JPH075661A - 感光材処理装置 - Google Patents
感光材処理装置Info
- Publication number
- JPH075661A JPH075661A JP6093475A JP9347594A JPH075661A JP H075661 A JPH075661 A JP H075661A JP 6093475 A JP6093475 A JP 6093475A JP 9347594 A JP9347594 A JP 9347594A JP H075661 A JPH075661 A JP H075661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- channel
- processing liquid
- liquid
- photosensitive material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
- G03D3/065—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks replenishment or recovery apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/08—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
- G03D3/13—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
- G03D3/132—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly fed by roller assembly
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 狭い処理チャネルを利用した処理液の容量の
小さい感光材の処理装置を提供することを目的とする。 【構成】 この感光材処理装置は、処理液の上面のレベ
ルを、高衝撃装置の処理液出口より低い位置に保持する
ことによって、処理液のレベル２３５を正確に維持する
ようにしている。
小さい感光材の処理装置を提供することを目的とする。 【構成】 この感光材処理装置は、処理液の上面のレベ
ルを、高衝撃装置の処理液出口より低い位置に保持する
ことによって、処理液のレベル２３５を正確に維持する
ようにしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は写真の分野に関し、更に
詳しくは、感光材の処理装置に関する。感光材の処理に
は例えば現像、ブリーチ、定着、洗浄及び乾燥などのい
くつかの段階を含む。これらの段階は、連続したフイル
ムのウェブ、又はフイルム若しくは写真紙のカットシー
トを、各ステーションにおいてその処理段階に適切な処
理液を含んだ一連のステーション又はタンクに順次搬送
することにより、それら自体機械化されている。
詳しくは、感光材の処理装置に関する。感光材の処理に
は例えば現像、ブリーチ、定着、洗浄及び乾燥などのい
くつかの段階を含む。これらの段階は、連続したフイル
ムのウェブ、又はフイルム若しくは写真紙のカットシー
トを、各ステーションにおいてその処理段階に適切な処
理液を含んだ一連のステーション又はタンクに順次搬送
することにより、それら自体機械化されている。
【０００２】写真フイルム処理装置には各種のサイズの
もの、即ち大型の写真完成装置及びマイクロラボがあ
る。大型の写真完成装置は各処理液をほぼ１００リット
ル収容できるラックやタンク形態を使用する。小型の写
真完成装置及びマイクロラボはは各処理液をほぼ１０リ
ットル収容できるラックやタンク形態を使用する。
もの、即ち大型の写真完成装置及びマイクロラボがあ
る。大型の写真完成装置は各処理液をほぼ１００リット
ル収容できるラックやタンク形態を使用する。小型の写
真完成装置及びマイクロラボはは各処理液をほぼ１０リ
ットル収容できるラックやタンク形態を使用する。
【０００３】
【従来の技術】処理液に含まれる化学薬品は購入に経費
が嵩み、活性が変化し、感光材の組成によっては乾燥を
起こして、写真処理中に劣化することがあり、化学薬品
の使用後その化学薬品を安定した雰囲気に置く必要があ
る。このように各種の写真処理装置において処理液の量
を減少することが重要である。従来技術において、現像
する材料の写真処理上の性質を一定に維持するために処
理液に特定の化学物質を追加ないし補足する各種の補充
システムが示唆されている。処理液は一定の補充期間に
おいてのみ、写真処理の特性を満足できる程度に一定に
維持することが可能である。処理液を所定回数使用した
後はその処理液を廃棄して新しい処理液をタンクに追加
される。
が嵩み、活性が変化し、感光材の組成によっては乾燥を
起こして、写真処理中に劣化することがあり、化学薬品
の使用後その化学薬品を安定した雰囲気に置く必要があ
る。このように各種の写真処理装置において処理液の量
を減少することが重要である。従来技術において、現像
する材料の写真処理上の性質を一定に維持するために処
理液に特定の化学物質を追加ないし補足する各種の補充
システムが示唆されている。処理液は一定の補充期間に
おいてのみ、写真処理の特性を満足できる程度に一定に
維持することが可能である。処理液を所定回数使用した
後はその処理液を廃棄して新しい処理液をタンクに追加
される。
【０００４】処理液の成分が混合された後、化学薬品の
不安定さ又は化学的な汚染によって起こる活性の劣化に
よって、大きな処理タンクよりも小さな処理タンクの方
がより頻繁に処理液を廃棄することが必要になる。写真
プロセスの幾つかのステップで、不安定な、即ち処理寿
命の短い化学物質を含んだ処理液を使用している。この
ように不安定な化学物質を含んだタンク内の処理液は、
安定した化学物質を含んだタンクよりも、より頻繁に廃
棄することが必要である。
不安定さ又は化学的な汚染によって起こる活性の劣化に
よって、大きな処理タンクよりも小さな処理タンクの方
がより頻繁に処理液を廃棄することが必要になる。写真
プロセスの幾つかのステップで、不安定な、即ち処理寿
命の短い化学物質を含んだ処理液を使用している。この
ように不安定な化学物質を含んだタンク内の処理液は、
安定した化学物質を含んだタンクよりも、より頻繁に廃
棄することが必要である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来技術において感光
材を処理するために自動写真処理装置が使用されてき
た。自動処理装置は処理液が容量内に浸された搬送ラッ
クを連続的に配置した構成である。ラック及びタンクの
形状ないし形態は所定の環境、例えばオフィス、家庭、
コンピュータのある領域などでは不適当であった。
材を処理するために自動写真処理装置が使用されてき
た。自動処理装置は処理液が容量内に浸された搬送ラッ
クを連続的に配置した構成である。ラック及びタンクの
形状ないし形態は所定の環境、例えばオフィス、家庭、
コンピュータのある領域などでは不適当であった。
【０００６】その理由は、写真処理液が溢れた場合にそ
れに対する対応に欠けること、即ちタンクからラックや
フラッシュを洗浄すべき処理液や雫等に対する対応に欠
けることから装置及び環境を破損することである。ま
た、写真材料はシャッター装置内でジャムを起こすこと
がある。この場合にラックをタンクから切り離してジャ
ム材料を取り除くために写真材料にアクセスしなければ
ならない。ラックやタンクの形状によっては処理液をた
らすことなくラックをタンクから取り外すことは困難で
ある。
れに対する対応に欠けること、即ちタンクからラックや
フラッシュを洗浄すべき処理液や雫等に対する対応に欠
けることから装置及び環境を破損することである。ま
た、写真材料はシャッター装置内でジャムを起こすこと
がある。この場合にラックをタンクから切り離してジャ
ム材料を取り除くために写真材料にアクセスしなければ
ならない。ラックやタンクの形状によっては処理液をた
らすことなくラックをタンクから取り外すことは困難で
ある。
【０００７】ラック及びタンクの形状は感光材に活性の
処理液を常時提供する必要性によって基本的には決ま
る。ラック及びタンクの基本的な機能は処理液に対して
適度の撹拌作用を与えることである。適度の撹拌作用は
感光材の片面又は両面に新鮮な処理液を与え、一方で処
理ずみの処理液を感光材から除去することである。従来
技術は、各種のサイズの写真処理装置に含まれる各種の
タンクの容積が減少た場合でも、同じ量のフィルム又は
感光用紙を処理することができ、使用済の処理液の量、
即ち廃棄する写真処理液の量を減少できることが示唆さ
れている。小さい容量のタンクを使用した場合における
問題の１つは、処理液を十分に攪拌することである。
処理液を常時提供する必要性によって基本的には決ま
る。ラック及びタンクの基本的な機能は処理液に対して
適度の撹拌作用を与えることである。適度の撹拌作用は
感光材の片面又は両面に新鮮な処理液を与え、一方で処
理ずみの処理液を感光材から除去することである。従来
技術は、各種のサイズの写真処理装置に含まれる各種の
タンクの容積が減少た場合でも、同じ量のフィルム又は
感光用紙を処理することができ、使用済の処理液の量、
即ち廃棄する写真処理液の量を減少できることが示唆さ
れている。小さい容量のタンクを使用した場合における
問題の１つは、処理液を十分に攪拌することである。
【０００８】処理液の衝撃装置による攪拌作用を起こさ
せるために小さな容積を使用する場合において、空気と
処理液の境界面を適正に加減しなければならない。これ
は、非常に少量の処理液を使用する写真処理装置におい
て特に重要である。その理由は、大きな容積の写真処理
装置においては空気と処理液との比率が処理タンク内の
処理液の量に比較して小さいからである。更に、処理液
が処理タンク内を循環する速度がタンク内の処理液の量
に対して低いからである。上述の条件下においても、処
理液の酸化、結晶化、蒸発は処理液と空気との境界にお
いて問題となる。少量の処理液を使用する場合、この問
題はより大きくなる。というのは、処理液と写真感光材
の表面積との比率は、従来の処理装置と比較してはるか
に大きくなり、したがって適当に加減しない場合は空気
と処理液の比率もまた大きくなるからである。
せるために小さな容積を使用する場合において、空気と
処理液の境界面を適正に加減しなければならない。これ
は、非常に少量の処理液を使用する写真処理装置におい
て特に重要である。その理由は、大きな容積の写真処理
装置においては空気と処理液との比率が処理タンク内の
処理液の量に比較して小さいからである。更に、処理液
が処理タンク内を循環する速度がタンク内の処理液の量
に対して低いからである。上述の条件下においても、処
理液の酸化、結晶化、蒸発は処理液と空気との境界にお
いて問題となる。少量の処理液を使用する場合、この問
題はより大きくなる。というのは、処理液と写真感光材
の表面積との比率は、従来の処理装置と比較してはるか
に大きくなり、したがって適当に加減しない場合は空気
と処理液の比率もまた大きくなるからである。
【０００９】タンクが物理的に小さな容積である場合
は、タンク循環出口と処理液の表面との間の距離が短く
なる結果となる。その結果、処理液の表面と循環出口と
の間に異物及び渦流が形成される。それにより、過度の
空気が循環システム内に流入し、そして処理液の酸化、
結晶化、蒸発等の問題を生じ、処理装置の性能が劣化す
ることとなる。
は、タンク循環出口と処理液の表面との間の距離が短く
なる結果となる。その結果、処理液の表面と循環出口と
の間に異物及び渦流が形成される。それにより、過度の
空気が循環システム内に流入し、そして処理液の酸化、
結晶化、蒸発等の問題を生じ、処理装置の性能が劣化す
ることとなる。
【００１０】大きな容積の処理装置の場合は、処理され
る感光材の容積に比較して処理液の容積は非常に大きく
なる。感光材が処理タンクを通過する際、タンクの処理
液の全容量に比較して非常に少量の処理液が移動する。
小さな容積の処理装置の場合は、処理液の容積に比較し
て処理されるべき感光材の容積がはるかに大きくなる。
このように、感光材が処理される際の処理液の移動量を
加減する必要がある。もしこれが起こらないならば、処
理液の減少によって処理装置の性能が落ちることとな
る。その理由は、処理液の容積が著しく減少するからで
ある。
る感光材の容積に比較して処理液の容積は非常に大きく
なる。感光材が処理タンクを通過する際、タンクの処理
液の全容量に比較して非常に少量の処理液が移動する。
小さな容積の処理装置の場合は、処理液の容積に比較し
て処理されるべき感光材の容積がはるかに大きくなる。
このように、感光材が処理される際の処理液の移動量を
加減する必要がある。もしこれが起こらないならば、処
理液の減少によって処理装置の性能が落ちることとな
る。その理由は、処理液の容積が著しく減少するからで
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は処理液のレベル
を正確に保持する小容量の感光材処理装置を提供するこ
とにより上述の従来の欠点を克服するものである。更に
上面の作動液は高衝撃装置の処理液出口の下方に落下し
ない。したがって、高衝撃装置からの出た処理液は処理
タンクに流入する際に空気に接触することはなくなる。
を正確に保持する小容量の感光材処理装置を提供するこ
とにより上述の従来の欠点を克服するものである。更に
上面の作動液は高衝撃装置の処理液出口の下方に落下し
ない。したがって、高衝撃装置からの出た処理液は処理
タンクに流入する際に空気に接触することはなくなる。
【００１２】処理液と空気の境界面は、この境界面にお
ける追加の機械的な要素によって著しく減少する。本発
明は、処理中に感光材によって、又は循環システムの動
揺による処理液のうねりによって変動する処理液を保持
するための手段を提供することである。本発明はまた処
理液内へ空気が捕捉されるのを阻止することによって処
理液の適正な流れ特性を維持する手段を提供することで
ある。
ける追加の機械的な要素によって著しく減少する。本発
明は、処理中に感光材によって、又は循環システムの動
揺による処理液のうねりによって変動する処理液を保持
するための手段を提供することである。本発明はまた処
理液内へ空気が捕捉されるのを阻止することによって処
理液の適正な流れ特性を維持する手段を提供することで
ある。
【００１３】上述の課題は感光材を処理する低容量の装
置を提供することによって解決される。即ち、該装置
は、コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なく
とも１つの処理アッセンブリと、該少なくとも１つの処
理アッセンブリに隣接した配置された少なくとも１つの
搬送アッセンブリとを具備し、該少なくとも１つの処理
アッセンブリ及び前記少なくとも１つの搬送アッセンブ
リは処理液が流れる実質的に連続したチャネルを形成
し、該処理チャネルは該処理モジュールに対して有効な
処理液の全量の少なくとも４０パーセントを含み且つ該
処理チャネル内で処理される感光材の厚さの１００倍に
等しいか又はより少ない厚さを有し、前記チャネルを通
して処理液を導入するための少なくとも１つの排出口が
前記少なくとも１つの搬送アッセンブリ内部又は前記少
なくとも１つの処理アッセンブリ内部に設けられている
処理モジュールと、前記処理モジュール内部の小さな容
積から前記少なくとも１つの排出口へ処理液を循環させ
る手段と、処理液の妨げ部分が形成されるのを減少する
ために前記処理液の容積を加減する手段と、小さな容積
内の処理液のレベルを一定レベルに保持するために前記
循環手段に連結された手段と、から成ることを特徴とす
る。
置を提供することによって解決される。即ち、該装置
は、コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なく
とも１つの処理アッセンブリと、該少なくとも１つの処
理アッセンブリに隣接した配置された少なくとも１つの
搬送アッセンブリとを具備し、該少なくとも１つの処理
アッセンブリ及び前記少なくとも１つの搬送アッセンブ
リは処理液が流れる実質的に連続したチャネルを形成
し、該処理チャネルは該処理モジュールに対して有効な
処理液の全量の少なくとも４０パーセントを含み且つ該
処理チャネル内で処理される感光材の厚さの１００倍に
等しいか又はより少ない厚さを有し、前記チャネルを通
して処理液を導入するための少なくとも１つの排出口が
前記少なくとも１つの搬送アッセンブリ内部又は前記少
なくとも１つの処理アッセンブリ内部に設けられている
処理モジュールと、前記処理モジュール内部の小さな容
積から前記少なくとも１つの排出口へ処理液を循環させ
る手段と、処理液の妨げ部分が形成されるのを減少する
ために前記処理液の容積を加減する手段と、小さな容積
内の処理液のレベルを一定レベルに保持するために前記
循環手段に連結された手段と、から成ることを特徴とす
る。
【００１４】
【作用】上述の装置は、小容量の感光材処理装置を通し
て処理液を循環させ、一方で循環する処理液の酸化及び
蒸発等を最少にすることができる方法を提供するもので
ある。本発明は更に処理液のレベルを一定に維持しなが
ら処理装置の開始及び停止を可能とする。上記を達成
し、しかも本発明は処理液の酸化及び蒸発等を防止す
る。
て処理液を循環させ、一方で循環する処理液の酸化及び
蒸発等を最少にすることができる方法を提供するもので
ある。本発明は更に処理液のレベルを一定に維持しなが
ら処理装置の開始及び停止を可能とする。上記を達成
し、しかも本発明は処理液の酸化及び蒸発等を防止す
る。
【００１５】処理装置内の処理液の流れ特性は、各種の
サイズの感光材が効率良く処理できるように設計され
る。本発明は空気に露出される処理液の面積を最少にす
るものである。衝撃スロットノズルは処理液を感光材の
片面又は両面に効率良く搬送する方法を提供するもので
あり、一方で写真処理液に接触する空気の境界を減少す
る。処理液の酸化及び結晶化の形成が起こる場所は、こ
れらの境界面においてである。したがって、処理液の酸
化又は結晶化は大幅に減少する。
サイズの感光材が効率良く処理できるように設計され
る。本発明は空気に露出される処理液の面積を最少にす
るものである。衝撃スロットノズルは処理液を感光材の
片面又は両面に効率良く搬送する方法を提供するもので
あり、一方で写真処理液に接触する空気の境界を減少す
る。処理液の酸化及び結晶化の形成が起こる場所は、こ
れらの境界面においてである。したがって、処理液の酸
化又は結晶化は大幅に減少する。
【００１６】この処理装置の他の利点は、処理液装置を
通じて流れる写真処理液が、処理液と循環出口との間で
異物を形成したり又は渦流を形成したりするのを防止す
るように加減されることである。この処理装置の追加の
利点は、処理液装置内の処理液のレベルが、感光材が処
理装置を通過する際に写真処理液のレベル及び写真処理
液の容積が一定に維持されるように制御されることであ
る。
通じて流れる写真処理液が、処理液と循環出口との間で
異物を形成したり又は渦流を形成したりするのを防止す
るように加減されることである。この処理装置の追加の
利点は、処理液装置内の処理液のレベルが、感光材が処
理装置を通過する際に写真処理液のレベル及び写真処理
液の容積が一定に維持されるように制御されることであ
る。
【００１７】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の実施例に
ついて詳細に説明する。特に図１において、符号１０は
処理モジュールを示し、単独で設置されるか、又は他の
処理モジュールと結合若しくは組合をして感光材処理用
の連続した列のユニットを構成することもできる。
ついて詳細に説明する。特に図１において、符号１０は
処理モジュールを示し、単独で設置されるか、又は他の
処理モジュールと結合若しくは組合をして感光材処理用
の連続した列のユニットを構成することもできる。
【００１８】処理モジュール１０は、コンテナ１１、非
回転入口通路１００（図２について説明する）、入口搬
送ローラアッセンブリ１２、搬送ローラアッセンブリ１
３、出口搬送ローラアッセンブリ１５、非回転出口通路
１０１（図２について説明する）、高衝撃スロットノズ
ル１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、駆動部１６及び回転アッセ
ンブリ１８を具備し、アッセンブリ１８は駆動部１６を
回転する周知の手段、例えばモータ、ギア、ベルト、チ
ェーン等である。コンテナ１１内にアクセス穴６１が設
けられる。穴６１はモジュール間の連結に使用される。
アッセンブリ１２、１３、１５はコンテナ１２内におい
てコンテナの壁に近接して配置され、スロットノズル１
７ａ、１７ｂ、１７ｃはコンテナ１１の壁に近接して配
置される。駆動部１６はローラアッセンブリ１２、１３
及び１５及び回転アッセンブリ１８に連結され、アッセ
ンブリ１６はアッセンブリ１８の動作をアッセンブリ１
２、１３及び１５に伝達するのに使用される。
回転入口通路１００（図２について説明する）、入口搬
送ローラアッセンブリ１２、搬送ローラアッセンブリ１
３、出口搬送ローラアッセンブリ１５、非回転出口通路
１０１（図２について説明する）、高衝撃スロットノズ
ル１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、駆動部１６及び回転アッセ
ンブリ１８を具備し、アッセンブリ１８は駆動部１６を
回転する周知の手段、例えばモータ、ギア、ベルト、チ
ェーン等である。コンテナ１１内にアクセス穴６１が設
けられる。穴６１はモジュール間の連結に使用される。
アッセンブリ１２、１３、１５はコンテナ１２内におい
てコンテナの壁に近接して配置され、スロットノズル１
７ａ、１７ｂ、１７ｃはコンテナ１１の壁に近接して配
置される。駆動部１６はローラアッセンブリ１２、１３
及び１５及び回転アッセンブリ１８に連結され、アッセ
ンブリ１６はアッセンブリ１８の動作をアッセンブリ１
２、１３及び１５に伝達するのに使用される。
【００１９】ローラアッセンブリ１２、１３及び１５、
及びスロットノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃはコンテナ
１１に対して挿入及び離脱が容易である。ローラアッセ
ンブリ１３は上ローラ２２、底ローラ２３、底ローラ２
３に対して上ローラ２２を圧縮状態に維持する緊張ロー
ラ６２、ベアリングブラケット２６、及び薄くて小さい
容積の処理チャネル２５を有するチャネル部２４から成
る。狭いチャネル開口２７が部分２４の内部に存在す
る。部分２４の入口側の開口２７は部分２４の出口側の
開口２５と同じサイズ及び形状を有する。部分２４の入
口側の開口２７は面取り、テーパ状、半径状であっても
良く、或いは部分２４の出口側より大きくても良く、各
種の感光材２１の剛性の違いを容認する。チャネル開口
２７は処理チャネル２５の一部を形成する。ローラ２２
及び２３は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ２２及
び２３はブラケット２６に連結される。ローラ２２及び
２３はギア２８に噛合することにより回転される。
及びスロットノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃはコンテナ
１１に対して挿入及び離脱が容易である。ローラアッセ
ンブリ１３は上ローラ２２、底ローラ２３、底ローラ２
３に対して上ローラ２２を圧縮状態に維持する緊張ロー
ラ６２、ベアリングブラケット２６、及び薄くて小さい
容積の処理チャネル２５を有するチャネル部２４から成
る。狭いチャネル開口２７が部分２４の内部に存在す
る。部分２４の入口側の開口２７は部分２４の出口側の
開口２５と同じサイズ及び形状を有する。部分２４の入
口側の開口２７は面取り、テーパ状、半径状であっても
良く、或いは部分２４の出口側より大きくても良く、各
種の感光材２１の剛性の違いを容認する。チャネル開口
２７は処理チャネル２５の一部を形成する。ローラ２２
及び２３は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ２２及
び２３はブラケット２６に連結される。ローラ２２及び
２３はギア２８に噛合することにより回転される。
【００２０】感光材２１はローラアッセンブリ１２、１
３及び１５により処理チャネル２５を通して自動的にＡ
又はＢのいずれかの方向へ搬送される。感光材２１はカ
ットシート又はロール状、或いは感光材２１は１つのロ
ールであって且つ同時にカットシート状にされる。感光
材２１は両面又は片面にエマルジョンを含有する。カバ
ー２０がコンテナ１１上に設置されると、光遮蔽した被
覆体が形成される。このように、モジュール１０は、図
５にて説明する循環システム６０を伴って光遮蔽モジュ
ールとして単独で設置され、感光材を処理することがで
きるもの、即ち、モノバスを構成する。２又はそれ以上
のモジュール１０が結合されると多段の連続した処理ユ
ニットが形成される。１又は２以上のモジュール１０の
組合は図６にて説明する。
３及び１５により処理チャネル２５を通して自動的にＡ
又はＢのいずれかの方向へ搬送される。感光材２１はカ
ットシート又はロール状、或いは感光材２１は１つのロ
ールであって且つ同時にカットシート状にされる。感光
材２１は両面又は片面にエマルジョンを含有する。カバ
ー２０がコンテナ１１上に設置されると、光遮蔽した被
覆体が形成される。このように、モジュール１０は、図
５にて説明する循環システム６０を伴って光遮蔽モジュ
ールとして単独で設置され、感光材を処理することがで
きるもの、即ち、モノバスを構成する。２又はそれ以上
のモジュール１０が結合されると多段の連続した処理ユ
ニットが形成される。１又は２以上のモジュール１０の
組合は図６にて説明する。
【００２１】図２は図１のモジュール１０の一部を切断
して示すものである。アッセンブリ１２、１３、及び１
５、ノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、背板９は処理チャ
ネル２５、コンテナ１１、循環システム６０（図５）及
び間隙４９ａ、４９ｂ、４９ｃ及び４０ｄ内に含まれる
処理液の量が最小となるように設計されている。モジュ
ール１０の入口において非回転チャネル１００は処理チ
ャネル２５の入口を形成する。モジュール１０の出口に
おいて非回転チャネル１０１は処理チャネル２５の出口
を形成する。アッセンブリ１２はアッセンブリ１３と同
様である。アッセンブリ１２は上ローラ３０、底ローラ
３１、底ローラ３１に対して上ローラ３０を保持する緊
張ローラ６２（図示せず）、ベアリングブラケット２
６、及びチャネル部２４から成る。狭い処理開口２５の
部分がチャネル２４によって形成される。ローラ３０及
び３１は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ３０及び
３１はブラケット２６に連結される。アッセンブリ１５
はアッセンブリ１３と同様である。ただし、アッセンブ
リ１５はローラ３２及び３３と同様の作用をする２つの
追加のローラ１３０及び１３１を有する。アッセンブリ
１５は上ローラ３２、底ローラ３３、緊張ローラ６２
（図示せず）、上ローラ１３０、底ローラ１３１、ベア
リングブラケット２６、及びチャネル部２４から成る。
狭い処理開口２５の部分が部分２４内に形成される。チ
ャネル部２４は処理チャネル２５の一部を形成する。ロ
ーラ３２、３３、１３０及び１３１は駆動又は被駆動ロ
ーラであり、ローラ３２、３３、１３０及び１３１はブ
ラケット２６に連結される。
して示すものである。アッセンブリ１２、１３、及び１
５、ノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、背板９は処理チャ
ネル２５、コンテナ１１、循環システム６０（図５）及
び間隙４９ａ、４９ｂ、４９ｃ及び４０ｄ内に含まれる
処理液の量が最小となるように設計されている。モジュ
ール１０の入口において非回転チャネル１００は処理チ
ャネル２５の入口を形成する。モジュール１０の出口に
おいて非回転チャネル１０１は処理チャネル２５の出口
を形成する。アッセンブリ１２はアッセンブリ１３と同
様である。アッセンブリ１２は上ローラ３０、底ローラ
３１、底ローラ３１に対して上ローラ３０を保持する緊
張ローラ６２（図示せず）、ベアリングブラケット２
６、及びチャネル部２４から成る。狭い処理開口２５の
部分がチャネル２４によって形成される。ローラ３０及
び３１は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ３０及び
３１はブラケット２６に連結される。アッセンブリ１５
はアッセンブリ１３と同様である。ただし、アッセンブ
リ１５はローラ３２及び３３と同様の作用をする２つの
追加のローラ１３０及び１３１を有する。アッセンブリ
１５は上ローラ３２、底ローラ３３、緊張ローラ６２
（図示せず）、上ローラ１３０、底ローラ１３１、ベア
リングブラケット２６、及びチャネル部２４から成る。
狭い処理開口２５の部分が部分２４内に形成される。チ
ャネル部２４は処理チャネル２５の一部を形成する。ロ
ーラ３２、３３、１３０及び１３１は駆動又は被駆動ロ
ーラであり、ローラ３２、３３、１３０及び１３１はブ
ラケット２６に連結される。
【００２２】背板９及びスロットノズル１７ａ、１７
ｂ、１７ｃはコンテナ１１に取付けられる。図２に示す
実施例は感光材２１がその面の一方にエマルジョンを有
する場に使用される。感光材２１のエマルジョンの側は
スロットノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃに面している。
感光材２１はローラ３０及び３１間のチャネル２５に入
り、背板９とノズル１７ａを越えて移動する。そして感
光材２１はローラ１７ｂ及び１７ｃ間を移動し、背板９
及びノズル１７ｂ及び１７ｃを越えて移動する。この地
点において感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し
且つローラ１３０及び１３１間を移動し処理チャネル２
５を出る。
ｂ、１７ｃはコンテナ１１に取付けられる。図２に示す
実施例は感光材２１がその面の一方にエマルジョンを有
する場に使用される。感光材２１のエマルジョンの側は
スロットノズル１７ａ、１７ｂ、１７ｃに面している。
感光材２１はローラ３０及び３１間のチャネル２５に入
り、背板９とノズル１７ａを越えて移動する。そして感
光材２１はローラ１７ｂ及び１７ｃ間を移動し、背板９
及びノズル１７ｂ及び１７ｃを越えて移動する。この地
点において感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し
且つローラ１３０及び１３１間を移動し処理チャネル２
５を出る。
【００２３】通路４８ａはポート４４ａを通して間隙４
９ａに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通する。これついては図５でより詳細に説明
する。通路４８ｂはポート４５ａを通して間隙４９ｂに
連通し、ポート４５（図５）を通して循環システム６０
に連通する。通路４８ｃはポート４６ａを通して間隙４
９ｃに連通し、ポート４６（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｄはポート４７ａを通し
て間隙４９ｄに連通し、ポート４７（図５）を通して循
環システム６０に連通する。スロットノズル１７ａは通
路５０ａを通して循環システム６０に、ポート４４（図
５）を通して入口ポート４１ａに連通し、且つスロット
ノズル１７ｂは通路５０ｂを通して循環システム６０
に、入口ポート４２（図５）を通して入口ポート４２ａ
に連通する。通路５０ｃはポート４３ａを通してノズル
１７ｃに連通し、ポート４３（図５）を通して循環シス
テム６０に連通する。センサ５２はコンテナ１１に連通
し且つセンサ５２は通路５１に対する処理溶液のレベル
２３５を保持するために使用される。過度の処理液は溢
流通路５１から取り除かれる。
９ａに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通する。これついては図５でより詳細に説明
する。通路４８ｂはポート４５ａを通して間隙４９ｂに
連通し、ポート４５（図５）を通して循環システム６０
に連通する。通路４８ｃはポート４６ａを通して間隙４
９ｃに連通し、ポート４６（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｄはポート４７ａを通し
て間隙４９ｄに連通し、ポート４７（図５）を通して循
環システム６０に連通する。スロットノズル１７ａは通
路５０ａを通して循環システム６０に、ポート４４（図
５）を通して入口ポート４１ａに連通し、且つスロット
ノズル１７ｂは通路５０ｂを通して循環システム６０
に、入口ポート４２（図５）を通して入口ポート４２ａ
に連通する。通路５０ｃはポート４３ａを通してノズル
１７ｃに連通し、ポート４３（図５）を通して循環シス
テム６０に連通する。センサ５２はコンテナ１１に連通
し且つセンサ５２は通路５１に対する処理溶液のレベル
２３５を保持するために使用される。過度の処理液は溢
流通路５１から取り除かれる。
【００２４】織物面２００又は２０５は処理チャネル２
５に面する背板９の表面に、及び処理チャネル２５に面
するスロットノズル１７ａ、１７ｂ及び１７ｃの表面に
付着される。図３は図２に示したモジュール１０の他の
実施例を一部破断した断面図で示すものであり、感光材
２１は一方の面にエマルジョンを有し、且つノズル１７
ｄ、１７ｅ及び１７ｆはコンテナ１１の上部にある。ア
ッセンブリ１２、１３及び１５、ノズル１７ｄ、１７ｅ
及び１７ｆ、並びに背板９は処理チャネル２５及び間隙
４９ｅ、４９ｇ及び４９ｈに含まれる処理液の量を最少
にするように設計されている。モジュール１０の入口に
おいて、チャネル１００は処理チャネル２５への入口を
構成する。モジュール１０の出口において、上向きチャ
ネル１０１は処理チャネル２５の出口を構成する。アッ
センブリ１２はアッセンブリ１３と同様である。アッセ
ンブリ１２は上ローラ３０、底ローラ３１、底ローラ３
１に対して上ローラ３０を保持する緊張ローラ６２（図
示せず）、ベアリングブラケット２６、及びチャネル部
２４から成る。狭い処理開口２５の部分がチャネル２４
によって形成される。ローラ３０、３１、１３０及び１
３１は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ３０、３
１、１３０及び１３１はブラケット２６に連結される。
即ち、ほぼ連続した処理チャネルが提供されることとな
る。
５に面する背板９の表面に、及び処理チャネル２５に面
するスロットノズル１７ａ、１７ｂ及び１７ｃの表面に
付着される。図３は図２に示したモジュール１０の他の
実施例を一部破断した断面図で示すものであり、感光材
２１は一方の面にエマルジョンを有し、且つノズル１７
ｄ、１７ｅ及び１７ｆはコンテナ１１の上部にある。ア
ッセンブリ１２、１３及び１５、ノズル１７ｄ、１７ｅ
及び１７ｆ、並びに背板９は処理チャネル２５及び間隙
４９ｅ、４９ｇ及び４９ｈに含まれる処理液の量を最少
にするように設計されている。モジュール１０の入口に
おいて、チャネル１００は処理チャネル２５への入口を
構成する。モジュール１０の出口において、上向きチャ
ネル１０１は処理チャネル２５の出口を構成する。アッ
センブリ１２はアッセンブリ１３と同様である。アッセ
ンブリ１２は上ローラ３０、底ローラ３１、底ローラ３
１に対して上ローラ３０を保持する緊張ローラ６２（図
示せず）、ベアリングブラケット２６、及びチャネル部
２４から成る。狭い処理開口２５の部分がチャネル２４
によって形成される。ローラ３０、３１、１３０及び１
３１は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ３０、３
１、１３０及び１３１はブラケット２６に連結される。
即ち、ほぼ連続した処理チャネルが提供されることとな
る。
【００２５】背板９及びスロットノズル１７ｄ、１７
ｅ、１７ｆはコンテナ１１に固着される。図３に示す実
施例は感光材２１がその面の一方にエマルジョンを有す
る場合に使用される。感光材２１のエマルジョンの側は
スロットノズル１７ｄ、１７ｅ、１７ｆに面している。
感光材２１はローラ３０及び３１間をチャネル２５に入
り、背板９とノズル１７ｄを越えて移動する。そして感
光材２１はローラ２２及び２３間を移動し、背板９及び
ノズル１７ｅ及び１７ｆを越えて移動する。この地点に
おいて感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し且つ
ローラ１３０及び１３１間を移動し処理チャネル２５を
出る。
ｅ、１７ｆはコンテナ１１に固着される。図３に示す実
施例は感光材２１がその面の一方にエマルジョンを有す
る場合に使用される。感光材２１のエマルジョンの側は
スロットノズル１７ｄ、１７ｅ、１７ｆに面している。
感光材２１はローラ３０及び３１間をチャネル２５に入
り、背板９とノズル１７ｄを越えて移動する。そして感
光材２１はローラ２２及び２３間を移動し、背板９及び
ノズル１７ｅ及び１７ｆを越えて移動する。この地点に
おいて感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し且つ
ローラ１３０及び１３１間を移動し処理チャネル２５を
出る。
【００２６】通路４８ｅはポート４４ｂを通して間隙４
９ｅに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｆはポート４５ｂを通し
て間隙４９ｆに連通し、ポート４５（図５）を通して循
環システム６０に連通する。通路４８ｇはポート４６ｂ
を通して間隙４９ｇに連通し、ポート４６（図５）を通
して循環システム６０に連通し、且つ通路４８ｈはポー
ト４７ｂを通して間隙４９ｈに連通し、ポート４７（図
５）を通して循環システム６０に連通する。スロットノ
ズル１７ｄは通路５０ｄを通して循環システム６０に、
入口４１（図５）を通して入口ポート４１ｂに連通し、
且つスロットノズル１７ｅは通路５０ｅを通して循環シ
ステム６０に、ポート４２（図５）を通して入口ポート
４２ｂに連通する。通路５０ｆは入口ポート４３ｂを通
してノズル１７ｆに連通し、ポート４３（図５）を通し
て循環システム６０に連通する。センサ５２はコンテナ
１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対する処理溶
液のレベル２３５を保持するために使用される。過度の
処理液は溢流通路５１から取り除かれる。
９ｅに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｆはポート４５ｂを通し
て間隙４９ｆに連通し、ポート４５（図５）を通して循
環システム６０に連通する。通路４８ｇはポート４６ｂ
を通して間隙４９ｇに連通し、ポート４６（図５）を通
して循環システム６０に連通し、且つ通路４８ｈはポー
ト４７ｂを通して間隙４９ｈに連通し、ポート４７（図
５）を通して循環システム６０に連通する。スロットノ
ズル１７ｄは通路５０ｄを通して循環システム６０に、
入口４１（図５）を通して入口ポート４１ｂに連通し、
且つスロットノズル１７ｅは通路５０ｅを通して循環シ
ステム６０に、ポート４２（図５）を通して入口ポート
４２ｂに連通する。通路５０ｆは入口ポート４３ｂを通
してノズル１７ｆに連通し、ポート４３（図５）を通し
て循環システム６０に連通する。センサ５２はコンテナ
１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対する処理溶
液のレベル２３５を保持するために使用される。過度の
処理液は溢流通路５１から取り除かれる。
【００２７】織物面２００又は２０５は処理チャネル２
５に面する背板９の表面に、及び処理チャネル２５に面
するスロットノズル１７ｄ、１７ｅ及び１７ｆの表面に
付着される。図４は図２に示したモジュール１０の更に
他の実施例を一部破断した断面図で示すものであり、感
光材２１は両方の面にエマルジョンを有し、且つノズル
１７ｇ、１７ｈ及び１７ｉはコンテナ１１の上部にあっ
て、感光材２１の１つのエマルジョンの面に面し、且つ
ノズル１７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌは感光材２１の他方の
エマルジョンの面に面している。アッセンブリ１２、１
３及び１５、ノズル１７ｇ、１７ｈ、１７ｉ、１７ｊ、
１７ｋ及び１７Ｌは処理チャネル２５及び間隙４９ｉ、
４９ｊ、４９ｋ及び４９Ｌに含まれる処理液の量を最少
にするように設計されている。モジュール１０の入口に
おいて、チャネル１００は処理チャネル２５への入口を
構成する。モジュール１０の出口において、チャネル１
０１は処理チャネル２５への出口を構成する。アッセン
ブリ１２はアッセンブリ１３と同様である。アッセンブ
リ１２は上ローラ３０、底ローラ３１、底ローラ３１に
対して上ローラ３０を保持する緊張ローラ６２（図示せ
ず）、ベアリングブラケット２６、及びチャネル部２４
から成る。狭い処理チャネル２５の一部が部分２４に存
在する。チャネル部２４は処理チャネル２５の一部であ
る。ローラ３０、３１、１３０及び１３１は駆動又は被
駆動ローラであり、ローラ３０、３１、１３０及び１３
１はブラケット２６に連結される。アッセンブリ１５は
アッセンブリ１３と同様である。ただし、アッセンブリ
１５はローラ３２及び３３と同様の作用をする２つの追
加のローラ１３０及び１３１を有する。アッセンブリ１
５は上ローラ３２、底ローラ３３、緊張ローラ６２（図
示せず）、上ローラ１３０、底ローラ１３１、ベアリン
グブラケット２６、及びチャネル部２４から成る。狭い
処理開口２５の部分が部分２４内に形成される。チャネ
ル部２４は処理チャネル２５の一部を形成する。ローラ
３２、３３、１３０及び１３１は駆動又は被駆動ローラ
であり、ローラ３２、３３、１３０及び１３１はブラケ
ット２６に連結される。
５に面する背板９の表面に、及び処理チャネル２５に面
するスロットノズル１７ｄ、１７ｅ及び１７ｆの表面に
付着される。図４は図２に示したモジュール１０の更に
他の実施例を一部破断した断面図で示すものであり、感
光材２１は両方の面にエマルジョンを有し、且つノズル
１７ｇ、１７ｈ及び１７ｉはコンテナ１１の上部にあっ
て、感光材２１の１つのエマルジョンの面に面し、且つ
ノズル１７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌは感光材２１の他方の
エマルジョンの面に面している。アッセンブリ１２、１
３及び１５、ノズル１７ｇ、１７ｈ、１７ｉ、１７ｊ、
１７ｋ及び１７Ｌは処理チャネル２５及び間隙４９ｉ、
４９ｊ、４９ｋ及び４９Ｌに含まれる処理液の量を最少
にするように設計されている。モジュール１０の入口に
おいて、チャネル１００は処理チャネル２５への入口を
構成する。モジュール１０の出口において、チャネル１
０１は処理チャネル２５への出口を構成する。アッセン
ブリ１２はアッセンブリ１３と同様である。アッセンブ
リ１２は上ローラ３０、底ローラ３１、底ローラ３１に
対して上ローラ３０を保持する緊張ローラ６２（図示せ
ず）、ベアリングブラケット２６、及びチャネル部２４
から成る。狭い処理チャネル２５の一部が部分２４に存
在する。チャネル部２４は処理チャネル２５の一部であ
る。ローラ３０、３１、１３０及び１３１は駆動又は被
駆動ローラであり、ローラ３０、３１、１３０及び１３
１はブラケット２６に連結される。アッセンブリ１５は
アッセンブリ１３と同様である。ただし、アッセンブリ
１５はローラ３２及び３３と同様の作用をする２つの追
加のローラ１３０及び１３１を有する。アッセンブリ１
５は上ローラ３２、底ローラ３３、緊張ローラ６２（図
示せず）、上ローラ１３０、底ローラ１３１、ベアリン
グブラケット２６、及びチャネル部２４から成る。狭い
処理開口２５の部分が部分２４内に形成される。チャネ
ル部２４は処理チャネル２５の一部を形成する。ローラ
３２、３３、１３０及び１３１は駆動又は被駆動ローラ
であり、ローラ３２、３３、１３０及び１３１はブラケ
ット２６に連結される。
【００２８】スロットノズル１７ｇ、１７ｈ、１７ｉは
コンテナ１１の上部に固着される。スロットノズル１７
ｊ、１７ｋ、１７Ｌはコンテナ１１の下部に固着され
る。図４に示す実施例は感光材２１がその両面にエマル
ジョンを有する場合に使用される。感光材２１の一方の
エマルジョンの側はスロットノズル１７ｇ、１７ｈ、１
７ｊに面しており、感光材２１の他方のエマルジョンの
側はスロットノズル１７ｊ、１７ｋ、１７Ｌに面してい
る。感光材２１はローラ３０及び３１間をチャネル２５
に入り、ノズル１７ｇ及び１７ｊを越えて移動する。そ
して感光材２１はローラ２２及び２３間を移動し、ノズ
ル１７ｈ、１７ｋ、１７ｉ及び１７Ｌを越えて移動す
る。この地点において感光材２１はローラ３２及び３３
間を移動し且つローラ１３０及び１３１間を移動し処理
チャネル２５を出る。
コンテナ１１の上部に固着される。スロットノズル１７
ｊ、１７ｋ、１７Ｌはコンテナ１１の下部に固着され
る。図４に示す実施例は感光材２１がその両面にエマル
ジョンを有する場合に使用される。感光材２１の一方の
エマルジョンの側はスロットノズル１７ｇ、１７ｈ、１
７ｊに面しており、感光材２１の他方のエマルジョンの
側はスロットノズル１７ｊ、１７ｋ、１７Ｌに面してい
る。感光材２１はローラ３０及び３１間をチャネル２５
に入り、ノズル１７ｇ及び１７ｊを越えて移動する。そ
して感光材２１はローラ２２及び２３間を移動し、ノズ
ル１７ｈ、１７ｋ、１７ｉ及び１７Ｌを越えて移動す
る。この地点において感光材２１はローラ３２及び３３
間を移動し且つローラ１３０及び１３１間を移動し処理
チャネル２５を出る。
【００２９】通路４８ｉはポート４４ｃを通して間隙４
９ｉに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、通路４８ｊはポート４５ｃを通して間
隙４９ｋに連通し、ポート４５（図５）を通して循環シ
ステム６０に連通する。通路４８ｋは間隙４９Ｌに連通
し、ポート４６ｃを通して循環システム６０に連通し、
且つ通路４８Ｌはポート４７ｃを通して間隙４９ｊに連
通し、ポート４７（図５）を通して循環システム６０に
連通する。スロットノズル１７ｇは通路５０ｇを通して
循環システム６０に、ポート４１（図５）を通して通路
５０ｇに連通し、且つスロットノズル１７ｈは通路５０
ｈを通して循環システム６０に、ポート４２（図５）を
通して入口ポート６２に連通する。通路５０ｉは入口ポ
ート６３を通してノズル１７ｉに連通し、ポート４３
（図５）を通して循環システム６０に連通する。スロッ
トノズル１７ｊは通路５０ｊを通して循環システム６０
に、ポート４１（図５）を通して入口ポート４１に連通
し、且つスロットノズル１７ｋは通路５０ｋを通して循
環システム６０に、ポート４２（図５）を通して入口ポ
ート４２ｃに連通する。スロットノズル１７Ｌは通路５
０Ｌを通して循環システム６０に、ポート４３（図５）
通して入口ポート４３ｃに連通する。センサ５２はコン
テナ１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対する処
理溶液のレベル２３５を保持するために使用される。過
度の処理液は溢流通路５１から取り除かれる。感光材２
１はチャネル入口１００に入ってローラ３０及び３１間
をチャネル２５のチャネル部２４を通過し、ノズル１７
ｇ及び１７ｊを越えて移動する。そして感光材２１はロ
ーラ２２及び２３間を移動し、ノズル１７ｈ及び１７
ｋ、１７Ｌ及び１７ｉを越えて移動する。この地点にお
いて感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し、処理
チャネル２５を出る。
９ｉに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、通路４８ｊはポート４５ｃを通して間
隙４９ｋに連通し、ポート４５（図５）を通して循環シ
ステム６０に連通する。通路４８ｋは間隙４９Ｌに連通
し、ポート４６ｃを通して循環システム６０に連通し、
且つ通路４８Ｌはポート４７ｃを通して間隙４９ｊに連
通し、ポート４７（図５）を通して循環システム６０に
連通する。スロットノズル１７ｇは通路５０ｇを通して
循環システム６０に、ポート４１（図５）を通して通路
５０ｇに連通し、且つスロットノズル１７ｈは通路５０
ｈを通して循環システム６０に、ポート４２（図５）を
通して入口ポート６２に連通する。通路５０ｉは入口ポ
ート６３を通してノズル１７ｉに連通し、ポート４３
（図５）を通して循環システム６０に連通する。スロッ
トノズル１７ｊは通路５０ｊを通して循環システム６０
に、ポート４１（図５）を通して入口ポート４１に連通
し、且つスロットノズル１７ｋは通路５０ｋを通して循
環システム６０に、ポート４２（図５）を通して入口ポ
ート４２ｃに連通する。スロットノズル１７Ｌは通路５
０Ｌを通して循環システム６０に、ポート４３（図５）
通して入口ポート４３ｃに連通する。センサ５２はコン
テナ１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対する処
理溶液のレベル２３５を保持するために使用される。過
度の処理液は溢流通路５１から取り除かれる。感光材２
１はチャネル入口１００に入ってローラ３０及び３１間
をチャネル２５のチャネル部２４を通過し、ノズル１７
ｇ及び１７ｊを越えて移動する。そして感光材２１はロ
ーラ２２及び２３間を移動し、ノズル１７ｈ及び１７
ｋ、１７Ｌ及び１７ｉを越えて移動する。この地点にお
いて感光材２１はローラ３２及び３３間を移動し、処理
チャネル２５を出る。
【００３０】通路４８ｉはポート４４ｃを通して間隙４
９ｉに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｊはポート４５ｃを通し
て間隙４９ｋに連通し、ポート４５（図５）を通して循
環システム６０に連通する。通路４８ｋはポート４６ｃ
を通して間隙４９Ｌに連通し、ポート４６（図５）を通
して循環システム６０に連通し、且つ通路４８Ｌはポー
ト４７ｃを通して間隙４９ｊに連通し、ポート４７（図
５）を通して循環システム６０に連通する。センサ５２
はコンテナ１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対
する処理溶液のレベル２３５を保持するために使用され
る。過度の処理液は溢流通路５１から取り除かれる。
９ｉに連通し、ポート４４（図５）を通して循環システ
ム６０に連通し、且つ通路４８ｊはポート４５ｃを通し
て間隙４９ｋに連通し、ポート４５（図５）を通して循
環システム６０に連通する。通路４８ｋはポート４６ｃ
を通して間隙４９Ｌに連通し、ポート４６（図５）を通
して循環システム６０に連通し、且つ通路４８Ｌはポー
ト４７ｃを通して間隙４９ｊに連通し、ポート４７（図
５）を通して循環システム６０に連通する。センサ５２
はコンテナ１１に連通し且つセンサ５２は通路５１に対
する処理溶液のレベル２３５を保持するために使用され
る。過度の処理液は溢流通路５１から取り除かれる。
【００３１】織物面２００又は２０５は処理チャネル２
５に面するスロットノズル１７ｇ、１７ｈ、１７ｉ、１
７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌの表面に固着される。図５は処
理液集合溜まり２２６の斜視図である。処理液はポート
４４ａ，４５ａ、４６ａ及び４７ａ（図２）、ポート４
４ｂ、４５ｂ、４６ｂ及び４７ｂ（図３）及びポート４
４ｃ、４５ｃ、４６ｃ及び４７ｃ（図４）を通じて溜ま
り２２６に流入する。溜まり２２６は上部２２７、底部
２２８、側部２２９及び２３０、及び端壁２３１及び２
３２を有する小容積のコンテナからなる。
５に面するスロットノズル１７ｇ、１７ｈ、１７ｉ、１
７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌの表面に固着される。図５は処
理液集合溜まり２２６の斜視図である。処理液はポート
４４ａ，４５ａ、４６ａ及び４７ａ（図２）、ポート４
４ｂ、４５ｂ、４６ｂ及び４７ｂ（図３）及びポート４
４ｃ、４５ｃ、４６ｃ及び４７ｃ（図４）を通じて溜ま
り２２６に流入する。溜まり２２６は上部２２７、底部
２２８、側部２２９及び２３０、及び端壁２３１及び２
３２を有する小容積のコンテナからなる。
【００３２】溜まり２２６は、溜まり２２６をポート４
４〜４７に連結することによって処理液面２３５（図
２、図３及び図４）と処理液出口との間の距離を延長す
ることにより、処理モジュール１０（図１）から異物及
び渦流をなくするために使用される。その距離は側部２
２９の高さによって延長される。処理液は溜まり２２６
を充填している導管４４〜４７を出る。溜まり２２６は
導管８５より廃液される。
４〜４７に連結することによって処理液面２３５（図
２、図３及び図４）と処理液出口との間の距離を延長す
ることにより、処理モジュール１０（図１）から異物及
び渦流をなくするために使用される。その距離は側部２
２９の高さによって延長される。処理液は溜まり２２６
を充填している導管４４〜４７を出る。溜まり２２６は
導管８５より廃液される。
【００３３】図６は本発明の装置における処理液循環シ
ステムの概略図である。モジュール１０はチャネル２５
の容積を最少にするように設計されている。モジュール
１０の出口４４、４５、４５及び４７は通路８５を通し
て循環ポンプ８０に連通されている。循環ポンプ８０は
通路４を通してチャネル２５に連通している。熱交換器
８６もまた通路６３を通して分岐管６４に連通され、分
岐管６４は通路６６によりフィルタ６４に連結されてい
る。フィルタ６５は熱交換器８６に連通され、熱交換器
８６はワイヤ６８を介して制御ロジック６７に連結され
ている。制御ロジック６７はワイヤ７１を介して熱交換
器８７に連結され、センサ５２はワイヤ７１を介して制
御ロジック６７に連結されている。計量ポンプ７２、７
３、及び７４はそれぞれ通路７５、７６及び７７を通し
て分岐管６４に連通されている。このように、処理液は
リザーバを使用することなく出口通路から入口通路に直
接汲み上げられる。
ステムの概略図である。モジュール１０はチャネル２５
の容積を最少にするように設計されている。モジュール
１０の出口４４、４５、４５及び４７は通路８５を通し
て循環ポンプ８０に連通されている。循環ポンプ８０は
通路４を通してチャネル２５に連通している。熱交換器
８６もまた通路６３を通して分岐管６４に連通され、分
岐管６４は通路６６によりフィルタ６４に連結されてい
る。フィルタ６５は熱交換器８６に連通され、熱交換器
８６はワイヤ６８を介して制御ロジック６７に連結され
ている。制御ロジック６７はワイヤ７１を介して熱交換
器８７に連結され、センサ５２はワイヤ７１を介して制
御ロジック６７に連結されている。計量ポンプ７２、７
３、及び７４はそれぞれ通路７５、７６及び７７を通し
て分岐管６４に連通されている。このように、処理液は
リザーバを使用することなく出口通路から入口通路に直
接汲み上げられる。
【００３４】写真溶液を含む写真処理化学物質は計量ポ
ンプ７２、７３及び７４に供給される。感光材センサ２
１０が感光材２１（図１）がチャネル２５に流入したこ
とを検知し、センサ２１０が線２１１を介してポンプ７
２、７３及び７４、並びに制御ロジック６７に信号を伝
達した時、ポンプ７２、７３及び７４は適正量の化学物
質を分岐管６４に供給する。分岐管６４は写真処理液を
通路６６に導入する。
ンプ７２、７３及び７４に供給される。感光材センサ２
１０が感光材２１（図１）がチャネル２５に流入したこ
とを検知し、センサ２１０が線２１１を介してポンプ７
２、７３及び７４、並びに制御ロジック６７に信号を伝
達した時、ポンプ７２、７３及び７４は適正量の化学物
質を分岐管６４に供給する。分岐管６４は写真処理液を
通路６６に導入する。
【００３５】写真処理液は通路６６を通してフィルタ６
５に流入する。フィルタ６５は写真処理液に含まれるこ
とのある不純物ないし汚染物を除去する。写真処理液が
フィルタを通過した後、処理液は熱交換器８６に流入す
る。センサ５２は処理液のレベルを検出し、センサ８は
処理液の温度を検出、それぞれワイヤ７１及び７を介し
て制御ロジック６７に処理液レベル及び処理液温度を伝
達する。例えば、制御ロジック６７は、コネティカット
州・０６９０７・スタンフォード・オメガドライブ１
（1 Omega Drive, Stamford, Connecticut06907) のオ
メガ・エンジニアリング社 (Omega Engineering, Inc.)
にて製造されているシリーズＣＮ３１０・ソリッドステ
ート温度コントローラである。ロジック６７はセンサ８
で検出された処理液温度と交換器８６がワイヤ７０を介
してロジック６７に伝達した温度とを比較する。ロジッ
ク６７は交換器８６に情報を伝え処理液の熱を増加又は
減少する。このように、ロジック６７及び熱交換器８６
は処理液の温度を修正し、処理液の温度を一定レベルに
維持する。
５に流入する。フィルタ６５は写真処理液に含まれるこ
とのある不純物ないし汚染物を除去する。写真処理液が
フィルタを通過した後、処理液は熱交換器８６に流入す
る。センサ５２は処理液のレベルを検出し、センサ８は
処理液の温度を検出、それぞれワイヤ７１及び７を介し
て制御ロジック６７に処理液レベル及び処理液温度を伝
達する。例えば、制御ロジック６７は、コネティカット
州・０６９０７・スタンフォード・オメガドライブ１
（1 Omega Drive, Stamford, Connecticut06907) のオ
メガ・エンジニアリング社 (Omega Engineering, Inc.)
にて製造されているシリーズＣＮ３１０・ソリッドステ
ート温度コントローラである。ロジック６７はセンサ８
で検出された処理液温度と交換器８６がワイヤ７０を介
してロジック６７に伝達した温度とを比較する。ロジッ
ク６７は交換器８６に情報を伝え処理液の熱を増加又は
減少する。このように、ロジック６７及び熱交換器８６
は処理液の温度を修正し、処理液の温度を一定レベルに
維持する。
【００３６】センサ５２はチャネル２５内の処理液レベ
ルを検出し、検出した処理液レベルをワイヤ７１を介し
て制御ロジック６７に伝達する。ロジック６７はワイヤ
７１を介してセンサ５２によって検出された処理液レベ
ルをロジック６７に設定されている処理液レベルと比較
する。ロジック６７はワイヤ８３を介して情報をポンプ
７２、７３及び７４に伝達し、処理液のレベルが低い場
合は処理液を追加する。一旦処理液レベルが所望値に達
すると制御ロジック６７はポンプ７２、７３及び７４に
伝達し、処理液の追加を停止する。過剰の処理液はレベ
ル１０からポンプで除去されるか、又はレベル・ドレイ
ン溢流部８４から通路８１を通してコンテナ８２に除去
される。
ルを検出し、検出した処理液レベルをワイヤ７１を介し
て制御ロジック６７に伝達する。ロジック６７はワイヤ
７１を介してセンサ５２によって検出された処理液レベ
ルをロジック６７に設定されている処理液レベルと比較
する。ロジック６７はワイヤ８３を介して情報をポンプ
７２、７３及び７４に伝達し、処理液のレベルが低い場
合は処理液を追加する。一旦処理液レベルが所望値に達
すると制御ロジック６７はポンプ７２、７３及び７４に
伝達し、処理液の追加を停止する。過剰の処理液はレベ
ル１０からポンプで除去されるか、又はレベル・ドレイ
ン溢流部８４から通路８１を通してコンテナ８２に除去
される。
【００３７】この地点において処理液は入口４１、４２
及び４３を通してモジュール１０に流入する。モジュー
ル１０が過剰の処理液を含んでいる場合は過剰の処理液
は溢流通路５１、ドレイン溢流部８４及び通路８１を通
してリザーバ８２に流れる。リザーバ８２に処理液レベ
ルはセンサ２１２により監視される。センサ２１２は線
２１３を介して制御ロジック６７に連結されている。セ
ンサ２１２がリザーバ８２に内の処理液の存在を検出し
た時は線２１３を介してロジック６７に信号が伝達さ
れ、ロジック６７はポンプ２１４を作動する。これによ
りポンプ２１４は処理液を分岐管６４に汲み上げる。セ
ンサ２１２が処理液の存在を検出しないときは線２１３
を介してロジック６７への信号により不作動とされる。
リザーバ８２内の処理液が溢流部２１５に達した時は、
処理液は通路２１６を通してリザーバ２１７へ伝わる。
残りの処理液はチャネル２１７を循環し、出口通路４
４、４５、４６、及び４７に到達する。したがって、処
理液は出口通路４４、４５、４６、及び４７から導管８
５を通り循環ポンプ８０に到達する。本発明の装置内に
含まれる写真処理液は、感光材に露呈された時は、写真
処理液の量が少ないので、従来技術より一層すばやく乾
燥した状態に達する。
及び４３を通してモジュール１０に流入する。モジュー
ル１０が過剰の処理液を含んでいる場合は過剰の処理液
は溢流通路５１、ドレイン溢流部８４及び通路８１を通
してリザーバ８２に流れる。リザーバ８２に処理液レベ
ルはセンサ２１２により監視される。センサ２１２は線
２１３を介して制御ロジック６７に連結されている。セ
ンサ２１２がリザーバ８２に内の処理液の存在を検出し
た時は線２１３を介してロジック６７に信号が伝達さ
れ、ロジック６７はポンプ２１４を作動する。これによ
りポンプ２１４は処理液を分岐管６４に汲み上げる。セ
ンサ２１２が処理液の存在を検出しないときは線２１３
を介してロジック６７への信号により不作動とされる。
リザーバ８２内の処理液が溢流部２１５に達した時は、
処理液は通路２１６を通してリザーバ２１７へ伝わる。
残りの処理液はチャネル２１７を循環し、出口通路４
４、４５、４６、及び４７に到達する。したがって、処
理液は出口通路４４、４５、４６、及び４７から導管８
５を通り循環ポンプ８０に到達する。本発明の装置内に
含まれる写真処理液は、感光材に露呈された時は、写真
処理液の量が少ないので、従来技術より一層すばやく乾
燥した状態に達する。
【００３８】本発明に係る処理装置は処理液を保持する
ために小さな容積をもつ。処理液の容積を限定する部分
として、狭い処理チャネルが与えられる。例えば写真紙
の使用される処理装置用の処理チャネル２５は、処理さ
れる紙の厚さの５０倍、好ましくは１０倍に等しいか又
はより少ない厚さｔを有する。写真フイルムを処理する
処理装置において処理チャネル２５の厚さｔは感光材フ
イルムの厚さの１００倍、好ましくは写真フイルムの厚
さの１８倍に等しいか又はより少ない。本発明に係る処
理装置の例として約０．００８インチの厚さの処理紙を
処理するものはチャネル厚さｔは約０．０８０インチで
ある。また、約０．００５５インチの厚さの処理紙を処
理するものはチャネル厚さｔは約０．１０インチであ
る。
ために小さな容積をもつ。処理液の容積を限定する部分
として、狭い処理チャネルが与えられる。例えば写真紙
の使用される処理装置用の処理チャネル２５は、処理さ
れる紙の厚さの５０倍、好ましくは１０倍に等しいか又
はより少ない厚さｔを有する。写真フイルムを処理する
処理装置において処理チャネル２５の厚さｔは感光材フ
イルムの厚さの１００倍、好ましくは写真フイルムの厚
さの１８倍に等しいか又はより少ない。本発明に係る処
理装置の例として約０．００８インチの厚さの処理紙を
処理するものはチャネル厚さｔは約０．０８０インチで
ある。また、約０．００５５インチの厚さの処理紙を処
理するものはチャネル厚さｔは約０．１０インチであ
る。
【００３９】処理チャネル２５及び循環システム内の処
理液の全容積は従来の処理装置と比較して少ない。特
に、特定のモジュールに対して処理装置全体の処理液の
全量はシステムそのシステム内の処理液の全容積の少な
くとも４０パーセントである。好ましくは、処理チャネ
ル２５の容積はそのシステム内の処理液の全容積の約５
０パーセントである。図示の実施例では処理チャネルの
容積は処理液の全容積の約６０パーセントである。
理液の全容積は従来の処理装置と比較して少ない。特
に、特定のモジュールに対して処理装置全体の処理液の
全量はシステムそのシステム内の処理液の全容積の少な
くとも４０パーセントである。好ましくは、処理チャネ
ル２５の容積はそのシステム内の処理液の全容積の約５
０パーセントである。図示の実施例では処理チャネルの
容積は処理液の全容積の約６０パーセントである。
【００４０】典型的にはシステム内の有効な処理液の量
は、処理装置によって、即ちその装置が処理可能な感光
材の量によって変化するものである。例えば、典型的な
従来技術のマイクロラボ処理器では感光材（一般に搬送
速度は約５０インチ／分より少ない）を約５平方フィー
ト／分で処理する処理装置は約１７リットルの処理液を
有する。本発明により構成した処理装置では約５リット
ルである。典型的な従来技術のミニラボ処理装置につい
ては、感光材（一般に搬送速度は約５０インチ／分ない
し約２０インチ／分である）を約５平方フィート／分な
いし約１５平方フィート／分で処理する処理装置は約１
００リットルの処理液を有する。本発明により構成した
処理装置では約１０リットルである。従来技術の大型の
ラボ処理装置については、感光材（一般に搬送速度は約
７〜６０フィート／分）を約５０平方フィート／分まで
で処理する処理装置は典型的に約１５０〜３００リット
ルの範囲の処理液を有する。本発明により構成した大型
のラボ処理装置では約１５〜１００リットルである。本
発明により構成したミニラボザイズの処理装置であって
感光材を１分あたり１５平方フィートで処理するもの
は、従来技術の典型例では約１７リットルであるのに対
し、処理液は約７リットルである。
は、処理装置によって、即ちその装置が処理可能な感光
材の量によって変化するものである。例えば、典型的な
従来技術のマイクロラボ処理器では感光材（一般に搬送
速度は約５０インチ／分より少ない）を約５平方フィー
ト／分で処理する処理装置は約１７リットルの処理液を
有する。本発明により構成した処理装置では約５リット
ルである。典型的な従来技術のミニラボ処理装置につい
ては、感光材（一般に搬送速度は約５０インチ／分ない
し約２０インチ／分である）を約５平方フィート／分な
いし約１５平方フィート／分で処理する処理装置は約１
００リットルの処理液を有する。本発明により構成した
処理装置では約１０リットルである。従来技術の大型の
ラボ処理装置については、感光材（一般に搬送速度は約
７〜６０フィート／分）を約５０平方フィート／分まで
で処理する処理装置は典型的に約１５０〜３００リット
ルの範囲の処理液を有する。本発明により構成した大型
のラボ処理装置では約１５〜１００リットルである。本
発明により構成したミニラボザイズの処理装置であって
感光材を１分あたり１５平方フィートで処理するもの
は、従来技術の典型例では約１７リットルであるのに対
し、処理液は約７リットルである。
【００４１】ある状況では処理液の渦流を生じさせない
ように通路４８ａ−１内に及び間隙４９ａ−１に溜まり
を設けるのが適当である。このような溜まりのサイズや
形状は処理液が循環される速度及び循環システムの一部
を構成する連通路のサイズによるのは勿論である。例え
ば、ポンプへの通路４８ａ−１及び間隙４９ａ−１内に
おける連通路をできる限り小さくすべきであり、しかも
処理チャネルからポンプへの連通路が大きくなればなる
程渦流をおこしやすくなる。例えば、約３〜４ガロン／
分の循環速度を有する場合処理装置においては、循環ポ
ンプへのトレイの出口において約４インチのヘッド圧を
渦流なしに維持するように溜まりを設けるのが好まし
い。溜まりはトレイの出口に隣接する局部的な領域にの
み設ける必要がある。このように、処理装置に要求され
る流速に対して有効となるように少ない処理液の量をバ
ランスさせることが重要である。
ように通路４８ａ−１内に及び間隙４９ａ−１に溜まり
を設けるのが適当である。このような溜まりのサイズや
形状は処理液が循環される速度及び循環システムの一部
を構成する連通路のサイズによるのは勿論である。例え
ば、ポンプへの通路４８ａ−１及び間隙４９ａ−１内に
おける連通路をできる限り小さくすべきであり、しかも
処理チャネルからポンプへの連通路が大きくなればなる
程渦流をおこしやすくなる。例えば、約３〜４ガロン／
分の循環速度を有する場合処理装置においては、循環ポ
ンプへのトレイの出口において約４インチのヘッド圧を
渦流なしに維持するように溜まりを設けるのが好まし
い。溜まりはトレイの出口に隣接する局部的な領域にの
み設ける必要がある。このように、処理装置に要求され
る流速に対して有効となるように少ない処理液の量をバ
ランスさせることが重要である。
【００４２】ノズルを通って処理チャネルへ処理液が流
れるのを有効にするため、処理液を処理チャネルへ排出
するノズル開口部が次の関係を満たすのが望ましい。 １ ≦Ｆ／Ａ≦ ４０ ここで、Ｆはノズルを通る処理液の流速度で１分当たり
のガロン、Ａはノズルの断面積で平方インチで与えられ
る。
れるのを有効にするため、処理液を処理チャネルへ排出
するノズル開口部が次の関係を満たすのが望ましい。 １ ≦Ｆ／Ａ≦ ４０ ここで、Ｆはノズルを通る処理液の流速度で１分当たり
のガロン、Ａはノズルの断面積で平方インチで与えられ
る。
【００４３】上記の関係を満たすノズルにより感光材に
対する処理液の適当な排出が保証される。以上、本発明
を添付図面を参照して実施例について詳細に説明した
が、本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、
本発明の精神ないし範囲内において種々の形態、変形、
修正等が可能であることに留意すべきである。
対する処理液の適当な排出が保証される。以上、本発明
を添付図面を参照して実施例について詳細に説明した
が、本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、
本発明の精神ないし範囲内において種々の形態、変形、
修正等が可能であることに留意すべきである。
【図１】モジュール１０の斜視図である。
【図２】モジュール１０の一部破断図であって、材料２
１がその１つの面上にエマルジョンを有し、材料２１の
エマルジョンの面に向いてコンテナ１１の底部にノズル
１７ａ、１７ｂ及び１７ｃを有する状態を示す。
１がその１つの面上にエマルジョンを有し、材料２１の
エマルジョンの面に向いてコンテナ１１の底部にノズル
１７ａ、１７ｂ及び１７ｃを有する状態を示す。
【図３】図２のモジュール１０の他の実施例の一部破断
図であって、材料２１がその１つの面上にエマルジョン
を有し、材料２１のエマルジョンの面に向いてコンテナ
１１の底部にノズル１７ａ、１７ｂ及び１７ｃが設けら
れている状態を示す。
図であって、材料２１がその１つの面上にエマルジョン
を有し、材料２１のエマルジョンの面に向いてコンテナ
１１の底部にノズル１７ａ、１７ｂ及び１７ｃが設けら
れている状態を示す。
【図４】図２のモジュール１０の更に他の実施例の一部
破断図であって、材料２１がその両面上にエマルジョン
を有し、材料２１の一方のエマルジョンの面に向いてコ
ンテナ１１の底部にノズル１７ｇ、１７ｈ及び１７ｉ
が、材料２１の他方のエマルジョンの面に向いてコンテ
ナ１１の底部にノズル１７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌがそれ
ぞれ設けられている状態を示す。
破断図であって、材料２１がその両面上にエマルジョン
を有し、材料２１の一方のエマルジョンの面に向いてコ
ンテナ１１の底部にノズル１７ｇ、１７ｈ及び１７ｉ
が、材料２１の他方のエマルジョンの面に向いてコンテ
ナ１１の底部にノズル１７ｊ、１７ｋ及び１７Ｌがそれ
ぞれ設けられている状態を示す。
【図５】処理液の集合溜まり部の斜視図である。
【図６】本発明の装置における処理液循環システムの概
略図である。
略図である。
４…通路 ７…ワイヤ ８…センサ ９…背板 １０…処理モジュール １１…コンテナ １２…搬送ローラアッセンブリ １３…搬送ローラアッセンブリ １５…搬送ローラアッセンブリ １６…駆動部 １７ａ−１…ノズル １８…回転アッセンブリ ２０…カバー ２１…感光材 ２２…ローラ ２３…ローラ ２４…チャネル部 ２５…チャネル ２６…支持ブラケット ２８…噛合ギア ３０…ローラ ３１…ローラ ３２…ローラ ３３…ローラ ４１…ポート ４１ａ−ｃ…入口ポート ４２…ポート ４２ａ−ｃ…入口ポート ４３…ポート ４３ａ−ｃ…入口ポート ４４…ポート ４４ａ−ｃ…ポート ４５…ポート ４５ａ−ｃ…ポート ４６…ポート ４６ａ−ｃ…ポート ４７…ポート ４７ａ−ｃ…ポート ４８ａ−１…ポート ４９ａ−１…通路 ５０ａ−１…間隙 ５１…溢流通路 ５２…センサ ６０…循環システム ６１…アクセス穴 ６２…緊張スプリング ６３…通路 ６４…分岐管 ６５…フィルタ ６７…制御ロジック ６８…ワイヤ ７０…ワイヤ ７１…ワイヤ ７２…計量ポンプ ７３…計量ポンプ ７４…計量ポンプ ７５…通路 ７６…通路 ７７…通路 ８０…循環ポンプ ８１…通路 ８２…コンテナ ８３…ワイヤ ８４…ドレイン溢流部 ８５…通路 ８６…熱交換器 １００…入口チャネル １０１…出口チャネル １３０…ローラ １３１…ローラ ２００…織物面 ２０５…織物面 ２１０…センサ ２１１…線 ２１２…センサ ２１３…線 ２１４…ポンプ ２１５…溢流部 ２１６…通路 ２１７…リザーバ ２２６…溜まり部 ２２７…上部 ２２８…底部 ２２９…側部 ２３０…側部 ２３１…端壁 ２３２…端壁 ２３５…処理液レベル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラルフ レナード ピッチニーノ，ジュニ ア アメリカ合衆国，ニューヨーク 14543, ラッシュ，ファイブ ポインツ ロード 665 (72)発明者 デビッド リン パットン アメリカ合衆国，ニューヨーク 14580, ウェブスター，マジェスティック ウェイ 1218
Claims (4)
- 【請求項１】 感光材の処理装置において、 コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なくとも
１つの処理アッセンブリと、該少なくとも１つの処理ア
ッセンブリに隣接した配置された少なくとも１つの搬送
アッセンブリとを具備し、該少なくとも１つの処理アッ
センブリ及び前記少なくとも１つの搬送アッセンブリは
処理液が流れる実質的に連続したチャネルを形成し、該
処理チャネルは該処理モジュールに対して有効な処理液
の全量の少なくとも４０パーセントを含み且つ該処理チ
ャネル内で処理される感光材の厚さの１００倍に等しい
か又はより少ない厚さを有し、前記チャネルを通して処
理液を導入するための少なくとも１つの排出口が前記少
なくとも１つの搬送アッセンブリ内部又は前記少なくと
も１つの処理アッセンブリ内部に設けられている処理モ
ジュールと、 前記処理モジュール内部の小さな容積から前記少なくと
も１つの排出口へ処理液を循環させる手段と、 処理液の妨げ部分が形成されるのを減少するために前記
処理液の容積を加減する手段と、 小さな容積内の処理液のレベルを一定レベルに保持する
ために前記循環手段に連結された手段と、 から成ることを特徴とする感光材処理装置。 - 【請求項２】 感光材の処理装置において、 コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なくとも
１つの処理アッセンブリとを具備し、該少なくとも１つ
の処理アッセンブリは処理液が流れる実質的に連続した
チャネルを形成し、該処理チャネルは入口及び出口を有
し、処理液を前記チャネルに導入するための少なくとも
１つの排出口が前記少なくとも１つの処理アッセンブリ
の内部に設けられている処理モジュールと、 前記チャネル入口から前記チャネルを通して前記チャネ
ル出口に処理液を搬送する搬送手段であって、該搬送手
段は前記少なくとも１つの処理アッセンブリに隣接して
配置され且つ前記チャネルの一部を形成し、前記処理チ
ャネルは、処理モジュールに対して有効な処理液の全量
の少なくとも４０パーセントを含み且つ該処理チャネル
内で処理される感光材の厚さの１００倍に等しいか又は
より少ない厚さを有する、前記搬送手段と、 前記処理モジュール内部の小さな容積から前記少なくと
も１つの排出口へ処理液を循環させる手段と、 処理液の妨げ部分が形成されるのを減少するために前記
処理液の容積を加減する手段と、 小さな容積内の処理液のレベルを一定レベルに保持する
ために前記循環手段に連結された手段と、 から成ることを特徴とする感光材処理装置。 - 【請求項３】 感光材の処理装置において、 コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なくとも
１つの処理アッセンブリと、該少なくとも１つの処理ア
ッセンブリに隣接した配置された少なくとも１つの搬送
アッセンブリとを具備し、該少なくとも１つの処理アッ
センブリ及び前記少なくとも１つの搬送アッセンブリは
処理液が流れる実質的に連続したチャネルを形成し、該
処理チャネルは該処理モジュールに対して有効な処理液
の全量の少なくとも４０パーセントを含み且つ該処理チ
ャネル内で処理される感光材の厚さの１００倍に等しい
か又はより少ない厚さを有し、もって前記少なくとも１
つの搬送アッセンブリには処理液を前記チャネルへ導入
するための少なくとも１つの排出口が設けられている、
処理モジュールと、 前記処理モジュール内部に形成された小さな容積を通し
て処理液を循環させる手段と、 処理液の妨げ部分が形成されるのを減少するために前記
処理液の容積を加減する手段と、 小さな容積内の処理液のレベルを一定レベルに保持する
ために前記循環手段に連結された手段と、 から成ることを特徴とする感光材処理装置。 - 【請求項４】 感光材の処理装置において、 コンテナと、該コンテナの内部に設置された少なくとも
１つの処理アッセンブリとを具備し、前記コンテナ及び
前記少なくとも１つの処理アッセンブリは処理液が流れ
る実質的に連続したチャネルを形成し、前記処理チャネ
ルは入口及び出口を有し、前記少なくとも１つの処理ア
ッセンブリは前記チャネルへ処理液を分配するための排
出口を有し、前記処理チャネルは該処理モジュールに対
して有効な処理液の全量の少なくとも４０パーセントを
含み且つ該処理チャネル内で処理される感光材の厚さの
１００倍に等しいか又はより少ない厚さを有する、処理
モジュールと、 前記処理モジュールに設けられた前記小さな容積から直
接処理液を前記排出口へ循環させる手段と、 処理液の妨げ部分が形成されるのを減少するために前記
処理液の容積を加減する手段と、 小さな容積内の処理液のレベルを一定レベルに保持する
ために前記循環手段に連結された手段と、 から成ることを特徴とする感光材処理装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/056,457 US5353083A (en) | 1993-05-03 | 1993-05-03 | Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor |
| US056457 | 1994-03-10 | ||
| US08/209,179 US5389994A (en) | 1993-05-03 | 1994-03-10 | Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor |
| US209179 | 1994-03-10 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10292019A Division JPH11190896A (ja) | 1993-05-03 | 1998-10-14 | 感光材処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075661A true JPH075661A (ja) | 1995-01-10 |
| JP2928090B2 JP2928090B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=26735349
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6093475A Expired - Fee Related JP2928090B2 (ja) | 1993-05-03 | 1994-05-02 | 感光材処理装置 |
| JP10292019A Pending JPH11190896A (ja) | 1993-05-03 | 1998-10-14 | 感光材処理装置 |
| JP2000368834A Pending JP2001154327A (ja) | 1993-05-03 | 2000-12-04 | 感光材処理装置 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10292019A Pending JPH11190896A (ja) | 1993-05-03 | 1998-10-14 | 感光材処理装置 |
| JP2000368834A Pending JP2001154327A (ja) | 1993-05-03 | 2000-12-04 | 感光材処理装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5389994A (ja) |
| EP (1) | EP0623845B1 (ja) |
| JP (3) | JP2928090B2 (ja) |
| BR (1) | BR9401675A (ja) |
| CA (1) | CA2121440C (ja) |
| DE (1) | DE69427426T2 (ja) |
| TW (1) | TW233346B (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5660974A (en) | 1994-06-09 | 1997-08-26 | Eastman Kodak Company | Color developer containing hydroxylamine antioxidants |
| US5739896A (en) * | 1995-02-03 | 1998-04-14 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for digitally printing and developing images onto photosensitive material |
| US6333144B1 (en) | 1998-12-28 | 2001-12-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developing processing method and apparatus |
| GB0026948D0 (en) | 2000-11-03 | 2000-12-20 | Eastman Kodak Co | Processing photographic material |
| US6508597B2 (en) | 2000-12-18 | 2003-01-21 | Eastman Kodak Company | Processing apparatus system |
| US6761491B2 (en) * | 2002-12-09 | 2004-07-13 | Eastman Kodak Company | Photographic processor and supply cartridge with an information exchange arrangement |
| IT1392573B1 (it) * | 2008-12-30 | 2012-03-09 | Lavazza Luigi Spa | Gruppo di infusione per una macchina per la preparazione di bevande |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268548A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
| JPH02124570A (ja) * | 1988-06-27 | 1990-05-11 | Konica Corp | 感光材料処理装置 |
| JPH02210440A (ja) * | 1989-02-10 | 1990-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成用溶媒塗布装置 |
| JPH0553278A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4324479A (en) * | 1979-11-01 | 1982-04-13 | Sachs Emanuel M | Film processing method and apparatus |
| US4354755A (en) * | 1980-04-21 | 1982-10-19 | Ciba-Geigy Ag | Apparatus for the processing of photographic material in sheet form |
| DE3345084C2 (de) * | 1983-12-13 | 1985-10-10 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Entwicklungsvorrichtung für horizontal geführte Schichtträger |
| US4736221A (en) * | 1985-10-18 | 1988-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and device for processing photographic film using atomized liquid processing agents |
| FR2592021B1 (fr) * | 1985-12-23 | 1988-02-19 | Kodak Pathe | Procede et dispositif de convoyage d'un produit passant dans un ou plusieurs liquides de traitement |
| US4758857A (en) * | 1986-04-03 | 1988-07-19 | Nix Company, Ltd. | Automatic film developing machine |
| EP0306976B1 (en) * | 1987-09-11 | 1994-12-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Automatic film processor |
| IT1224924B (it) * | 1988-07-25 | 1990-10-29 | Durst Phototechnik Srl | Macchina sviluppatrice continua per materiale fotografico in formato. |
| JP2804818B2 (ja) * | 1989-06-21 | 1998-09-30 | オリンパス光学工業株式会社 | 液体現像装置 |
| GB9003282D0 (en) * | 1990-02-14 | 1990-04-11 | Kodak Ltd | Method and apparatus for photographic processing |
| US5179404A (en) * | 1992-03-02 | 1993-01-12 | Eastman Kodak Company | Anti-web adhering contour surface for a photographic processing apparatus |
-
1994
- 1994-03-10 US US08/209,179 patent/US5389994A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-11 TW TW083103141A patent/TW233346B/zh active
- 1994-04-15 CA CA002121440A patent/CA2121440C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-29 EP EP94201194A patent/EP0623845B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-29 DE DE69427426T patent/DE69427426T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-05-02 JP JP6093475A patent/JP2928090B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-05-02 BR BR9401675A patent/BR9401675A/pt not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-10-14 JP JP10292019A patent/JPH11190896A/ja active Pending
-
2000
- 2000-12-04 JP JP2000368834A patent/JP2001154327A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02124570A (ja) * | 1988-06-27 | 1990-05-11 | Konica Corp | 感光材料処理装置 |
| JPH0268548A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
| JPH02210440A (ja) * | 1989-02-10 | 1990-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成用溶媒塗布装置 |
| JPH0553278A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5389994A (en) | 1995-02-14 |
| TW233346B (en) | 1994-11-01 |
| EP0623845A1 (en) | 1994-11-09 |
| JP2001154327A (ja) | 2001-06-08 |
| BR9401675A (pt) | 1995-03-07 |
| EP0623845B1 (en) | 2001-06-13 |
| JP2928090B2 (ja) | 1999-07-28 |
| DE69427426D1 (de) | 2001-07-19 |
| DE69427426T2 (de) | 2002-04-11 |
| JPH11190896A (ja) | 1999-07-13 |
| CA2121440C (en) | 1999-03-16 |
| CA2121440A1 (en) | 1994-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5400106A (en) | Automatic tray processor | |
| US5347337A (en) | Vertical and horizontal positioning and coupling of automatic tray processor cells | |
| US5386261A (en) | Vertical and horizontal positioning and coupling of automatic tray processor cells | |
| JP2726235B2 (ja) | 織物面のチャネルを有する感光材処理装置 | |
| US5420658A (en) | Modular processing channel for an automatic tray processor | |
| JP2928093B2 (ja) | モジュラー処理チャネルを有する感光材処理装置 | |
| JPH075661A (ja) | 感光材処理装置 | |
| US5355190A (en) | Slot impingement for an automatic tray processor | |
| US5313243A (en) | Counter cross flow for an automatic tray processor | |
| US5353088A (en) | Automatic tray processor | |
| US5398094A (en) | Slot impingement for an automatic tray processor | |
| CA2153857C (en) | Rack and a tank for a photographic processing apparatus | |
| US5353083A (en) | Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor | |
| US5418591A (en) | Counter cross flow for an automatic tray processor | |
| US5353086A (en) | Textured surface with canted channels for an automatic tray processor | |
| CA2115735C (en) | Modular processing channel for an automatic tray processor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |