のポリカーボネー
ト(サイエンティフィックポリマープロダクツ社製)の
ジメチルホルムアミド溶液を塗布して乾燥し、膜厚70nm
の膜を作成した。このポリカーボネートで50μmのフィ
ルムを作成し、ガラス転移点以上で伸びを測定したとこ
ろ、200%以上ありゴム弾性を示した。また、フィルムは
X線回折ピークを示し一部結晶性を有していた。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点150 ℃で平均分子量64000 のポリカーボネー
ト(サイエンティフィックポリマープロダクツ社製)の
ジメチルホルムアミド溶液を塗布して乾燥し、膜厚70nm
の膜を作成した。このポリカーボネートで50μmのフィ
ルムを作成し、ガラス転移点以上で伸びを測定したとこ
ろ、200%以上ありゴム弾性を示した。また、フィルムは
X線回折ピークを示し一部結晶性を有していた。
【0026】さらにこのポリカーボネート膜を形成した
基板2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板
の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一
箇所を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃の
ネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)
を基板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注
入した液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メル
ク社製)を液晶のピッチが30μmになるように添加した
ものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中155 ℃で1
時間保持したのち室温に冷却した。
基板2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板
の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一
箇所を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃の
ネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)
を基板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注
入した液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メル
ク社製)を液晶のピッチが30μmになるように添加した
ものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中155 ℃で1
時間保持したのち室温に冷却した。
【0027】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
【0028】(実施例3)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点55℃の熱可塑性ポリウレタン樹脂(商品名ダ
イアリィMS5510、三菱重工製)のジメチルホルム
アミドとN−メチルピロリドンの混合溶液を塗布して乾
燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポリウレタン樹脂
で50μmのフィルムを作成し、ガラス転移点以上で伸び
を測定したところ、400%以上ありゴム弾性を示した。ま
た、フィルムはX線回折ピークを示し一部結晶性を有し
ていた。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点55℃の熱可塑性ポリウレタン樹脂(商品名ダ
イアリィMS5510、三菱重工製)のジメチルホルム
アミドとN−メチルピロリドンの混合溶液を塗布して乾
燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポリウレタン樹脂
で50μmのフィルムを作成し、ガラス転移点以上で伸び
を測定したところ、400%以上ありゴム弾性を示した。ま
た、フィルムはX線回折ピークを示し一部結晶性を有し
ていた。
【0029】さらにこのポリウレタン膜を形成した基板
2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間
隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所
を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマ
ティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)を基
板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入し
た液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中80℃で1時間保
持したのち室温に冷却した。
2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間
隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所
を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマ
ティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)を基
板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入し
た液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中80℃で1時間保
持したのち室温に冷却した。
【0030】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
【0031】(実施例4)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点54℃のポリベンジルメタクリレート(サイエ
ンティフィックポリマープロダクツ社製)のトルエン溶
液を塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポ
リベンジルメタクリレート樹脂で50μmのフィルムを作
成し、ガラス転移点以上で伸びを測定したところ、150%
以上ありゴム弾性を示した。また、フィルムはX線回折
ピークを示し一部結晶性を有していた。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点54℃のポリベンジルメタクリレート(サイエ
ンティフィックポリマープロダクツ社製)のトルエン溶
液を塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜を作成した。このポ
リベンジルメタクリレート樹脂で50μmのフィルムを作
成し、ガラス転移点以上で伸びを測定したところ、150%
以上ありゴム弾性を示した。また、フィルムはX線回折
ピークを示し一部結晶性を有していた。
【0032】さらにこのポリベンジルメタクリレート膜
を形成した基板2枚を配向膜が相対するように組み合わ
せた。基板の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキ
シ樹脂で一箇所を除きシールしたのち真空注入法により
NI点64℃のネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メ
ルク社製)を基板間に封入して液晶表示素子を作成し
た。ここで注入した液晶は、カイラル剤(商品名R81
1、E.メルク社製)を液晶のピッチが30μmになるよ
うに添加したものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器
中80℃で1時間保持したのち室温に冷却した。
を形成した基板2枚を配向膜が相対するように組み合わ
せた。基板の間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキ
シ樹脂で一箇所を除きシールしたのち真空注入法により
NI点64℃のネマティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メ
ルク社製)を基板間に封入して液晶表示素子を作成し
た。ここで注入した液晶は、カイラル剤(商品名R81
1、E.メルク社製)を液晶のピッチが30μmになるよ
