JPH0759574B2 - 環状エ−テル誘導体 - Google Patents
環状エ−テル誘導体Info
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Landscapes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔目的〕 本発明は血小板活性化因子(以下PAFと略称)に対し
て、優れた拮抗作用を有する新規な環状エーテル誘導体
並びにその分子内塩及びその塩に関する。
て、優れた拮抗作用を有する新規な環状エーテル誘導体
並びにその分子内塩及びその塩に関する。
〈産業上の利用分野〉 (上記式中、pは15又は17を示す。)で表わされるPAF
はアナフイラキシー状態の因子として、解析・同定され
た化合物で、強力な血小板活性化・凝集作用、好中球活
性化作用、血圧降下作用及び血管透過性亢進作用を有し
ており、喘息、炎症、エンドトキシンショック等の種々
の病態に於てメデイエーターの一種として働いていると
考えられている。従って、PAF拮抗物質は、上記疾患の
優れた治療剤として有用である。
はアナフイラキシー状態の因子として、解析・同定され
た化合物で、強力な血小板活性化・凝集作用、好中球活
性化作用、血圧降下作用及び血管透過性亢進作用を有し
ており、喘息、炎症、エンドトキシンショック等の種々
の病態に於てメデイエーターの一種として働いていると
考えられている。従って、PAF拮抗物質は、上記疾患の
優れた治療剤として有用である。
〈従来の技術〉 公知のPAF拮抗作用を有するグリセリン誘導体として
は、例えば下記の2つの化合物(VI)及び(VII)が知
られている。
は、例えば下記の2つの化合物(VI)及び(VII)が知
られている。
〈当該発明が解決しようとする問題点〉 本発明者らは、PAF拮抗作用を有する誘導体の合成とそ
の薬理活性について、長年に亘り鋭意研究を行った結
果、グリセリンの1位及び2位の水酸基に、鎖状置換基
を有する従来のPAF拮抗物質(例えば、上記化合物(V
I)及び(VII))とは全く構造を異にする新規な環状エ
ーテル構造を有する誘導体が、持続性及び生物学的利用
能の優れた強力なPAF拮抗作用を有することを見い出
し、本発明を完成した。
の薬理活性について、長年に亘り鋭意研究を行った結
果、グリセリンの1位及び2位の水酸基に、鎖状置換基
を有する従来のPAF拮抗物質(例えば、上記化合物(V
I)及び(VII))とは全く構造を異にする新規な環状エ
ーテル構造を有する誘導体が、持続性及び生物学的利用
能の優れた強力なPAF拮抗作用を有することを見い出
し、本発明を完成した。
〔構成〕 本発明の新規な環状エーテル誘導体並びにその分子内塩
及びその塩は、 一般式 〔式中、lは2乃至4の整数を示し、A及びBは同一又
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R1及びR2の
うち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル
基或いは を有する(式中、R3は炭素数10乃至22個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基を示し、R4は水素原子、低級アルキル
基、アラルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、アルキルオキシカルボニル基若しくはアルケニルオ
キシカルボニル基を示す。)を示し、他方は、式 を有する基(式中、Xは単結合、 を有する基(式中、R6は、R4と同様の基を示す。)を
示し、mは0乃至3の整数を示し、nは0乃至10の整数
を示し、R5は水素原子又は保護されていてもよいカル
ボキシ基を示し、Z はアニオンを示し、Qは を有する基(式中、R7,R8及びR9は同一又は異なって
水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)、又は、式
−Gを有する基(式中、Gは5乃至10員複素環基を示
す。)を示す。)を示す。〕を有する。
及びその塩は、 一般式 〔式中、lは2乃至4の整数を示し、A及びBは同一又
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R1及びR2の
うち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル
基或いは を有する(式中、R3は炭素数10乃至22個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基を示し、R4は水素原子、低級アルキル
基、アラルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、アルキルオキシカルボニル基若しくはアルケニルオ
キシカルボニル基を示す。)を示し、他方は、式 を有する基(式中、Xは単結合、 を有する基(式中、R6は、R4と同様の基を示す。)を
示し、mは0乃至3の整数を示し、nは0乃至10の整数
を示し、R5は水素原子又は保護されていてもよいカル
ボキシ基を示し、Z はアニオンを示し、Qは を有する基(式中、R7,R8及びR9は同一又は異なって
水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)、又は、式
−Gを有する基(式中、Gは5乃至10員複素環基を示
す。)を示す。)を示す。〕を有する。
上記一般式(I)において、R1及びR2のうちの一方が
示す、及びR3が示す「炭素数10乃至22個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基」としては、例えばデシル、3−メチル
ノニル、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、3,7
−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、1−
メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13,13
−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチルヘ
キサデシル、オクタデシル、1−メチルヘプタデシル、
ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシルおよびドコシル
を挙げることができるが、好適には炭素数13乃至18個の
直鎖または分枝鎖アルキル基である。
示す、及びR3が示す「炭素数10乃至22個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基」としては、例えばデシル、3−メチル
ノニル、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、3,7
−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、1−
メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13,13
−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチルヘ
キサデシル、オクタデシル、1−メチルヘプタデシル、
ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシルおよびドコシル
を挙げることができるが、好適には炭素数13乃至18個の
直鎖または分枝鎖アルキル基である。
R1及びR2のうちの一方が示す「炭素数10乃至22個の直
鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基」としては、例えばノニル
カルボニル、デシルカルボニル、3−メチルノニルカル
ボニル、8−メチルノニルカルボニル、3−エチルオク
チルカルボニル、3,7−ジメチルオクチルカルボニル、
ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシ
ルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシル
カルボニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メチルペン
タデシルカルボニル、14−メチルペンタデシルカルボニ
ル、13,13−ジメチルテトラデシルカルボニル、ヘプタ
デシルカルボニル、15−メチルヘキサデシルカルボニ
ル、オクタデシルカルボニル、1−メチルヘプタデシル
カルボニル、ノナデシルカルボニル、アイコシルカルボ
ニル及びヘナイコシルカルボニルを挙げることができる
が、好適には炭素数13乃至18個の直鎖または分枝鎖脂肪
族アシル基である。
鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基」としては、例えばノニル
カルボニル、デシルカルボニル、3−メチルノニルカル
ボニル、8−メチルノニルカルボニル、3−エチルオク
チルカルボニル、3,7−ジメチルオクチルカルボニル、
ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシ
ルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシル
カルボニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メチルペン
タデシルカルボニル、14−メチルペンタデシルカルボニ
ル、13,13−ジメチルテトラデシルカルボニル、ヘプタ
デシルカルボニル、15−メチルヘキサデシルカルボニ
ル、オクタデシルカルボニル、1−メチルヘプタデシル
カルボニル、ノナデシルカルボニル、アイコシルカルボ
ニル及びヘナイコシルカルボニルを挙げることができる
が、好適には炭素数13乃至18個の直鎖または分枝鎖脂肪
族アシル基である。
R4,R7,R8及びR9で示される「低級アルキル基」は、例
えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イ
ソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、n−ヘ
キシル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2
−メチルペンチル、3,3−ジメチルペンチル、2,2−ジメ
チルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチ
ル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチルのよう
な炭素数1乃至6個の直鎖または分枝鎖アルキル基を示
し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル基である。
えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イ
ソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、n−ヘ
キシル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2
−メチルペンチル、3,3−ジメチルペンチル、2,2−ジメ
チルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチ
ル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチルのよう
な炭素数1乃至6個の直鎖または分枝鎖アルキル基を示
し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル基である。
R4で示される「アラルキル基」は、例えばベンジル、
フェネチル、p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジ
ル、トリフェニルメチル、ジフェニルメチル、ビス(o
−ニトロフェニル)メチル、9−アンスリルメチル、2,
4,6−トリメチルベンジル、p−ブロモベンジル、p−
メトキシベンジル、ピペロニルのようなアラルキル基を
示し、好適にはベンジル基である。
フェネチル、p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジ
ル、トリフェニルメチル、ジフェニルメチル、ビス(o
−ニトロフェニル)メチル、9−アンスリルメチル、2,
4,6−トリメチルベンジル、p−ブロモベンジル、p−
メトキシベンジル、ピペロニルのようなアラルキル基を
示し、好適にはベンジル基である。
R4で示される「低級脂肪族アキル基」は、例えばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリ
ル、オクタノイル、ラウロイル、パルミトイル、ステア
ロイルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチ
ル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフル
オロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアルキル
カルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルの
ような不飽和アルキルカルボニル基等の炭素数1乃至6
個の脂肪族アシル基を示し、好適には炭素数1乃至6個
のアルキルカルボニル基である。
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリ
ル、オクタノイル、ラウロイル、パルミトイル、ステア
ロイルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチ
ル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフル
オロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアルキル
カルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルの
ような不飽和アルキルカルボニル基等の炭素数1乃至6
個の脂肪族アシル基を示し、好適には炭素数1乃至6個
のアルキルカルボニル基である。
R4で示される「芳香族アシル基」は、例えばベンゾイ
ル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリール
カルボニル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベン
ゾイルのようなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4,
6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイルのような低
級アルキル化アリールカルボニル基、4−アニソイルの
ような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、4−ニ
トロベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ
化アリールカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)
ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリー
ルカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリ
ール化アリールカルボニル基等の炭素数7乃至12個の芳
香族アシル基を示し、好適には炭素数7乃至12個のアリ
ールカルボニル基である。
ル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリール
カルボニル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベン
ゾイルのようなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4,
6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイルのような低
級アルキル化アリールカルボニル基、4−アニソイルの
ような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、4−ニ
トロベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ
化アリールカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)
ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリー
ルカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリ
ール化アリールカルボニル基等の炭素数7乃至12個の芳
香族アシル基を示し、好適には炭素数7乃至12個のアリ
ールカルボニル基である。
R4で示される「アルキルオキシカルボニル基」は、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような低
級アルコキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニ
ルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置
換された低級アルコキシカルボニル基等の炭素数2乃至
7個のアルキルオキシカルボニル基を示し、好適には炭
素数2乃至7個の低級アルコキシカルボニル基である。
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような低
級アルコキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキ
シカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニ
ルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置
換された低級アルコキシカルボニル基等の炭素数2乃至
7個のアルキルオキシカルボニル基を示し、好適には炭
素数2乃至7個の低級アルコキシカルボニル基である。
R4で示される「アルケニルオキシカルボニル基」は、
例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのような炭素数3乃至7個のアルケニルオキシカルボ
ニル基を示し、好適には炭素数3乃至5個のアルケニル
オキシカルボニル基である。
例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのような炭素数3乃至7個のアルケニルオキシカルボ
ニル基を示し、好適には炭素数3乃至5個のアルケニル
オキシカルボニル基である。
R5で示される「保護されていてもよいカルボキシ基」
の保護基としては、例えば前記低級アルキル基;前記ア
ラルキル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、n−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチルのような脂肪族アシル
オキシメチル基、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、1−ブトキシカルボニルオキシエ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシエチルのよう
な1−低級アルキルオキシカルボニルオキシエチル基、
フタリジル若しくは(2−オキソ−5−メチル−1,3−
ジオキソレン−4−イル)メチルのような生体内で加水
分解されやすいカルボキシル基の保護基;メトキシメチ
ル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、イソプロ
ポキシメチル、n−ブトキシメチル、メトキシエトキシ
メチル、のようなアルキルオキシメチル基又は2,2,2−
トリクロロエチル、2−ハロエチル、2,2−ジブロモエ
チルのようなハロゲノ低級アルキル基を示し、好適に
は、アラルキル基または生体内で加水分解されやすいカ
ルボキシル基の保護基である。
の保護基としては、例えば前記低級アルキル基;前記ア
ラルキル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、n−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチルのような脂肪族アシル
オキシメチル基、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、1−ブトキシカルボニルオキシエ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシエチルのよう
な1−低級アルキルオキシカルボニルオキシエチル基、
フタリジル若しくは(2−オキソ−5−メチル−1,3−
ジオキソレン−4−イル)メチルのような生体内で加水
分解されやすいカルボキシル基の保護基;メトキシメチ
ル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、イソプロ
ポキシメチル、n−ブトキシメチル、メトキシエトキシ
メチル、のようなアルキルオキシメチル基又は2,2,2−
トリクロロエチル、2−ハロエチル、2,2−ジブロモエ
チルのようなハロゲノ低級アルキル基を示し、好適に
は、アラルキル基または生体内で加水分解されやすいカ
ルボキシル基の保護基である。
−Gで示される「5乃至10員複素環基」は、窒素原子を
少なくとも1つ含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでい
てもよく、縮環していてもよい5乃至14員複素環基を示
し、例えば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、チ
オモルホリニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾ
リル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
1,2,3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリ
ル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリ
ミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル及びこ
れらの基に対応する、部分若しくは完全還元型の基を挙
げることができ、好適には、窒素原子を少なくとも1個
含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよく、縮環
していてもよい5乃至14員芳香複素環基を示し、例え
ば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、チオモルホ
リニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イ
ソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,3−
オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チア
ジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル、ピラジニル、キノリル及びイソキノリルを挙げるこ
とができ、さらに好適には、イミダゾリル、オキサゾリ
ル、チアゾリル、キノリル、イソキノリル及びピリジニ
ルである。
少なくとも1つ含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでい
てもよく、縮環していてもよい5乃至14員複素環基を示
し、例えば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、チ
オモルホリニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾ
リル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
1,2,3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリ
ル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリ
ミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル及びこ
れらの基に対応する、部分若しくは完全還元型の基を挙
げることができ、好適には、窒素原子を少なくとも1個
含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよく、縮環
していてもよい5乃至14員芳香複素環基を示し、例え
ば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、チオモルホ
リニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イ
ソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,3−
オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チア
ジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル、ピラジニル、キノリル及びイソキノリルを挙げるこ
とができ、さらに好適には、イミダゾリル、オキサゾリ
ル、チアゾリル、キノリル、イソキノリル及びピリジニ
ルである。
これらの基は、さらに前記低級アルキル基、ヒドロキシ
メチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルのよう
なヒドロキシ低級アルキル基、メトキシ、エトキシのよ
うな低級アルコキシ基、カルバモイル基、またはフッ
素、塩素、臭素のようなハロゲン原子などの置換基を有
していてもよい。
メチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルのよう
なヒドロキシ低級アルキル基、メトキシ、エトキシのよ
うな低級アルコキシ基、カルバモイル基、またはフッ
素、塩素、臭素のようなハロゲン原子などの置換基を有
していてもよい。
Z で示される「アニオン」は特に限定はないが、HZと
して好適には、弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水
素酸のようなハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の無機
酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよ
うなアリールスルホン酸、修酸、マレイン酸等の有機酸
及びグルタミン酸、アスパラギン酸のようなアミノ酸を
挙げることができる。
して好適には、弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水
素酸のようなハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の無機
酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよ
うなアリールスルホン酸、修酸、マレイン酸等の有機酸
及びグルタミン酸、アスパラギン酸のようなアミノ酸を
挙げることができる。
又、式(III)において、Qが式(IV)を示す場合に、
R7,R8及びR9のうち、少なくとも1個以上が水素原子
である場合(例えばR7が水素原子である場合)式(II
I)は、 (式中、X,m,n,R5,R8及びR9は前記と同意義を示す。)
として表わされることもある。
R7,R8及びR9のうち、少なくとも1個以上が水素原子
である場合(例えばR7が水素原子である場合)式(II
I)は、 (式中、X,m,n,R5,R8及びR9は前記と同意義を示す。)
として表わされることもある。
同様に、−G基が四級になっていない場合は、式(II
I)は、 (式中、X,m,n,R5及びQは前記と同意義を示す。)とし
て表わされることもある。
I)は、 (式中、X,m,n,R5及びQは前記と同意義を示す。)とし
て表わされることもある。
更に、R5がカルボキシ基を示し、Qが四級アミンを示
す場合には、式(III)は、 (式中、X,m,n及びQは前記と同意義を示す。)で表わ
される分子内塩の形、或いは、 (式中、X,m,n及びQは前記と同意義を示し、Mはナト
リウム、カリウムのようなアルカリ金属原子を示す。)
で表わされるような塩の形で存在することもある。
す場合には、式(III)は、 (式中、X,m,n及びQは前記と同意義を示す。)で表わ
される分子内塩の形、或いは、 (式中、X,m,n及びQは前記と同意義を示し、Mはナト
リウム、カリウムのようなアルカリ金属原子を示す。)
で表わされるような塩の形で存在することもある。
本発明化合物(I)は、不斉炭素を有し、各々がR−配
位、S−配位である立体異性体が存在するが、その各
々、あるいはそれらの混合体のいずれも本発明に包含さ
れる。
位、S−配位である立体異性体が存在するが、その各
々、あるいはそれらの混合体のいずれも本発明に包含さ
れる。
また化合物(I)において、好適には、 (1) lが2又は3の化合物 (2) Xが単結合、 (式中、R6は前記と同意義を示す。)である化合物 (3) R1が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)である化
合物 (4) R2が式(III)(式中、X,m,n,R5及びQは前記
と同意義を示す。)である化合物 (5) mが1乃至3の整数である化合物 (6) nが0乃至6の整数である化合物 (7) Qが式−G(式中、−Gは前記と同意義を示
す。)である化合物 (8) lが2又は3で、R1が炭素数10乃至22個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)であり、
R2が式(III)(式中、Xは単結合、 (式中、R6は前記と同意義を示す。)であり、mは1
乃至3の整数であり、nは0乃至6の整数であり、R5
は前記と同意義であり、Qが式−G(式中、−Gは前記
と同意義を示す。)である化合物 を挙げることができる。
ルキル基又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)である化
合物 (4) R2が式(III)(式中、X,m,n,R5及びQは前記
と同意義を示す。)である化合物 (5) mが1乃至3の整数である化合物 (6) nが0乃至6の整数である化合物 (7) Qが式−G(式中、−Gは前記と同意義を示
す。)である化合物 (8) lが2又は3で、R1が炭素数10乃至22個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)であり、
R2が式(III)(式中、Xは単結合、 (式中、R6は前記と同意義を示す。)であり、mは1
乃至3の整数であり、nは0乃至6の整数であり、R5
は前記と同意義であり、Qが式−G(式中、−Gは前記
と同意義を示す。)である化合物 を挙げることができる。
本発明の一般式(I)を有する化合物の具体例として
は、例えば第1表に記載する化合物を挙げることができ
るが、本発明はこれら化合物に限定されるものではな
い。
は、例えば第1表に記載する化合物を挙げることができ
るが、本発明はこれら化合物に限定されるものではな
い。
上記例示化合物のうち好適な化合物としては、9,10,32,
34,35,44,45,46,47,52,53,54,55,56,57,58,59,60,63,6
4,65,72,73,74,75,76,80,84,86,93,94,110,111,112,16
7,168及び193を挙げることができる。さらに好適な化合
物としては、34,44,45,46,52,53,54,55,56,57,58,59,6
0,72,73,74,75,76,80,93及び94である。
34,35,44,45,46,47,52,53,54,55,56,57,58,59,60,63,6
4,65,72,73,74,75,76,80,84,86,93,94,110,111,112,16
7,168及び193を挙げることができる。さらに好適な化合
物としては、34,44,45,46,52,53,54,55,56,57,58,59,6
0,72,73,74,75,76,80,93及び94である。
本発明の環状エーテル誘導体は、以下に記載する方法に
よって製造することができる。
よって製造することができる。
上記式中、A,B,R6,R7,R8,R9,l,m及びnは前記と同意義
を示す。
を示す。
R1′は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキル
基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基
又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)を示し、
Yは、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メタン
スルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルキルスル
ホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ,p−トル
