JPH07504926A - 放射線架橋型エラストマー - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
放射線架橋型エラストマー
発明の分野
本発明は放射線活性化性架橋剤を採用する放射線架橋化性エラストマー組成物に
関する。本発明は更に放射線架橋型エラストマー組成物に関する。
発明の背景
ポリマーの架橋は、その未架橋の線形又は枝分れ対応物に比してかなり異なる機
械的及び物理的性質を育するポリマーネットワークを生成することで知られてい
る。例えば、ポリマーネットワークは、耐溶媒性、高い凝集強度及びエラストマ
ー特性のような固有、且つ非常に所望される性質を示すことができつる。
架橋型ポリマーは所望のポリマー生成物の形成の際にその場で作られつるが、し
かしながらポリマー生成物の更なる加工がしばしば必要とされるため、最終加工
工程において架橋化材料に硬化せしめる線形又は枝分れポリマーから出発するこ
とがより典型的である。
この硬化又は架橋工程は典型的には水分、熱エネルギー又は放射線によって活性
化する。この後者は広範囲にわたる用途、特に放射線源としての紫外光の利用に
おける用途が見い出されている。
過去において、様々な種類の材料、例えば多価アクリレート、アセトフェノン、
ベンゾフェノン及びトリアジンが架橋剤として利用されている。しかしながら、
上記の架橋剤は一定の欠点を有し、それには下記の1又は複数が挙げられる:高
揮発性ニ一定のポリマー系と非相溶性;腐蝕性又は毒性副産物の発生;所望され
ない色の発生:架橋反応を開始せしめるための別の光活性化合物の必要性;及び
酸素に対する感受性の高さ。
一定の多価ベンゾフェノンは様々な光重合系における光架橋剤及び/又は光増感
剤として調べられている。
日本国特許541057560号は非エラストマー材料、特にポリエステル組成
物の光架橋のための(ビス)ベンゾフェノン化合物の利用を開示している。ポリ
エステルに含ませたとき、それらは架橋型ポリ(エチレンテレフタレート)の二
軸延伸フィルムに向上した引張強さ及び伸び率を授ける。これらのフィルムは高
められた耐優性、耐熱性及び耐化学品性、並びに高められた寸法安定性を示す。
米国特許第4.602.097号(Curtis)は、放射線硬化型コーティン
グにおける光開始剤及び/又は光増感剤としての(ビス)ベンゾフェノンの利用
を開示している。末端ベンゾフェノン基を分断するこのポリ(エチレンオキシド
)成分はその請求項の組成物が、水含有コーティング組成物中で、未置換のベン
ゾフェノンよりも可溶性となるようにする。しかしながら、この(ビス)ベンゾ
フェノン化合物は水素供与基、例えばメチレンをエーテル官能基の酸素原子の隣
りに含んでいる。これらの水素供与基は光化学的に励起された(ビス)ベンゾフ
ェノン構造により分子間水素引抜きを受けて、開始剤としては有効であるが光架
橋剤としては不適切な低めのエネルギーのラジカルを供する。
米国特許第4.379.201号(Heilmannら)は、(メタ)アクリレ
ートコポリマーの光硬化において用いるポリアクリル官能架橋剤のクラスの例で
ある。米国特許第4.391.678号(Vesley)及び第4、330.5
90号(Yes 1ey)は、迅速硬化性トリアジン光架橋剤のクラスを述べて
おり、これはアクリルモノマー及び任意的なモノエチレン系不飽モノマーと混合
し、次いでU■放射線に暴露せしめたとき、架橋型ポリアクリレートを生成する
。これらの共重合において(メタ)アクリレート及びトリアジンの両者により生
成された架橋は初期光重合に続く任意の更なる加工、例えばホットメルトコーテ
ィング、反応性押出又は溶液コーティング加工の妨げとなる。
米国特許第4.737.559号(Kellenら)はアクリレート官能芳香族
ケトン(特に4−アクリルオキシベンゾフェノン(ARP))を開示しており、
これらは他の(メタ)アクリレートモノマーと組合されて懸垂ベンゾフェノン基
を含む感圧接着ポリマーを形成している。これらのベンゾフェノン官能感圧接着
コポリマーは、光架橋剤としての慣用のベンゾフェノンの利用と比較したときに
特に、UV光に対する暴露に基づいて効率的な架橋を受ける。この特許はまた特
に、その開示の化合物がカルボニル官能基に対してオルトの位置でヒドロキシ基
を含まないものでなくてはならないと述べている。このようなヒドロキシ置換基
はフリーラジカル形成及びアクリレートコポリマー骨格からの水素の引抜きを阻
害する。しかしながら、これらのアクリレート官能芳香族ケトンはその他のアク
リル系モノマーと主として共重合すべきモノマーであるため、それらは様々な化
学特性の事前に調製されたエラストマーポリマーに配合されうる後重合光架橋剤
としては有用でない。
エラストマーにとっての放射線活性化性多価アセトフェノン及びベンゾフェノン
架橋剤の適当なりラスは今まで認識又は利用されておらず、そしてこの産業上に
おいてなかった。エラストマーにとってのかかる適当なりラスの放射線活性化性
多価アセトフェノン及びベンゾフェノンについての探索が行われることはなかっ
た。
発明の概要
本発明の一態様において、放射線架橋性組成物であって:(a)エラストマーポ