うに添加したものを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器
中80℃で1時間保持したのち室温に冷却した。
【0033】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
【0034】(実施例5)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点82℃の部分架橋型熱可塑性ウレタン樹脂(商
品名テキシン192A、モーベイケミカル社製)のN−
メチルピロリドン溶液を塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜
を作成した。このウレタン樹脂で50μmのフィルムを作
成し、伸びを測定したところ、400%以上であった。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上にガ
ラス転移点82℃の部分架橋型熱可塑性ウレタン樹脂(商
品名テキシン192A、モーベイケミカル社製)のN−
メチルピロリドン溶液を塗布して乾燥し、膜厚70nmの膜
を作成した。このウレタン樹脂で50μmのフィルムを作
成し、伸びを測定したところ、400%以上であった。
【0035】さらにこのナイロン6/6膜を形成した基
板2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の
間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇
所を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネ
マティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)を
基板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入
した液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク
社製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したも
のを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中100℃で1時
間保持したのち室温に冷却した。
板2枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の
間隔を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇
所を除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネ
マティック液晶(商品名ZLI2419 、E.メルク社製)を
基板間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入
した液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク
社製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したも
のを用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中100℃で1時
間保持したのち室温に冷却した。
【0036】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。
【0037】(比較例1)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。こ
の膜を280℃に加熱したところ黒変し分解してしまった
のでゴム弾性はないと判断した。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。こ
の膜を280℃に加熱したところ黒変し分解してしまった
のでゴム弾性はないと判断した。
【0038】さらにこのポリイミド膜を形成した基板2
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルは高温に保持しなかった。
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルは高温に保持しなかった。
【0039】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光の透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。しかし電圧OFF時にもON時にも注入時の液
晶の流れに沿った筋が観測できた。そのため電圧OFF
時には筋に沿って色づき、電圧ON時も均一な黒表示に
はならなかった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光の透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。しかし電圧OFF時にもON時にも注入時の液
晶の流れに沿った筋が観測できた。そのため電圧OFF
時には筋に沿って色づき、電圧ON時も均一な黒表示に
はならなかった。
【0040】(比較例2)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。
【0041】さらにこのポリイミド膜を形成した基板2
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中80℃で1時間保
持したのち室温に冷却した。
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中80℃で1時間保
持したのち室温に冷却した。
【0042】この液晶セルを偏光軸が直交するするよう
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。しかし電圧OFF時にもON時にも注入時の液
晶の流れに沿った筋が観測できた。そのため電圧ON時
も均一な黒表示にはならなかった。
に配置した2枚の偏光板間に挟持した。さらにこの液晶
表示素子に5V、60Hzの矩形波を印加したところ電極部分
は光が透過せず、それ以外の部分は光が透過する状態と
なった。しかし電圧OFF時にもON時にも注入時の液
晶の流れに沿った筋が観測できた。そのため電圧ON時
も均一な黒表示にはならなかった。
【0043】(比較例3)ITOを用いた面積2cm2の円
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。
形電極を有するガラス基板上の電極を有する表面上に硬
化物のガラス転移点266 ℃のポリイミドワニス(商品名
LQ−S100、日立化成製)のN−メチルピロリドン
溶液を塗布しホットプレートを用いて溶媒をとばしたの
ち250 ℃で1時間硬化し、膜厚70nmの膜を作成した。
【0044】さらにこのポリイミド膜を形成した基板2
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中280 ℃で1時間
保持したところ、液晶セルが破損し液晶がセル外へ散逸
してしまったため液晶セルが作成できなかった。
枚を配向膜が相対するように組み合わせた。基板の間隔
を7.5 μmに保ち基板の周囲をエポキシ樹脂で一箇所を
除きシールしたのち真空注入法によりNI点64℃のネマテ
ィック液晶(商品名ZLI2419、E.メルク社製)を基板
間に封入して液晶表示素子を作成した。ここで注入した
液晶は、カイラル剤(商品名R811、E.メルク社
製)を液晶のピッチが30μmになるように添加したもの
を用いた。この液晶セルを熱風乾燥器中280 ℃で1時間
保持したところ、液晶セルが破損し液晶がセル外へ散逸
してしまったため液晶セルが作成できなかった。
【0045】これらの実施例1〜5および比較例1〜2
の液晶セルの比較検討をするために液晶配向性を調べ
た。配向性は電圧無印加持の目視観察で配向欠陥が見ら
れるかどうかで判断した。その結果を(表1)に示し
た。
の液晶セルの比較検討をするために液晶配向性を調べ
た。配向性は電圧無印加持の目視観察で配向欠陥が見ら
れるかどうかで判断した。その結果を(表1)に示し
た。
【0046】
【表1】
【0047】本発明のガラス転移点が40℃以上150 ℃以
下の有機高分子膜あるいはガラス転移点以上でゴム弾性
を示す有機高分子膜を用いた液晶表示素子は、液晶配向
性が良好であり液晶注入によるとみられる流れ方向の液
晶の配向不均一は全く見られなかった。
下の有機高分子膜あるいはガラス転移点以上でゴム弾性
を示す有機高分子膜を用いた液晶表示素子は、液晶配向
性が良好であり液晶注入によるとみられる流れ方向の液
