JPH0758398A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
- Publication number
- JPH0758398A JPH0758398A JP20167193A JP20167193A JPH0758398A JP H0758398 A JPH0758398 A JP H0758398A JP 20167193 A JP20167193 A JP 20167193A JP 20167193 A JP20167193 A JP 20167193A JP H0758398 A JPH0758398 A JP H0758398A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- power
- laser power
- high frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 18
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 12
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 6
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ発振管から出射されたレーザビームの
レーザパワーを制御し安定化するレーザ装置およびレー
ザパワーの安定化法を提供する。 【構成】 連続発振するレーザ発振管１および、低周波
数変調用レーザ変調器２、および、高周波数変調用レー
ザ変調器３を有するレーザ装置を使用し、レーザ発振管
１から出射されたレーザビームを、まず低周波数変調用
レーザ変調器２によって、任意のレーザパワーの設定お
よび数百Ｈｚ以下の低周波数成分のレーザパワー変動を
制御し安定化させ、続いて高周波数変調用レーザ変調器
６によって、数ＭＨｚ以上の高周波数成分のレーザパワ
ー変動を制御し安定化する。
レーザパワーを制御し安定化するレーザ装置およびレー
ザパワーの安定化法を提供する。 【構成】 連続発振するレーザ発振管１および、低周波
数変調用レーザ変調器２、および、高周波数変調用レー
ザ変調器３を有するレーザ装置を使用し、レーザ発振管
１から出射されたレーザビームを、まず低周波数変調用
レーザ変調器２によって、任意のレーザパワーの設定お
よび数百Ｈｚ以下の低周波数成分のレーザパワー変動を
制御し安定化させ、続いて高周波数変調用レーザ変調器
６によって、数ＭＨｚ以上の高周波数成分のレーザパワ
ー変動を制御し安定化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ装置の出力光パ
ワーの変動の安定化に関する。
ワーの変動の安定化に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来レーザパワーの安定化法としては、
例えば半導体レーザの場合、公開特許公報平１−２１７
９８３号公報にあるように、温度変化などによって生じ
るレーザ発振器のレーザパワー変動をフォトディテクタ
で検出し、レーザ発振器への投入電力を制御してパワー
を安定化するものがある。また気体レーザなどの場合、
外付けの動作周波数が数百Ｈｚ程度の低周波変調用レー
ザ変調器によってレーザパワーを制御し安定化する方法
がある。
例えば半導体レーザの場合、公開特許公報平１−２１７
９８３号公報にあるように、温度変化などによって生じ
るレーザ発振器のレーザパワー変動をフォトディテクタ
で検出し、レーザ発振器への投入電力を制御してパワー
を安定化するものがある。また気体レーザなどの場合、
外付けの動作周波数が数百Ｈｚ程度の低周波変調用レー
ザ変調器によってレーザパワーを制御し安定化する方法
がある。
【０００３】このような安定化法の目的は、レーザが、
レーザ発振管の発熱や外気温度の変化、レーザ発振管の
立ち上げからの時間や投入電力によって、レーザ発振状
態が乱れ、レーザパワーが変動することを抑制すること
である。
レーザ発振管の発熱や外気温度の変化、レーザ発振管の
立ち上げからの時間や投入電力によって、レーザ発振状
態が乱れ、レーザパワーが変動することを抑制すること
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら例えば数
百ｍＷのレーザを出射するレーザ発振管では、レーザパ
ワーの変動量にして±１ｍＷ以下、周波数にして数ＭＨ
ｚ以上の高周波数成分のレーザパワーの変動も有してい
る。これはレーザノイズと呼ばれる成分の一つである。
したがって、±１ｍＷ以下のレーザパワーの変動でも問
