JPH07504614A - ガス浄化法またはガス冷却法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ガス浄化法またはガス冷却法および装置技術分野 本発明は、粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス冷却のために、ガスを微細 液滴と接触させる汚染ガス浄化法および熱ガス冷却法に関するものである。微細 液滴は、ガス本流に対して実質的に直角方向の複数の面の中に規則的に配置され るように、本質的に傘状または本質的に線形カーテン状で供給される。また本発 明は前記方法を実施する装置に関するものである。この装置は、汚染ガスおよび ／または熱ガスの導入口と、浄化されたガスおよび／または冷却されたガスの排 出口と、前記の導入口と排出口との間に配置された接触区域とを含む。前記接触 区域は、微細液滴を本質的に傘状または線形カーテン状に噴射するだめの複数の 供給手段を含み、前記供給手段は、ガスの本流方向に本質的に直角の複数の面に 配置される。

本特願において考察される技術的問題点の解決法は、あらゆるサイズのガス浄化 装置、いわゆるスクラバー、およびガス冷却装置、例えば空調基および熱回収装 置に応用する事ができる。しかし最高の需要、従って最大の用途は大型工場、大 型発電所、または大型焼却プラントにある。従って下記の説明において、装置は 工業規模の装置であって、ガス洗浄塔が約１−２０メートルの直径と約１−４０ メートルの高さとを有すると仮定する。下記において便宜上、「洗浄」とは浄化 または冷却またはその両方を指すものとする。

本発明の方法は開放型ガス洗浄塔にのみ応用可能である。いわゆる充填スクラバ ーまたは充填カラムは本発明の方法の接触部分としては使用できない。しかしも ちろんカスケード接続型構造においては、本発明の洗浄方法と例えば充填カラム とを組合わせて使用する事ができる。

本発明の方法は、特に汚染熱ガスからガス浄化と熱回収とを組合わて実施する状 況に好適である。液とガスとの良好な接触は伝熱効果を増進するからである。

技術的背景 粒子またはガス物質を除去するための汚染ガス浄化処理は今日の工業社会におい ては重要な一般的なプロセスである。各種の技術が開発され、今日ではガス浄化 プラントを設計する際に、また非常に特殊な汚染物質を除去する際に選択すべき 種々の方法がある。

しばしば粒子状の汚染物質はダイナミックセパレータ、例えばサイクロン、静電 沈降装置またはバリヤフィルタ、バッグフィルタおよびカセットフィルタによっ て除去される。

ガス汚染物質は一般にガスを粒状物質に転化するためにある種の添剤を使用する 間接的技術によって除去される。例えば、これらの汚染物質を乾燥粒子または湿 潤粒子上に結合させ、あるいは汚染物質をガス状または液状の物質と反応させて 粒子生成物を生じ、この反応生成物を粒子セパレータの中で分離する事によって 除去される。

ガス温度を調節しまたはガスから熱を回収するためにガスを冷却する技術は今日 では重要な一般的なプロセスである。一般に伝熱は、回収型あるいは再生型熱交 換器によって実施され、または熱媒体と冷媒体との間の直接接触によって実施さ れる。本発明はガスと液との間の直接接触による伝熱に関するものであるから、 他の技術については述べない。

多くの点において有効な１つの方法は、ガスを微細液滴の雨の中を通し、または 液体のあふれ流の表面にそって案内するにある。これらの方法は熱ガスを冷却す ると共に、粒子を液体中に捕捉し、また汚染ガスのガス成分を液体中に溶解させ る事ができる。またこの液体は、溶解したガス成分を固体状に転化してこれを液 体から分離しやすくするための物質を含有する事ができる。

液体は通常、洗浄装置の中を循環されるが、液体の一部が一般に連続的に除去さ れてその熱を他の用途に使用し、あるいは汚染物質をガス状または固体状で分離 するために処理され、オプションとして有益物質を回収するために処理され、こ のように冷却されまた処理された液体がガス洗浄プラントの中に再び使用するた めに回収される。