晶の配向不均一は全く見られなかった。
【0048】
【発明の効果】以上のように本発明のガラス転移点が40
℃以上150 ℃以下の有機高分子膜あるいはガラス転移点
以上でゴム弾性を示す有機高分子膜を用いた液晶表示素
子は、液晶のNI点あるいは有機高分子膜のガラス転移点
以上で加熱することにより、液晶の配向不均一の少ない
液晶表示素子を作成することが可能になった。
℃以上150 ℃以下の有機高分子膜あるいはガラス転移点
以上でゴム弾性を示す有機高分子膜を用いた液晶表示素
子は、液晶のNI点あるいは有機高分子膜のガラス転移点
以上で加熱することにより、液晶の配向不均一の少ない
液晶表示素子を作成することが可能になった。
【0049】なお、以上の発明では液晶材料として液晶
層厚を液晶ピッチで割った値が0.25である場合の液晶表
示素子を例にとって説明したが、液晶層厚/液晶ピッチ
はこれに限定されるものではない。
層厚を液晶ピッチで割った値が0.25である場合の液晶表
示素子を例にとって説明したが、液晶層厚/液晶ピッチ
はこれに限定されるものではない。
【0050】また、以上の発明では透過型液晶表示素子
を例にとって説明したが、一方の基板上に反射層をも
つ、偏光板が1枚の反射型液晶表示素子などにも用いる
ことができる。
を例にとって説明したが、一方の基板上に反射層をも
つ、偏光板が1枚の反射型液晶表示素子などにも用いる
ことができる。
【図1】本発明の液晶表示素子の一例の断面図
1 液晶層 2 透明電極 3 基板 4 偏光板 5 ガラス転移点を有する有機高分子膜
Claims (10)
- 【請求項1】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
間に液晶が挟み込まれている液晶表示素子において、電
極上にガラス転移点を有する有機高分子膜を有し、前記
有機高分子膜のガラス転移点が40℃以上150℃以下であ
ることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項2】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
間に液晶が挟み込まれている液晶表示素子において、電
極上にガラス転移点を有する有機高分子膜を有し、前記
有機高分子膜が少なくとも前記ガラス転移点以上でゴム
弾性を示すことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項3】前記有機高分子膜が部分結晶性高分子膜で
あることを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示
素子。 - 【請求項4】前記有機高分子膜が架橋高分子膜であるこ
とを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示素子。 - 【請求項5】前記有機高分子膜が一軸配向性をもたない
ことを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示素
子。 - 【請求項6】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点を有す
る有機高分子膜であってそのガラス転移点が40℃以上 1
50℃以下である有機高分子膜を塗布し、一対の電極間に
カイラルネマティック相を有する液晶を挟み込んだ後、
液晶をNI点またはガラス転移点のどちらか高い方の温度
以上に加熱し、その後室温に冷却することを特徴とする
液晶表示素子の製造法。 - 【請求項7】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点を有す
る有機高分子膜であってそのガラス転移点以上でゴム弾
性を示す有機高分子膜を塗布し、一対の電極間にカイラ
ルネマティック相を有する液晶を挟み込んだ後、液晶を
NI点またはガラス転移点のどちらか高い方の温度以上に
加熱し、その後室温に冷却することを特徴とする液晶表
示素子の製造法。 - 【請求項8】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点を有す
る有機高分子膜であってなおかつ部分結晶性高分子膜で
ある有機高分子膜を塗布し、一対の電極間にカイラルネ
マティック相を有する液晶を挟み込んだ後、液晶をNI点
またはガラス転移点のどちらか高い方の温度以上に加熱
し、その後室温に冷却することを特徴とする液晶表示素
子の製造法。 - 【請求項9】液晶と接する面に電極を設けた一対の基板
のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点を有す
る有機高分子膜であってなおかつ架橋高分子膜である有
機高分子膜を塗布し、一対の電極間にカイラルネマティ
ック相を有する液晶を挟み込んだ後、液晶をNI点または
ガラス転移点のどちらか高い方の温度以上に加熱し、そ
の後室温に冷却することを特徴とする液晶表示素子の製
造法。 - 【請求項10】液晶と接する面に電極を設けた一対の基
板のうち少なくとも一方の電極上に、ガラス転移点を有
する有機高分子膜を塗布し一軸配向処理を施さずに、一
対の電極間にカイラルネマティック相を有する液晶を挟
み込んだ後、液晶をNI点またはガラス転移点のどちらか
高い方の温度以上に加熱し、その後室温に冷却すること
を特徴とする液晶表示素子の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5195715A JPH0749500A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 液晶表示素子およびその製造法 |
| DE69427668T DE69427668T2 (de) | 1993-08-04 | 1994-08-03 | Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit Orientierungsschicht für willkürliche Ausrichtung |
| EP94112123A EP0637771B1 (en) | 1993-08-04 | 1994-08-03 | Method of producing a liquid crystal display apparatus having a random orientation alignment film |
| US08/285,862 US5446569A (en) | 1993-08-04 | 1994-08-04 | Liquid crystal display apparatus having a random orientation alignment film and a method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5195715A JPH0749500A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 液晶表示素子およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0749500A true JPH0749500A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16345773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5195715A Pending JPH0749500A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-06 | 液晶表示素子およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749500A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100530906B1 (ko) * | 1997-05-16 | 2006-04-06 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 액티브매트릭스형 액정표시장치 |
-
1993
- 1993-08-06 JP JP5195715A patent/JPH0749500A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100530906B1 (ko) * | 1997-05-16 | 2006-04-06 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 액티브매트릭스형 액정표시장치 |
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