題となるようなレーザ装置では、高周波数成分のレーザ
パワーの変動も抑制する必要がある。
百ｍＷのレーザを出射するレーザ発振管では、レーザパ
ワーの変動量にして±１ｍＷ以下、周波数にして数ＭＨ
ｚ以上の高周波数成分のレーザパワーの変動も有してい
る。これはレーザノイズと呼ばれる成分の一つである。
したがって、±１ｍＷ以下のレーザパワーの変動でも問
題となるようなレーザ装置では、高周波数成分のレーザ
パワーの変動も抑制する必要がある。
【０００５】気体レーザは、レーザパワーの制御のため
に、投入電力を変化させるとレーザ発振の状態を著しく
乱してしまう。このようなレーザ装置では、高周波数成
分のレーザパワーの変動を制御し抑制するために、外付
けの高周波数変調用レーザ変調器として、数ＭＨｚ以上
で変調可能な高周波数用ＥＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｏｐ
ｔｉｃａｌ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）などを使用すること
になるが、高周波数変調用ＥＯＭは、制御可能なレーザ
パワーの幅が数十ｍＷ程度である。これに対し、数百Ｈ
ｚ以下で変調をする低周波数用ＥＯＭのレーザパワーの
制御範囲は数百ｍＷである。変調可能周波数の違いは、
変調器内部の結晶の純度によって生じるものである。し
たがって高周波数用ＥＯＭヘレーザビームを入射する前
に、変動幅の大きい低周波数成分のレーザパワーの変動
を取り除く必要がある。
に、投入電力を変化させるとレーザ発振の状態を著しく
乱してしまう。このようなレーザ装置では、高周波数成
分のレーザパワーの変動を制御し抑制するために、外付
けの高周波数変調用レーザ変調器として、数ＭＨｚ以上
で変調可能な高周波数用ＥＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｏｐ
ｔｉｃａｌ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）などを使用すること
になるが、高周波数変調用ＥＯＭは、制御可能なレーザ
パワーの幅が数十ｍＷ程度である。これに対し、数百Ｈ
ｚ以下で変調をする低周波数用ＥＯＭのレーザパワーの
制御範囲は数百ｍＷである。変調可能周波数の違いは、
変調器内部の結晶の純度によって生じるものである。し
たがって高周波数用ＥＯＭヘレーザビームを入射する前
に、変動幅の大きい低周波数成分のレーザパワーの変動
を取り除く必要がある。
【０００６】この方法としては、従来例にあったよう
に、第一の方法としてレーザ発振器自体への投入電力を
下げる方法、第二の方法として低周波数用レーザ変調器
でレーザパワーを下げる方法が考えられる。
に、第一の方法としてレーザ発振器自体への投入電力を
下げる方法、第二の方法として低周波数用レーザ変調器
でレーザパワーを下げる方法が考えられる。
【０００７】前述のように第一の方法であるレーザ発振
器への投入電力を変化させる方法は、半導体レーザに対
しては有効な方法であるが、気体レーザのような場合は
有効ではない。第二の方法では、気体レーザ等のレーザ
発振管に対して有効である。
器への投入電力を変化させる方法は、半導体レーザに対
しては有効な方法であるが、気体レーザのような場合は
有効ではない。第二の方法では、気体レーザ等のレーザ
発振管に対して有効である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、レーザ
装置を連続発振するレーザ発振管および、低周波数変調
用レーザ変調器、および、高周波数変調用レーザ変調器
から成る構成とし、レーザ発振管から出射されたレーザ
ビームを、まず低周波数変調用レーザ変調器によって任
意のレーザパワーの設定および数百Ｈｚ以下のパワー変
動を制御し安定化させ、続いて高周波数変調用レーザ変
調器によって、数ＭＨｚ以上のパワー変動を制御すると
いう二段階のレーザパワーの制御によって、レーザパワ
ーの安定化を図った。
装置を連続発振するレーザ発振管および、低周波数変調
用レーザ変調器、および、高周波数変調用レーザ変調器
から成る構成とし、レーザ発振管から出射されたレーザ
ビームを、まず低周波数変調用レーザ変調器によって任
意のレーザパワーの設定および数百Ｈｚ以下のパワー変
動を制御し安定化させ、続いて高周波数変調用レーザ変
調器によって、数ＭＨｚ以上のパワー変動を制御すると
いう二段階のレーザパワーの制御によって、レーザパワ
ーの安定化を図った。
【０００９】
【実施例】次に本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明のレーザ装置の構成図であ