エンスルホニルオキシのようなアリールスルホニルオキ
シ基を示す。Q′は、式−O−R22を有する基(式中、
R22は好適には、テトラヒドロピラン−2−イル、3−
ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテ
トラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン
−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4
−イルのようなテトラヒドロピラニル基;メトキシメチ
ル、t−ブトキシメチル、2−メトキシエトキシメチ
ル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−ク
ロロエトキシ)メチルのような低級アルキルオキシメチ
ル基若しくはベンジル、p−メトキシベンジル、o−ニ
トロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロベンジ
ル、p−シアノベンジル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−メト
キシフェニルジフェニルメチルのようなアラルキル基を
挙げることができる。)又は、式−Gを有する基(式
中、−Gは前記と同意義を示す。)を示し、Q″は、式
Yを有する基(式中、Yは前記と同意義を示す。)又は
式−Gを有する基(式中、−Gは前記と同意義を示
す。)を示す。R5′は、水素原子又は保護されたカル
ボキシ基を示す。Y′はハロゲン原子を示し、Y″はハ
ロゲン原子、ベンジルオキシのようなアラルキルオキシ
基、トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノメチ
ルオキシ基などの脱離基を示し、Wは活性カルボン酸の
残基を示し、好適には前記Yの定義における基と同様の
基、低級脂肪族アシルオキシ基及び芳香族アシルオキシ
基を示し、R20は、ヒドロキシ基又はメルカプト基の保
護基を示し、例えばジフェニルメチル、トリフェニルメ
チル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、p−(p−ブロモフェナシル
オキシ)フェニルジフェニルメチルのようなジまたはト
リアリールメチル基群;テトラヒドロピラン−2−イ
ル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メ
トキシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチ
オピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピ
ラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニル基群;ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメ
チルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、メチルジイ
ソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、ジフ
ェニル−t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルの
ようなシリル基群;ベンジル、p−メトキシベンジル、
o−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロベ
ンジル、p−シアノベンジルのような置換されていても
よいベンジル基群又は低級脂肪族アシル基を挙げること
ができる。好適にはヒドロキシ基の保護基としては、ベ
ンジル基群又はテトラヒドロピラニル基群が使用され、
メルカプト基の保護基としては、低級脂肪族アシル基が
使用される。
基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基
又は (式中、R3及びR4は前記と同意義を示す。)を示し、
Yは、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メタン
スルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルキルスル
ホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ,p−トル
エンスルホニルオキシのようなアリールスルホニルオキ
シ基を示す。Q′は、式−O−R22を有する基(式中、
R22は好適には、テトラヒドロピラン−2−イル、3−
ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテ
トラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン
−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4
−イルのようなテトラヒドロピラニル基;メトキシメチ
ル、t−ブトキシメチル、2−メトキシエトキシメチ
ル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−ク
ロロエトキシ)メチルのような低級アルキルオキシメチ
ル基若しくはベンジル、p−メトキシベンジル、o−ニ
トロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロベンジ
ル、p−シアノベンジル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−メト
キシフェニルジフェニルメチルのようなアラルキル基を
挙げることができる。)又は、式−Gを有する基(式
中、−Gは前記と同意義を示す。)を示し、Q″は、式
Yを有する基(式中、Yは前記と同意義を示す。)又は
式−Gを有する基(式中、−Gは前記と同意義を示
す。)を示す。R5′は、水素原子又は保護されたカル
ボキシ基を示す。Y′はハロゲン原子を示し、Y″はハ
ロゲン原子、ベンジルオキシのようなアラルキルオキシ
基、トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノメチ
ルオキシ基などの脱離基を示し、Wは活性カルボン酸の
残基を示し、好適には前記Yの定義における基と同様の
基、低級脂肪族アシルオキシ基及び芳香族アシルオキシ
基を示し、R20は、ヒドロキシ基又はメルカプト基の保
護基を示し、例えばジフェニルメチル、トリフェニルメ
チル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、p−(p−ブロモフェナシル
オキシ)フェニルジフェニルメチルのようなジまたはト
リアリールメチル基群;テトラヒドロピラン−2−イ
ル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メ
トキシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチ
オピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピ
ラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニル基群;ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメ
チルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、メチルジイ
ソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、ジフ
ェニル−t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルの
ようなシリル基群;ベンジル、p−メトキシベンジル、
o−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロベ
ンジル、p−シアノベンジルのような置換されていても
よいベンジル基群又は低級脂肪族アシル基を挙げること
ができる。好適にはヒドロキシ基の保護基としては、ベ
ンジル基群又はテトラヒドロピラニル基群が使用され、
メルカプト基の保護基としては、低級脂肪族アシル基が
使用される。
A法及びF法は、本発明の一般式(I)において、Xが
単結合である化合物又はその合成中間体の製法である。
単結合である化合物又はその合成中間体の製法である。
B法及びG法は、本発明の一般式(I)において、Xが である化合物又はその合成中間体の製法である。
C法及びH法は、本発明の一般式(I)において、Xが (式中、R6は前記と同意義を示す。)である化合物又
はその合成中間体の製法である。
はその合成中間体の製法である。
D法及びI法は、本発明の一般式(I)において、Xが である化合物又はその合成中間体の製法である。
E法及びJ法は、本発明化合物(I)又はその合成中間
体の別途製法である。
体の別途製法である。
K法は、上記で製造した合成中間体(XIII),(XV),
(XVII),(XXIV),(XXVIII),(XXXIII),(XXXI
V),(XXXV),(XXXIX)又は(XLIII)を、化合物(X
LIV)又は(XLIV′)と反応させて本発明化合物(I)
を製造する方法である。
(XVII),(XXIV),(XXVIII),(XXXIII),(XXXI
V),(XXXV),(XXXIX)又は(XLIII)を、化合物(X
LIV)又は(XLIV′)と反応させて本発明化合物(I)
を製造する方法である。
上記各工程における反応試薬及び反応条件を以下に述べ
る。
る。
第1工程及び第2工程は、末端にヒドロキシ基又はメル
カプト基を有する化合物(VIII)又は化合物(XII)と
アルキル化剤(IX)又は(XI)とを塩基の存在下反応さ
せ、エーテル又はチオエーテル化合物(X)を製造する
工程である。
カプト基を有する化合物(VIII)又は化合物(XII)と
アルキル化剤(IX)又は(XI)とを塩基の存在下反応さ
せ、エーテル又はチオエーテル化合物(X)を製造する
工程である。
使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく、例えばエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド類;
ジメチルスルホキサイド又はヘキサメチルホスホロトリ
アミドを挙げることができ、好適にはベンゼン、N,N−
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホロトリア
ミドである。
れば特に限定はなく、例えばエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド類;
ジメチルスルホキサイド又はヘキサメチルホスホロトリ
アミドを挙げることができ、好適にはベンゼン、N,N−
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホロトリア
ミドである。
また使用される塩基としては、化合物の他の部分に影響
を与えないものであれば特に限定はないが、好適には酸
結合剤であるトリエチルアミン、1,5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデク−5−エン、ピリジン、2,6−ルチジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミノピリ
ジンのような有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物あるいは水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
があげられ、好適にはアルカリ金属水酸化物である。反
応温度は特に限定はなく、例えば0℃乃至150℃で実施
されるが、好適には60℃乃至90℃で行なわれる。反応時
間は主に反応温度、原料化合物の種類によって異なり、
例えば1時間乃至3日であるが、好適には、4乃至16時
間である。
を与えないものであれば特に限定はないが、好適には酸
結合剤であるトリエチルアミン、1,5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデク−5−エン、ピリジン、2,6−ルチジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミノピリ
ジンのような有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物あるいは水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
があげられ、好適にはアルカリ金属水酸化物である。反
応温度は特に限定はなく、例えば0℃乃至150℃で実施
されるが、好適には60℃乃至90℃で行なわれる。反応時
間は主に反応温度、原料化合物の種類によって異なり、
例えば1時間乃至3日であるが、好適には、4乃至16時
間である。
反応終了後、本反応の目的化合物(X)は常法に従って
反応混合物から採取される。例えば反応混合物に水と混
和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば常
方、例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフィーな
どによって更に精製することができる。
反応混合物から採取される。例えば反応混合物に水と混
和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば常
方、例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフィーな
どによって更に精製することができる。
第3工程は、化合物(X)のおいて、末端のQ′基が式
−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義)で
ある場合にこの−O−R22基を、Y基に変換し、化合物
(XIII)を製造する工程である。
−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義)で
ある場合にこの−O−R22基を、Y基に変換し、化合物
(XIII)を製造する工程である。
まず、ヒドロキシ基の保護基R22の除去を行なう。ヒド
ロキシ基の保護基が、テトラヒドロピラニル基又は低級
アルキルオキシメチル基である場合には、溶媒中、酸で
処理することにより、除去することができる。使用され
る酸としては、好適には酢酸、p−トルエンスルホン
酸、塩酸、酢酸−硫酸などである。溶媒としては、特に
限定はないが、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適
である。反応温度は0℃乃至100℃、好適には20℃乃至6
0℃で実施され、反応時間は原料化合物、反応温度およ
び酸の種類によって異なるが、通常1時間乃至24時間で
ある。
ロキシ基の保護基が、テトラヒドロピラニル基又は低級
アルキルオキシメチル基である場合には、溶媒中、酸で
処理することにより、除去することができる。使用され
る酸としては、好適には酢酸、p−トルエンスルホン
酸、塩酸、酢酸−硫酸などである。溶媒としては、特に
限定はないが、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適
である。反応温度は0℃乃至100℃、好適には20℃乃至6
0℃で実施され、反応時間は原料化合物、反応温度およ
び酸の種類によって異なるが、通常1時間乃至24時間で
ある。
ヒドロキシ基の保護基がアラルキル基である場合には、
還元剤と接触させることにより除去することができる。
例えば、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、常
温にて接触還元を行うか、または硫化ナトリウム、硫化
カリウムのようなアルカリ金属硫化物を使用して実施さ
れる。反応は溶媒の存在下で行われ、使用される溶媒と
しては本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノールのようなアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類また
は酢酸のような脂肪族およびこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒が好適である。反応温度は通常、0℃乃至室温
付近であり、反応時間は原料化合物および還元剤の種類
によって異なるが、通常は5分乃至12時間である。
還元剤と接触させることにより除去することができる。
例えば、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、常
温にて接触還元を行うか、または硫化ナトリウム、硫化
カリウムのようなアルカリ金属硫化物を使用して実施さ
