JPH07591B2 - 新規のアルコキシベンゼンスルホン酸塩 - Google Patents
新規のアルコキシベンゼンスルホン酸塩Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/15—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C311/16—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to hydrogen atoms or to an acyclic carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規の2−アルコキシ−
4−クロロベンゼンスルホン酸塩に関するものである。
このスルホン酸塩と塩素化剤との反応により得られる該
当するスルホニルクロリドを経て、有用なスルホニル尿
素系の除草剤の下記の有用な中間体である2−アルコキ
シスルホンアミドに誘導される。
4−クロロベンゼンスルホン酸塩に関するものである。
このスルホン酸塩と塩素化剤との反応により得られる該
当するスルホニルクロリドを経て、有用なスルホニル尿
素系の除草剤の下記の有用な中間体である2−アルコキ
シスルホンアミドに誘導される。
【0002】
【従来の技術】本発明化合物を経ても製造することがで
きる2−アルコキシベンゼンスルホンアミドは、除草剤
である2−アルコキシベンゼンスルホニル尿素の合成の
ために有用な中間体である。この高い効果を有する除草
剤の群は、最近、数多くの特許出願及び公開公報に記載
されている。本発明の化合物を経る方法により製造する
ことができる2−アルコキシベンゼンスルホンアミド、
その製造及びこのスルホニル尿素群からの除草剤最終生
成物の製造におけるそれらの使用がヨーロッパ特許出願
第23422号、第44807号及び第44808号に
記載されている。
きる2−アルコキシベンゼンスルホンアミドは、除草剤
である2−アルコキシベンゼンスルホニル尿素の合成の
ために有用な中間体である。この高い効果を有する除草
剤の群は、最近、数多くの特許出願及び公開公報に記載
されている。本発明の化合物を経る方法により製造する
ことができる2−アルコキシベンゼンスルホンアミド、
その製造及びこのスルホニル尿素群からの除草剤最終生
成物の製造におけるそれらの使用がヨーロッパ特許出願
第23422号、第44807号及び第44808号に
記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】アルコキシベンゼンス
ルホンアミドの製造のための前記の方法は、不安定なジ
アゾニウム塩が中間体として得られ、そしてCu(I)
化合物によるサンドマイヤ型の交換反応が十分な選択性
が少しもないか、又は複雑な分離方法が要求される混合
生成物が得られるかのどちらかであるので、大規模な工
業生産の用途には適当ではない。
ルホンアミドの製造のための前記の方法は、不安定なジ
アゾニウム塩が中間体として得られ、そしてCu(I)
化合物によるサンドマイヤ型の交換反応が十分な選択性
が少しもないか、又は複雑な分離方法が要求される混合
生成物が得られるかのどちらかであるので、大規模な工
業生産の用途には適当ではない。
【0004】したがって、大工業規模で行うことができ
る、2−アルコキシベンゼンスルホンアミドの安価な製
造方法に対する要望がある。
る、2−アルコキシベンゼンスルホンアミドの安価な製
造方法に対する要望がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、スルホ
クロリド(下記の式III の化合物)を合成する過程で好
ましくは本発明の下記式V
クロリド(下記の式III の化合物)を合成する過程で好
ましくは本発明の下記式V
【化2】 (式中、Rはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
原子数1ないし4のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わし、そしてMはナトリウム原子又はカリウム原
子を表わす。)の化合物を経る、下記の、2−アルコキ
シベンゼンスルホンアミドの新規製造方法はこれらの要
望を実質的に満たすものである:次式I:
原子数1ないし4のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わし、そしてMはナトリウム原子又はカリウム原
子を表わす。)の化合物を経る、下記の、2−アルコキ
シベンゼンスルホンアミドの新規製造方法はこれらの要
望を実質的に満たすものである:次式I:
【化3】 (式中、Rはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
原子数1ないし4のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わす。)で表わされる2−アルコキシベンゼンス
ルホンアミドを、次式II:
原子数1ないし4のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わす。)で表わされる2−アルコキシベンゼンス
ルホンアミドを、次式II:
【化4】 (式中、Rは式Iで定義された意味を表わす。)で表わ
される4−アルコキシクロロベンゼンをクロロスルホン
酸ClSO3 Hと反応させ、〔好ましくは上述の式Vの
化合物を経て、〕得られた次式III :
される4−アルコキシクロロベンゼンをクロロスルホン
酸ClSO3 Hと反応させ、〔好ましくは上述の式Vの
化合物を経て、〕得られた次式III :
【化5】 (式中、Rは式Iで定義された意味を表わす。)で表わ
されるスルホクロリドをアンモニアと反応させることに
より次式IV:
されるスルホクロリドをアンモニアと反応させることに
より次式IV:
【化6】 (式中、Rは式Iで定義された意味を表わす。)で表わ
されるスルホンアミドに変え、そして該スルホンアミド
を水素ガスで貴金属触媒の存在下にて水素化することに
よる製造方法。
されるスルホンアミドに変え、そして該スルホンアミド
を水素ガスで貴金属触媒の存在下にて水素化することに
よる製造方法。
【0006】上記定義において、アルキル基はメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基又は第三ブチル
基を表わす。
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基又は第三ブチル
基を表わす。
【0007】式Iの反応生成物は、適当なピリミジニル
カルバメート若しくはトリアジニルカルバメート又は相
当するイソシアネートと反応させることにより公知の方
法で、農業的に有用な活性有効成分である該スルホニル
尿素群に直接変えることができる。この方法の代替とし
て、式Iの2−アルコキシベンゼンスルホンアミドをま
ず相当するイソシアネート又はカルバメートに変え、次
いで適当なピリミジニルアミン又はトリアジニルアミン
と反応させて、有効なスルホニル尿素を得る。
カルバメート若しくはトリアジニルカルバメート又は相
当するイソシアネートと反応させることにより公知の方
法で、農業的に有用な活性有効成分である該スルホニル
尿素群に直接変えることができる。この方法の代替とし
て、式Iの2−アルコキシベンゼンスルホンアミドをま
ず相当するイソシアネート又はカルバメートに変え、次
いで適当なピリミジニルアミン又はトリアジニルアミン
と反応させて、有効なスルホニル尿素を得る。
【0008】式IIの出発物質は公知であり、そして4−
クロロフェノールから簡単なエーテル化反応により得る
ことができる。
クロロフェノールから簡単なエーテル化反応により得る
ことができる。
【0009】市販品として入手可能なクロロスルホン酸
は、原願発明の方法の第1段階(II→III )を行うため
に用いる。反応を行うために、式IIの化合物1モルに対
してクロロスルホン酸を少なくとも3モル用いる。クロ
ロスルホン酸の大過剰、例えば式IIの化合物1モルに対
してクロロスルホン酸を少なくとも5モル用いることが
有利である。個々の実施態様において、クロロスルホン
酸を同時に反応物及び溶媒として用いることができる。
しかしながら、一般に、反応(II→III )は不活性溶媒
中で行う。適当な溶媒は二硫化炭素、トルエン、キシレ
ン、及びヘキサン、デカン又はシクロヘキサンのような
飽和炭化水素、及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン又はジ
クロロベンゼンのような塩素化炭化水素である。好まし
い溶媒はシクロヘキサン、n−デカン、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタン及びクロロホルムである。反応
温度は、通常、−10°から+100℃まで、好ましく
は−10°から+80℃までの範囲である。
は、原願発明の方法の第1段階(II→III )を行うため
に用いる。反応を行うために、式IIの化合物1モルに対
してクロロスルホン酸を少なくとも3モル用いる。クロ
ロスルホン酸の大過剰、例えば式IIの化合物1モルに対
してクロロスルホン酸を少なくとも5モル用いることが
有利である。個々の実施態様において、クロロスルホン
酸を同時に反応物及び溶媒として用いることができる。
しかしながら、一般に、反応(II→III )は不活性溶媒
中で行う。適当な溶媒は二硫化炭素、トルエン、キシレ
ン、及びヘキサン、デカン又はシクロヘキサンのような
飽和炭化水素、及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン又はジ
クロロベンゼンのような塩素化炭化水素である。好まし
い溶媒はシクロヘキサン、n−デカン、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタン及びクロロホルムである。反応
温度は、通常、−10°から+100℃まで、好ましく
は−10°から+80℃までの範囲である。
【0010】第一反応段階(II→III )の好ましい実施
態様は、式III の化合物を、相当する式IIの化合物を不
活性溶媒中で−10℃から+100℃の範囲の温度で少
なくとも3倍の当量のクロロスルホン酸と反応させるこ
とにより製造することである。特に好ましい実施態様
は、その反応(II→III )を−10°から+80℃まで
の範囲の温度で、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタ
ン又はクロロホルム中で少なくとも5倍の当量のクロロ
スルホン酸を用いて行うことからなる。
態様は、式III の化合物を、相当する式IIの化合物を不
活性溶媒中で−10℃から+100℃の範囲の温度で少
なくとも3倍の当量のクロロスルホン酸と反応させるこ
とにより製造することである。特に好ましい実施態様
は、その反応(II→III )を−10°から+80℃まで
の範囲の温度で、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタ
ン又はクロロホルム中で少なくとも5倍の当量のクロロ
スルホン酸を用いて行うことからなる。
【0011】第一反応段階(II→III )は、また、当量
のクロロスルホン酸を用いて行ってもよく、その場合、
本発明の化合物Vを経るもう一つの反応段階が必要とな
る。この方法の経済的及び生態学的な利点は、当量のク
ロロスルホン酸を用いることにより、処理すべき又は中
和すべき過剰のクロロスルホン酸がないという事実であ
る。この変法に従って、式IIの化合物を0°から+15
0℃まで、好ましくは+20°から+60℃までの範囲
の温度で、クロロスルホン酸の当量又はその小過剰と反
応させる。この場合、後処理するだけでは、式III のス
ルホクロリドを直接生成しないが、反応混合物を水酸化
アルカリ金属の水溶液によって0°から+100℃ま
で、好ましくは+50℃から+90℃までの範囲の温度
で中和すると、相当する本発明化合物である次式V:
のクロロスルホン酸を用いて行ってもよく、その場合、
本発明の化合物Vを経るもう一つの反応段階が必要とな
る。この方法の経済的及び生態学的な利点は、当量のク
ロロスルホン酸を用いることにより、処理すべき又は中
和すべき過剰のクロロスルホン酸がないという事実であ
る。この変法に従って、式IIの化合物を0°から+15
0℃まで、好ましくは+20°から+60℃までの範囲
の温度で、クロロスルホン酸の当量又はその小過剰と反
応させる。この場合、後処理するだけでは、式III のス
ルホクロリドを直接生成しないが、反応混合物を水酸化
アルカリ金属の水溶液によって0°から+100℃ま
で、好ましくは+50℃から+90℃までの範囲の温度
で中和すると、相当する本発明化合物である次式V:
【化7】 (式中、Rは式Iで定義した意味を表わし、そしてMは
ナトリウム原子又はカリウム原子を表わす。)で表わさ
れるスルホン酸アルカリ金属塩を生成する。
ナトリウム原子又はカリウム原子を表わす。)で表わさ
れるスルホン酸アルカリ金属塩を生成する。
【0012】この反応はアルカン又はクロロアルカンの
ような不活性溶媒中で有利に行うことができる。好都合
な場合、例えばすべての反応成分が選択した反応温度で
液体であるなら、溶媒を省くことができ、そして反応を
全く反応物だけで行うことができる。
ような不活性溶媒中で有利に行うことができる。好都合
な場合、例えばすべての反応成分が選択した反応温度で
液体であるなら、溶媒を省くことができ、そして反応を
全く反応物だけで行うことができる。
【0013】上記の型の溶媒はペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、デカン、ドデカン、及びまたシクロ
ペンタン又はシクロヘキサン、並びに塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン又はテトラクロロエタンである。その中でも、シ
クロヘキサン及びn−デカンが好ましい。
プタン、オクタン、デカン、ドデカン、及びまたシクロ
ペンタン又はシクロヘキサン、並びに塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン又はテトラクロロエタンである。その中でも、シ
クロヘキサン及びn−デカンが好ましい。
【0014】式Vの化合物はオキシ塩化リン、塩化チオ
ニル、好ましくはホスゲンのような慣用の塩素化剤と反
応させることにより式III のスルホクロリドに変える。
ジメチルホルムアミド又はジメチルアセトアミドのよう
な触媒を用いることが有利である。遊離の酸又はアルカ
リ金属塩からのスルホクロリドの生成(V→III )のた
めの反応条件はこの型の反応のための通常の条件に相当
する。水分を除去すること及び溶媒が中性であることは
重要な特徴である。
ニル、好ましくはホスゲンのような慣用の塩素化剤と反
応させることにより式III のスルホクロリドに変える。
ジメチルホルムアミド又はジメチルアセトアミドのよう
な触媒を用いることが有利である。遊離の酸又はアルカ
リ金属塩からのスルホクロリドの生成(V→III )のた
めの反応条件はこの型の反応のための通常の条件に相当
する。水分を除去すること及び溶媒が中性であることは
重要な特徴である。
【0015】このような条件は上記のスルホクロリドの
直接製造(II→III )の記載において示してある。好ま
しい反応温度は+60°から+120℃までの範囲であ
る。
直接製造(II→III )の記載において示してある。好ま
しい反応温度は+60°から+120℃までの範囲であ
る。
【0016】式III のスルホクロリドの式IVの相当する
スルホンアミドへの変換は、公知のこの反応段階で通常
用いられる条件で、例えば常圧下、0°から+100℃
まで、好ましくは0℃ないし+30℃の範囲の温度で、
式III の化合物にアンモニア水溶液を加えることによ
り、又は不活性溶媒中で、所望により酸受容体を存在さ
せて、式III の化合物をアンモニアで処理することによ
り行う。
スルホンアミドへの変換は、公知のこの反応段階で通常
用いられる条件で、例えば常圧下、0°から+100℃
まで、好ましくは0℃ないし+30℃の範囲の温度で、
式III の化合物にアンモニア水溶液を加えることによ
り、又は不活性溶媒中で、所望により酸受容体を存在さ
せて、式III の化合物をアンモニアで処理することによ
り行う。
【0017】溶媒及び酸受容体の例は:炭酸ナトリウム
及び炭酸カリウムのような炭酸塩、重炭酸ナトリウム及
び重炭酸カリウムのような重炭酸塩、酸化カルシウム及
び酸化マグネシウムのような酸化物、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム及び水酸マグネ
シウムのような水酸化物;ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチル
エーテル及びジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類;アセトン、2−ブタノン、3−ペン
タノン及びシクロヘキサノンのようなケトン;クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、トリクロロエタン及びテトラクロロエ
タンのような塩素化炭化水素;2−ブタノール、イソプ
ロパノール及びシクロヘキサノールのような第二アルコ
ール;シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレ
ンのような炭化水素である。この反応は、トルエン又は
キシレンの存在下、アンモニア水溶液によって行うのが
好ましい。
及び炭酸カリウムのような炭酸塩、重炭酸ナトリウム及
び重炭酸カリウムのような重炭酸塩、酸化カルシウム及
び酸化マグネシウムのような酸化物、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム及び水酸マグネ
シウムのような水酸化物;ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチル
エーテル及びジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類;アセトン、2−ブタノン、3−ペン
タノン及びシクロヘキサノンのようなケトン;クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、トリクロロエタン及びテトラクロロエ
タンのような塩素化炭化水素;2−ブタノール、イソプ
ロパノール及びシクロヘキサノールのような第二アルコ
ール;シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレ
ンのような炭化水素である。この反応は、トルエン又は
キシレンの存在下、アンモニア水溶液によって行うのが
好ましい。
【0018】水素ガスによる触媒水素化により式Iの化
合物を生成する式IVの化合物の脱塩素化は、一般に、不
活性溶媒中、酸受容体の存在下で1から5バールまで、
好ましくは1から1.5バールまでの範囲の圧力下、+
20℃から+70℃までの範囲の温度での温和な条件下
で行う。
合物を生成する式IVの化合物の脱塩素化は、一般に、不
活性溶媒中、酸受容体の存在下で1から5バールまで、
好ましくは1から1.5バールまでの範囲の圧力下、+
20℃から+70℃までの範囲の温度での温和な条件下
で行う。
【0019】一般に、用いられる触媒は酸化白金の形の
白金又は硫酸バリウム上に担持したパラジウム、白金黒
若しくは白金又は活性炭上に担持したパラジウム黒若し
くはパラジウムのような貴金属触媒である。
白金又は硫酸バリウム上に担持したパラジウム、白金黒
若しくは白金又は活性炭上に担持したパラジウム黒若し
くはパラジウムのような貴金属触媒である。
【0020】最も広く用いることができる触媒は、パラ
ジウムを5%担持した活性炭として、市販品として入手
可能な形の活性炭上に担持したパラジウムである。通常
用いられる酸受容体は:水酸化ナトリウム及び水酸化カ
ルシウムのような水酸化物;カルボン酸の金属塩例えば
酢酸ナトリウム;リン酸塩例えばリン酸二ナトリウム;
重炭酸塩;酸化マグネシウム及び酸化カルシウムのよう
な酸化物;そして好ましくはトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン、
1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセ−7−
エン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノン−5
−エン、ピリジン、キノリン及びイソキノリンのような
第三級有機アミンである。これらの塩基は、一定のpH
値を維持するために反応混合物に連続的に加えるか、又
は好ましくは水素化を始める前に必要量を反応容器内に
入れておく。
ジウムを5%担持した活性炭として、市販品として入手
可能な形の活性炭上に担持したパラジウムである。通常
用いられる酸受容体は:水酸化ナトリウム及び水酸化カ
ルシウムのような水酸化物;カルボン酸の金属塩例えば
酢酸ナトリウム;リン酸塩例えばリン酸二ナトリウム;
重炭酸塩;酸化マグネシウム及び酸化カルシウムのよう
な酸化物;そして好ましくはトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン、
1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセ−7−
エン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノン−5
−エン、ピリジン、キノリン及びイソキノリンのような
第三級有機アミンである。これらの塩基は、一定のpH
値を維持するために反応混合物に連続的に加えるか、又
は好ましくは水素化を始める前に必要量を反応容器内に
入れておく。
【0021】好ましい溶媒は:ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル;アセ
トン、2−ブタノン又はシクロヘキサノンのようなケト
ン;酢酸エチルのようなエステル;メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール又はブタノ
ールのようなアルコール;及びペンタン、ヘキサン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンのよう
な炭化水素;及び水である。
ラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル;アセ
トン、2−ブタノン又はシクロヘキサノンのようなケト
ン;酢酸エチルのようなエステル;メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール又はブタノ
ールのようなアルコール;及びペンタン、ヘキサン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンのよう
な炭化水素;及び水である。
【0022】好ましい実施態様は、式IVの化合物を、2
−ブタノン、塩基及び水の混合物中でパラジウムを5%
担持させた活性炭触媒の存在下で+50°から+55℃
までの温度範囲で常圧下、水素ガスによって水素化する
ことである。
−ブタノン、塩基及び水の混合物中でパラジウムを5%
担持させた活性炭触媒の存在下で+50°から+55℃
までの温度範囲で常圧下、水素ガスによって水素化する
ことである。
【0023】式Iの化合物の製造のための好ましい実施
態様は、式IIで表わされる化合物を+20°から+60
℃までの範囲の温度でn−デカン中でクロルスルホン酸
の当量と反応させ;反応混合物を+50°から+90℃
までの範囲の温度で水酸化アルカリ金属によって中和
し;ホスゲンを生成物である式Vで表わされるスルホン
酸アルカリ金属塩にキシレン中で+60°から+120
℃までの範囲の温度で加え;生成物である式III のスル
ホクロリドをアンモニア水溶液によってトルエン又はキ
シレンの存在下で処理し;そして生成物である式IVのス
ルホンアミドをパラジウムを5%担持した活性炭触媒の
存在下で+20°から+70℃までの範囲の温度で、常
圧下、2−ブタノン/水/塩基混合物中にて水素ガスで
触媒水素化により脱塩素化することからなる。
態様は、式IIで表わされる化合物を+20°から+60
℃までの範囲の温度でn−デカン中でクロルスルホン酸
の当量と反応させ;反応混合物を+50°から+90℃
までの範囲の温度で水酸化アルカリ金属によって中和
し;ホスゲンを生成物である式Vで表わされるスルホン
酸アルカリ金属塩にキシレン中で+60°から+120
℃までの範囲の温度で加え;生成物である式III のスル
ホクロリドをアンモニア水溶液によってトルエン又はキ
シレンの存在下で処理し;そして生成物である式IVのス
ルホンアミドをパラジウムを5%担持した活性炭触媒の
存在下で+20°から+70℃までの範囲の温度で、常
圧下、2−ブタノン/水/塩基混合物中にて水素ガスで
触媒水素化により脱塩素化することからなる。
【0024】式III 、IV及びVの中間体は原特許出願の
発明の方法を実行するために特に開発したものであり、
また、式Vの中間体は新規であって本願発明の目的を構
成するものである。
発明の方法を実行するために特に開発したものであり、
また、式Vの中間体は新規であって本願発明の目的を構
成するものである。
【0025】
【実施例】本発明を次の製造例により更に詳説する。例
P2 は、例P1 の第1及び第2反応段階の代替として理
解されたい。例P3 は例P1 の最後の反応段階と置き換
えることができる。
P2 は、例P1 の第1及び第2反応段階の代替として理
解されたい。例P3 は例P1 の最後の反応段階と置き換
えることができる。
【0026】製造例:例P1 :2−(2−クロロエトキシ)ベンゼンスルホン
アミド a)(実施例)2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 激しくかき混ぜながら、クロロスルホン酸122g
(1.05モル)を+35°から+40℃までの範囲の
温度でn−デカン300ml中に溶かした4−クロロ−
(2−クロロエトキシ)ベンゼン191g(1.00モ
ル)の溶液に2時間かけて加える。塩化水素ガスが発生
し、そして沈殿が形成する。反応溶液を+80℃まで加
熱し、水50mlを加え、そして混合物を、水酸化ナトリ
ウム30%溶液160g(1.2モル)を加えることに
よりpH7に中和する。次いで熱い水相を分離し、そし
てキシレン700mlをそれに加える。その水を、水分分
離器で蒸留することによりこの混合物から追い出す。そ
のとき塩のような生成物がキシレン溶液から沈殿し、そ
して懸濁液が形成する。所望によりろ過し、そして乾燥
することにより2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホン酸塩302g(理論値の100%)
が得られる。
アミド a)(実施例)2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 激しくかき混ぜながら、クロロスルホン酸122g
(1.05モル)を+35°から+40℃までの範囲の
温度でn−デカン300ml中に溶かした4−クロロ−
(2−クロロエトキシ)ベンゼン191g(1.00モ
ル)の溶液に2時間かけて加える。塩化水素ガスが発生
し、そして沈殿が形成する。反応溶液を+80℃まで加
熱し、水50mlを加え、そして混合物を、水酸化ナトリ
ウム30%溶液160g(1.2モル)を加えることに
よりpH7に中和する。次いで熱い水相を分離し、そし
てキシレン700mlをそれに加える。その水を、水分分
離器で蒸留することによりこの混合物から追い出す。そ
のとき塩のような生成物がキシレン溶液から沈殿し、そ
して懸濁液が形成する。所望によりろ過し、そして乾燥
することにより2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホン酸塩302g(理論値の100%)
が得られる。
【0027】相当するカリウム塩及び2−(2−メトキ
シエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホン酸及び2−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロベ
ンゼンスルホン酸のナトリウム又はカリウム塩が類似の
方法により得られる。
シエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホン酸及び2−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロベ
ンゼンスルホン酸のナトリウム又はカリウム塩が類似の
方法により得られる。
【0028】b)(参考例)2−(2−クロロエトキ
シ)−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド
シ)−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド
【0029】ジメチルホルムアミド1.5g(0.02
モル)を+85°から+90℃までの範囲の温度でキシ
レン700ml中の2−(2−クロロエトキシ)−5−ク
ロロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩302gの〔ステ
ップ(a)で得られた〕懸濁液に加える。続いて気体状
ホスゲン150g(1.51モル)を該混合物に2時間
かけて導入する。過剰のホスゲンは窒素ガスを30分間
導入することにより追い出す。次いで水200mlをその
混合物に50℃で加える。有機相を分離し、、そして蒸
発させて濃縮すると、94.5〜95℃の融点を有する
2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスル
ホニルクロリド287g(理論値の99.2%)が得ら
れる。
モル)を+85°から+90℃までの範囲の温度でキシ
レン700ml中の2−(2−クロロエトキシ)−5−ク
ロロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩302gの〔ステ
ップ(a)で得られた〕懸濁液に加える。続いて気体状
ホスゲン150g(1.51モル)を該混合物に2時間
かけて導入する。過剰のホスゲンは窒素ガスを30分間
導入することにより追い出す。次いで水200mlをその
混合物に50℃で加える。有機相を分離し、、そして蒸
発させて濃縮すると、94.5〜95℃の融点を有する
2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスル
ホニルクロリド287g(理論値の99.2%)が得ら
れる。
【0030】2−(2−メトキシエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホニルクロリド(油状物として)及び2
−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロ
ベンゼンスルホニルクロリド(融点:76℃)が類似の
方法で得られる。 c)(参考例)2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホンアミド アンモニア30%溶液142g(2.5モル)を+55
°から+60℃までの範囲の温度でキシレン700ml中
の2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンス
ルホニルクロリド287gの〔ステップ(b)で得られ
た〕溶液に2時間かけて加える。無色の結晶性沈殿が形
成する。そして温度を+55℃に更に2時間保ち、その
後0℃に下げる。結晶性沈殿を分離し、イソプロパノー
ルで3回(150mlで1回そして500mlで2回)洗
う。生成物を乾燥することにより、145℃の融点を有
する2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼン
スルホンアミド250g(理論値の92.6%)が得ら
れる。
ロベンゼンスルホニルクロリド(油状物として)及び2
−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロ
ベンゼンスルホニルクロリド(融点:76℃)が類似の
方法で得られる。 c)(参考例)2−(2−クロロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホンアミド アンモニア30%溶液142g(2.5モル)を+55
°から+60℃までの範囲の温度でキシレン700ml中
の2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンス
ルホニルクロリド287gの〔ステップ(b)で得られ
た〕溶液に2時間かけて加える。無色の結晶性沈殿が形
成する。そして温度を+55℃に更に2時間保ち、その
後0℃に下げる。結晶性沈殿を分離し、イソプロパノー
ルで3回(150mlで1回そして500mlで2回)洗
う。生成物を乾燥することにより、145℃の融点を有
する2−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼン
スルホンアミド250g(理論値の92.6%)が得ら
れる。
【0031】2−(メトキシエトキシ)−5−クロロベ
ンゼンスルホンアミド(融点:121〜123℃)及び
2−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホンアミド(融点:142.5℃)が類
似の方法で得られる。
ンゼンスルホンアミド(融点:121〜123℃)及び
2−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロ
ロベンゼンスルホンアミド(融点:142.5℃)が類
似の方法で得られる。
【0032】d)(参考例)攪拌フラスコ中で、2−
(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホン
アミド67.5g(0.25モル)、2−ブタノン16
5g、水36g、パラジウムを5%担持させた活性炭
3.4g及び酢酸0.22gからなる混合物を常圧下+
50°から+55℃までの範囲の温度で水素ガスにより
水素化し、この水素化反応の間pHを、水酸化ナトリウ
ム30%溶液33.5g(0.25モル)を滴下するこ
とによりpH10.5ないし11.0で一定に保つ。混
合物が水素ガスで飽和されるまで必要とされる反応時間
は45分である。生成物は、その混合物をろ過し、そし
てろ液を濃縮することにより得られる。収量は、119
℃の融点を有する2−(2−クロロエトキシ)ベンゼン
スルホンアミド58.2g(理論値の99%)である。
(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホン
アミド67.5g(0.25モル)、2−ブタノン16
5g、水36g、パラジウムを5%担持させた活性炭
3.4g及び酢酸0.22gからなる混合物を常圧下+
50°から+55℃までの範囲の温度で水素ガスにより
水素化し、この水素化反応の間pHを、水酸化ナトリウ
ム30%溶液33.5g(0.25モル)を滴下するこ
とによりpH10.5ないし11.0で一定に保つ。混
合物が水素ガスで飽和されるまで必要とされる反応時間
は45分である。生成物は、その混合物をろ過し、そし
てろ液を濃縮することにより得られる。収量は、119
℃の融点を有する2−(2−クロロエトキシ)ベンゼン
スルホンアミド58.2g(理論値の99%)である。
【0033】2−(2−メトキシエトキシ)ベンゼンス
ルホンアミド(融点:111℃)及び2−(2,2,2
−トリフルオロエトキシ)ベンゼンスルホンアミド(融
点:123℃)が類似の方法で得られる。
ルホンアミド(融点:111℃)及び2−(2,2,2
−トリフルオロエトキシ)ベンゼンスルホンアミド(融
点:123℃)が類似の方法で得られる。
【0034】例P2 (参考例):2−(2−クロロエト
キシ)−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド かき混ぜながら、4−クロロ−(2−クロロエトキシ)
ベンゼン64.0g(0.33モル)を+5℃の温度で
1,2−ジクロロエタン105mlに溶かしたクロロスル
ホン酸233g(2モル)の溶液に0.5時間かけて滴
下する。反応混合物を20℃で更に1.5時間かき混
ぜ、次いで氷230g、水170ml及び1,2−ジクロ
ロエタン60mlからなる混合物中に取る。有機相を分離
し、水で洗い、そして蒸発させて濃縮することにより2
−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド77g(理論値の80%)が得られる。
キシ)−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド かき混ぜながら、4−クロロ−(2−クロロエトキシ)
ベンゼン64.0g(0.33モル)を+5℃の温度で
1,2−ジクロロエタン105mlに溶かしたクロロスル
ホン酸233g(2モル)の溶液に0.5時間かけて滴
下する。反応混合物を20℃で更に1.5時間かき混
ぜ、次いで氷230g、水170ml及び1,2−ジクロ
ロエタン60mlからなる混合物中に取る。有機相を分離
し、水で洗い、そして蒸発させて濃縮することにより2
−(2−クロロエトキシ)−5−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド77g(理論値の80%)が得られる。
【0035】2−n−プロポキシ−5−クロロベンゼン
スルホニルクロリド、2−エトキシ−5−クロロベンゼ
ンスルホニルクロリド、2−(2−メトキシエトキシ)
−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド及び2−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロベ
ンゼンスルホニルクロリドが類似の方法で得られる。例P3 (参考例):2−(2−クロロエトキシ)ベンゼ
ンスルホンアミド 攪拌フラスコ中で2−(2−クロロエトキシ)−5−ク
ロロベンゼンスルホンアミド68.2gを2−ブタノン
184g中に溶かす。次いで水34.3g、水酸化ナト
リウム30%溶液34.3g及びパラジウムを5%担持
させた活性炭触媒3.4gを加えたのち、該混合物を常
圧下25°ないし30℃で水素ガスにより水素化する。
水素化は30分間続ける。触媒をろ過により除去する。
そしてろ液を蒸発させて119℃の融点を有する2−
(2−クロロエトキシベンゼンスルホンアミド58.7
g(理論値の98%)を得る。
スルホニルクロリド、2−エトキシ−5−クロロベンゼ
ンスルホニルクロリド、2−(2−メトキシエトキシ)
−5−クロロベンゼンスルホニルクロリド及び2−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−5−クロロベ
ンゼンスルホニルクロリドが類似の方法で得られる。例P3 (参考例):2−(2−クロロエトキシ)ベンゼ
ンスルホンアミド 攪拌フラスコ中で2−(2−クロロエトキシ)−5−ク
ロロベンゼンスルホンアミド68.2gを2−ブタノン
184g中に溶かす。次いで水34.3g、水酸化ナト
リウム30%溶液34.3g及びパラジウムを5%担持
させた活性炭触媒3.4gを加えたのち、該混合物を常
圧下25°ないし30℃で水素ガスにより水素化する。
水素化は30分間続ける。触媒をろ過により除去する。
そしてろ液を蒸発させて119℃の融点を有する2−
(2−クロロエトキシベンゼンスルホンアミド58.7
g(理論値の98%)を得る。
【0036】2−(2−メトキシエトキシ)ベンゼンス
ルホンアミド及び2−(2,2,2−トリフルオロエト
キシ)ベンゼンスルホンアミドが類似の方法で得られ
る。
ルホンアミド及び2−(2,2,2−トリフルオロエト
キシ)ベンゼンスルホンアミドが類似の方法で得られ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】式V 【化1】 (式中、Rはクロロメチル基、メトキシメチル基、炭素
原子数1ないし4のアルキル基又はトリフルオロメチル
基を表わし、そしてMはナトリウム原子又はカリウム原
子を表わす。)で表わされる2−アルコキシ−5−クロ
ロベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/836,288 US4709092A (en) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Process for the preparation of 2-alkoxybenzosulfonamides |
| US836288 | 1986-03-05 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62049890A Division JPH0623173B2 (ja) | 1986-03-05 | 1987-03-04 | 2−アルコキシベンゼンスルホンアミドの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06220006A JPH06220006A (ja) | 1994-08-09 |
| JPH07591B2 true JPH07591B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=25271635
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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