る。図１において、レーザ装置は、連続発振するレーザ
ビームを出射するレーザ発振管１と、低周波数変調用Ｅ
ＯＭ２と、高周波数変調用ＥＯＭ６と、それぞれのＥＯ
Ｍ２，６の出力例に配置されたビームスプリッタ３，７
と、ビームスプリッタ３，７によって分岐されたレーザ
ビームを受光するフォトディテクタ４，８とから成る。
て説明する。図１は、本発明のレーザ装置の構成図であ
る。図１において、レーザ装置は、連続発振するレーザ
ビームを出射するレーザ発振管１と、低周波数変調用Ｅ
ＯＭ２と、高周波数変調用ＥＯＭ６と、それぞれのＥＯ
Ｍ２，６の出力例に配置されたビームスプリッタ３，７
と、ビームスプリッタ３，７によって分岐されたレーザ
ビームを受光するフォトディテクタ４，８とから成る。
【００１０】レーザ発振管１から出射されたレーザビー
ムａは、第一段目のレーザパワーの安定化動作のため
に、低周波数用ＥＯＭ２を通過し、次に第二段目のレー
ザパワーの安定化動作のために高周波数用ＥＯＭ３を通
過する。各変調器２，６の出口には、ビームスプリッタ
３，７がそれぞれ配置されており、レーザビームの一部
を分岐してフォトディテクタ４，８でそれぞれのパワー
をモニタしている。フォトディテクタ４，５はモニタし
たレーザパワーに相当する電圧を出力する。
ムａは、第一段目のレーザパワーの安定化動作のため
に、低周波数用ＥＯＭ２を通過し、次に第二段目のレー
ザパワーの安定化動作のために高周波数用ＥＯＭ３を通
過する。各変調器２，６の出口には、ビームスプリッタ
３，７がそれぞれ配置されており、レーザビームの一部
を分岐してフォトディテクタ４，８でそれぞれのパワー
をモニタしている。フォトディテクタ４，５はモニタし
たレーザパワーに相当する電圧を出力する。
【００１１】フォトディテクタ４から出力される電圧
は、基準レーザパワーでフォトダイオード４から出力さ
れる電圧に相当する電圧である第１の基準電圧から、引
算回路５で減算される。この差電圧は低周波数用ＥＯＭ
２供給される。
は、基準レーザパワーでフォトダイオード４から出力さ
れる電圧に相当する電圧である第１の基準電圧から、引
算回路５で減算される。この差電圧は低周波数用ＥＯＭ
２供給される。
【００１２】低周波数用ＥＯＭ２は、引算回路５から供
給される電圧が増加すると、レーザビームの透過率が増
加し、電圧が低下すると、レーザビームの透過率が低下
するように設定した。レーザパワーの変動によって、フ
ォトディテクタ４で検出されるレーザパワーが低下した
場合、フォトディテクタ４からの出力電圧が低下する。
すると、引算回路５からの出力電圧が増加し、低周波数
用ＥＯＭへの供給電圧が増加し、低周波数用ＥＯＭ２の
レーザビームの透過率が増加する。これにより、レーザ
パワーが基準レーザパワーまで補正される。逆に、レー
ザパワーの変動によって、フォトディテクタ４で検出さ
れるレーザパワーが増加した場合、フォトディテクタ４
からの出力電圧が増加する。すると、引算回路からの出
力電圧が低下し、低周波数用ＥＯＭへの供給電圧が低下
し、低周波数用ＥＯＭ２のレーザビームの透過率が低下
する。これにより、レーザパワーが基準レーザパワーま
で補正される。
給される電圧が増加すると、レーザビームの透過率が増
加し、電圧が低下すると、レーザビームの透過率が低下
するように設定した。レーザパワーの変動によって、フ
ォトディテクタ４で検出されるレーザパワーが低下した
場合、フォトディテクタ４からの出力電圧が低下する。
すると、引算回路５からの出力電圧が増加し、低周波数
用ＥＯＭへの供給電圧が増加し、低周波数用ＥＯＭ２の
レーザビームの透過率が増加する。これにより、レーザ
パワーが基準レーザパワーまで補正される。逆に、レー
ザパワーの変動によって、フォトディテクタ４で検出さ
れるレーザパワーが増加した場合、フォトディテクタ４
からの出力電圧が増加する。すると、引算回路からの出
力電圧が低下し、低周波数用ＥＯＭへの供給電圧が低下
し、低周波数用ＥＯＭ２のレーザビームの透過率が低下
する。これにより、レーザパワーが基準レーザパワーま
で補正される。
【００１３】前述のようにＥＯＭの性能により低周波数
用ＥＯＭの動作速度が数百Ｈｚ以下であるため、引算回
路から出力される制御信号を、見掛け上数百Ｈｚ以下を
透過する、ローパスフィルターに介したときと同様の動
作をし、数百Ｈｚ以下の低周波数成分のレーザのパワー
変動のみが安定化される。
用ＥＯＭの動作速度が数百Ｈｚ以下であるため、引算回
路から出力される制御信号を、見掛け上数百Ｈｚ以下を
透過する、ローパスフィルターに介したときと同様の動
作をし、数百Ｈｚ以下の低周波数成分のレーザのパワー
変動のみが安定化される。
【００１４】第二段目の高周波数パワー安定化動作も同
様で、フォトディテクタ８から出力される電圧は、引算
回路９で基準レーザパワーでフォトダイオード５から出
力される電圧に相当する第２の基準電圧から減算され
る。この差電圧は高周波数用ＥＭＯ６に供給される。
様で、フォトディテクタ８から出力される電圧は、引算
回路９で基準レーザパワーでフォトダイオード５から出
力される電圧に相当する第２の基準電圧から減算され
る。この差電圧は高周波数用ＥＭＯ６に供給される。
【００１５】高周波数用ＥＯＭ６は、供給される電圧が
増加すると、レーザビームの透過率が増加し、電圧が低
下すると、レーザビームの透過率が低下するように設定
した。レーザパワーの変動によって、フォトディテクタ
８で検出されるレーザパワーが低下した場合、フォトデ
ィテクタ８からの出力電圧が低下する。すると、引算回
路９の出力電圧が増加し、高周波数用ＥＯＭ６への供給
電圧が増加し、高周波枢要ＥＯＭ６のレーザビーム透過
率が増加する。これにより、レーザパワーが基準レーザ
パワーまで補正される。
増加すると、レーザビームの透過率が増加し、電圧が低
下すると、レーザビームの透過率が低下するように設定
した。レーザパワーの変動によって、フォトディテクタ
８で検出されるレーザパワーが低下した場合、フォトデ
ィテクタ８からの出力電圧が低下する。すると、引算回
路９の出力電圧が増加し、高周波数用ＥＯＭ６への供給
電圧が増加し、高周波枢要ＥＯＭ６のレーザビーム透過
率が増加する。これにより、レーザパワーが基準レーザ
パワーまで補正される。
【００１６】逆に、レーザパワーの変動によって、フォ
トディテクタ８で検出されるレーザパワーが増加した場
合、フォトディテクタ５からの出力電圧が増加する。す
ると、引算回路９の出力電圧が低下し、高周波数用ＥＯ
Ｍ６への供給電圧が低下し、高周波数用ＥＯＭ６のレー
ザビームの透過率が低下する。これにより、レーザパワ
ーが基準レーザパワーまで補正される。
トディテクタ８で検出されるレーザパワーが増加した場
合、フォトディテクタ５からの出力電圧が増加する。す
ると、引算回路９の出力電圧が低下し、高周波数用ＥＯ
Ｍ６への供給電圧が低下し、高周波数用ＥＯＭ６のレー
ザビームの透過率が低下する。これにより、レーザパワ
ーが基準レーザパワーまで補正される。
【００１７】第二段目の高周波数用ＥＯＭ６では、すで
に第一段目の、低周波数用ＥＯＭ２によって、変動量の
大きい低周波数成分のレーザパワーの変動が除去され、
高周波数成分のレーザパワーの変動のみが残留したレー
ザビームが供給されるため、見掛け上、高周波数成分の
レーザのパワー変動のみが安定化される。
に第一段目の、低周波数用ＥＯＭ２によって、変動量の
大きい低周波数成分のレーザパワーの変動が除去され、
高周波数成分のレーザパワーの変動のみが残留したレー
ザビームが供給されるため、見掛け上、高周波数成分の
レーザのパワー変動のみが安定化される。
【００１８】図２の（ａ），（ｂ），（ｃ）に、本発明
のレーザパワーの安定化法による、レーザパワーの安定
化過程の概念図を示した。図２の（ａ），（ｂ），
（ｃ）は、図１中のレーザビームａ，ｂ，ｃのレーザパ
ワーに相当する。
のレーザパワーの安定化法による、レーザパワーの安定
化過程の概念図を示した。図２の（ａ），（ｂ），
（ｃ）は、図１中のレーザビームａ，ｂ，ｃのレーザパ
ワーに相当する。
【００１９】図２（ａ）は、レーザ発振管から出射直後
のレーザパワーを表している。図のようにレーザ管１か
ら出射直後のレーザパワーは、低周波数成分と高周波数
成分のレーザパワー変動が混在する。
のレーザパワーを表している。図のようにレーザ管１か
ら出射直後のレーザパワーは、低周波数成分と高周波数
成分のレーザパワー変動が混在する。
【００２０】図２（ｂ）は、出射レーザが低周波数用Ｅ
ＯＭ２，ビームスプリッタ３を通過後のレーザパワーを
表している。第一のレーザ変調器２を通過することによ
って数百Ｈｚ以下の低周波数のパワー変動成分が排除さ
れ、図に示すように高周波数成分だけが残留する。図で
は表されていないが、この段階でレーザパワー平均値自
体も任意レーザパワーまで下げられている。
ＯＭ２，ビームスプリッタ３を通過後のレーザパワーを
表している。第一のレーザ変調器２を通過することによ
って数百Ｈｚ以下の低周波数のパワー変動成分が排除さ
れ、図に示すように高周波数成分だけが残留する。図で
は表されていないが、この段階でレーザパワー平均値自
体も任意レーザパワーまで下げられている。
【００２１】図２（ｃ）は、第一のレーザ変調器２を通
過したレーザが、さらに高周波数用ＥＯＭ６を通過後の
レーザパワーを表している。図のように図２（ｂ）で存
在した高周波数成分のレーザパワーの変動が排除され、
安定したレーザパワーとなる。
過したレーザが、さらに高周波数用ＥＯＭ６を通過後の
レーザパワーを表している。図のように図２（ｂ）で存
在した高周波数成分のレーザパワーの変動が排除され、
安定したレーザパワーとなる。
【００２２】
【発明の効果】本発明のレーザパワー安定化法によれば
変動量の大きい低周波数成分のレーザパワーの変動と、
変動量が小さい高周波数成分のレーザパワーの変動の双
方を抑制し、安定なレーザパワーを得ることが可能とな
る。
変動量の大きい低周波数成分のレーザパワーの変動と、
変動量が小さい高周波数成分のレーザパワーの変動の双
方を抑制し、安定なレーザパワーを得ることが可能とな
る。
【図１】本発明の一実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明のレーザパワー安定法によるレーザパワ
ーの安定化過程の概念を示す波形図である。
ーの安定化過程の概念を示す波形図である。
１ レーザ発振管 ２ 低周波数用変調器 ３，７ ビームスプリッタ ４，８ フォトディテクタ ５，９ 引算回路 ６ 高周波用変調器
Claims (3)
- 【請求項１】連続発振するレーザ発振管と、 第１の制御信号にもとづいて前記レーザ発振管より供給
される第１のレーザビームの出力パワーを制御し第２の
レーザビームとして出力する第１のパワー制御手段と、 第２のレーザビームを第３のレーザビーム，第４のレー
ザビームに分岐する第１の分岐手段と、 第３のレーザビームを受光し第一の検出値を出力する第
１の検出手段， 第１の基準値と前記第一の検出値とから前記第１の制御
信号を生成出力する第１の制御手段と、 第２の制御信号にもとづいて、前記第４のレーザビーム
の出力パワーを制御し、第５のレーザビームとして出力
する第２のパワー制御手段と、 前記第５のレーザビームを第６のレーザビームと第７の
レーザビームに分岐し、第６のレーザビームを出力レー
ザビームとして出力する第２の分岐手段と、 前記第７のレーザビームを受光し、第２の検出値を出力
する第２の検出手段と、 第２の基準値と前記第２の基準値とから前記第２の制御
信号を生成出力する第２の制御手段， とから構成されるレーザ装置。 - 【請求項２】前記第１のパワー制御手段，第２のパワー
制御手段は，電気光変調器であることを特徴とする請求
項１記載のレーザ装置。 - 【請求項３】前記第１の分岐手段，前記第２の分岐手段
は、ビームスプリッタであることを特徴とする請求項１
または２に記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5201671A JP2699818B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5201671A JP2699818B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0758398A true JPH0758398A (ja) | 1995-03-03 |
| JP2699818B2 JP2699818B2 (ja) | 1998-01-19 |
Family
ID=16444974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5201671A Expired - Fee Related JP2699818B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2699818B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118922A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 音響光学変調器によるレ−ザビ−ム光量安定化方法 |
| JPS61249017A (ja) * | 1985-04-27 | 1986-11-06 | Sony Corp | 光制御装置 |
| JPS6435526A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Konishiroku Photo Ind | Optical modulator |
| JPH05167560A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-07-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 周波数多重光変調方式 |
-
1993