れる。反応は溶媒の存在下で行われ、使用される溶媒と
しては本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノールのようなアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類また
は酢酸のような脂肪族およびこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒が好適である。反応温度は通常、0℃乃至室温
付近であり、反応時間は原料化合物および還元剤の種類
によって異なるが、通常は5分乃至12時間である。
又、反応基質が硫黄原子を有する場合においては、ヒド
ロキシ基の保護基がベンジル基群である場合は好適には
塩化アルミニウムと沃化ナトリウムを室温にて反応させ
ることにより実施され、保護基がジ又はトリアリールメ
チル基群の時には、好適には酸(例えばトリフルオロ酢
酸,塩酸,酢酸)を用いて行われる。
ロキシ基の保護基がベンジル基群である場合は好適には
塩化アルミニウムと沃化ナトリウムを室温にて反応させ
ることにより実施され、保護基がジ又はトリアリールメ
チル基群の時には、好適には酸(例えばトリフルオロ酢
酸,塩酸,酢酸)を用いて行われる。
反応修了後、目的化合物は常方に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
次いで、脱保護されたヒドロキシ基をアシル化、例えば
メタンスルホニル、トルエンスルホニル、トリフルオロ
メタンスルホニルまたはトリフルオロアセチル化しエス
テルを合成するか、ヒドロキシ基をハロゲン原子に置換
する。
メタンスルホニル、トルエンスルホニル、トリフルオロ
メタンスルホニルまたはトリフルオロアセチル化しエス
テルを合成するか、ヒドロキシ基をハロゲン原子に置換
する。
エステル合成において使用される溶媒としては、本反応
に関与しないものであれば特に限定はなく、例えばクロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はベンゼン、トルエン
のような芳香族炭化水素類を挙げることができ、好適に
はジクロロメタン又はベンゼンである。また使用される
塩基としては特に限定はないが、好適には酸結合剤であ
るトリエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、N,N−
ジメチルアニリンのような有機塩基である。反応温度は
特に限定はないが、好適には0℃乃至25℃で行われ、反
応時間は主に、反応温度又は原料化合物の種類によって
異なるが、好適には0.5乃至24時間である。
に関与しないものであれば特に限定はなく、例えばクロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はベンゼン、トルエン
のような芳香族炭化水素類を挙げることができ、好適に
はジクロロメタン又はベンゼンである。また使用される
塩基としては特に限定はないが、好適には酸結合剤であ
るトリエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、N,N−
ジメチルアニリンのような有機塩基である。反応温度は
特に限定はないが、好適には0℃乃至25℃で行われ、反
応時間は主に、反応温度又は原料化合物の種類によって
異なるが、好適には0.5乃至24時間である。
ハロゲン置換反応は、通常水酸基をハロゲン原子に置換
できる反応であれば特に限定はないが、好適には、四ハ
ロゲン化炭素及びトリフェニルホスフィン又は三ハロゲ
ン化リンを用いて実施される。使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素類又はアセトニトリ
ルのようなニトリル類である。反応温度は特に限定はな
いが、好適には−25℃乃至室温で行われ、反応時間は主
に反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、通
常1乃至60分である。
できる反応であれば特に限定はないが、好適には、四ハ
ロゲン化炭素及びトリフェニルホスフィン又は三ハロゲ
ン化リンを用いて実施される。使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素類又はアセトニトリ
ルのようなニトリル類である。反応温度は特に限定はな
いが、好適には−25℃乃至室温で行われ、反応時間は主
に反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、通
常1乃至60分である。
又、上記合成したエステルをヨウ化ナトリウム、臭化ナ
トリウム、塩化カリウムのようなアルカリ金属ハライド
と反応させることによっても、ハロゲン置換化合物を合
成することができる。使用される溶媒としては、アルカ
リ金属ハライドを溶解させることのできる極性溶媒であ
り、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、例えば、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類、N,N−ジメチルホルムアミドのようなアミド類又
はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなリン酸トリ
アミド類を挙げることができ、好適にはN,N−ジメチル
ホルムアミドである。反応温度は特に限定はないが、好
適には20℃乃至80℃で行われ、反応時間は、主に反応温
度又は原料化合物の種類によって異なるが、通常1乃至
24時間である。
トリウム、塩化カリウムのようなアルカリ金属ハライド
と反応させることによっても、ハロゲン置換化合物を合
成することができる。使用される溶媒としては、アルカ
リ金属ハライドを溶解させることのできる極性溶媒であ
り、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、例えば、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類、N,N−ジメチルホルムアミドのようなアミド類又
はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなリン酸トリ
アミド類を挙げることができ、好適にはN,N−ジメチル
ホルムアミドである。反応温度は特に限定はないが、好
適には20℃乃至80℃で行われ、反応時間は、主に反応温
度又は原料化合物の種類によって異なるが、通常1乃至
24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
第4工程は、末端にヒドロキシ基又はメルカプト基を有
する化合物(VIII)を、カルボン酸の反応性誘導体(XI
V)と塩基の存在下又は非存在下に反応させ、エステル
又はチオールエステル化合物(XV)を製造する工程であ
る。
する化合物(VIII)を、カルボン酸の反応性誘導体(XI
V)と塩基の存在下又は非存在下に反応させ、エステル
又はチオールエステル化合物(XV)を製造する工程であ
る。
Yがハロゲン原子である場合には、反応は溶媒中、塩基
の存在下に実施される。
の存在下に実施される。
使用される反応溶媒としては、反応を阻害せず、出発原
料をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド、クロロホルム、1,2−ジク
ロロエタンのようなハロゲン化炭化水素;ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類またはベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素
が用いられる。
料をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド、クロロホルム、1,2−ジク
ロロエタンのようなハロゲン化炭化水素;ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類またはベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素
が用いられる。
使用される塩基としては、アミン類であれば特に限定は
ないが、好適にはトリエチルアミン、ジエチルアミンま
たはピリジンが用いられる。
ないが、好適にはトリエチルアミン、ジエチルアミンま
たはピリジンが用いられる。
反応温度および反応時間は、用いる出発物質、溶媒およ
び塩基の条件により異なるが、0℃から120℃の範囲で
行う場合には2〜24時間が好適である。
び塩基の条件により異なるが、0℃から120℃の範囲で
行う場合には2〜24時間が好適である。
Yが低級アルキルスルホニルオキシ基,アリールスルホ
ニルオキシ基,低級脂肪族アシルオキシ基又は芳香族ア
シルオキシ基を示す場合には、反応において、塩基は必
ずしも必要ではなく、直ちに反応するが、塩基を使用し
た場合は加速される。
ニルオキシ基,低級脂肪族アシルオキシ基又は芳香族ア
シルオキシ基を示す場合には、反応において、塩基は必
ずしも必要ではなく、直ちに反応するが、塩基を使用し
た場合は加速される。
この場合に使用される溶媒としては、本反応に関与しな
いものであれば特に限定はなく、例えばクロロホルム、
ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭
化水素類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類を挙げることができ、好適にはジ
クロロメタン又はテトラヒドロフランである。反応温度
は特に限定はないが、通常0℃乃至50℃で実施される
が、好適には0℃乃至20℃であり、反応時間は、主に反
応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、通常0.
5乃至24時間である。
いものであれば特に限定はなく、例えばクロロホルム、
ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭
化水素類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類を挙げることができ、好適にはジ
クロロメタン又はテトラヒドロフランである。反応温度
は特に限定はないが、通常0℃乃至50℃で実施される
が、好適には0℃乃至20℃であり、反応時間は、主に反
応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、通常0.
5乃至24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
第5工程は、末端にヒドロキシ基又はメルカプト基を有
する化合物(VIII)とイソシアナート化合物(XVI)を
反応させ、カルバメート又はチオールカルバメート化合
物を製造し、さらに所望により、イミノ基を置換するこ
とにより、化合物(XVII)を製造する工程である。
する化合物(VIII)とイソシアナート化合物(XVI)を
反応させ、カルバメート又はチオールカルバメート化合
物を製造し、さらに所望により、イミノ基を置換するこ
とにより、化合物(XVII)を製造する工程である。
化合物(XVI)は例えば式 (式中、m,n,R5′及びQ″は前記と同意義を示す。)で
表される化合物にDPPA(ジフェニルホスホリルアジド)
をクロロホルム、トルエン、ベンゼン、ジクロロメタ
ン、テトラヒドロフランのような不活性溶媒中、好適に
はトルエン又はベンゼン中、トリエチルアミン、トリブ
チルアミンのような有機塩基の存在下、0℃乃至150℃
にて反応させることにより容易に合成でき、この溶液
に、直接化合物(VIII)を加え、さらに2乃至24時間、
60℃乃至150℃で反応させることにより、目的化合物(X
VII)を製造することができる。好適には、化合物(XV
I)を合成した時点で、リン化合物を除去するために飽
和炭酸水素ナトリウム水及び水で洗浄し、溶媒留去、乾
燥後、さらに上記例示の溶媒より選ばれる溶媒(好適に
はトルエン)に溶解し、化合物(VIII)を加え反応させ
る。
表される化合物にDPPA(ジフェニルホスホリルアジド)
をクロロホルム、トルエン、ベンゼン、ジクロロメタ
ン、テトラヒドロフランのような不活性溶媒中、好適に
はトルエン又はベンゼン中、トリエチルアミン、トリブ
チルアミンのような有機塩基の存在下、0℃乃至150℃
にて反応させることにより容易に合成でき、この溶液
に、直接化合物(VIII)を加え、さらに2乃至24時間、
60℃乃至150℃で反応させることにより、目的化合物(X
VII)を製造することができる。好適には、化合物(XV
I)を合成した時点で、リン化合物を除去するために飽
和炭酸水素ナトリウム水及び水で洗浄し、溶媒留去、乾
燥後、さらに上記例示の溶媒より選ばれる溶媒(好適に
はトルエン)に溶解し、化合物(VIII)を加え反応させ
る。
イミノ基の置換反応は、常法に従ってそれぞれ行なわれ
るが、例えばカルボン酸ハライド、又はカルボン酸無水
物を、有機塩基の存在下に反応させることにより達成さ
れる。使用される溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、好適にはベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類又はピリジンである。使
用される塩基としては、有機塩基であれば特に限定はな
いが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N,N−ジメチルアミノピリジン又はピリジン
である。反応温度は特に限定はないが、好適には20℃乃
至120℃であり、反応時間は主に反応温度及び原料化合
物の種類により異なるが1乃至24時間である。
るが、例えばカルボン酸ハライド、又はカルボン酸無水
物を、有機塩基の存在下に反応させることにより達成さ
れる。使用される溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、好適にはベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類又はピリジンである。使
用される塩基としては、有機塩基であれば特に限定はな
いが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N,N−ジメチルアミノピリジン又はピリジン
である。反応温度は特に限定はないが、好適には20℃乃
至120℃であり、反応時間は主に反応温度及び原料化合
物の種類により異なるが1乃至24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
第6工程及び第7工程は、末端にヒドロキシ基又はメル
カプト基を有する化合物(VIII)と化合物(XVIII)を
有機塩基の存在下に反応させ、化合物(XIX)を製造
し、単離し又は単離することなく、アミン化合物(XX)
と、有機塩基の存在下に反応させ、カルバメート又はチ
オールカルバメート化合物(XXI)を製造する工程であ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、ジクロロメタン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素及びテトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適である。
使用される塩基としては、有機塩基であれば特に限定は
ないが、好適にはトリエチルアミン、1,5−ジアザビシ
クロ〔5.4.0〕−ウンデク−5−エン、ピリジン、2,6−
ルチジン、N,N−ジメチルアニリン又はN,N−ジメチルア
ミノピリジンである。反応温度は特に限定はなく、例え
ば0℃乃至100℃で実施されるが、好適には0℃乃至50
℃である。反応時間は、主に反応温度及び原料化合物の
種類により異なるが、第6工程及び第7工程を通じて0.
5乃至24時間である。
カプト基を有する化合物(VIII)と化合物(XVIII)を
有機塩基の存在下に反応させ、化合物(XIX)を製造
し、単離し又は単離することなく、アミン化合物(XX)
と、有機塩基の存在下に反応させ、カルバメート又はチ
オールカルバメート化合物(XXI)を製造する工程であ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、ジクロロメタン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素及びテトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適である。
使用される塩基としては、有機塩基であれば特に限定は
ないが、好適にはトリエチルアミン、1,5−ジアザビシ
クロ〔5.4.0〕−ウンデク−5−エン、ピリジン、2,6−
ルチジン、N,N−ジメチルアニリン又はN,N−ジメチルア
ミノピリジンである。反応温度は特に限定はなく、例え
ば0℃乃至100℃で実施されるが、好適には0℃乃至50
℃である。反応時間は、主に反応温度及び原料化合物の
種類により異なるが、第6工程及び第7工程を通じて0.