リマー、これは適当な放射線活性化性架橋剤の存在下においてこのエラストマー
ポリマーが架橋を受けることを可能とするのに十分な量の引抜き性水素原子を含
む;及び(b)次式の放射線活性化性架橋剤
Wは一〇−、−N−又は−S−を表わし、Yはケトン、エステル又はアミド官能
基を表わし;Zはこのエラストマーポリマーの水素原子よりも光重抜性である水
素原子は含まない多価有機セグメントを表わし;mは0〜6の整数を表わし:
aはO又はlを表わし;そして
nは2以上の整数を表わす);
を含んで成る組成物を提供する。
本発明の別の態様においては放射線架橋型組成物を提供し、これは上記の開示し
た架橋性組成物を、上記の放射線活性化架橋剤によってこのエラストマーポリマ
ーから水素原子が引抜かれるのに十分な条件のもとで、放射線に付する方法によ
り製造される。
知る限り、誰もエラストマーポリマーにとっての架橋剤として上記に開示した放
射線活性化性多価アセトフェノン及びベンゾフェノンを今まで利用していない。
更に、上記の開示した多価アセトフェノン及びベンゾフェノンの利用は、エラス
トマーにとっての慣用の架橋剤の利用に比して数多くの利点を供する。これらの
利点には、限定するわけではないが、その高めの分子量に基づ(架橋剤の低い揮
発性;多価有機セグメントの選択を介しての高められた架橋剤の相溶性:酸素に
対するこの架橋性組成物の低い感受性;任意の毒素もしくは腐蝕性副産物の発生
又は最終生成物の脱色の回避;及び後硬化用架橋添加剤としての利用の能力;が
挙げられる。
本発明の他の観点、利点及び長所は詳細な説明、実施例及び請求の範囲から明ら
かとなる。
発明の詳細な説明
本発明において用いる放射線架橋性組成物は、引抜き性水素原子を含むニラスト
アーポリマー(「エラストマーJ)である。この引抜き性水素原子はこのエラス
トマーの骨格及び/又は側鎖において、放射線、例えば電磁線、例えば紫外(U
V)光に対するこの光架橋剤/エラストマー混合物の暴露に基づいてこのエラス
トマーの架橋を可能とするのに十分な量で存在しているであろう。一般原則とし
て、水素原子は第三炭素原子、酸素又は憲素原子に対してアルファー位における
炭素原子上のそれ(例えば有機エーテル及び第三アミン)、並びに末端又は懸垂
メルカプト基を育するこのようなエラストマーから最も簡単に引抜ける。
本発明において、エラストマーポリマー又はエラストマーは、ASTM D 1
456−86 (rゴム特性に関する標準試験法−特定の応力での伸び率」)に
従って測定されて、弱い応力及びその後のその応力の解放による実質的な変形を
経てほぼそのもとの寸法及び形態に迅速に戻る巨大分子物質として定義される。
本発明において用いることのできうるエラストマーの例は限定することなく、ス
チレン−ブタジェンゴム(SBR) 、スチレン−イソプレン−スチレンブロッ
クコポリマー(SIS) 、スチレンーブタジエンースチレンブロックコポリマ
ー(SBS) 、エチレン−プロピレン−ジエンモノマーゴム(IEPDM)、
ポリイソブチレン、天然ゴム、合成ポリイソプレン、アクリロニトリル−ブタジ
ェンコポリマー、ポリクロロプレン、エチレン−ビニルアセテート、シリコーン
及びポリアクリレートが挙げられる。本発明における利用にとって好適なエラス
トマーはポリアクリレート、シリコーン、液状EPDMゴム、SOSブロックコ
ポリマー及びsrsブロックコポリマーである。
本発明において利用する放射線活性化性架橋剤は下記の式を有する:
Wは一〇−、−N−又は−S−を表わし、Yはケトン、エステル又はアミド官能
基を表わし:Zはこのエラストマーポリマーの水素原子よりも光引抜性である水
素原子を含まない多価有機セグメントを表わし:mはO〜6の整数を表わし;
aは0又はlを表わし;そして
nは2以上の整数を表わす)。
特定の放射線活性化性又は光架橋剤の合成は下記の実施例において例示している
が、しかし一般にこれらの架橋剤は合成有機化学の当業者によ(知られている反
応、例えばマイケル付加、ヒドロシリル化、エステル交換及び縮合反応に従って
合成されうる。
本発明の多価ベンゾフェノン架橋剤の−の好適な群は、w=−〇−1X=フェニ
ル、Y=エステル、Z” (CHm)t−+*、m=1゜a=1、そしてn=2
の化合物であり、そして2モル当量のエチル−(4−ベンゾイルフェノキシ)ア
セテート(下記の構造体I)と短鎖のアルキレンジオールとのエステル交換反応
に由来する。本発明の多価ベンゾフェノンのその他の好適な群は、ヒドロキシ−
官能ベンゾフェノン(下記の構造体■)を形成するための構造体Iと過剰量のエ
チレングリコールとの反応より製造される。次いで2モルのヒドロキシ−官能ベ
ンゾフェノンを脂肪式、芳香式又は脂環式多価イソシアネートとの縮合反応に付
して、ウレタン及びエステル官msを存し、m= 1 ; Y=1ステAt ;
)(=7z二/lz ; Z=−CHI −CHI −0−C(0) −NH
−R−NH−C(0) −0−CHsCHt−;W=−〇−:そしてRが二価の
脂肪式、芳香式又は脂環式成分を表わす好適な架橋剤が得られる。
構造体I
構造体■
更に、有機スペーサーセグメントZと連結官能基Yは、様々なポリマー系におけ
る多価光架橋剤の相溶性を高める及び揮発性を下げるために調製されうる。例え
ば、ポリシロキサンスペーサーセグメントを存する多価アセトフェノン及びベン
ゾフェノンを、ポリジメチルシロキサンエラストマー(その中ではほとんどの非
珪素含有架橋剤が非混和性である材料)の光硬化において利用するために合成し
てよい。ポリマーと光架橋剤とのこの非混和性は低められた架橋効率及び透明度
の非混和性エラストマー/架橋剤系をもたらす。
この有機スペーサーセグメントZは、放射線架橋型材料のしオロジー及び機械特
性を改善せしめるように選んでもよい。硬質スペーサー基は柔軟性スペーサー基
とは異なるレオロジーをもたらすであろう。また、スペーサー基の長さはネット
ワークの架橋密度を調節するために利用されうる。エラストマー骨格伝いの架橋
点の間隔は正確に調節することはできないが、連結のサイズ及び化学的性質は本
明細書に開示の架橋剤を用いて決定できつる。光硬化性混合物中の架橋剤の濃度
が下がると、この架橋型エラストマーネットワークの性質はこのエラストマー〇
機械的及びレオロジー的性質に多大に支配されるようになる
有機スペーサーZは、エーテル、チオール、アリル系基、第三アミン等の中に存
在している引抜かれ易い水素を育してはならない。
かかる官能基がスペーサーの中に存在していると、照射は水素引抜きを、エラス
トマーポリマー骨格からの水素の引抜きの代わりに、スペーサーセグメント伝い
の部位において起こさせるであろう。このことは所望されない分子間[戻りかみ
(backbiting) J反応を招き、これは引抜かれ易い水素を有するス
ペーサーセグメントを含む多価架橋剤の光架橋効率を下げてしまう。従って、有
機スペーサーZは、架橋すべきエラストマーポリマーの水素原子より光引抜性で
ある水素原子を含んではならない。
好ましくは、約0.01〜25重量%の光架橋剤、そして最も好ましくは、約o
、1−to重量%のそれを、エラストマーの総重量に基づいて使用する。一般に
、採用する光架橋剤の量はエラストマーポリマー骨格からの水素引抜きのし易さ
、生成されるラジカルの反応性、照射に対するこの組成物の暴露の長さ、及びこ
のエラストマーの分子量に基づく。
本発明において任意的に利用されつるその他の有用な材料には、限定することな
く、熱膨張性ポリマー微小球、ガラス微小球、充填剤、顔料、発泡剤、安定化剤
、難燃剤、粘度調節剤及び粘着付与剤/可塑剤であって架橋を妨害しないものが
含まれる。
実際には、光架橋剤及びその他の成分をエラストマーに加え、その後その材料を
当業界によく知られた方法、例えば溶媒コーティング、ホットメルトコーティン
グ、無溶剤又は水含有コーティング、及び押出によってコートしてよい。次にこ
のコーティングを、そのエラストマーの架橋を及ぼすのに十分な条件のもとで、
放射線、好ましくは電磁線、例えばUV光に暴露する。
この光架橋剤は好ましくは長波紫外線(280〜400na+)で活性化する。
その吸収最大値はその光架橋剤の分子構造に依存するであろう。ベンゾフェノン
−及びアセトフェノン−由来の構造体の低い励起効率に基づき、硬化のために高
い強度のUvライトを使用するのが好ましい。かかるUvライト、例えばPPG
UVプロセッサー及びFusionSystems硬化ユニットは市販されて
いる。PPG UVプロセッサーには、主に270〜450nmの出力レンジに
おいて放射する260〜740nmのスペクトル出力を有する2個の中圧水銀ラ
ンプが付いている。このランプは全出力(300Watt/ 1nch)又は早
出力(150Watt/ 1nch)に設定できつる。Fusion Syst
ems硬化ユニットは100〜600 Watt/1nchの出力設定の無電極
Uvクランプ利用する。様々なスペクトル出力を有する様々な電球が入手できる
。本発明の光架橋剤にとって好適な電球は「Dノ又は「H」電球であり、共にF
usion Systemsより市販されている。
放射線架橋型材料はシール剤及びコーティング材料、例えばインク、接着剤、プ
リント用及び写真用コーティング、塗料、半導体マスク、ホトレジスト並びに光
粘着防止性接着剤として有用である。
試験手順
下記の試験手順を、本実施例において用いた感圧接着材料を評価するために用い
た。
剥離接着力
剥離接着力は試験パネルから、特定の除去角度及び速度で測定した、コート化柔
軟性シート材料を除去するのに必要な力である。本実施例において、この力はコ
ート化シートのデシメーター輻当りのニュートン(N/dm)で表わす。この試
験はASTM D 3330−87(180゜の角度での感圧テープの剥離接着
力)にある手順に従う。このASTM試験との唯一の違いは、この試験において
必要なスチールプレートに対するガラスプレートの代用及び剥離速度の変更にあ
る。ガラスプレートをジアセトンアルコールで洗い、そして吸収材、例えばペー
パータオルできれいにする。次にこのプレートを乾かし、モしてヘプタンで更に
3回洗う。試験すべき幅0.127dmの接着剤でコートされたシートのストリ
ップをこのきれいにしたガラス試験プレートの水平面に、少なくとも直線で1.
27dm密着させて載せる。このストリップを適用するのに各方向において2k
gの硬質ゴムローラーを3回走らせる。この試験プレートと試験ストリップとの
間に気泡が捕捉されたら、このサンプルを排會する。コート化ストリップの自由
端をほぼそれ自身に接触するほどに折り返し、除去角度を180°とする。その
自由端を接着力テスタースケールに取付ける。そのガラステストプレートを引張
試験装置のジョーにクランプする。これは2.3 m/win、の定常速度でこ
のスケールからプレートを移動させることができる。ロールダウンしてからの定
着時間は30秒とする。ニュートンにおけるスケール読取値を、テープがガラス
表面から剥れるに従って記録する。最初のストリップの0.5da+につぃての
データーは無視し、そしてピーク、谷間及び平均剥離力をこの試験ストリップの
残りについて記録する。
剪断強度
剪断強度は接着剤の凝集力又は内部強度の尺度である。これは、標準の平面から
接着ストリップを、それが一定の圧力で固定されているその面に対して平行な方
向で引張るのに必要な力の値に基づ(。
これは一定の標準負荷の応力のもとで、ステンレススチール試験パネルから接着
剤コート化シート材料の標準領域を引張るのにかかる分において測定した。1:
の試験はASTM D 3645M−88: r感圧接着テープの保持力」に記
載の手順に従った。
この試験は、前記の通りにきれいにして用意したステンレススチールパネルに適
用したコート化シート材料のストリップに基づいて行う。各ストリップの0.1
27dmX O,127dmの領域をこのパネルに、このテープの一端の領域を
自由なままにして密着させる。コート化ストリップの取付けたこのパネルをラッ
クの中に納め、そのパネルが突出たテープの自由端と178°の角度をなすよう
にし、その自由端には1000gの力の適用を、そのコート化ストリップの自由
端から吊り下げられたおもりとして適用することにより張力をかける。
180°より2°小さいことを、全ての剥離力が無視でき、剪断力のみが測定さ
れることを確実とする、試験すべきテープの保持力をより正確に決定する試みに
おいて利用する。各コート化フィルムが試験パネルから離れるのにかかる時間を
剪断力として記録する。接着剤がそのパネルもしくは支持体からきれいに分離し
たときの「接着」不良、又はそのサンプル接着剤が試験パネル及び支持体の両者
の上に残渣を残した[凝集」不良のいづれかの不良のタイプを記録する。
ゲル画分
既知量のポリマーを過剰量のトルエンに入れ、モして48hrかけて溶解させる
。このサンプルを濾過し、そして回収した固体を新たな溶媒で数回洗う。この固
体を乾かし、そしてその量を記録する。ゲル含有量を下記に従って決定する:
実施例
下記の限定でない実施例で本発明を更に説明する。
エチル−(4−ベンゾイルフェノキシ)アセテ−) (EBPA)の合成この分
子は本願において開示する多価アセトフェノン及びベンゾフェノン架橋剤の合成
にとっての重要な前駆体である。このエチル−(4−ベンゾイル−フェノキシ)
アセテートは、 100.Og (0,51モル)の4−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、85.2g (0,51モル)のエチルブロモアセテート及び800m1
の2−ブタノン(MEK)の混合物を過剰量の炭素カリウム(209g又は1.
5モル)の存在下で還流することにより調製した。3時間後、この炭酸塩を濾過
し、そしてMEKをロートペーパーで除去した。その残渣をイソプロピルアルコ
ールより結晶化させ、白色でフレーク状の、82°Cの鋭利な融点を有する生成
物を得た。この構造をNMRにより確認した。
1.2−エタンジオール(4−ベンゾイルフェノキシ)アセテート(EDBPA
)の合成
エチル−(4−ベンゾイルフェノキシ)を過剰量のエチレングリコールと反応さ
せて、本願に記載の縮合反応に用いるモノヒドロキシ官能化合物を得た。(これ
により脂肪族アルコールが得られ、これは、フェノール系化合物、例えば4−ヒ
ドロキシベンゾフェノンよりも安定性の高い縮合生成物をもたらす。)10gの
EBPAを過剰量(40ml)のエチレングリコールに加え、これをトルエン/
水共沸混合物の除去によって乾かした。メタノール中のナトリウムメトキシドの
25%溶液数滴を反応のための触媒として加えた。この混合物を120℃で16
時間熱した。室温に冷やした後、その混合物を水の中に注ぎ、そしてその生成物
をエチルアセテートで抽出した。硫酸マグネシウムで乾かした後、その溶媒を除
去して黄色味を帯びた固体を得、これはホットトルエンから結晶化できた。
この白色粉末の構造をNMRにより確認した。
ここに記載の反応生成物は本願全体ではC4−bisBPと称する。
この04はジオールのために用いた炭素の数に関する。
C,−bisBPは、10g(0,033モル)のEBPAを1.6 g (0
,017モル)の1.4−ブタンジオールと混合することにより調製した。次に
この混合物をマグネチックバーで攪拌した。数滴のメタンスルホン酸を触媒とし
て加え、そしてその混合物を定常攪拌のもとて120℃に熱した。冷却及びイソ
プロパツールにより洗ったとき、白色の固体が得られ、これをホットトルエンよ
り結晶化させることによって精製した。NMR分析はその生成物の構造を確証せ
しめた。
ウレタンビスベンゾフェノン(U−bisBP)の合成低分子量ウレタンビスベ
ンゾフェノンを、3 g (0,01モル)のEDBPAと1.31 g (0
゜005モル)のジシクロヘキシルメタン4.4’−ジイソシアネー) (HI
3−MDI)とを15gのドライな50/ 50のトルエンと2−ブタノンとの
溶媒混合物の中に溶かすことにより調製した。触媒としてジブチルスズジラウレ
ートを使用した。その反応は、GC分析におけるアセテートの消失及び約227
0cr ’でのイソシアネー)IR吸収によりモニターした。溶媒の除去後、透
明で粘性な油が回収された。
ポリエステルビスベンゾフェノン(PH−bisBP)の合成分子量5.000
のポリエステルビスベンゾフェノンを、10gのRuc。
Flex (商標) S−1014−110(RUCOPolymer Cor
poration) (ヒドロキシル価114.3.そして当量490.8)、
1.8gのEDBPA 、及び3.4gのHI3−MDIを80gの80/20
のトルエン/2−ブタノンの溶媒混合物の中に溶かすことにより調製した。数滴
のジブチルスズジラウレートを加え、そしてその混合物を8時間還流に付した。
GC分析はHI3−MDI又はモノアセテートがないことを示し、従って反応を
停止させた。溶媒の除去は高い粘性の油をもたらした。
PDMS多価ベンゾフェノン(PDMS−multiBP)の合成4〜5モル%
の懸垂メルカプトプロピル基を含む20gの分子量s、 oooのポリジメチル
シロキサンポリマー(KF−2001,5hin−Etsuより入手可能)を2
0gのテトラヒドロフランの中で2.52gの4−アクリルオキシベンゾフェノ
ン(ARP)と共に混合した。触媒として0、5mlのトリエチルアミンを加え
た。これを室温で16時間混合し、その際、ARPの消失をモニターした。微量
のABP Lか認められなくなったら、溶液から溶媒及びトリエチルアミンをロ
ートエバポレーターで除去した。21.66gの薄い透明な油が得られた。その
油をC”NMRにかけ、そしてその構造を確認した。65%のメルカプト基がA
BPと反応し、そしてその基の35%が残っていることが認められた。
略語
本願にわたって下記の略語をそれぞれの成分について用いた:AA アクリル酸
MBA 2−メチルブチルアクリレート10A イソオクチルアクリレート
BP ベンゾフェノン
ABP 4−アクリルオキシベンゾフェノンCoo−メトキシ 1.10−デカ
ン9〔4−ベンゾイル−2−bisBP メトキシフェニル〕アセテートU −
bisBP ウレタン−ビスベンゾフェノンPH−bisBP ポリエステルビ
スベンゾフェノンTG−bisBP テトラエチレングリコール(4−ベンゾイ
ル−フェニル)ジカルボネート
PG−bisBP ポリエチレングリコール(4−ベンゾイル−フェニル)ジカ
ルボネート
PDMS ポリジメチルシロキサン
PDMS−mutliBP PDMS多価ベンゾフェノン 分子量/8000K
raton” !107 スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー
; 5hell Chemical Co、より入手可能90/10のIOA
/AAコポリマーを、40%の固形分でエチルアセテート中での溶液重合により
作った。エチルアセテ−1・中で内部粘度を測定し、そして1.28d1g−’
であった。
0、084重量%(1,48X10−’モル)のCa−bisBPを溶液ポリマ
ーの中に溶かし、透明で均質な混合物を形成せしめた。その溶媒を除去し、そし
て固形分100%の接着剤を170°Cにおいて、1.5m1lの下塗りポリエ
ステルにホットメルトコートした。コーティングの厚みは1.2m1lとした。
そのコーティングを、2個の中圧水銀ランプを含むPPGプロセッサーのもとて
全力設定値でUv硬化させた。それらのサンプルを、非−不活性型(non−i
nerted)硬化用チャンバーを75フィート/分で流れるキャリヤーウェブ
の上に載せた。剥離接着力及び剪断保持力を測定し、そしてその結果を表1にま
とめた。
比較例1
01054g (2,96X10−″モル)のベンゾフェノンを実施例1で用い
たのと同じ溶液の中に溶かし、そしてその溶媒を除去して透明な接着剤を得た。
上記と同じホットメルトコーティング条件を用いてテープサンプルを用意した。
このテープ試験結果を表1の中でrcomparative #IJでまとめた
。この例はベンゾフェノンの低めの架橋効率を明確に実証する。若干の硬化が生
じているが、実施例1に関して認められた所望の高剪断保持力は得られなかった
。
比較例2
90/1010.75のIOA/AA/ARPターポリマーを固形分40%でエ
チルアセテート中で作った。エチルアセテート中での内部粘度は1.32d1g
−’であった。試験用のテープサンプルは実施例1と同じ方法を用いて用意した
。剥離及び剪断データーを表1にまとめた。
比較例3
ARPを共重合する代りに、0.075重量%(2,96X10−’モル)のA
RPを実施例1由来の90/10の溶液接着剤の中に溶かした。テープサンプル
を調製し、そしてその特性を試験した。結果を表1に示す。
比較例1〜3は、高い架橋効率を得るためにエラストマーポリマー骨格の中にベ
ンゾフェノン架橋剤を共重合せしめることの必要性を実証する。
多価ベンゾフェノン架橋剤の利用は、現存のポリマーに対する必要とされる架橋
剤レベルの単なる添加によって、UV−架橋性接着組成物の調製を可能にする。
表1
アクリレート接着剤のU■硬化
1 0 70.1 231c
1 1 62、0 2.889c
1 2 62.6 10.000+
1 3 61.1 10.000+
Comp#1 1 67.2 308cComp #1 2 64.8 423
cComl) #1 3 60.9 1.891ccomp #2 1 61.
3 1.789cComp 82 2 61.5 3.872cComp #2
3 60.9 9.10106cCo #3 1 67.2 418cCat
n9 #3 2 65.0 505cCamp #3 3 61.7 1,37
6cc=接着剤の凝集不良
十=試験をその時点でやめたことを示す。
ガラスからの平均剥離力のみを示す。
実施例2.3及び4
3種類の異なる架橋剤を、実施例1の1.28d1g−’の内部粘度を有する9
0/10のIOA/AA溶液接着剤を硬化するために用いた。対応の多価ベンゾ
フェノンは、実施例2についてはU−bisBP、実施例3についてはCa b
isBP 、そして実施例4についてはPE−bisBPとした。それらの架橋
剤は全てエチルアセテート溶液の中でかなり容易に溶け、透明で均質な混合物を
形成した。固形分40%の溶液を1、5mi lの下塗法ポリエステルの上にナ
イフコートし、そしてオーブン乾燥して厚さ1.2m1lのコーティングを得た
。
これらのテープを実施例1に開示と同じ条件を利用してU■架橋(硬化)させた
。剥離及び剪断特性を測定し、その結果を表2にまとめた。
表2
溶液接着剤にとっての多価ベンゾフェノン架橋剤2 U−bisBP O,0?
5 1 59.1 2.690c2 U−bisBP O,075254,71
0,000+2 U −bisBP O,075354,710,000+3
C1−bisBP O,0?5 1 60.2 10.000+3 C4−bi
sBP O,075256,910,000+’ 3 Ca−bisBP O,
0?5 3 55.8 3.150a4 PE−bisBP O,435156
,91,350c4 PE−bisBP O,435254,710,000+
4 PE−bisBP O,435354,710,000+なし 0 70.
0 220c
c=接着剤の凝集不良
a=接着剤の接着不良
+=この時点で試験をやめたことを示す。
ガラスからの平均剥離力を示す。
実施例2.3及び4は、一定の多価ベンゾフェノンを利用して高い架橋効率が得
られることを実証した。
比較例4−7
これらの実施例は、例えばポリエーテル上にあるような引抜かれ易い水素原子を
有さない、又は本質的に有さないベンゾフェノン単位間でのスペーサー基の必要
性を実証する。
0.5d1g−’の内部粘度を有する90/10のMBA/AAコポリマーを3
種類のエチレングリコールベースビスベンゾフェノン、即ち、比較例5について
はジエチレングリコールビスベンゾフェノン(DG−bisBP) 、比較例6
についてはテトラエチレングリコールビスベンゾフェノン(TG−bisBP)
、そして比較例7についてはポリエチレングリコールビスベンゾフェノン(P
G−bisBP)と混合した。
対照としてベンゾフェノン自体も含ませた(比較例4)。ベンゾフェノン含有量
は全ての架橋剤に関して等しく保ち、そして固形分に基づき0.3重量%のベン
ゾフェノンのレベルに相当させた。全てのエチルアセテート溶液は透明、且つ均
質であり、そして接着テープを先の実施例に記載の方法に従って用意した。乾燥
接着剤のコーティング厚みは1. Omi 1とした。聞硬化を、様々なライン
スピードにおいて硬化用チャンバーに一回だけ通すことによって行った。そのテ
ープ特性を表3にまとめた。
表3
Camp、 #4 8P 25 10.000+ lCom11.#4 BP
75 250cComp、#4 BP 125 250cComp、 #5 D
G−bisBP 25 10.000+Comp、 #5 DG−bisBP
75 10.000+Comp、 #5 DG−bisBP 125 、 10
,000+Comp、 #6 TG−bisBP 25 10,000+Com
p、#6 TG−bisBP 75 2,000ccomp、lls TG−b
isBP 125 250cComp、#7 PG−bisBP 25 250
cCom11.#7 PG−bisBP 75 250cComp、#7 PG
−bisBP 125 250cC;接着剤の凝集不良
+=この時点で試験をやめたことを示す。
Uv硬化効率における明白な低下が、架橋剤中の引抜かれ易い水素の数にかかわ
っている(例えばエーテルの結合の数)。
実施例7−9
これらの実施例は、本発明において用いた多価ベンゾフェノンによる非アクリル
系エラストマーの架橋を実証する。表4に挙げるエラストマーをトルエンの中で
固形分lO%又は20%(ポリマーの分子量に応じて)において溶かし、そして
C1゜−bisBPをこれらの溶液に加えた。C10スペーサーを溶解度の理由
のために選、び、04当量は曇った溶液を供した。全ての溶液をキャストに付し
て透明なエラストマーフィルムにし、ここでKraton (商標) 1107
エラストマーサンプルのみやや曇っていた。
これらのエラストマーをPPG UVプロセッサーの2個の中圧水銀ライトのも
とで硬化させた。これらのランプを全力設定にし、そしてこれらのサンプルをそ
れぞれ75fpmのラインスピードでそのユニットに3回通過させた。上記のト
ルエン抽出によってゲル含有量を決定した。その結果を表4にまとめた。
表4
C1゜−bisBPによるエラストマーのUV架橋7 Vistanex” L
M−MS 5 < 58 Vistanex” MM 2 388 Vista
nex” MM 5 529 Kraton” 1107 2 849 にra
ton” 1101 2 83これらのデーターは、非アクリル系エラストマー
中の多価ベンゾフェノンのUv架橋効率を実証する。このデーターは、架橋効率
が、骨格からの水素引抜きのし易さ、得られるラジカルの反応性及びエラストマ
ーの分子量に依存することも示す。
実施例1Oは光増感エラストマーシートにより高い架橋効率が得られることを実
証する。
実施例IO
光増感エラストマーシートを下記の通りに調製した:5重量%(固形分ベース)
のC、、−bisBPをトルエン中のKraton(商標’) 1107エラス
トマーの固形分20%の溶液に溶かした。このサンプルを下塗法ポリエステルシ
ートの上にキャストし、そしてオーブン乾燥して厚さ5a+ilのフィルムを得
た。このシートの一部にアルミホイルをかぶせ、そしてそのサンプルを2個の中
圧水銀ランプの付いた非−不活性型PPG聞プロセッサーの中で全力設定で硬化
させた。暴露時間は約6秒とした。次に、そのマスクを外し、そしてサンプルを
トルエンの中に浸した。数分で非暴露部は溶は出し、一方、露出部は若干の膨潤
のみを示した。露出と非露出領域との境ははっきりとしていた。
実施例11
光増感シートを実施例1Oに記載の方法に従って調製した。固形分20%のKr
aton (商標) 1107エラストマー溶液の代りに、固形分50%のTr
ilene(商標)65溶液を、サンプルをキャストに付すために用いた。硬化
は実施例10に記載の通りに行い、そしてここでも、非露出部はトルエンの中で
容品に溶は出し、一方、露出部は若干の膨潤を本実施例は多価ベンゾフェノン架
橋剤の非揮発性的性質及び安定性を実証する。高めの分子量の類似体は揮発性も
低いため、C4−bisBPを使用した。押出の前にポリマーに一体化する必要
のある共重合体ベンゾフェノン(ARP)と、ホットメルトコート性ポリマーに
後で添加できつるベンゾフェノン自体とを比較した。
アクリレート接着剤の架橋効率に及ぼす長い加熱の影響を調べるため、試験サン
プルを105°Cのオーブンの中に2時間開放保存した。
接着剤のコーティングの厚みは約1.2m1lとした。典型的な高めの温度をホ
ットメルトコーティングのために用いたが、しかしこの温度はポリマー劣化を回
避するように選んだ。試験したテープは実施例1並びに比較例1及び2のために
用いたものとした。
表5
アクリレート接着剤中のベンゾフェノンの架橋効率に及ぼす熱の効果
Camp #l no 60.4 1.530cColIIl) #1 yes
65.7 517cComp #2 no 60.2 9.816cCamp
#2 yes 59.8 10,000+εx、 1 no 59.8 10
.000+Ex、 1 yes 60.4 10,000+C=接着剤の凝集不
良
+=この時点で試験をやめたことを示す。
ガラスからの平均剥離力のみを示す。
表5における結果から、ベンゾフェノン架橋剤を共重合させるか、又は非揮発性
ベンゾフェノン架橋剤を使用しない限り、長い時間加熱するホットメルト加工化
エラストマー組成物に関して架橋効率における低下が予測される。このエラスト
マーの多価ベンゾフェノン架橋剤含有量は溶融物への試薬の添加又は削除だけに
より任意の所望のレベルにすることができ、これにより共重合性ARPに勝る顕
著な利点が供される。
実施例13
PDMSエラストマーを固形分20%の60/ 40のトルエン/2−プロパツ
ール混合物の中に溶かした。2種類のビスベンゾフェノン(C,。bis−BP
及びC3゜メトキシbis−BP)及び多価ベンゾフェノン(PDMS−o+u
lti BP)を5重量%において加え、そして溶かした。この溶液をキャスト
に付して厚みが2岨lのエラストマーフィルムを得た。PDMS−multi
BPを含む溶液のみ透明なフィルムを供した。
これらのエラストマーをPPGブロセ・ノサーの2個の中圧水銀ランプのもとで
硬化させた。これらのランプは全力設定とし、そしてそれらのサンプルを75f
t、/win、のラインスピードで3回通過させた。
ゲル含有量を上記のトルエン抽出法により決定した。その結果を表6にまとめた
。
表6
PDMS−ベース多価架橋剤
C1゜−メトキシbisBP 6
PDMS−multiBP 9B
これらのデーターはより高い架橋効率を得るための相溶性スペーサー基の必要性
を実証する。
合理的な変更及び改良が、請求の範囲に定義する本発明の範囲を逸脱することな
く上記の開示内容より可能である。
フロントページの続き
(72)発明者 ジャーマン、オードリー ニー。
アメリカ合衆国、ミネソタ 55133−3427゜セントポール、ポスト オ
フィス ボックス 33427 (番地なし)
(72)発明者 レイア、チャールズ エム。
アメリカ合衆国、ミネソタ 55133−3427゜セントポール、ポスト オ
フィス ボックス 33427 (番地なし)
Claims (12)
- 1.放射線架橋化性組成物であって: (a)エラストマーポリマー、これはこのエラストマーポリマーが適当な放射線 活性化性架橋剤の存在下で架橋を受けることを可能とするのに十分な量の引抜き 性水素原子を含む;及び(b)次式の放射線活性化性架橋剤 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 Wは−O−,−N−又は−S−を表わし、XはCH2−又は▲数式、化学式、表 等があります▼を表わし、Yはケトン、エステル又はアミド官能基を表わし;Z はこのエラストマーポリマーの水素原子よりも光引抜き性である水素原子は含ま ない有機セグメントを表わし;mは0〜6の整数を表わし; aは0又は1を表わし;そして nは2以上の整数を表わす); を含んで成る組成物。
- 2.前記エラストマーポリマーが、ASTMD1456−86に従って測定され て、弱い応力による実質的な変形及びその後のその応力の解放を経てそのほぼも との寸法及び形態に迅速に戻る巨大分子材料である、請求項1記載の放射線架橋 性組成物。
- 3.前記エラストマーが、スチレン−ブタジエンゴム;スチレンーイソプレン− スチレンブロックコポリマー;スチレン−プタジエン−スチレンブロックコポリ マー;エチレン−プロピレン−ジエンモノマーゴム;ポリイソプチレン;天然ゴ ム;合成ポリイソプレン;アクリロニトリルーブタジエンコポリマー;ポリクロ ロプレン;エチレン−ビニルアセテートコポリマー;シリコーン;及びポリアク リレートより成る群から選ばれる請求項1記載の放射線架橋性組成物。
- 4.前記エラストマーポリマーが、ポリアクリレート;シリコーン;液状エチレ ン−プロビレン−ジエンモノマーゴム;スチレン−ブタジエン−スチレンブロッ クコポリマー;及びスチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマーより成 る群から選ばれる、請求項3記載の放射線架橋性組成物。
- 5.前記のXがフェニルを表わし;Wが−O−を表わし;Yがエステル官能基を 表わし;Zが(CH2)2−10を表わし;m=1;a=1;そしてn=2であ る、請求項1記載の放射線架橋性組成物。
- 6.前記のXがフェニルを表わし;Wが−O−を表わし;Zが−CH2−CH2 −O−C(O)−NH−R−NH−C(0)−CH2CH2−を表わし;Rが二 価の脂肪式、芳香式又は脂環式成分を表わし;Yがエステル官能基を表わし;m =1;a=1;そしてn=2である、請求項1記載の放射線架橋性組成物。
- 7.前記放射線活性化性架橋剤が、前記放射線架橋性組成物の総重量に基づいて 、0.01〜25重量%の量で存在している、請求項1記載の放射線架橋性組成 物。
- 8.前記放射線活性化性架橋剤が、前記放射線架橋性組成物の総重量に基づいて 、0.1〜10重量%の量で存在している、請求項1記載の放射線架橋性組成物 。
- 9.熱膨張性ポリマー徴小球;ガラス微小球;顔料;発泡剤;安定化剤;難燃剤 ;粘度調節剤;粘着付与剤;及び可塑剤より成る群から選ばれる添加剤を更に含 んで成る、請求項1記載の放射線架橋性組成物。
- 10.請求項1記載の放射線架橋性組成物を放射線にかけ、得られる放射線活性 化架橋剤によって前記エラストマーポリマーから水素原子引抜くことの方法によ り製造された放射線架橋型組成物。
- 11.前記放射線が電磁波である、請求項10記載の放射線架橋型エラストマー 組成物。
- 12.前記放射線が約280〜400nmの範囲の波長を有する、請求項10記 載の放射線架橋型エラストマー組成物。
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