- 1993-08-13 JP JP5201671A patent/JP2699818B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118922A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 音響光学変調器によるレ−ザビ−ム光量安定化方法 |
| JPS61249017A (ja) * | 1985-04-27 | 1986-11-06 | Sony Corp | 光制御装置 |
| JPS6435526A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Konishiroku Photo Ind | Optical modulator |
| JPH05167560A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-07-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 周波数多重光変調方式 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2699818B2 (ja) | 1998-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5073331A (en) | Modulation method for use in a semiconductor laser and an apparatus therefor | |
| JP2942619B2 (ja) | 高調波発生装置 | |
| US5544183A (en) | Variable wavelength light source | |
| JP5609130B2 (ja) | 原子発振器 | |
| US4745606A (en) | Dual-wavelength laser apparatus | |
| JP2699818B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JP2000261092A (ja) | 周波数安定化光源 | |
| JP3500582B2 (ja) | 光周波数基準光源発生装置 | |
| US5581389A (en) | Light frequency control apparatus | |
| CN114499670A (zh) | 一种微波信号处理装置 | |
| JP2005091517A (ja) | 光変調素子のバイアス電圧制御方法及び安定化光変調器 | |
| US6313939B1 (en) | Optical phase oscillator with a maximum output amplifier | |
| JP2519335B2 (ja) | レ―ザ発振波長安定化装置 | |
| JP2013205556A (ja) | パルス光生成装置及びそれを有するパルス光生成システム | |
| JP3055735B2 (ja) | 受動モード同期半導体レーザ装置 | |
| JPS62162382A (ja) | 高安定化半導体レ−ザ光源 | |
| JP3269461B2 (ja) | 多波長光源装置 | |
| Grachev et al. | Investigation of the existence of self-oscillations in an optoelectronic generator using the theory of bifurcations | |
| JPS6344783A (ja) | レ−ザ光源の周波数安定化装置 | |
| KR100279062B1 (ko) | 광섬유고리형극초단펄스레이저장치및이를이용한펄스의폭및반복성조절방법 | |
| JP2864814B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| Lebedev et al. | Reset-free stabilization of a fiber-optic Mach-Zehnder interferometer using optical frequency shifters for low-noise microwave photonic links | |
| JP2001111497A (ja) | 光ｒｆ伝送装置 | |
| JPH07270833A (ja) | 超短光パルス発生装置 | |
| JP2004118060A (ja) | 駆動装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970826 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |