JPH0754532B2 - Multi-layer simultaneous wiring method - Google Patents
Multi-layer simultaneous wiring methodInfo
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- JPH0754532B2 JPH0754532B2 JP1041864A JP4186489A JPH0754532B2 JP H0754532 B2 JPH0754532 B2 JP H0754532B2 JP 1041864 A JP1041864 A JP 1041864A JP 4186489 A JP4186489 A JP 4186489A JP H0754532 B2 JPH0754532 B2 JP H0754532B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、多層プリント基板、多層集積回路等の配線パ
ターンの配線情報を自動決定する方法に係り、特に、最
短配線が必要なパターン、配線長制約の厳しいパターン
等を決定するために用いて好適な多層自動配線方法に関
する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for automatically determining wiring information of a wiring pattern of a multilayer printed circuit board, a multilayer integrated circuit, etc., and particularly to a pattern and wiring that require the shortest wiring. The present invention relates to a multilayer automatic wiring method suitable for use in determining a pattern having severe length restrictions.
従来一般に、多層プリント基板、多層集積回路等は、X
軸,Y軸の2方向にパターンの走る配線層を1組のペア層
とし、このペアによる配線パターンを形成後、複数のペ
ア層相互間に絶縁層をはさんで積層するという方法によ
つて製造されていた。Conventionally, in general, multilayer printed circuit boards, multilayer integrated circuits, etc.
By forming a pair of wiring layers whose patterns run in two directions of the axis and the Y-axis, forming a wiring pattern by this pair, and then laminating an insulating layer between a plurality of pair layers. It was manufactured.
以下、この種従来技術を図面により説明する。Hereinafter, this type of conventional technique will be described with reference to the drawings.
第18図は従来技術によるプリント基板の配線層の構成の
一例を示す図、第19図はその配線パターン例を示す図で
ある。第18図,第19図において、1はx軸方向層、2は
y軸方向層、3は絶縁層、4は基板上の障害物、5はパ
ターン始点、6はパターン目的点である。FIG. 18 is a diagram showing an example of the structure of a wiring layer of a printed circuit board according to the prior art, and FIG. 19 is a diagram showing an example of its wiring pattern. In FIGS. 18 and 19, 1 is an x-axis direction layer, 2 is a y-axis direction layer, 3 is an insulating layer, 4 is an obstacle on the substrate, 5 is a pattern starting point, and 6 is a pattern target point.
従来技術によるプリント基板は、第18図に示すように、
x軸方向層1,y軸方向層2の2枚の配線層をペアとし、
このペアの層に所要の配線を行つた後、複数のペア層を
絶縁層3を介して積層するものである。The printed circuit board according to the prior art is as shown in FIG.
Two wiring layers of x-axis direction layer 1 and y-axis direction layer 2 are paired,
After performing required wiring on the layer of this pair, a plurality of pair layers are laminated via the insulating layer 3.
このように構成される基板に対して自動配線を行う場合
に、一般的に用いられているアルゴリズムの基本的な考
え方は、X軸,Y軸の2方向を用い、平面上で配線パター
ンを探査していくというものである。第19図に示すパタ
ーン例は、基板上に配線を通すことができない障害物4
がある場合の例で、パターン始点5及びパターン目的点
6より、発生させた配線パターンが接触するまで、配線
パターンを伸ばしていくという方法により作成される。
この場合、第19図のように基板上に障害物4があれば、
配線パターンの配線層を変更しパターンの走行方向を変
化させて、パターンの生成が継続的に行われる。The basic idea of an algorithm that is generally used when automatic wiring is performed on a substrate configured in this way is to search the wiring pattern on a plane using two directions of the X axis and the Y axis. It is to do. The pattern example shown in FIG. 19 is an obstacle 4 in which wiring cannot be passed on the substrate.
In this case, the wiring pattern is created by extending the wiring pattern from the pattern start point 5 and the pattern destination point 6 until the generated wiring pattern contacts.
In this case, if there is an obstacle 4 on the substrate as shown in FIG.
By changing the wiring layer of the wiring pattern and changing the traveling direction of the pattern, the pattern is continuously generated.
一方、年々、プリント基板,集積回路等が大規模化,高
密度実装化されてきており、多層化による対応が進んで
きている。また、大規模化に伴い、配線デイレイに対す
る考慮も重要な問題となり、斜め方向の配線パターンを
用いた最短配線による対処が不可欠となつている。On the other hand, the printed circuit boards, integrated circuits, etc. have become larger and more densely mounted year by year, and the multi-layered structure is being used. Further, with the increase in scale, consideration of the wiring delay has become an important issue, and it is indispensable to deal with the shortest wiring using diagonal wiring patterns.
このような斜め配線パターン層を用いたペア層による配
線パターン生成の従来技術として、例えば、特開昭58−
56500号公報等に記載された技術が知られている。As a conventional technique for generating a wiring pattern by a pair layer using such a diagonal wiring pattern layer, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
The technology described in Japanese Patent No. 56500 is known.
第20図はこの従来技術による層選択を説明する図、第21
図は中継点の選定を説明する図、第22図,第23図はその
配線パターン例を示す図である。第21図〜第23図におい
て、7は中継点候補、8は配線パターンであり、他の符
号は、第19図の場合と同一である。FIG. 20 is a diagram for explaining layer selection according to this conventional technique, and FIG.
The figure is a diagram for explaining the selection of relay points, and FIGS. 22 and 23 are diagrams showing the wiring pattern examples. 21 to 23, 7 is a relay point candidate, 8 is a wiring pattern, and other reference numerals are the same as those in FIG.
この従来技術は、まず、配線対象区間を結ぶ線分がx軸
となす角度により、1層または組み合わせによる2層を
決定する。例えば、配線方向として、x軸方向、y軸方
向、x軸,y軸からそれぞれ45゜時計回りに傾いたΔx軸
方向、Δy軸方向が使用可能であるとすれば、これらの
方向の配線層の2つがペアとして選択される。第20〜22
図の例では、Δy軸方向とx軸方向とを選択している。In this conventional technique, first, one layer or two layers by combination are determined according to the angle formed by the line segment connecting the wiring target sections with the x-axis. For example, if it is possible to use the x-axis direction, the y-axis direction, and the Δx-axis direction and the Δy-axis direction that are inclined 45 ° clockwise from the x-axis and the y-axis, respectively, as wiring directions, the wiring layers in these directions Are selected as a pair. 20th-22nd
In the example of the figure, the Δy axis direction and the x axis direction are selected.
次に、配線対象区間の形状により、複数の中継点候補7
を選定する。Next, depending on the shape of the wiring target section, a plurality of relay point candidates 7
Is selected.
最後に、選定された中継点候補7を用いて設定した複数
種の配線パターンのうち実現可能な最短パターンを決定
する。Finally, the shortest feasible pattern is determined from among the plurality of types of wiring patterns set using the selected relay point candidate 7.
前述の従来技術による配線方法は、配線パターン探査前
に、予め配線層の配線方向を限定してしまうので、例え
ば、第22図に示すように、開始点5と目的点6との間の
配線区間付近に障害物4がある場合、決められた配線方
向のパターンを用いなければならず、かえつて、配線パ
ターン8の迂回を生じ、配線長が長くなつてしまう場合
を生じてしまう。この例の場合、例えば、y軸方向のパ
ターンも使用可能であれば、第23図に示すように、配線
パターン8を決定でき、配線パターンの迂回を回避する
ことが可能であるが、前記従来技術では、このような配
線パターンの迂回の回避を行うことが不可能である。Since the above-described wiring method according to the conventional technique limits the wiring direction of the wiring layer in advance before the wiring pattern search, for example, as shown in FIG. 22, wiring between the start point 5 and the destination point 6 is performed. If there is an obstacle 4 in the vicinity of the section, a pattern in a predetermined wiring direction must be used, and on the contrary, a detour of the wiring pattern 8 may occur and the wiring length may become long. In the case of this example, for example, if the pattern in the y-axis direction can also be used, the wiring pattern 8 can be determined as shown in FIG. 23, and the detour of the wiring pattern can be avoided. With the technology, it is impossible to avoid such a bypass of the wiring pattern.
前述した、x軸方向及びy軸方向のみの配線層を用いる
従来技術は、回路の大規模化に伴う配線デイレイに対す
る配慮がなされておらず、最短配線による配線デイレイ
の減少が困難であるという問題点を有している。The above-mentioned conventional technique using the wiring layers only in the x-axis direction and the y-axis direction does not consider the wiring delay due to the increase in the scale of the circuit, and it is difficult to reduce the wiring delay by the shortest wiring. Have a point.
また、前記公報に記載された従来技術は、斜め配線方向
層を用いることができ、配線デイレイの減少を図ること
が可能であるが、予め配線層の方向を決定しているの
で、障害物等がある場合に、パターンの迂回を生じさせ
てしまい、かえつて、配線デイレイを増加させてしまう
ことがあるという問題点を有している。さらに、この従
来技術は、配線層決定時に、配線対象区間に最適なペア
層を選択するために、パターンの走行方向による全種類
の組み合わせの中から選択する必要があり、パターン走
行方向の種類が多様化するに伴い、必要な配線層の総数
が膨大になり、選択が困難になるという問題点がある。
その上、配線対象区間のパターン方向の傾きにばらつき
があるので、各ペア層の配線パターンの混雑度に不均一
が生じ、非効率的であり、結線率をある程度以上に大き
くすることができないという問題点を有している。Further, the prior art described in the above publication can use a diagonal wiring direction layer and can reduce the wiring delay, but since the direction of the wiring layer is determined in advance, obstacles, etc. In this case, there is a problem in that the pattern may be detoured and the wiring delay may be increased. Further, in this conventional technique, in order to select the optimum pair layer for the wiring target section when the wiring layer is determined, it is necessary to select from all kinds of combinations depending on the traveling direction of the pattern, and the type of the pattern traveling direction is With the diversification, there is a problem that the total number of required wiring layers becomes huge and selection becomes difficult.
Moreover, since the inclination of the wiring target section in the pattern direction varies, the congestion degree of the wiring patterns of each pair layer becomes uneven, which is inefficient, and the connection rate cannot be increased to a certain degree or more. I have a problem.
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、複数
層を配線層とした配線処理により、作成可能な配線パタ
ーン形状を多様化することにより、高結線率と最短配線
を可能とし、配線長の決められた配線区間の配線長精度
を向上することができ、かつ、配線パターン決定時に、
各配線層の混雑度を考慮することにより、各層の混雑度
の平均化を図ることを可能とした多層同時配線方法を提
供することにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to diversify the wiring pattern shapes that can be created by a wiring process using a plurality of wiring layers, thereby enabling a high connection rate and the shortest wiring, It is possible to improve the wiring length accuracy of the wiring section where the wiring length is determined, and at the time of determining the wiring pattern,
An object of the present invention is to provide a multi-layer simultaneous wiring method capable of averaging the congestion degree of each layer by considering the congestion degree of each wiring layer.
本発明によれば、前記目的は、配線層を異なるパターン
走行方向を有する3層以上の配線層とし、配線対象区間
毎に、次の(1)〜(4)の処理をこの順序で実行して
配線パターンを決定することにより達成される。According to the present invention, the object is to make the wiring layers three or more wiring layers having different pattern running directions, and execute the following processes (1) to (4) in this order for each wiring target section. It is achieved by determining the wiring pattern.
(1)各層毎の混雑度算出 各層毎に、(a)既に決定された配線情報フアイルよ
り、既配線パターンを取り出し、そのパターン長を算出
する。(b)基板情報フアイルより使用可能な配線領域
の大きさ、使用可能最大チヤネル数(配線格子間に作成
可能なパターン本数)及びパターンの走行方向を取り出
し、作成可能パターン長を算出する。(C)前述の既配
線パターン長及び作成可能パターン長より、層別混雑度
を算出する。(1) Calculation of Congestion Degree for Each Layer For each layer, (a) an existing wiring pattern is extracted from the already determined wiring information file, and the pattern length thereof is calculated. (B) The size of the usable wiring area, the maximum number of usable channels (the number of patterns that can be formed between wiring grids) and the traveling direction of the pattern are extracted from the board information file, and the length of the pattern that can be formed is calculated. (C) The degree of congestion for each layer is calculated from the length of the existing wiring pattern and the length of the pattern that can be created.
(2)各層毎の得点算出 設計情報フアイルより、配線対象区間の始点と目的点と
を結ぶ線分の角度を算出し、配線対象区間の配線長に関
する制約条件を取り出し、これらを基に、使用可能であ
るパターン走行方向のそれぞれの優先順位を決定し、こ
の優先順位と前記層別混雑度及び各配線層のパターン方
向により、使用可能配線層のそれぞれに対して使用得点
を算出する。(2) Score calculation for each layer From the design information file, the angle of the line segment that connects the start point and the destination point of the wiring target section is calculated, and the constraint conditions regarding the wiring length of the wiring target section are extracted and used based on these. The priority of each possible pattern running direction is determined, and the use score is calculated for each of the usable wiring layers based on the priority, the degree of congestion by layer, and the pattern direction of each wiring layer.
(3)配線パターン生成 当該配線対象区間の始点より、全方向に対する配線パタ
ーン作成可能な格子点(パターン作成可能点)上に配線
パターンを作成し、その先端を試行端点とする。次に、
この試行端点より次の試行端点までの配線パターンの作
成を前述と同様に実行し、試行端点が目的点に達するま
で繰り返す。この結果、候補となる複数の配線パターン
候補が生成される。なお、生成される配線パターン候補
の走行方向は、第16図に示すようなx軸方向、y軸方
向、Δx軸方向、Δy軸方向からなる平面方向9及びこ
れら平面方向パターン用の配線層相互間を接続する垂直
方向10を用いる。これにより、複数層を配線層とした配
線パターン候補を生成することができる。(3) Wiring pattern generation A wiring pattern is created on the grid points (pattern creation points) where wiring patterns can be created in all directions from the start point of the wiring target section, and the tip thereof is made the trial end point. next,
The wiring pattern from this trial end point to the next trial end point is created in the same manner as described above, and repeated until the trial end point reaches the target point. As a result, a plurality of candidate wiring pattern candidates are generated. The running direction of the generated wiring pattern candidates is the plane direction 9 including the x-axis direction, the y-axis direction, the Δx-axis direction, and the Δy-axis direction as shown in FIG. 16, and the wiring layers for these plane-direction patterns. Vertical direction 10 is used to connect the two. As a result, it is possible to generate a wiring pattern candidate having a plurality of wiring layers.
(4)配線パターン決定 前述した配線パターン候補生成時に、各配線パターン候
補の配線長さ、配線対象区間に対する各配線パターン候
補の走行方向、V.H.(ViaHole:配線パターンが層を変更
する場合に、それらの層間を接続するために作成される
経由穴)の要否、及び前述で求めた層別使用得点によ
り、各試行端点における試行得点を算出する。次に、各
配線パターン候補のそれぞれについて、全ての試行端点
における試行得点を合計することにより、各配線パター
ン候補の得点を求め、その得点の大小により最適な配線
パターンを決定する。但し、配線パターン長の指定ある
配線対象区間については、指定長に最も近い長さを持つ
配線パターン候補を最適な配線パターンとして決定す
る。(4) Wiring pattern determination When the wiring pattern candidates are generated as described above, the wiring length of each wiring pattern candidate, the traveling direction of each wiring pattern candidate with respect to the wiring target section, and VH (ViaHole: when the wiring pattern changes layers) The trial score at each trial end point is calculated based on the necessity of a through hole created for connecting the layers of (1) and the use score for each layer obtained as described above. Next, for each wiring pattern candidate, the trial scores at all trial end points are summed up to obtain the score of each wiring pattern candidate, and the optimum wiring pattern is determined according to the size of the score. However, for a wiring target section having a designated wiring pattern length, a wiring pattern candidate having a length closest to the designated length is determined as an optimum wiring pattern.
第17図はこのようにして決定された配線パターン候補の
一例を示す図であり、11はV.H.である。FIG. 17 is a diagram showing an example of the wiring pattern candidates thus determined, and 11 is VH.
第17図において、a1〜a6は各試行端点における試行得点
であり、この例の配線パターン候補の得点は、 となる。In FIG. 17, a 1 to a 6 are trial scores at each trial end point, and the scores of the wiring pattern candidates in this example are: Becomes
本発明による配線パターンの決定は、配線対象区間毎
に、既配線パターン長に基づいて層別混雑度を算出し、
これを考慮して配線パターンを決定しているので、各層
の使用率を詳細に制御することができる。また、配線パ
ターン作成時に、同時に複数層を対象とした配線パター
ンを作成するため、始点及び各試行端点で使用可能な走
行方向全てのパターンを考慮することにより、多様な配
線パターン候補を生成することができ、結線率の向上を
図ることが可能である。さらに、配線パターン決定時
に、当該配線対象区間の既配線パターンの長さや迂回に
応じて、多様な配線パターン候補の中から最適なものを
選択することができ、最短配線や、指定された配線長に
よる配線において、高精度な結果を得ることができる。The determination of the wiring pattern according to the present invention, for each wiring target section, to calculate the degree of congestion by layer based on the existing wiring pattern length,
Since the wiring pattern is determined in consideration of this, the usage rate of each layer can be controlled in detail. In addition, in order to create a wiring pattern for multiple layers at the same time when creating a wiring pattern, it is possible to generate various wiring pattern candidates by considering all patterns in the traveling direction that can be used at the start point and each trial end point. Therefore, it is possible to improve the connection rate. Furthermore, when determining the wiring pattern, the optimum wiring pattern can be selected from various wiring pattern candidates according to the length and detour of the existing wiring pattern in the wiring target section, and the shortest wiring or the designated wiring length can be selected. With the wiring by, a highly accurate result can be obtained.
以下、本発明による多層同時配線方法の一実施例を図面
により詳細に説明する。An embodiment of the multi-layer simultaneous wiring method according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例における処理を説明するフロ
ーチヤート、第2図は本発明の一実施例のハードウエア
構成図、第3図は本発明の一実施例の配線層の構成を示
す図、第4図は既配線パターン長を説明する図、第5図
は混雑度に応じた各層の得点算出を説明する図、第6図
は得点算出を説明するための配線パターン例を示す図、
第7図(a),(b)は配線パターン候補例を示す斜視
図、第8図は配線パターン候補例を示す平面図、第9図
〜第11図は配線長指定による配線パターン例を示す図、
第12図,第13図は配線パターン得点算出法を説明するた
めの配線パターン例を示す図、第14図は得点算出に使用
するパラメータと得点の関係を説明する図、第15図は配
線パターン候補の得点例を示す図である。第2図〜第4
図,第6図〜第13図において、21はコンピユータ、22は
設計情報フアイル、23は基本情報フアイル、24は配線情
報フアイル、25〜28は方向別の各配線層であり、他の符
号は第18図〜第23図の場合と同一である。FIG. 1 is a flow chart for explaining processing in one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a hardware configuration diagram of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a configuration of a wiring layer of one embodiment of the present invention. FIG. 4, FIG. 4 is a diagram for explaining the length of the existing wiring pattern, FIG. 5 is a diagram for explaining the score calculation of each layer according to the congestion degree, and FIG. 6 is a wiring pattern example for explaining the score calculation. Figure,
7 (a) and 7 (b) are perspective views showing examples of wiring pattern candidates, FIG. 8 is a plan view showing examples of wiring pattern candidates, and FIGS. 9 to 11 show examples of wiring patterns by designating the wiring length. Figure,
12 and 13 are diagrams showing examples of wiring patterns for explaining the wiring pattern score calculation method, FIG. 14 is a diagram for explaining the relationship between parameters used for score calculation and scores, and FIG. 15 is a wiring pattern. It is a figure which shows the example of a score of a candidate. 2 to 4
In FIGS. 6 and 13, 21 is a computer, 22 is a design information file, 23 is a basic information file, 24 is a wiring information file, and 25 to 28 are wiring layers for each direction. This is the same as in the case of FIGS.
本発明の一実施例は、第2図に示すように、自動配線処
理を行うコンピユータ21、配線対象区間の座標及び当該
配線区間の配線時の制約条件等を持つ設計情報フアイル
22、配線パターンが印刷される基板についての情報を持
つ基板情報フアイル23、自動配線処理により決定された
配線パターン情報を保持する配線情報フアイル24を備え
て構成されている。One embodiment of the present invention is, as shown in FIG. 2, a computer 21 for performing automatic wiring processing, a design information file having coordinates of a wiring target section, constraint conditions at the time of wiring of the wiring section, and the like.
22, a board information file 23 having information about a board on which a wiring pattern is printed, and a wiring information file 24 holding wiring pattern information determined by automatic wiring processing.
このように構成される本発明の一実施例は、第1図に示
すような、配線対象区間抽出S1、各層毎の混雑度算出S
2、各層毎の得点算出S3、配線パターン候補生成S4、配
線パターン決定S5、配線パターン格納S6の6つの処理段
階を順次実行することにより、配線パターンを決定す
る。An embodiment of the present invention configured in this way is such that the wiring target section extraction S1 and the congestion degree calculation S for each layer as shown in FIG.
2. The wiring pattern is determined by sequentially executing the six processing steps of the score calculation S3 for each layer, the wiring pattern candidate generation S4, the wiring pattern determination S5, and the wiring pattern storage S6.
以下、各段階毎の処理について、通常の配線区間と最短
配線区間との配線処理を説明する。なお、以下に説明す
る本発明の実施例では、最適配線パターンは、得点が最
小となるパターンであるとする。また、本発明の一実施
例の層構成は、第3図に示すように、x軸方向層(A
層)、y層方向層(B層)、x軸に対して45゜方向層
(C層)、135゜方向層(D層)の4層の配線層により
構成されるものとし、これらの配線層を貫通するV.H.11
を自由に設け、各配線層上の配線パターン相互間を接続
できるものとする。Hereinafter, regarding the processing at each stage, the wiring processing between the normal wiring section and the shortest wiring section will be described. In the embodiments of the present invention described below, the optimum wiring pattern is a pattern having the smallest score. Further, as shown in FIG. 3, the layer constitution of one embodiment of the present invention is as follows.
Layer), y layer direction layer (B layer), 45 ° direction layer (C layer) and 135 ° direction layer (D layer) with respect to the x-axis. VH11 penetrating layers
Are freely provided, and the wiring patterns on each wiring layer can be connected to each other.
段階I:配線対象区間抽出(ステツプS1) 設計情報フアイル22から、配線対象区間を構成する配線
パターンの始点及び目的点の各座標と、当該区間を配線
する際の制約条件(配線パターン長、配線パターン形状
等)を読み出し、コンピユータ21に入力する。Stage I: Wiring target section extraction (step S1) From the design information file 22, each coordinate of the start point and the destination point of the wiring pattern that constitutes the wiring target section, and the constraint conditions for wiring the section (wiring pattern length, wiring The pattern shape, etc.) is read out and input to the computer 21.
段階II:各層毎の混雑度算出(ステツプS2)コンピユー
タ21は、次の計算式により、層別混雑度を算出する。Stage II: Calculation of congestion degree for each layer (step S2) The computer 21 calculates the congestion degree for each layer by the following calculation formula.
但し、 lx=既配線パターンのx方向格子数 ly=既配線パターンのy方向格子数である。 However, l x = the number of grids in the x direction of the existing wiring pattern l y = the number of grids in the y direction of the existing wiring pattern.
すなわち、既配線パターン長は、第4図に示すように、
パターンの始点5の位置と目的点6の位置とにより、格
子点距離を単位として、両位置の直線距離として求めら
れる。That is, the length of the existing wiring pattern is, as shown in FIG.
Based on the position of the starting point 5 and the position of the destination point 6 of the pattern, a linear distance between both positions can be obtained with the grid point distance as a unit.
作成可能パターン長L(例) (1)x軸方向層、y軸方向層の場合 L=(基板のx軸方向格子数) ×(基板のy軸方向の格子数) ×(格子間に作成可能なパターン数の最大値) −(基板上の配線不可領域の格子数) (2)45゜方向層、135゜方向層の場合 段階III:各層毎の得点算出(ステツプS3) (a)前述で求めた層別混雑度に基づいて、各層の使い
やすさの指標となる得点を決定する。例えば、各層にお
ける配線の混雑度が、第5図に示されたような値をもつ
ている場合、各混雑度に応じた得点を与える。この得点
は、各層の得点の合計が100点となるように、前述の混
雑度の値と層間の比率が変わらないように決定するもの
である。Pattern length L that can be created (example) (1) In the case of x-axis direction layer and y-axis direction layer L = (number of grids in the x-axis direction of the substrate) x (number of grids in the y-axis direction of the substrate) x (created between the lattices (Maximum number of possible patterns)-(Number of grids in the non-wiring area on the board) (2) 45 ° direction layer, 135 ° direction layer Step III: Score calculation for each layer (step S3) (a) Based on the degree of congestion of each layer obtained above, a score that is an index of usability of each layer is determined. For example, when the congestion degree of the wiring in each layer has a value as shown in FIG. 5, a score according to each congestion degree is given. This score is determined so that the sum of the scores of each layer is 100 and the ratio of the congestion degree and the ratio between layers do not change.
(b)配線対象区間の形状及び配線時の制約条件に基づ
いて、前述した各層の得点に修正を加え、層別使用得点
を算出する。この層別使用得点について、第6図に示す
配線パターンの例により説明する。第6図に示す配線パ
ターン8の配線対象区間は、始点5と目的点6との間で
あり、この場合にx軸方向層(A層)と45゜方向層(B
層)の2つの配線層を用いた配線パターン8は最短とな
る。そこで、通常配線区間に対しては、x軸方向層(A
層)と45゜方向層(C層)とを使いやすくするため、例
えば、第5図におけるこれらの対応層であるA層とC層
の混雑度による得点から5を引き、これを通常配線の場
合の層別使用得点とする。また、135゜方向層(D層)
は、第6図における配線対象区間と反対方向となるの
で、この層よりY軸方向層(B層)を使いやすくするた
め、例えば、第5図におけるY軸方向層(B層)の混雑
度による得点から3を引き、これを通常配線の場合のB
層すなわちY軸方向層の層別使用得点とする。この結
果、各層の混雑度及び配線対象区間の始点5と目的点6
との間の角度による最短配線を考慮した通常配線区間用
層別使用得点は、第5図に示すように決定される。ま
た、最短配線指定区間に対しては、層の混雑度より最短
経路を重視する必要があるので、層の混雑度を無視し、
x軸方向層25、45゜方向層が使いやすくなるように、例
えば、第5図に示すように使用得点を定める。(B) Based on the shape of the wiring target section and the constraint condition at the time of wiring, the above-mentioned score of each layer is corrected to calculate the use score for each layer. The use score for each layer will be described with reference to an example of a wiring pattern shown in FIG. The wiring target section of the wiring pattern 8 shown in FIG. 6 is between the start point 5 and the destination point 6, and in this case, the x-axis direction layer (A layer) and the 45 ° direction layer (B layer).
The wiring pattern 8 using two wiring layers (layer) is the shortest. Therefore, the x-axis direction layer (A
In order to make it easier to use the layer) and the 45 ° direction layer (C layer), for example, subtract 5 from the score according to the congestion degree of the corresponding layers A and C in FIG. In this case, use the score by layer. Also, 135 ° direction layer (D layer)
Is in the direction opposite to the wiring target section in FIG. 6, so that the Y-axis direction layer (B layer) is made easier to use than this layer, for example, the congestion degree of the Y-axis direction layer (B layer) in FIG. Subtract 3 from the score obtained by, and use this for B in the case of normal wiring.
The use score for each layer, that is, the Y-axis direction layer, is used. As a result, the congestion level of each layer and the start point 5 and the destination point 6 of the wiring target section
The layer-by-layer use score for the normal wiring section, which takes into account the shortest wiring depending on the angle between and, is determined as shown in FIG. Also, for the shortest wiring designated section, it is necessary to place importance on the shortest route rather than the congestion degree of the layer, so ignore the congestion degree of the layer,
In order to make the x-axis direction layers 25 and 45 ° direction layers easy to use, for example, the usage score is determined as shown in FIG.
段階IV:配線パターン候補生成(ステツプS4) いま、第8図に示すような位置にある始点5及び目的点
6の間にパターンを生成するものとする。この場合、始
点5より目的点6まで、障害物4を避け、全方向に配線
パターン候補を生成する。第7図、第8図において、
Rx,R45,R135,Ryは、配線パターン候補の例であり、第7
図(a)には、配線パターン候補Rx,R45の層間配線され
た斜視の、また、第7図(b)には、配線パターン候補
R135,Ryの層間配線された斜視の様子が示されている。Step IV: Generation of Wiring Pattern Candidates (Step S4) Now, it is assumed that a pattern is generated between the starting point 5 and the destination point 6 at the positions shown in FIG. In this case, from the starting point 5 to the destination point 6, the obstacle 4 is avoided and the wiring pattern candidates are generated in all directions. In FIGS. 7 and 8,
R x , R 45 , R 135 , R y are examples of wiring pattern candidates, and
FIG. 7A is a perspective view in which wiring pattern candidates R x and R 45 are interconnected, and FIG. 7B is a wiring pattern candidate.
The perspective view of the inter-layer wiring of R 135 and R y is shown.
配線パターン候補Rxは、始点5よりx軸方向にパターン
を生成した場合であり、障害物4を避ける位置までx軸
方向パターンを伸ばし、V.H.11を作成してB層に移行し
てy軸方向にパターンを生成し、さらに、目的点へ最短
結線を行うために、V.H.11を介してD層に移り、135゜
方向パターンにより目的点6に直接結線したものであ
る。The wiring pattern candidate R x is a case where a pattern is generated from the starting point 5 in the x-axis direction. The pattern in the x-axis direction is extended to a position where the obstacle 4 is avoided, VH11 is created, and the pattern is transferred to the B layer and then the y-axis direction In order to make a shortest wire connection to the target point, the pattern is transferred to the D layer via VH11 and is directly connected to the target point 6 by the 135 ° direction pattern.
配線パターン候補R45は、最短パターンであり、障害物
4により、始点5から直接45゜方向にはパターンの生成
を行うことができないので、一旦y軸方向パターンを生
成して障害物4を避けて最短としたものである。The wiring pattern candidate R 45 is the shortest pattern, and it is impossible to generate a pattern in the direction of 45 ° directly from the starting point 5 due to the obstacle 4, so the y-axis direction pattern is generated once to avoid the obstacle 4. Is the shortest.
配線パターン候補R135は、始点5より135゜方向にパタ
ーンを生成した場合の最短パターンである。The wiring pattern candidate R 135 is the shortest pattern when the pattern is generated in the 135 ° direction from the starting point 5.
また、配線パターン候補Ryは、通常配線区間での層別使
用得点の低いx軸方向層及びy軸方向層のみを使用した
場合の最短パターンである。The wiring pattern candidate R y is the shortest pattern when only the x-axis direction layer and the y- axis direction layer having low layer-by-layer use scores in the normal wiring section are used.
次に、設計情報フアイル2により決められたパターン長
で配線を行う。配線長指定配線の例について、第9図〜
第11図により説明する。Next, wiring is performed with a pattern length determined by the design information file 2. An example of wiring length designation wiring is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG.
第9図は、始点5と目的点6との間を、x軸方向、y軸
方向層上で11格子の指定長で配線した例である。ところ
が、目的点6の近傍に障害物4が存在すると、x軸方向
層及びy軸方向層のみを用いた配線パターンは、第10図
に示すように、配線パターンl1のように、2格子の迂回
が生じてしまう。この場合、斜め方向パターンを利用す
れば、第11図の配線パターンl2のように、配線長を短縮
して、指定されたパターン長に対する精度を向上させる
ことができる。FIG. 9 shows an example in which the starting point 5 and the destination point 6 are wired with a designated length of 11 grids on the layer in the x-axis direction and the y-axis direction. However, when the obstacle 4 exists in the vicinity of the destination point 6, the wiring pattern using only the x-axis direction layer and the y-axis direction layer has two grids like the wiring pattern l 1 as shown in FIG. Detour will occur. In this case, if the diagonal pattern is used, the wiring length can be shortened and the accuracy for the designated pattern length can be improved as in the wiring pattern l 2 in FIG.
段階V:配線パターン決定(ステツプS5) (1)配線パターン得点の算出 第7図,第8図により説明した最短配線パターンR45の
通常配線時の配線パターン得点の算出方法を第12図を参
照して説明する。Step V: Wiring pattern determination (step S5) (1) Calculation of wiring pattern score Refer to FIG. 12 for the method of calculating the wiring pattern score during normal wiring of the shortest wiring pattern R 45 explained with reference to FIGS. 7 and 8. And explain.
始点5から目的点6との間の第1の試行端点αにおい
て、始点5から試行端点αまでは、目的点に近づくベク
トルで格子数が1であり、V.H.11を使用していないの
で、第14図により、ベクトル得点l=5、V.H.得点V=
0となる。また、使用配線層がy軸方向層であるB層で
あるので、第5図より層得点L=10となる。同様に、試
行端点βにおいて、試行端点αから試行端点βまでは、
目的点に近づくベクトルで格子数が2で、試行端点αに
おいてB−C層間にV.H.11を使用し、使用配線層として
45゜方向層であるC層を使用するので、第14図,第5図
より、ベクトル得点l=10、V.H.得点V=2、L=32を
得ることができる。また同様に、目的点6に到達した試
行端点γにおいては、V.H.11を試行端点βでC−A層間
に使用し、使用配線層としてx軸方向層であるA層を使
用しているので、第14図,第5図より、ベクトル得点l
=10、V.H.得点V=2×2=4、L=14を得ることがで
きる。これらの得点の全てを合計したものが、配線パタ
ーンR45の通常配線での配線パターン得点となり、その
値は、87となる。At the first trial end point α between the start point 5 and the destination point 6, from the start point 5 to the trial end point α, the vector approaching the destination point has a lattice number of 1 and the VH11 is not used. According to the figure, vector score l = 5, VH score V =
It becomes 0. Further, since the used wiring layer is the B layer which is the y-axis direction layer, the layer score L = 10 from FIG. Similarly, in trial end point β, from trial end point α to trial end point β,
It is a vector that approaches the target point, the number of grids is 2, and VH11 is used between the BC layers at the trial end point α, and the wiring layer used is
Since the C layer, which is the 45 ° direction layer, is used, the vector score l = 10, the VH score V = 2, and the L = 32 can be obtained from FIGS. 14 and 5. Similarly, at the trial end point γ reaching the target point 6, VH11 is used between the C-A layers at the trial end point β and the A layer which is the x-axis direction layer is used as the wiring layer used. From Figure 14 and Figure 5, vector score l
= 10, VH score V = 2 × 2 = 4, L = 14 can be obtained. The total of all of these points becomes the wiring pattern score for the normal wiring of the wiring pattern R 45 , and the value is 87.
同様に、第14図及び第5図を用いることにより、配線パ
ターンR45の最短指定配線時の配線パターン得点を求め
ることができる。この場合の、各試行端点における各得
点が第13図に示されている。Similarly, by using FIGS. 14 and 5, the wiring pattern score at the time of the shortest designated wiring of the wiring pattern R 45 can be obtained. In this case, each score at each trial end point is shown in FIG.
前述のようにして、各配線パターン候補についての配線
パターン得点を求めることができ、第7図及び第8図に
より説明した各配線パターン候補についての配線パター
ン得点は、第15図に示すようになる。As described above, the wiring pattern score for each wiring pattern candidate can be obtained, and the wiring pattern score for each wiring pattern candidate described with reference to FIGS. 7 and 8 is as shown in FIG. .
(2)配線パターン決定 本発明の一実施例では、配線パターン得点の最小のもの
を最適解としているので、通常配線時には、第15図に示
す得点に基づいて配線パターン候補Ryが、また、最短指
定配線時には、同様に配線パターンR45が選択されて、
配線パターンとして決定される。(2) Wiring pattern determination In one embodiment of the present invention, the one with the smallest wiring pattern score is taken as the optimum solution, so during normal wiring, the wiring pattern candidate R y is based on the score shown in FIG. At the time of shortest designated wiring, wiring pattern R 45 is selected in the same way,
Determined as a wiring pattern.
前述により、同一配線区間に対しても、第5図及び第14
図に基づいて、一般配線時には配線層の混雑度の小さな
x軸方向層、y軸方向層を使用した配線パターンが選択
され、混雑度の平均化を図ることができ、また、最短指
定配線時には、配線層の混雑度に関係なく、最短配線パ
ターンが選択されることになる。As described above, even for the same wiring section, as shown in FIGS.
Based on the figure, a wiring pattern using the x-axis direction layer and the y-axis direction layer, which has a low degree of congestion in the wiring layer, is selected during general wiring, and the congestion degree can be averaged. The shortest wiring pattern is selected regardless of the congestion level of the wiring layer.
段階VI:配線パターン格納(ステツプS6) 段階Vで選択された配線パターンについての情報(座
標,配線層名等)を、配線情報フアイル24へ格納する。
以上により、一配線対象区間についての処理を終了す
る。Step VI: Wiring pattern storage (step S6) Information (coordinates, wiring layer name, etc.) about the wiring pattern selected in step V is stored in the wiring information file 24.
With the above, the process for one wiring target section is completed.
前述した本発明の一実施例によれば、通常の配線区間に
おいては、既決定配線パターンによる各各配線層の混雑
度を考慮し、全層を対象とした多様な配線パターン候補
を自動生成し、その中から配線対象区間に最適な配線パ
ターンを自動決定することが可能となる。また、最短配
線指定区間においては、配線パターン生成時に、全配線
層を考慮することにより、生成し得る最短配線パターン
を自動決定することが可能となる。さらに、本発明の一
実施例によれば、配線長が事前に指定されている区間に
おいては、配線パターン生成時に、全配線層を考慮する
ことにより、配線パターンの迂回等にも柔軟に対応し
た、配線長精度の高い配線パターンを自動決定すること
が可能となる。According to the above-described embodiment of the present invention, in a normal wiring section, various wiring pattern candidates for all layers are automatically generated in consideration of the congestion degree of each wiring layer due to the determined wiring pattern. It is possible to automatically determine the optimum wiring pattern for the wiring target section from among them. Further, in the shortest wiring designated section, it is possible to automatically determine the shortest wiring pattern that can be generated by considering all wiring layers when generating the wiring pattern. Further, according to one embodiment of the present invention, in the section in which the wiring length is designated in advance, all wiring layers are taken into consideration when the wiring pattern is generated, so that it is possible to flexibly cope with the detour of the wiring pattern. It is possible to automatically determine a wiring pattern with high wiring length accuracy.
前述した本発明の一実施例は、4層の配線層を有する基
板上における配線パターンの作成についてであるが、本
発明は、複数層の配線層を備えるものであれば、配線層
の数は任意であり、プリント基板、LSI等における配線
パターンの作成に適用することができる。The above-described embodiment of the present invention relates to the creation of a wiring pattern on a substrate having four wiring layers. However, the present invention is not limited to the number of wiring layers as long as it has a plurality of wiring layers. It is optional and can be applied to the creation of a wiring pattern on a printed circuit board, LSI, or the like.
以上説明したように、本発明によれば、配線パターン作
成時に、プリント基板,LSI等を構成する全ての配線層を
考慮することができるため、幅広い配線パターン候補の
中から、配線対象区間に最適な配線パターンを選択する
ことが可能となるとともに、配線パターン決定時に、既
配線パターンによる各配線層の混雑度を考慮することに
より、各配線層の使用率をより詳細に制御することがで
きる。これにより、本発明は、高結線率,最短長配線,
指定された配線長による配線時の精度向上を図ることが
できる。As described above, according to the present invention, it is possible to consider all the wiring layers that make up a printed circuit board, LSI, etc. when creating a wiring pattern. It is possible to select a different wiring pattern, and when the wiring pattern is determined, the usage rate of each wiring layer can be controlled in more detail by considering the congestion degree of each wiring layer due to the existing wiring pattern. As a result, the present invention has a high connection rate, shortest length wiring,
It is possible to improve the accuracy at the time of wiring with the specified wiring length.
第1図は本発明の一実施例における処理を説明するフロ
ーチヤート、第2図は本発明の一実施例のハードウエア
構成図、第3図は本発明の一実施例の配線層の構成を示
す図、第4図は既配線パターン長を説明する図、第5図
は混雑度に応じた各層の得点算出を説明する図、第6図
は得点算出を説明するための配線パターン例を示す図、
第7図(a),(b)は配線パターン候補例を示す斜視
図、第8図は配線パターン候補例を示す平面図、第9
図,第10図,第11図は配線長指定による配線パターン例
を示す図、第12図,第13図は配線パターン得点算出法を
説明するための配線パターン例を示す図、第14図は得点
算出に使用するパラメータと得点の関係を説明する図、
第15図は配線パターン候補の得点例を示す図、第16図は
パターン走行方向を説明する図、第17図は配線パターン
候補例を示す図、第18図は従来技術によるプリント基板
の層構成の一例を示す図、第19図はその配線パターン例
を示す図、第20図は従来技術による層選択を説明する
図、第21図は中継点の選定を説明する図、第22図,第23
図はその配線パターン例を示す図である。 1……x軸方向層、2……y軸方向層、3……絶縁層、
4……障害物、5……始点、6……目的点、7……中継
点候補、8……配線パターン、9……平面方向、10……
垂直方向、11……V.H.、21……コンピユータ、22……設
計情報フアイル、23……基板情報フアイル、24……配線
情報フアイル。FIG. 1 is a flow chart for explaining processing in one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a hardware configuration diagram of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a configuration of a wiring layer of one embodiment of the present invention. FIG. 4, FIG. 4 is a diagram for explaining the length of the existing wiring pattern, FIG. 5 is a diagram for explaining the score calculation of each layer according to the congestion degree, and FIG. 6 is a wiring pattern example for explaining the score calculation. Figure,
7 (a) and 7 (b) are perspective views showing examples of wiring pattern candidates, FIG. 8 is a plan view showing examples of wiring pattern candidates, and FIG.
Figures 10, 10 and 11 show examples of wiring patterns by specifying the wiring length, Figures 12 and 13 show examples of wiring patterns for explaining the wiring pattern score calculation method, and Figure 14 shows The figure which explains the relationship between the parameter and the score which are used for score calculation,
FIG. 15 is a diagram showing scoring examples of wiring pattern candidates, FIG. 16 is a diagram explaining pattern running directions, FIG. 17 is a diagram showing wiring pattern candidate examples, and FIG. 18 is a layer structure of a printed circuit board according to a conventional technique. FIG. 19 is a diagram showing an example of the wiring pattern, FIG. 20 is a diagram explaining layer selection according to the prior art, FIG. 21 is a diagram explaining selection of relay points, FIG. 22, FIG. twenty three
The figure is a diagram showing an example of the wiring pattern. 1 ... x-axis direction layer, 2 ... y-axis direction layer, 3 ... insulating layer,
4 ... Obstacle, 5 ... Start point, 6 ... Destination point, 7 ... Relay point candidate, 8 ... Wiring pattern, 9 ... Plane direction, 10 ...
Vertical direction, 11 …… VH, 21 …… Computer, 22 …… Design information file, 23 …… Board information file, 24 …… Wiring information file.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/46 B 6921−4E (72)発明者 藤原 康行 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (56)参考文献 特開 平2−2467(JP,A)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H05K 3/46 B 6921-4E (72) Inventor Yasuyuki Fujiwara 4026 Kuji Town, Hitachi City, Ibaraki Co., Ltd. Hitachi Research Laboratory, Hiritsu Manufacturing Co., Ltd. (56) Reference JP-A-2-2467 (JP, A)
Claims (2)
備える多層配線層による回路の、始点及び目的点から成
る配線対象区間と配線時の制約情報とに基づいて、配線
パターンを自動決定する配線方法において、前記配線対
象区間の始点と目的点とを結ぶ線分の角度及び前記配線
対象区間の配線長に関する制約条件により、前記多層配
線層内の使用可能なパターン走行方向を有する配線層の
それぞれの優先順位を決定し、該優先順次とパターン走
行方向とにより、前記使用可能な配線層のそれぞれの使
用得点を決定するステップと、前記配線対象区間の始点
と目的点間に対し、平面上に進む配線パターンの経路探
査及び複数の配線層間を接続する平面と垂直な層間経由
穴の層変更探査を行い、3層以上の複数層を配線層とす
る複数の配線パターン候補を生成するステップと、前記
配線パターン候補のそれぞれについて、使用する各配線
層の使用得点、配線パターンの長さ,層間経由穴の有無
に基づいて、その得点を決定し、この各パターン候補の
得点に基づいて最適な配線パターンを決定するステップ
とを有することを特徴とする多層同時配線方法。1. A wiring for automatically determining a wiring pattern based on a wiring target section consisting of a start point and a destination and a constraint information at the time of wiring of a circuit having a multilayer wiring layer having a plurality of wiring layers with different pattern traveling directions. In the method, each of the wiring layers having a usable pattern running direction in the multilayer wiring layer according to the angle of the line segment connecting the starting point and the destination point of the wiring target section and the constraint condition regarding the wiring length of the wiring target section. Determining the priority of each of the usable wiring layers based on the priority sequence and the pattern running direction, and between the start point and the destination point of the wiring target section on the plane. A plurality of wiring patterns using three or more layers as wiring layers by performing a route search of a wiring pattern to be advanced and a layer change search of an interlayer via hole perpendicular to a plane connecting the plurality of wiring layers. Generating a candidate for each of the wiring pattern candidates, and determining a score for each of the wiring pattern candidates based on the usage score of each wiring layer to be used, the length of the wiring pattern, and the presence / absence of an interlayer through hole. And a step of determining an optimum wiring pattern based on the score of 1.
対する既配線パターン長の割合を求め、配線層別混雑度
を算出するステップをさらに有し、前記配線層の使用得
点を決定するステップは、前記配線層の混雑度をも加え
て配線層の使用得点を決定することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の多層同時配線方法。2. A step of determining a ratio of an existing wiring pattern length to a pattern length that can be created for each wiring layer and calculating a congestion degree of each wiring layer, and determining a use score of the wiring layer. The multi-layer simultaneous wiring method according to claim 1, wherein the use score of the wiring layer is also determined by adding the congestion degree of the wiring layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1041864A JPH0754532B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Multi-layer simultaneous wiring method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1041864A JPH0754532B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Multi-layer simultaneous wiring method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02222072A JPH02222072A (en) | 1990-09-04 |
| JPH0754532B2 true JPH0754532B2 (en) | 1995-06-07 |
Family
ID=12620123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1041864A Expired - Lifetime JPH0754532B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Multi-layer simultaneous wiring method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754532B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2938955B2 (en) * | 1990-10-02 | 1999-08-25 | 株式会社日立製作所 | Wiring method for semiconductor integrated device |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1041864A patent/JPH0754532B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH02222072A (en) | 1990-09-04 |
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