これらのガス洗浄プラントは、ガスが微細液滴にのみ遭遇する開放型基と、ガス がサドル型またはコイル型の小部材を充填された塔を通して流れ、これらの部材 の上に液体が噴霧されて液体薄膜を成し、この薄膜が表面全体にそって流下する ようにした充填スクラバーまたは充填カラムとに大別される。

充填スクラバーは本発明の応用分野の中には入らないので、これについては説明 しない。

二酸化硫黄を分離しまた熱を回収するためにガスを回収するための開放塔の実施 例が例えばＵＳ３，５３２゜５９５号に記載され、この特許においては垂直塔と 、水平ガス流を有するスクラバーとが開示され、液体は数レベルまたは数箇所に おいて供給される。ＵＳ３．４１６４．３９９はこれより簡単な設計の処理塔を 示し、この場合に液体はルベルにおいてのみ供給されるが、数レベルにおいて捕 集された後に分配される。

ＵＳ２，５２３．４４１は開放塔と充填区域との組合せを示している。

前記のそれぞれの技術においては、ガス洗浄塔の中に使用される液体が洗浄塔内 部の運動の大部分において重力によって落下しまたは下方に流れる必要がある。

しかしまた、多少とも水平方向の液体カーテンを通してガスが流されるスクラバ ーの設計も公知である。その１例は５Ｅ１０３．４７４に記載された非常に複雑 な設計であって、この場合ガスの下降運動は大部分垂直壁体にそって生じるとみ なされる。他の２例がＵＳ２，５８９，９５６およびＵＳ３，６９１．７３１に 記載されている。

ＵＳ４，５８３，９９９に記載の中間設計においては、洗浄液は水平方向に供給 されるが、ある程度減速した後に微細液滴の雨として下降する。

先行技術の中で本発明に最も近い型のガス洗浄塔においては、例えばＤＥ−Ａ１ ３３４１３１８またはＵＳ３゜５３２．５９５においては液体が４乃至６レベル で供給される。各レベルは円錐形または中空円錐形の区域に、あるいは完全円錐 形または中実円錐形区域の中に微細液滴を分布させる数個のノズルを備えている 。この円錐形の頂角は９０−１２０°である。

各レベルは、規則的格子状に０．５−１ｍの間隔に配置された複数のノズルを備 えている。レベルの間隔は１−２ｍである。少なくとも１部のレベルが塔の底部 から相当上方に配置される。その目的は、これらのレベルが塔の高さの相当部分 にわたって、よく分布された雨の形で下降する微細液滴を生じるにある。

ガス洗浄塔の効率は、液滴とガスとの相対運動に大きく依存している。従って一 般に、ガス流が下降液滴と逆に上方に流れる事が好ましいが、すなわち逆流が望 ましいが、二、三の理由から、ガスが下降液滴と同一方向に、すなわち共流的に 下降するガス洗浄器が存在する。

この方法を使用した場合にガス洗浄効率を増大しようとするならば、処理塔の高 さを増大する必要があり、あるいは洗浄液のレベルを上昇させる必要がある。い ずれにしても、その結果として一定のガス流量に対してポンプ仕事が増大する。

発明の説明 技術的問題点 開放型ガス洗浄塔は大きなスペースを必要とするという欠点がある。この欠点は 相当の建設コストを生じる。

前記の欠点から生じるもう１つの問題点は洗浄塔が一般に非常に高（なければな らない事である。これは微細液滴の雨の形で洗浄塔を通して下降する液体を最初 に相当の高さまでポンプ輸送しなければならない事を意味する。

このようなポンプ仕事は運転コストに対する大きなインパクトを与える。

本発明の目的 湿式洗浄塔、いわゆるスクラバーにおけるガスの浄化およびガス冷却は、プロセ ス工業、発電所および焼却プラントにおいて数十年来確立された技術である。こ の技術はよく検討されており、効率的で確実な技術と見なされる。しかし前記の ようにその明白な欠点は、この装置が大きなスペースを必要とし従って建設コス トが高く、またその大きなポンプ仕事のゆえに多大のエネルギーを必要とする事 にある。

従って本発明の主目的は、公知の方法の信頼性と効率とを保持しながら、より小 型の洗浄装置を使用する改良法を提供するにある。

本発明の他の目的は、ガス浄化およびガス冷却のためのエネルギー消費量の少な い方法および装置を提供するにある。

発明の概要 本発明は、粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス冷却のために、ガスを微細 液滴と接触させるように成された汚染ガス浄化法および／または熱ガス冷却法に 関するものである。微細液滴が、ガス本流に対して実質的に直角方向の複数の面 の中に規則的に配置されるように、本質的に傘状または本質的に線形カーテン状 に供給される。

本発明によれば、汚染ガスの本流方向に直角の方向にガスに対して液の衝撃作用 を加える事によりガスを交互に濃縮し拡張させるように微細液滴を供給する事に よって前記の技術的問題点が解決される。

また微細液滴を供給される隣接面の間においてガス流の実質的平衡化が生じない ようにこれらの隣接面間の垂直距離が調節される。

ガス本流方向に見てすぐ上流の面に供給された液の衝撃作用によりガス流が濃縮 された箇所に対応して下流の面の中に液供給が生じるように、隣接面の中に液供 給が実施される。

発明の詳細な説明 下記の説明において、用語「塔」は「洗浄塔」と同義語であり、また用語「液」 は「洗浄液」と同義語である。

用語「ガス」は、流入ガス、汚染ガスまたは熱ガス、および接触部において浄化 または冷却されているガスを意味する。

本発明の方法において、ガスは規則的に配置された供給手段から微細液滴を供給 される。これらの供給手段は下記においてノズルと呼ばれ、種々の設計とする事 ができる。最も一般的なノズルの型は実質的に円筒形の本体の回りに傘状の中空 円錐形に微細液滴を供給する手段、また／あるいは実質的にまっすぐな線にそっ てこの線の仮想運動によって生成されるカーテンとして微細液滴を供給する細長 い手段である。

これらのノズルは、これらのノズルから供給された微細液滴がガス本流に対して 横方向の運動をガスに加えてその濃度効果を生じるように配置されている。これ らのノズルは一般に、スクラバーを通るガス本流方向に対して直角方向の主成分 を有する液体を供給する。これらのノズルは１つの面において同一方向に噴霧し 、次の面において反対方向に噴霧するように配向する事ができるが、好ましくは すべての面が円形噴霧傘状ノズルを備え、または少なくとも２つの反対方向に液 体を分布する線形ノズルを備える。

格子形の中に配置されまたガス本流に対して直角方向に液体を供給するノズルを 使用する事により、ガスの移動と濃度は、実質的にガス流全体がノズルに隣接し ていない区域を通るように生じる。ノズル間隔が均等であるので、この区域は、 隣接ノズルを結ぶ線によって画成される面積の重心の回りに配置される。

本発明によれば、ガス本流方向に見て第１面の下流にある第２面ｊこおいては、 ノズルは第１面のこれらの重心に対向配置されなければならない。また本発明に よれば、ガス流が次の下流面のノズルから噴射される微細液滴と接触する前にこ のガス流が相当程度に平衡化されるのに十分なスペースと時間が存在しないよう に、これらのノズル配置面を近接配置しなければならない。

第２面の下流には、同様に第３而および第４面、さらに必要なら次の面が配置さ れる。このようにして、ガス−液滴接触区域を通してガスのジグザグ運動が与え られる。

ノズル配置面間の距離はノズルの設計に対応して、１つの面において噴射される 液が隣接面の中の隣接ノズルから噴射される逆流液と干渉しないようにしなけれ ばならない。しかしまた、この面間距離は完全に液滴のない区域をできるだけ避 けるほどに小でなければならない。

この距離は１ｍ以下、好ましくは０．６ｍ以下とする。

このような干渉の測定される場合として、１つの面のノズルから噴射された液滴 の一部が隣接面の中の隣接ノズルから噴射された高濃度または高密度の液滴流と 遭遇する場合がある。この干渉の生じる空間点において、液滴流の断面分布にお ける液滴流密度はノズルからの距離に対応して極大値の少なくとも１０％まで低 下しなければならない。

効率はガスと液との間の接触強さに依存するが、面の間隔とノズルの液滴分布は 小干渉が生じるように調節される事が好ましい。このようにして一方のノズルか らくる小量の液滴が隣接ノズルがらくる小量の液滴と接触する。本発明によれば 、２つの液滴流が同等の密度を有するとしてこれらの液滴流の間に仮想的境界線 の引がれる箇所に、最大液滴流密度の少なくとも０．０１％、好ましくは少なく とも０．１％の密度が存在しなければならない。

ノズルを備えた２面のみを使用する場合、第１面について「傘」の円錐角度は任 意に選定されるが、第２面については、２つの面の傘が相互に実質的に接線を成 すように円錐角度が調節される。数ノズル面を必要とする場合には、液を実質的 に平面にそって供給する事、すなわち１８０°の円錐角度を使用する事が望まし い。この構造は対称性を与える。２面のみの場合にも、この角度は最も効果的で ある。

１つの面におけるノズルは好ましくは規則的に分布される。すべての面が同数の ノズルを備える場合、正方形格子が最も望ましい。しかし等辺三角形の格子点は なんらの問題を生じないが、各ノズル面が相異なる格子点対数を有しなければな らない。また菱形格子および前記の完全線形平行ノズルを使用する事ができる。

本発明の利点を達成するためには、各面における格子点数は比較的大であって、 少なくとも１６、好ましくは少なくとも２５とする。線形ノズルの場合、各面に おいて少なくとも５ノズルを使用しなければならない。

図面の簡単な説明 以下、本発明を図面に示す実施例について詳細に説明するが本発明はこれに限定 されるものではない。

第１図は通常設計の洗浄塔の垂直断面図である。

第２図は本発明による洗浄塔の垂直断面図である。

第３図は円形断面の洗浄塔の中のノズルの本発明による分布を示す平面図である 。

第４図は円形断面の洗浄塔の中のノズルの他の分布を示す平面図である。

第５図は相異なる面の隣接ノズル間の液滴分布を示す側面図である。

第６図は第５図のノズルの空間座標における液滴流密度分布を示すグラフである 。

第７図は正方形断面の洗浄塔におけるノズルの本発明によるノズル分布の平面図 である。

第８図は本発明による洗浄塔を通るガス流を示すダイヤグラムである。また 第９図は他のノズル設計による線形ノズルを中心とする液滴分布を示すダイヤグ ラムである。

好ましい実施態様の説明 第１図に図示の公知の洗浄塔１ａは、汚染ガス導入口２と、浄化されたガスの排 出口３と、中間接触区画４とを有する。洗浄塔１ａの底部に洗浄液６が捕集され る。

洗浄液６はポンプ７によって分配管８までポンプ輸送され、またノズル９ａが接 触区画４の上部に配置されている。ノズル９ａを備えた面８１−８４の間のレベ ル差は約２ｍである。ノズル９ａはきわめて略示されているが、中空円錐形であ って、すなわち頂角１２０°の円錐シェルの中に洗浄液の微細滴を噴射する。次 に洗浄液は小滴の雨のように接触区画を通して下降し、底部５の中に捕集される 。分配管８とノズル９ａの上方に小滴セパレータ１０が配備されている。新しい 洗浄液が導管１８を通して供給され、消費された汚染洗浄液が他の導管１９を通 して除去される。

第２図は本発明によって設計された洗浄塔１の概略図である。この洗浄塔１はそ の高さが著しく低減されている事が第１図の洗浄塔と相違する。さらに接触区画 ４に配備されたノズル９は液の微細滴を実質的に水平に拡散する。すなわち、１ ８０°の頂角を有する中空円錐ノズルとして構成されている。この場合、ノズル 面間のレベル差は２０−６０ｃｍにすぎない。この点において付図は実際スケー ルではなく、第１図の塔１ａと第２図の塔１との高さの差は図示よりも大である 。第１図に対応する第２図の部品は同一数字を付けられている。

第３図は、実際用例における円形断面を有する塔の断面全体のノズル９の分布を 示す。塔は約１２ｍの直径を有し、内部に各レベルに約１００のノズルを約１ｍ のピッチで正方形格子バタンを成して収容する。この分布は複数の円形３１で示 され、微細滴６が各格子の先端から噴射される状態を示す。すなわち第３図ａは 第２図の面８１．８３におけるノズル９の分布を示し、また第３図すは面８２． ８４におけるノズル９の対応の分布を示す。

ガスの小部分が壁体にそって塔の中をほとんど直線的に流れる事を防止するため 、第４図に図示のノズル分布が考えられる。この場合、塔の内周にそって、内側 に配向され液体を実質的に半円形に噴射する複数のノズル９を備え、塔内部のノ ズルの分布がこれに対応して調節されている。図示のように、バタンは完全に規 則的配置とならず、また次の面のノズル分布は理論的に望ましい分布から少しず れたように調節されなければならない。

第５図は、第３図のバタンを対角線的に通る仮想垂直断面における２つの隣接面 のノズル９の相対配置と、この区域における微細滴の流れとを示す。本発明を理 解しやすくするため、水平面における間隔に対して垂直方向の間隔を増大する事 によってスケールを変更しである。

面８１のノズル５１から微細液滴が液滴流６１の中に入る。面８２におけるノズ ル５２から逆方向液滴流６２が出る。液滴流６１．６２は流線５１１．５１２お よび５２１．５２２によって制限されるのではなく、これらの流線は液滴流の主 要部分の配置される境界を示す。これらの液滴は部分的に相互に干渉し、またこ れらの液滴が実質的に同等大きさとなる境界を線６６で示す。しかしこの境界６ ６においては、液滴流の密度は中心部よりも実質的に低い。

第６図は線６５にそってとられた断面における第５図の液滴流の密度分布の一例 である。この場合、「液滴流密度」とは単位面積あたりの質量流を意味する。こ の図から明かなように、それぞれの面から離間するに従って液滴流密度が徐々に 減少している。前記のように、線６６は、それぞれの滴流が優勢である各区域の 境界を示す。

本発明によれば、面８１と８２の間隔は、境界線６６における液滴流密度６１と ６２がいずれもそれぞれの面８１．８２の近くの極大値の１０％以下に落ちるよ うに調節されなければならない。しかし本発明の利点の最適利用のためには、面 ８１．８２の間隔が過大であってはならない。従って液滴流密度６１．６２は境 界線６６における極大値の０．０１％以上、好ましくは０．１％以上でなければ ならない。

第７図は正方形断面を有する塔の断面にそったノズル９の分布の実際例を示す。

この正方形は約１２．４ｍの辺を有し、その内部に各面において約１．２ｍのピ ッチで正方形格子バタンで約１００ノズルを収容する。この分布は円形７１で示 され、微細液流６が格子先端から噴射される状態を示す。第７図ａは第２図の面 ８１．８３におけるノズル９の分布状態を示し、第７図すは面８２．８４におけ るノズル９の分布を示す。これらの第７図は、正方形断面においては理論的に望 ましい規則的格子からの片寄りを伴なう必要がない事を示す。

第８図は接触断面４を通るガス流を示す。ガス流線１１はノズル９の周囲を曲が りくねっている。

第９図は、１２０°の噴射頂角を有するノズル９ｄ。

９ａの回りの液滴分布を示す。第９図ａに図示の線形噴射ノズル９ｄは２つの線 形カーテンを生じ、各カーテンがそれぞれ１２０°の角度を成す。図から明かな ように、面８１−８４が同一レベルに対を成して配置され、あるいはガスが後の 面からの液と最初に遭遇する事ができる。

第９図すにおいては、中空円錐型ノズル９ａを使用する場合の同一バタンを示す 。この設計においては、液滴流の間隔の対ごとの相違を認めて完全対称からの片 寄りを生じる事が望ましい。

第２図の装置は下記のように作動する。ガスは塔１の接触区域４の中に導入口２ を通して入る。次にガスはノズル９の第１面８１の近くまで垂直に上昇する。

これらのノズル９から液６が実質的に水平にガスの中に１０−１５ｍ／ｓの速度 で噴射される。ガスは微細流滴によって影響されて、実質的に水平方向に同伴さ れ、同一面８１のノズル９のほぼ中間において反対方向に流れる他のガス流に遭 遇する。

液滴流はノズル９からの距離の増大と共に拡張するので、この場合に液滴流はノ ズル９の近くよりも実質的に低い液滴流密度を有するから、ガスは液滴の間を次 の面８２のノズル９に向かって上方に直進する。このようにして面８１の中にお いて洗浄液の衝撃によって濃縮されたガス流はこの面８２のノズル９によってガ ス中に噴射されだ液滴の衝撃によって拡張される。そこでガスは再び実質的に水 平に流れ、他の隣接ノズル９からの液滴によって同伴されるガスに遭遇する。

このようなプロセスが次の面８３などに移行する際にも繰り返される。このよう にして反復方向変換と加速／減速の繰り返しによって、ガスと液との間の緊密な 効率的な相互作用が生じる。

微細液滴の形でガスによって同伴された液は液／滴セパレータ１０の中で分離さ れる。

導管１９を通して、この液の一部が次の処理のために排出され、次に新しい液ま たは再生液が必要に応じて導管１８から導入される。

他の実施態様 本発明は前記の説明のみに限定されるものでなく、その主旨の範囲内において任 意に変更実施できる。

前記のように、種々の設計のノズルを使用する事ができる。またノズルは前記以 外の多くの形に配置する事ができる。規則的格子が望ましいが、それ以外の格子 も考えられる。三角形または菱形格子は非常によい結果を与える。他の望ましい 実施態様として、１つおきの面のノを菱形格子に配置する事ができる。

またもちろん本発明は汚染ガスの洗浄または熱ガスの冷却以外にも使用する事が できる。本発明はガスを微細液滴と接触させる大抵の用途で有効に使用する事が できる。

フロントページの続き （８１）指定国　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。

ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＥ、ＩＴ、ＬＵ、ＭＣ，ＮＬ、ＰＴ、ＳＥ） 、０Ａ（ＢＦ、ＢＪ、ＣＦ、ＣＧ、　ＣＩ、　ＣＭ、　ＧＡ、　ＧＮ、　ＭＬ、 　ＭＲ，ＳＮ、　ＴＤ。

ＴＧ）、　ＡＴ、　ＡＵ、　ＢＢ、　ＢＧ、　ＢＲ，ＣＡ、　ＣＨ。

ＣＺ、ＤＥ、ＤＫ、ＥＳ、ＦＩ、ＧＢ、ＨＵ、ＪＰ、ＫＰ、ＫＲ，ＬＫ、ＬＵ、 ＭＧ、ＭＮ、ＭＷ、ＮＬ、Ｎ。

、ＮＺ、ＰＬ、ＰＴ、Ｒ○、　ＲＵ、　ＳＤ、　ＳＥ、　ＳＫ。

ＤＡ、　ＵＳ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. １．粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス冷却のために、ガスを微細液滴と 接触させる段階と、ガス本流に対して実質的に直角方向の複数の面の中に規則的 に配置されるように、本質的に傘状または本質的に線形カーテン状に微細液滴を 供給する段階と、ガス本流に対して直角の面における速度成分がガス本流に対し て平行または逆方向の速度成分より大となるように、徴細波滴の大部分を供給す る段階とを含む汚染ガスを浄化しまたは熱ガスを冷却する方法において、汚染ガ スの本流方向に直角の方向にガスに対して液の衝撃作用を加える事によりガスを 交互に濃縮し拡張させるように微細液滴を供給する段階を含み、そのため、微細 液滴を供給される隣接面の間においてガス流の実質的平衡化が生じないようにこ れらの隣接面間の垂直距離を調節し、また ガス本流方向に見てすぐ上流の面に供給された液の衝撃作用によりガス流が濃縮 された箇所に対応して下流の面の中に液供給が生じるように、隣接面の中に液供 給を実施する事を特徴とする汚染ガスを浄化しまたは熱ガスを冷却する方法。
2. ２．相異なる面に供給され逆方向に流れる液滴間において実質的に相互作用が生 じないように、微細液滴を供給される隣接面間の垂直距離を調節する事を特徴と する請求項１に記載の方法。
3. ３．隣接面に供給される液滴の逆方向流れの重なり合い部分において、それぞれ の流れの微細液滴密度がその最大密度の０．０１％乃至１０％、好ましくは０． １％乃至１０％の範囲内となるような液供給点からの距離の点でそれぞれの流れ の同一密度を生じるように、微細液滴を供給される隣接面間の垂直間隔を調節す る事を特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の方法。
4. ４．相異なる面に供給される液滴の隣接逆方向流れの主要部分間の相互作用がそ れぞれの液滴供給点の中間区域で生じないように、微細液滴を供給される隣接面 間の垂直間隔を調節する事を特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の方 法。
5. ５．ガス本流の方向に対して直角の面を中心として対称的に２０°、好ましくは １０°の角度範囲内に含まれる方向に微細液滴の主部分を供給する事を特徴とす る請求項１、２、３または４のいずれかに記載の方法。
6. ６．不平行噴射を成すように隣接面の中に配置されたノズルによって、９０°乃 至１８０°の頂角とガス本流に対して本質的に平行な対称軸線とを有する中空円 錐形に微細液滴の主要部分を供給する事を特徴とする請求項１、２、３または４ のいずれかに記載の方法。
7. ７．汚染ガスおよび／または熱ガスの導入口（２）と、浄化されたガスおよび／ または冷却されたガスの排出口（３）と、前記の導入口（２）と排出口（３）と の間においてガスを流す接触区域（４）とを含み、前記接触区域（４）の中にお いて微細液滴を本質的に傘状または線形カーテン状に噴射するための供給手段（ ９、９ａ、９ｄ）を含み、前記供給手段はガスの本流方向（４１）に本質的に直 角の複数の面（８１−８４）において本質的に規則的格子バタンに配置され、そ の際に前記供給手段は、ガス本流に対して直角の面における速度成分がガス本流 に対して平行または逆方向の速度成分より大となるように微細液滴の大部分を供 給し、また前記供給手段は、汚染ガスの本流方向に直角の方向にガスに対して液 の衝撃作用を加える事によりガスを交互に濃縮し拡張させるように微細液滴を供 給するように成された前項１乃至６のいずれかに記載の方法またを実施する装置 において、 供給手段（９、９ａ、９ｄ）を備えた隣接面（８１、８２）の間の垂直距離がこ れらの面の間においてガス流の実質的平衡化が生じない程度に小さく、またガス 本流方向に見てすぐ上流の面（８１）に供給された液の衝撃作用によりガス流が 濃縮された箇所に対応して下流の面（８２）の中に前記供給手段（９、９ａ、９ ｄ）が配置される事を特徴とする装置。
8. ８．隣接面（８１、８２）間の垂直距離がそれぞれの面の中の隣接格子点または 隣接格子線の間の距離より実質的に小であり、また供給手段（９、９ａ、９ｄ） を備えた隣接面（８１、８２）間の垂直距離が１ｍ以下、好ましくは０．６ｍ以 下である事を特徴とする請求項７に記載の装置。
9. ９．前記供給手段（９、９ａ）は実質的に三角形、四魚形または六角形および好 ましくは等辺図形の格子点バタンに配置された実質的に円形の噴射ノズルであり 、また隣接面（８１、８２）の中の格子バタンが相互に片寄らされていて、ガス 本流方向に見て下流に位置する面（８２）中の格子点がすぐ上流の面（８１）の 隣接格子点間の線によって生成される多角形の重心に実質的に対向するように配 置される事を特徴とする請求項７または８のいずれかに記載の装置。
10. １０．供給手段は実質的に線形ノズルであって、これらの線形はまっすぐであっ て相互に平行でありまた好ましくは接触部分（４）の断面全体にわたって均一に 分布され、またガス本流方向に見て下流の面（８２）の線形がすぐ上流の面（８ １）の中の隣接線形の中間の仮想線に実質的に対向するように、これらの隣接面 （８１、８２）の線形が相互に片寄らされる事を特徴とする請求項７または８の いずれかに記載の装置。