5乃至24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
第8工程は、化合物(XXI)において、末端のQ′基が
式−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義を
示す。)である場合に、この−O−R22基をY基に変換
し、さらに所望により、イミノ基を置換することによ
り、カルバメート又はチオールカルバメート化合物(XV
II)を製造する工程であり、前段は第3工程と同様にし
て、後段は第5工程における保護反応と同様にして実施
される。
式−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義を
示す。)である場合に、この−O−R22基をY基に変換
し、さらに所望により、イミノ基を置換することによ
り、カルバメート又はチオールカルバメート化合物(XV
II)を製造する工程であり、前段は第3工程と同様にし
て、後段は第5工程における保護反応と同様にして実施
される。
第9工程は、化合物(XIX)をヒドロキシ化合物(XXI
I)と反応させることによりカーボネート化合物(XXII
I)を製造する工程であり、第7工程と同様にして実施
される。
I)と反応させることによりカーボネート化合物(XXII
I)を製造する工程であり、第7工程と同様にして実施
される。
第10工程は、化合物(XXIII)において、末端のQ′基
が式−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義
を示す。)である場合に、この−O−R22基をY基に変
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
が式−O−R22を有する基(式中、R22は前記と同意義
を示す。)である場合に、この−O−R22基をY基に変
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
第11工程は、3位のヒドロキシ基又はメルカプト基が保
護された化合物(XXV)の2位のヒドロキシ基又はメル
カプト基を、前記第1〜10工程に従って、相当する化合
物(XXVI)又は(XXVI′)を製造する工程である。
護された化合物(XXV)の2位のヒドロキシ基又はメル
カプト基を、前記第1〜10工程に従って、相当する化合
物(XXVI)又は(XXVI′)を製造する工程である。
第12工程は、化合物(XXVI)又は(XXVI′)の、3位の
ヒドロキシ基又はメルカプト基の保護基を除去し、化合
物(XXVII)又は(XXVII′)を製造する工程である。
ヒドロキシ基又はメルカプト基の保護基を除去し、化合
物(XXVII)又は(XXVII′)を製造する工程である。
ヒドロキシ基の保護基がジまたはトリアリールメチル基
群の場合は、保混基の脱離は例えば、トリフルオロ酢
酸、塩酸、酢酸のような酸によって行われる。ヒドロキ
シ基の保護基がベンジル基群の場合は、その脱離は還元
により行われ、好適にはパラジウム−炭素を触媒とした
接触還元が用いられる。また、ヒドロキシ基の保護基が
シリル基群の場合は、その脱離反応にはフッ素アニオン
を用いるが、テトラブチルアンモニウムフルオリドの使
用が好ましい。さらに、ヒドロキシ基の保護基がテトラ
ヒドロピラニル基群の場合には脱離は酸によって(例え
ば酢酸、トシル酸)、行われる。
群の場合は、保混基の脱離は例えば、トリフルオロ酢
酸、塩酸、酢酸のような酸によって行われる。ヒドロキ
シ基の保護基がベンジル基群の場合は、その脱離は還元
により行われ、好適にはパラジウム−炭素を触媒とした
接触還元が用いられる。また、ヒドロキシ基の保護基が
シリル基群の場合は、その脱離反応にはフッ素アニオン
を用いるが、テトラブチルアンモニウムフルオリドの使
用が好ましい。さらに、ヒドロキシ基の保護基がテトラ
ヒドロピラニル基群の場合には脱離は酸によって(例え
ば酢酸、トシル酸)、行われる。
また反応基質が、硫黄原子を有する場合においては、ヒ
ドロキシ基の保護基がベンジル基群である時は好適には
塩化アルミニウムと沃化ナトリウムを室温にて反応させ
ることにより実施され、保護基がジまたはトリアリール
メチル基群の時には、好適には酸(例えばトリフルオロ
酢酸、塩酸、酢酸)を用いて行われる。
ドロキシ基の保護基がベンジル基群である時は好適には
塩化アルミニウムと沃化ナトリウムを室温にて反応させ
ることにより実施され、保護基がジまたはトリアリール
メチル基群の時には、好適には酸(例えばトリフルオロ
酢酸、塩酸、酢酸)を用いて行われる。
また、アセチル基などで保護されたチオール基の脱保護
はナトリウムメトキシド−メタノール、アンモニア水、
水酸化ナトリウム水または水酸化カリウム水のような塩
基を用いて実施され、好適には、10〜30%ナトリウムメ
トキシド−メタノール溶液が用いられる。
はナトリウムメトキシド−メタノール、アンモニア水、
水酸化ナトリウム水または水酸化カリウム水のような塩
基を用いて実施され、好適には、10〜30%ナトリウムメ
トキシド−メタノール溶液が用いられる。
第13工程は、3位のヒドロキシ基又はメルカプト基を、
アルキル化、アシル化又はカルバメート化し、所望によ
り、第3工程と同様にしてQ′基が式−O−R22基(式
中、R22は前記と同意義を示す。)である場合に、この
基をY基に変換し、化合物(XXVIII)を製造する工程で
ある。
アルキル化、アシル化又はカルバメート化し、所望によ
り、第3工程と同様にしてQ′基が式−O−R22基(式
中、R22は前記と同意義を示す。)である場合に、この
基をY基に変換し、化合物(XXVIII)を製造する工程で
ある。
アルキル化の方法としては、化合物(XXVII)又は(XXV
II′)を式Y−R1′を有する化合物(式中、Y及び
R1′は前記と同意義を示す。)と反応させることによ
り、第1工程と同様にして実施される。
II′)を式Y−R1′を有する化合物(式中、Y及び
R1′は前記と同意義を示す。)と反応させることによ
り、第1工程と同様にして実施される。
又、化合物(XXVII)又は(XXVII′)の3位メシレート
を、式M−A−R1′を有する化合物(式中、M,A及びR
1′は前記と同意義を示す。)と反応させることによっ
ても達成される。但しこの場合、3位の立体配位は反転
する。
を、式M−A−R1′を有する化合物(式中、M,A及びR
1′は前記と同意義を示す。)と反応させることによっ
ても達成される。但しこの場合、3位の立体配位は反転
する。
使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミドのようなアミド類又はジメチル
スルホキシドを挙げることができ、好適にはベンゼン又
はN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は特に
限定はないが、例えば0℃乃至120℃で行われるが、好
適には70℃乃至120℃であり、反応時間は、主に反応温
度及び原料化合物の種類により異なるが、好適には1乃
至24時間である。
れば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミドのようなアミド類又はジメチル
スルホキシドを挙げることができ、好適にはベンゼン又
はN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は特に
限定はないが、例えば0℃乃至120℃で行われるが、好
適には70℃乃至120℃であり、反応時間は、主に反応温
度及び原料化合物の種類により異なるが、好適には1乃
至24時間である。
アシル化の方法としては、化合物(XXVII)又は(XXVI
I′)を、式Y−R1′を有する化合物(式中、Y及びR
1′は前記と同意義を示す。)又は式R1′−O−R1′
を有する酸無水物(式中、R1′は前記と同意義を示
す。)と反応させることにより達成でき、反応条件は、
第4工程と同様にして実施される。
I′)を、式Y−R1′を有する化合物(式中、Y及びR
1′は前記と同意義を示す。)又は式R1′−O−R1′
を有する酸無水物(式中、R1′は前記と同意義を示
す。)と反応させることにより達成でき、反応条件は、
第4工程と同様にして実施される。
カルバメート化の方法としては、化合物(XXVII)又は
(XXVII′)を、式R3−N=C=Oを有するイソシアナ
ート化合物(式中、R3は前記と同意義を示す。)と反
応させることにより達成でき、第5工程と同様にして実
施される。
(XXVII′)を、式R3−N=C=Oを有するイソシアナ
ート化合物(式中、R3は前記と同意義を示す。)と反
応させることにより達成でき、第5工程と同様にして実
施される。
第14工程は、化合物(XXIX)を、化合物(IX)と反応さ
せることにより化合物(XXX)を得る工程であり、第1
工程と同様にして実施される。
せることにより化合物(XXX)を得る工程であり、第1
工程と同様にして実施される。
第15工程は、化合物(XXXI)を化合物(XXXII)と反応
させることにより化合物(XXX)を得る工程であり、第
2工程と同様にして実施される。第2工程と異なり、3
位の立体配位が反転した化合物が製造される。
させることにより化合物(XXX)を得る工程であり、第
2工程と同様にして実施される。第2工程と異なり、3
位の立体配位が反転した化合物が製造される。
第16工程は、化合物(XXX)を、化合物(XXXIII)に変
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
第17工程は、化合物(XXIX)を、化合物(XIV)と反応
させることにより化合物(XXXIV)を得る工程であり、
第4工程と同様にして実施される。
させることにより化合物(XXXIV)を得る工程であり、
第4工程と同様にして実施される。
第18工程は、化合物(XXIX)を、化合物(XVI)と反応
させることにより化合物(XXXV)を得る工程であり、第
5工程と同様にして実施される。
させることにより化合物(XXXV)を得る工程であり、第
5工程と同様にして実施される。
第19工程は、化合物(XXIX)を、化合物(XVIII)と反
応させることにより化合物(XXXVI)を得る工程であ
り、第6工程と同様にして実施される。
応させることにより化合物(XXXVI)を得る工程であ
り、第6工程と同様にして実施される。
第20工程は、化合物(XXXVI)を、化合物(XX)と反応
させることにより化合物(XXXVII)を得る工程であり、
第7工程と同様にして実施される。
させることにより化合物(XXXVII)を得る工程であり、
第7工程と同様にして実施される。
第21工程は、化合物(XXXVII)を、化合物(XXXV)に変
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
換する工程であり、第3工程と同様にして実施される。
第22工程は、化合物(XXXVI)を、化合物(XXII)と反
応させることにより化合物(XXXVIII)を得る工程であ
り、第9工程と同様にして実施される。
応させることにより化合物(XXXVIII)を得る工程であ
り、第9工程と同様にして実施される。
第23工程は、化合物(XXXVIII)を、化合物(XXXIX)に
変換する工程であり、第3工程と同様にして実施され
る。
変換する工程であり、第3工程と同様にして実施され
る。
第24工程は、化合物(XL)から、化合物(XLI)又は(X
LI′)を得る工程であり、第11工程と同様にして実施さ
れる。
LI′)を得る工程であり、第11工程と同様にして実施さ
れる。
第25工程は、化合物(XLI)又は(XLI′)から、化合物
(XLII)又は(XLII′)を得る工程であり、第12工程と
同様にして実施される。
(XLII)又は(XLII′)を得る工程であり、第12工程と
同様にして実施される。
第26工程は、化合物(XLII)又は(XLII′)から、化合
物(XLIII)を得る工程であり、第13工程と同様にして
実施される。
物(XLIII)を得る工程であり、第13工程と同様にして
実施される。
第27工程は、前記の様にして製造した化合物(XIII),
(XV),(XVII),(XXIV),(XXVIII),(XXXII
I),(XXXIV),(XXXV),(XXXIX)又は(XLIII)に
おいて、Q″が式Yを有する基(式中、Yは前記と同意
義を示す。)をしめす場合に、これと、アミン化合物
(XLIV)又は式H−Gを有する化合物(式中、−Gは前
記と同意義を示す。)を反応させ、さらに所望により、
R5′の保護されたカルボキシ基の保護基或いは/並び
にR4及び/又はR6として定義された基のうち、除去可
能な基を脱離することにより、本願発明の化合物(I)
を製造する工程である。
(XV),(XVII),(XXIV),(XXVIII),(XXXII
I),(XXXIV),(XXXV),(XXXIX)又は(XLIII)に
おいて、Q″が式Yを有する基(式中、Yは前記と同意
義を示す。)をしめす場合に、これと、アミン化合物
(XLIV)又は式H−Gを有する化合物(式中、−Gは前
記と同意義を示す。)を反応させ、さらに所望により、
R5′の保護されたカルボキシ基の保護基或いは/並び
にR4及び/又はR6として定義された基のうち、除去可
能な基を脱離することにより、本願発明の化合物(I)
を製造する工程である。
使用される反応溶媒としては、反応を阻害せず、出発原
料をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールのような低級アルコール類;ジメチルホル
ムアミド;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類;アセトニトリルまたは
水、あるいは、例えばクロロホルム−ジメチルホルムア
ミド−イソプロピルアルコール=3:5:5のような2〜3
種の上記溶媒の混合物が用いられる。
料をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールのような低級アルコール類;ジメチルホル
ムアミド;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類;アセトニトリルまたは
水、あるいは、例えばクロロホルム−ジメチルホルムア
ミド−イソプロピルアルコール=3:5:5のような2〜3
種の上記溶媒の混合物が用いられる。
反応温度および反応時間は、用いる出発物質および溶媒
の条件により異なるが、20〜80℃の範囲で、窒素雰囲気
下、密封反応容器(例えば、封管)中で、1〜48時間反
応させることが好適である。
の条件により異なるが、20〜80℃の範囲で、窒素雰囲気
下、密封反応容器(例えば、封管)中で、1〜48時間反
応させることが好適である。
保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に周知
の方法によって以下の様に実施される。
の方法によって以下の様に実施される。
カルボキシ基の保護基の除去については、 カルボキシ基の保護基が低級アルキル基である場合に
は、塩基で処理することにより除去することができる。
反応条件は、水酸基の保護基が低級脂肪族アシル基又は
芳香族アシル基である場合において記載した除去反応の
条件と同様である。
は、塩基で処理することにより除去することができる。
反応条件は、水酸基の保護基が低級脂肪族アシル基又は
芳香族アシル基である場合において記載した除去反応の
条件と同様である。
カルボキシ基の保護基が、アラルキル基またはハロゲノ
低級アルキル基である場合には、還元剤と接触させるこ
とにより除去することができる。還元剤としては、カル
ボキシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合
には、亜鉛−酢酸が好適であり、アラルキル基である場
合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い接触
還元を行うか、または硫化カリウム、硫化ナトリウムの
ようなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反応は
溶媒の存在下で行われ、使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類または酢酸のよう
な脂肪酸およびこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度は通常、0℃乃至室温付近であり、
反応時間は原料化合物および還元剤の種類によって異な
るが、通常は5分乃至12時間である。
低級アルキル基である場合には、還元剤と接触させるこ
とにより除去することができる。還元剤としては、カル
ボキシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合
には、亜鉛−酢酸が好適であり、アラルキル基である場
合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い接触
還元を行うか、または硫化カリウム、硫化ナトリウムの
ようなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反応は
溶媒の存在下で行われ、使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類または酢酸のよう
な脂肪酸およびこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度は通常、0℃乃至室温付近であり、
反応時間は原料化合物および還元剤の種類によって異な
るが、通常は5分乃至12時間である。
カルボキシ基の保護基が、アルキルオキシメチル基であ
る場合には、酸で処理することにより除去することがで
きる。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫
酸などである。溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類またはこれらの有機溶媒と水との混
合溶媒が好適である。反応温度は通常0℃乃至50℃で実
施され、反応時間は原料化合物および酸の種類によって
異なるが、通常10分乃至18時間である。
る場合には、酸で処理することにより除去することがで
きる。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫
酸などである。溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類またはこれらの有機溶媒と水との混
合溶媒が好適である。反応温度は通常0℃乃至50℃で実
施され、反応時間は原料化合物および酸の種類によって
異なるが、通常10分乃至18時間である。
なお上記の様なカルボキシ基の保護基を除去する操作に
よって、R4及び/又はR6として定義された基のうち、
除去可能な基が同時に脱離されることもある。
よって、R4及び/又はR6として定義された基のうち、
除去可能な基が同時に脱離されることもある。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶物を
去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し、溶媒を留去し、
例えば再結晶、分取用薄層クロマトグラフィー、カラム
クロマトグラフィー等により精製して、純品を得ること
ができる。
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶物を
去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し、溶媒を留去し、
例えば再結晶、分取用薄層クロマトグラフィー、カラム
クロマトグラフィー等により精製して、純品を得ること
ができる。
R4及び/又はR6として定義された基のうち、除去可能
な基の脱離については、 該基が、低級脂肪族または芳香族アシル基またはアルキ
ルオキシカルボニル基である場合には、塩基で処理する
ことにより除去することができ、反応条件は、水酸基の
保護基が低級脂肪族アシル基又は芳香族アシル基である
場合において記載した除去反応の条件と同様である。
な基の脱離については、 該基が、低級脂肪族または芳香族アシル基またはアルキ
ルオキシカルボニル基である場合には、塩基で処理する
ことにより除去することができ、反応条件は、水酸基の
保護基が低級脂肪族アシル基又は芳香族アシル基である
場合において記載した除去反応の条件と同様である。
該基がアルケニルオキシカルボニル基である場合は、通
常、前記水酸基の保護基が低級脂肪族アシル基又は芳香
族アシル基である場合の除去反応の条件と同様にして塩
基と処理することにより脱離させることができる。な
お、アリルオキシカルボニルの場合は、特にパラジウム
およびトリフェニルホスフィンあるいはニッケルテトラ
カルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が
少なく実施することができる。
常、前記水酸基の保護基が低級脂肪族アシル基又は芳香
族アシル基である場合の除去反応の条件と同様にして塩
基と処理することにより脱離させることができる。な
お、アリルオキシカルボニルの場合は、特にパラジウム
およびトリフェニルホスフィンあるいはニッケルテトラ
カルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が
少なく実施することができる。
なお、上記の除去操作によって、カルボキシ基の保護基
が同時に除去されることもある。
が同時に除去されることもある。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
なお、上記のカルボキシ基の保護基の除去反応及びR4
及び/又はR6として定義された基のうち、除去可能な
基の脱離反応は、順不同で、希望する反応を順次実施す
ることができる。
及び/又はR6として定義された基のうち、除去可能な
基の脱離反応は、順不同で、希望する反応を順次実施す
ることができる。
さらに所望により、カルボキシ基を生体内で加水分解さ
れやすい保護基で再び保護することができる。
れやすい保護基で再び保護することができる。
この反応は、一般にこの分野の技術において周知の方法
によって実施される。
によって実施される。
例えば、アセトキシメチルクロリド、プロピオニルオキ
シメチルブロミド、ピバロイルオキシメチルクロリドの
ような脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1−メト
キシカルボニルオキシエチルクロリド、1−エトキシカ
ルボニルオキシエチルイオダイドのような低級アルキル
オキシカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジル
ハライド類または(2−オキソ−5−メチル−1,3−ジ
オキソレン−4−イル)メチルハライド類を0℃乃至50
℃で反応させることにより、生体内で加水分解されやす
いカルボキシル基の保護基で保護されたエステル体を製
造することができる。反応溶媒は反応を阻害するもので
なければ特に限定はないが、好適にはジメチルホルムア
ミドのような極性溶媒を使用する。反応温度および反応
時間は出発物質、溶媒および反応試薬の種類によって異
なるが、通常0℃から100℃の範囲で、0.5時間〜10時間
反応させる。
シメチルブロミド、ピバロイルオキシメチルクロリドの
ような脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1−メト
キシカルボニルオキシエチルクロリド、1−エトキシカ
ルボニルオキシエチルイオダイドのような低級アルキル
オキシカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジル
ハライド類または(2−オキソ−5−メチル−1,3−ジ
オキソレン−4−イル)メチルハライド類を0℃乃至50
℃で反応させることにより、生体内で加水分解されやす
いカルボキシル基の保護基で保護されたエステル体を製
造することができる。反応溶媒は反応を阻害するもので
なければ特に限定はないが、好適にはジメチルホルムア
ミドのような極性溶媒を使用する。反応温度および反応
時間は出発物質、溶媒および反応試薬の種類によって異
なるが、通常0℃から100℃の範囲で、0.5時間〜10時間
反応させる。
なお、Q′又はQ″が、式−Gを有する基(式中、−G
は前記と同意義を示す。)である場合には、化合物
(X),(XIII),(XV),(XXI),(XVII),(XXI
II),(XXIV),(XXVIII),(XXX),(XXXIII),
(XXXIV),(XXXV),(XXXVII),(XXXVIII),(XX
XIX)及び(XLIII)が、本願発明化合物(I)である
が、この場合、第27工程と同様にして、所望によりカル
ボキシ基の保護基或いは/並びにR4及び/又はR6とし
て定義された基のうち、除去可能な基を除去し、さらに
所望により生体内で加水分解されやすい保護基で再び保
護し、相当する本願化合物(I)を製造することができ
る。
は前記と同意義を示す。)である場合には、化合物
(X),(XIII),(XV),(XXI),(XVII),(XXI
II),(XXIV),(XXVIII),(XXX),(XXXIII),
(XXXIV),(XXXV),(XXXVII),(XXXVIII),(XX
XIX)及び(XLIII)が、本願発明化合物(I)である
が、この場合、第27工程と同様にして、所望によりカル
ボキシ基の保護基或いは/並びにR4及び/又はR6とし
て定義された基のうち、除去可能な基を除去し、さらに
所望により生体内で加水分解されやすい保護基で再び保
護し、相当する本願化合物(I)を製造することができ
る。
本発明の原料化合物(VIII),(XI),(XXV),(XXI
X),(XXXI)又は(XL)は新規な化合物であり、例え
ば以下の反応式に示すように、式(XLV)を有する公知
化合物(具体的には、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン,ジ
ヒドロフラン,6,7−ジヒドロオキセピン)から、エーテ
ル環上の2つの不斉炭素について、dl体として立体選択
的に製造できる。
X),(XXXI)又は(XL)は新規な化合物であり、例え
ば以下の反応式に示すように、式(XLV)を有する公知
化合物(具体的には、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン,ジ
ヒドロフラン,6,7−ジヒドロオキセピン)から、エーテ
ル環上の2つの不斉炭素について、dl体として立体選択
的に製造できる。
上記式中、l,R20,R1′,及びYは前記と同意義を示し、
R21は、R20に定義された基と同様の基を示すが、R20
とR21は、選択的に区別して除去しうる基を示す。
R21は、R20に定義された基と同様の基を示すが、R20
とR21は、選択的に区別して除去しうる基を示す。
以下に、上記反応に使用される反応条件を定義し、説明
する。
する。
反応1:ルブーら、シンセシス、610頁、1979年〔A.Lebou
c,et.al.,Synthesis,610,(1979)〕に記載の方法に従
い、化合物(XLV)をヒドロキシメチル化し、化合物(X
LVI)を得る反応。
c,et.al.,Synthesis,610,(1979)〕に記載の方法に従
い、化合物(XLV)をヒドロキシメチル化し、化合物(X
LVI)を得る反応。
反応2:化合物(XLVI)のヒドロキシ基を前記保護基で保
護して化合物(XLVII)を製造する反応であり、常法の
ヒドロキシ基の保護化反応に従い行われ、好適にはベン
ジルハライドを用いベンジル化を行う反応。反応基質と
して、ヒドロキシ基の代りに、例えば、化合物(XL−
3)のメルカプト基を前記メルカプト基の保護基で保護
することもできる。
護して化合物(XLVII)を製造する反応であり、常法の
ヒドロキシ基の保護化反応に従い行われ、好適にはベン
ジルハライドを用いベンジル化を行う反応。反応基質と
して、ヒドロキシ基の代りに、例えば、化合物(XL−
3)のメルカプト基を前記メルカプト基の保護基で保護
することもできる。
反応3:化合物(XLVII)の二重結合部分にヒドロボレー
ション反応を行い、トランスヒドロキシ基を導入し、化
合物(XL−1)を得る反応で、好適には、ボランが用い
られる。又、この反応を不斉的に実施することもでき、
その場合は光学活性体を合成することができる。反応は
ブラウンらの方法〔J.Org.Chem.,47,5074(1982)〕に
従って、モノイソピノカンフェニルボランを使用して実
施される。
ション反応を行い、トランスヒドロキシ基を導入し、化
合物(XL−1)を得る反応で、好適には、ボランが用い
られる。又、この反応を不斉的に実施することもでき、
その場合は光学活性体を合成することができる。反応は
ブラウンらの方法〔J.Org.Chem.,47,5074(1982)〕に
従って、モノイソピノカンフェニルボランを使用して実
施される。
反応4:化合物(XL−1)のヒドロキシ基を、式R1′−
Yを有する化合物を用い、第1工程に従ってアルキル
化、式R1′−Yを有する化合物を用い、第4工程に従
ってアシル化又は式R3−N=C=Oを有する化合物を
用い、第5工程に従ってカルバメート化するものである
が、ヒドロキシ基の代りに、例えば化合物(XL−3)の
ようなメルカプト基も同様に実施することができる。
Yを有する化合物を用い、第1工程に従ってアルキル
化、式R1′−Yを有する化合物を用い、第4工程に従
ってアシル化又は式R3−N=C=Oを有する化合物を
用い、第5工程に従ってカルバメート化するものである
が、ヒドロキシ基の代りに、例えば化合物(XL−3)の
ようなメルカプト基も同様に実施することができる。
反応5:ヒドロキシ基又はメルカプト基の保護基を除去す
る反応であり、第12工程と同様にして実施される。
る反応であり、第12工程と同様にして実施される。
反応6:化合物(XL−1)を、クロム酸を用いるジョーン
ズ試薬またはピリジニウムクロロクロマートにより、ヒ
ドロキシ基を酸化してカルボニル基に変換し、化合物
(XLVIII)を得る反応である。
ズ試薬またはピリジニウムクロロクロマートにより、ヒ
ドロキシ基を酸化してカルボニル基に変換し、化合物
(XLVIII)を得る反応である。
反応7:化合物(XLVIII)のカルボニル基を、L−セレク
トリドを用いて立体選択的に還元反応を行い、シスヒド
ロキシ基を生成させ、化合物(XL−2)を得る反応であ
る。
トリドを用いて立体選択的に還元反応を行い、シスヒド
ロキシ基を生成させ、化合物(XL−2)を得る反応であ
る。
反応8:化合物(XL−1)のヒドロキシ基を第3工程と同
様にしてアシル化、例えばメタンスルホニル、トルエン
スルホニル、トリフルオロメタンスルホニルまたはトリ
フルオロアセチル化しエステルを合成した後、例えばチ
オ酢酸を用いて上記アシルオキシ基を立体反転した保護
されたチオール基へと変換し、化合物(XL−3)を得る
反応である。
様にしてアシル化、例えばメタンスルホニル、トルエン
スルホニル、トリフルオロメタンスルホニルまたはトリ
フルオロアセチル化しエステルを合成した後、例えばチ
オ酢酸を用いて上記アシルオキシ基を立体反転した保護
されたチオール基へと変換し、化合物(XL−3)を得る
反応である。
反応9:化合物(XL−1)のヒドロキシ基を前記反応2に
記載した保護基と異なる群の保護基で保護し、化合物
(XXV−1)を得る反応であり、好適にはテトラヒドロ
ピラニル基群の保護基が用いられる。
記載した保護基と異なる群の保護基で保護し、化合物
(XXV−1)を得る反応であり、好適にはテトラヒドロ
ピラニル基群の保護基が用いられる。
反応10:化合物(VIII−1)のヒドロキシ基を第3工程
と同様にして実施し、ハロゲン原子に変換し、化合物
(XI−1)を製造する工程である。
と同様にして実施し、ハロゲン原子に変換し、化合物
(XI−1)を製造する工程である。
以下にどの工程に上記定義した反応が実施されうるか表
にして示す。
にして示す。
さらに、本発明の原料化合物は、例えば以下の反応式に
示すように、出発化合物としてd−又はl−酒石酸を用
いることにより、d体又はl体の光学活性体を特異的に
製造することができる。
示すように、出発化合物としてd−又はl−酒石酸を用
いることにより、d体又はl体の光学活性体を特異的に
製造することができる。
上記式中、R20及びR21は前記と同意義を示し、R23は
低級アルキル基を示す。R24,R26及びR27は、R20及び
R21の定義と同様の基を示すが、R20,R21,R24,R26及び
R27のうち、2以上が、同一化合物中に使用されたとき
は、それらは選択的に他の保護基と区別して除去しうる
基を示すものとする。R25は、Yの定義における低級ア
ルキルスルホニルオキシ基及びアリールスルホニルオキ
シ基と同様の基を示す。
低級アルキル基を示す。R24,R26及びR27は、R20及び
R21の定義と同様の基を示すが、R20,R21,R24,R26及び
R27のうち、2以上が、同一化合物中に使用されたとき
は、それらは選択的に他の保護基と区別して除去しうる
基を示すものとする。R25は、Yの定義における低級ア
ルキルスルホニルオキシ基及びアリールスルホニルオキ
シ基と同様の基を示す。
好適には、R20はベンジル基群、R21はシリル基群、R
24はジ又はトリアリールメチル基群、R26は低級脂肪族
アシル基群、R27はテトラヒドロピラニル基群である。
24はジ又はトリアリールメチル基群、R26は低級脂肪族
アシル基群、R27はテトラヒドロピラニル基群である。
大野ら、テトラヘドロンレターズ,23巻、3507頁、1982
年〔Ohno,et.al.,Tetrahedron Lett.,23,3507,(198
2)〕に記載の方法と類似の方法により、出発原料であ
る(2S,3S)酒石酸(LI)の3位の酸素原子が保護基R
20で置換された化合物(LII)を合成することができる
(第73工程)。
年〔Ohno,et.al.,Tetrahedron Lett.,23,3507,(198
2)〕に記載の方法と類似の方法により、出発原料であ
る(2S,3S)酒石酸(LI)の3位の酸素原子が保護基R
20で置換された化合物(LII)を合成することができる
(第73工程)。
化合物(LII)の第1級ヒドロキシ基は、前記反応8前
半と同様の方法でアシル化した後、アシルオキシ基をヨ
ードで置換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反応さ
せ、化合物(LIII)を製造する(第74工程)。
半と同様の方法でアシル化した後、アシルオキシ基をヨ
ードで置換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反応さ
せ、化合物(LIII)を製造する(第74工程)。
化合物(LIII)は、例えば塩化ナトリウムDMSO水溶液と
加熱し脱炭酸することにより、(LII)に2炭素増炭し
た化合物(LIV)を得ることができる(第75工程)。
加熱し脱炭酸することにより、(LII)に2炭素増炭し
た化合物(LIV)を得ることができる(第75工程)。
化合物(LIV)をエーテル類溶媒中、リチウムアルミニ
ウムヒドリドのような還元剤で還元することにより、ア
ルコール化合物(LV)を製造できる(第76工程)。この
化合物のヒドロキシ基をR21(好適にはジフェニルt−
ブチルシリル基)で保護し、イソプロピリデン基を除去
し、生成した1級ヒドロキシ基をR24(好適には、トリ
フェニルメチル基)で保護し(第77工程)、2級ヒドロ
キシ基を、第3工程と同様にしてアシル化し、化合物
(LVII)を製造する(第78工程)。化合物(LVII)のヒ
ドロキシ基の保護基R21(R21が、シリル基群である場
合には弗素アニオンによって)を除去し(第79工程)、
これを塩基(例えばt−ブタノール中t−ブトキシカリ
ウム)で処理することにより2位の立体配位が反転して
閉環した光学活性体の化合物(LIX)を製造することが
できる(第80工程)。
ウムヒドリドのような還元剤で還元することにより、ア
ルコール化合物(LV)を製造できる(第76工程)。この
化合物のヒドロキシ基をR21(好適にはジフェニルt−
ブチルシリル基)で保護し、イソプロピリデン基を除去
し、生成した1級ヒドロキシ基をR24(好適には、トリ
フェニルメチル基)で保護し(第77工程)、2級ヒドロ
キシ基を、第3工程と同様にしてアシル化し、化合物
(LVII)を製造する(第78工程)。化合物(LVII)のヒ
ドロキシ基の保護基R21(R21が、シリル基群である場
合には弗素アニオンによって)を除去し(第79工程)、
これを塩基(例えばt−ブタノール中t−ブトキシカリ
ウム)で処理することにより2位の立体配位が反転して
閉環した光学活性体の化合物(LIX)を製造することが
できる(第80工程)。
さらに、化合物(LIX)は、前記反応8と同様にして実
施することにより、立体配位を保持したメルカプト化合
物(LX)を製造することができる(第81工程)。
施することにより、立体配位を保持したメルカプト化合
物(LX)を製造することができる(第81工程)。
化合物(LV)は、前記反応8と同様にして、立体配位が
反転した保護されたチオール基に変換することができる
(第82,83工程)。
反転した保護されたチオール基に変換することができる
(第82,83工程)。
化合物(LXII)を第77〜80工程と同様にして、実施し光
学活性体の化合物(LXIII)を製造できる(第84工
程)。
学活性体の化合物(LXIII)を製造できる(第84工
程)。
化合物(LXIII)を第81工程と同様にして、実施し、光
学活性体の化合物(LXIV)を製造できる(第85工程)。
学活性体の化合物(LXIV)を製造できる(第85工程)。
化合物(LVI)の2級ヒドロキシ基をR27で保護し(第8
6工程)、保護基R21を選択的に除去した後、生成した
ヒドロキシ基を第3工程と同様にしてアシル化し、化合
物(LXVI)を製造することができる(第87工程)。
6工程)、保護基R21を選択的に除去した後、生成した
ヒドロキシ基を第3工程と同様にしてアシル化し、化合
物(LXVI)を製造することができる(第87工程)。
化合物(LXVI)の2級ヒドロキシ基の保護基R27を選択
的に除去し(第88工程)、第80工程と同様にして実施す
ることにより、2位の立体配位が保持された閉環した光
学活性体の化合物(LXVIII)を製造することができる
(第89工程)。さらに、第81工程と同様にして、メルカ
プト化合物(LXIX)を製造できる(第90工程)。
的に除去し(第88工程)、第80工程と同様にして実施す
ることにより、2位の立体配位が保持された閉環した光
学活性体の化合物(LXVIII)を製造することができる
(第89工程)。さらに、第81工程と同様にして、メルカ
プト化合物(LXIX)を製造できる(第90工程)。
化合物(LXII)を用い、第77工程と同様にして実施し
て、化合物(LXX)を製造できる(第91工程)。
て、化合物(LXX)を製造できる(第91工程)。
化合物(LXX)を用い、第86工程と同様にして実施し
て、化合物(LXXI)を製造できる(第92工程)。
て、化合物(LXXI)を製造できる(第92工程)。
化合物(LXXI)を用い、第87工程と同様にして実施し
て、化合物(LXXII)を製造できる(第93工程)。
て、化合物(LXXII)を製造できる(第93工程)。
化合物(LXXII)を用い、第88工程と同様にして実施し
て、化合物(LXXIII)を製造できる(第94工程)。
て、化合物(LXXIII)を製造できる(第94工程)。
化合物(LXXIII)を用い、第89工程と同様にして実施し
て、光学活性体の化合物(LXXIV)を製造できる(第95
工程)。
て、光学活性体の化合物(LXXIV)を製造できる(第95
工程)。
化合物(LXXIV)を、第81工程と同様にして実施して、
光学活性体の化合物(LXXV)を製造できる(第96工
程)。
光学活性体の化合物(LXXV)を製造できる(第96工
程)。
出発原料として、(2R,3R)を有するd−酒石酸(LXXV
I)を使用し、第73工程と同様にして実施することによ
り、(2S,3S)の化合物(LXXVII)を製造することがで
きる(第97工程)。
I)を使用し、第73工程と同様にして実施することによ
り、(2S,3S)の化合物(LXXVII)を製造することがで
きる(第97工程)。
この化合物(LXXVII)を用いて、上記74〜96工程と同様
の工程を実施することにより、光学活性体の化合物(LX
XVIII)〜(LXXXV)を製造することができる(第98工
程)。
の工程を実施することにより、光学活性体の化合物(LX
XVIII)〜(LXXXV)を製造することができる(第98工
程)。
一方、5員環(l=2)の本発明化合物(I)の原料を
合成するためには、マロン酸エステルの代りに、シアン
化金属を用いシアン化合物を合成し、常法に従ってアル
コール分解してエステルを合成し、さらに還元すること
により、化合物(LII)より1炭素増炭したアルコール
化合物(LXXXVI)を用い、第77〜96工程を実施すること
により、相当する光学活性体の化合物を製造することが
できる。
合成するためには、マロン酸エステルの代りに、シアン
化金属を用いシアン化合物を合成し、常法に従ってアル
コール分解してエステルを合成し、さらに還元すること
により、化合物(LII)より1炭素増炭したアルコール
化合物(LXXXVI)を用い、第77〜96工程を実施すること
により、相当する光学活性体の化合物を製造することが
できる。
又、7員環(l=4)の本発明の化合物(I)の原料を
合成するためには、化合物(LXXXVI)を出発原料として
用い、第74〜96工程を実施することにより、相当する光
学活性体の化合物を製造することができる。
合成するためには、化合物(LXXXVI)を出発原料として
用い、第74〜96工程を実施することにより、相当する光
学活性体の化合物を製造することができる。
上記製造した光学活性体の化合物の、どちらか一方の保
護基を、前記第13工程と同様の方法に従って除去し、さ
らに前記反応4に従ってアルキル化、アシル化又はカル
バメート化することにより、本発明の原料化合物を製造
することができる。
護基を、前記第13工程と同様の方法に従って除去し、さ
らに前記反応4に従ってアルキル化、アシル化又はカル
バメート化することにより、本発明の原料化合物を製造
することができる。
本発明の新規な環状エーテル誘導体は、持続性および生
物学的利用能の優れた強いPAF拮抗作用を有し、新しい
タイプの抗ショック剤、抗血栓剤、抗喘息剤および抗ア
レルギー剤として有用である。
物学的利用能の優れた強いPAF拮抗作用を有し、新しい
タイプの抗ショック剤、抗血栓剤、抗喘息剤および抗ア
レルギー剤として有用である。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または注射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることができる。その使用量は症状、
年令などにより異なるが、1日0.1〜200mg/Kg体重で、
1回または数回に分けて投与することができる。
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または注射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることができる。その使用量は症状、
年令などにより異なるが、1日0.1〜200mg/Kg体重で、
1回または数回に分けて投与することができる。
以下に、実施例、参考例および試験例を挙げ、本発明を
更に具体的に説明する。
更に具体的に説明する。
実施例1 dl−3−{7−(トランス−3−ヘキサデシルオキシテ
トラヒドロピラン−2−イル)メトキシ}ヘプチルチア
ゾリウム=メタンスルホネート 参考例55の化合物(2.067g)とトリエチルアミン(1.83
ml)のベンゼン(15ml)溶液にメタンスルホニルクロリ
ド(0.51ml)のベンゼン(5ml)溶液を氷冷下で滴下し
た。室温で15分間撹拌した後、反応液を水洗,乾燥,濃
縮し,粗dl−7−(トランス−3−ヘキサデシルオキシ
テトラヒドロピラン−2−イル)メトキシヘプチル=メ
タンスルホネート(2.406g)を粘稠な油状物として得
た。この化合物(1.20g)とチアゾール(1.56ml)をト
ルエン(3ml)中に溶かし、70℃の油浴上で5日間加熱
撹拌した。放冷後溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチ
レンクロリド−メタノール−水(60:35:5)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(0.741g)を粘稠な油状物
として得た。
トラヒドロピラン−2−イル)メトキシ}ヘプチルチア
ゾリウム=メタンスルホネート 参考例55の化合物(2.067g)とトリエチルアミン(1.83
ml)のベンゼン(15ml)溶液にメタンスルホニルクロリ
ド(0.51ml)のベンゼン(5ml)溶液を氷冷下で滴下し
た。室温で15分間撹拌した後、反応液を水洗,乾燥,濃
縮し,粗dl−7−(トランス−3−ヘキサデシルオキシ
テトラヒドロピラン−2−イル)メトキシヘプチル=メ
タンスルホネート(2.406g)を粘稠な油状物として得
た。この化合物(1.20g)とチアゾール(1.56ml)をト
ルエン(3ml)中に溶かし、70℃の油浴上で5日間加熱
撹拌した。放冷後溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチ
レンクロリド−メタノール−水(60:35:5)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(0.741g)を粘稠な油状物
として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 以下、特記なき場合は90MHzで測定した。
0.7〜2.45(45H,m) 2.77(3H,s,−OSO2CH3) 2.95〜4.05(10H,m) 4.75(2H,t,J=7.5Hz) 8.4〜8.6(2H,m) 10.91(1H,m) 実施例2 dl−3−{7−(シス−3−ヘキサデシルオキシテトラ
ヒドロピラン−2−イル)メトキシ}ヘプチルチアゾリ
ウム=メタンスルホネート 参考例58の化合物(1.215g)を用い、実施例1の前半の
ように操作して粗dl−7−(シス−3−ヘキサデシルオ
キシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシヘプチル
=メタンスルホネート(1.42g)を粘稠な油状物として
得た。この化合物(0.71g)を実施例1の後半のように
操作して表記の化合物(0.322g)を粘稠な油状物として
得た。
ヒドロピラン−2−イル)メトキシ}ヘプチルチアゾリ
ウム=メタンスルホネート 参考例58の化合物(1.215g)を用い、実施例1の前半の
ように操作して粗dl−7−(シス−3−ヘキサデシルオ
キシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシヘプチル
=メタンスルホネート(1.42g)を粘稠な油状物として
得た。この化合物(0.71g)を実施例1の後半のように
操作して表記の化合物(0.322g)を粘稠な油状物として
得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.75〜2.30(45H,m) 2.77(3H,s,−OSO2CH3) 3.1〜3.75(9H,m) 3.85〜4.20(1H,m) 4.77(2H,t,J=7.5Hz) 8.4〜8.7(2H,m) 10.97(1H,m) 元素分析:C33H63NO6S2・H2Oとして 計算値:C,60.79;H,10.05;N,2.15;S,9.83 実測値:C,60.39;H,9.94;N,2.16;S,9.52 実施例3 dl−3−〔5−{(トランス−3−ヘキサデシルオキシ
テトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボニルア
ミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例47の化合物(711mg)をトルエン(2ml)に溶か
し、チアゾール(1.84ml)を加えて80℃で86時間加熱し
た。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(17g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。塩化メチレ
ン−メタノール(19:1〜17:3)で溶出される分画を集め
てローバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィ
ーにかけた。上記の溶媒系で溶出される分画を集めて表
記の化合物(480mg)を粉末として得た。
テトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボニルア
ミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例47の化合物(711mg)をトルエン(2ml)に溶か
し、チアゾール(1.84ml)を加えて80℃で86時間加熱し
た。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(17g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。塩化メチレ
ン−メタノール(19:1〜17:3)で溶出される分画を集め
てローバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィ
ーにかけた。上記の溶媒系で溶出される分画を集めて表
記の化合物(480mg)を粉末として得た。
NMRスペクトル(CD3OD)ppm: 0.7〜2.4(41H,m) 2.9〜4.5(10H,m) 4.62(2H,t,J=7Hz,▲−CH 2▼N) 8.31(1H,d,J=4Hz) 8.52(1H,d,J=4Hz) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3470(−NH),1710(−O
−CO−) 実施例4 dl−3−〔5−{(トランス−3−ヘプタデシルカルバ
モイルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシ
カルボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例6の化合物(400mg)をトルエン(1ml)に溶か
し、チアゾール(0.47ml)を加えて80℃で66時間加熱し
た。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(10g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。塩化メチレ
ン−メタノール(19:1〜4:1)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(390mg)を粉末として得た。
−CO−) 実施例4 dl−3−〔5−{(トランス−3−ヘプタデシルカルバ
モイルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシ
カルボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例6の化合物(400mg)をトルエン(1ml)に溶か
し、チアゾール(0.47ml)を加えて80℃で66時間加熱し
た。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(10g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。塩化メチレ
ン−メタノール(19:1〜4:1)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(390mg)を粉末として得た。
m.p 54〜56℃ NMRスペクトル(270MHz,CD3OD)ppm: 元素分析:C33H60BrN3O5S・1.5H2Oとして 計算値:C,55.22;H,8.85;N,5.85;S,4.47 実測値:C,55.22;H,8.56;N,5.73;S,4.22 実施例5 3−〔5−{(2S,3R)−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例31の化合物(564.0mg)、およびチアゾール(0.6
6ml)から、実施例4と同様にして、表記の化合物(55
3.0mg)を白色の粉末として得た。mp.97.0〜99.0℃,▲
〔α〕25 D▼−27.3°(C=1.05,MeOH) FAB−マススペクトル(m/e):610(M−Br-)+ 元素分析:C33H60BrN3O5S・1.2H2Oとして 計算値:C,55.63;H,8.83;N,5.90;S,4.50 実測値:C,55.58;H,8.62;N,5.78;S,4.36 実施例6 3−〔5−{(2R,3S)−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例32の化合物(540.0mg)、およびチアゾール(0.6
3ml)から実施例4と同様にして表記の化合物(523.8m
g)を白色の粉末として得た。mp.97.0〜99.0℃▲〔α〕
25 D▼+27.2°(C=1.05,MeOH) FAB−マススペクトル(m/e):610(M−Br-)+ 元素分析:C33H60BrN3O5S・1.5H2Oとして 計算値:C,55.22;H,8.85;N,5.85;S,4.47 実測値:C,55.18;H,8.40;N,5.86;S,4.32 実施例7 dl−3−〔5−{(シス−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルチオテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例42の化合物(600mg)をトルエン(1ml)に溶か
し、チアゾール(0.68ml)を加えて80℃の油浴上で64時
間加熱した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル
(15g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
メチレンクロリド−メタノール(9:1〜4:1)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(595mg)を白色粉末とし
て得た。
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例31の化合物(564.0mg)、およびチアゾール(0.6
6ml)から、実施例4と同様にして、表記の化合物(55
3.0mg)を白色の粉末として得た。mp.97.0〜99.0℃,▲
〔α〕25 D▼−27.3°(C=1.05,MeOH) FAB−マススペクトル(m/e):610(M−Br-)+ 元素分析:C33H60BrN3O5S・1.2H2Oとして 計算値:C,55.63;H,8.83;N,5.90;S,4.50 実測値:C,55.58;H,8.62;N,5.78;S,4.36 実施例6 3−〔5−{(2R,3S)−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例32の化合物(540.0mg)、およびチアゾール(0.6
3ml)から実施例4と同様にして表記の化合物(523.8m
g)を白色の粉末として得た。mp.97.0〜99.0℃▲〔α〕
25 D▼+27.2°(C=1.05,MeOH) FAB−マススペクトル(m/e):610(M−Br-)+ 元素分析:C33H60BrN3O5S・1.5H2Oとして 計算値:C,55.22;H,8.85;N,5.85;S,4.47 実測値:C,55.18;H,8.40;N,5.86;S,4.32 実施例7 dl−3−〔5−{(シス−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルチオテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例42の化合物(600mg)をトルエン(1ml)に溶か
し、チアゾール(0.68ml)を加えて80℃の油浴上で64時
間加熱した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル
(15g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
メチレンクロリド−メタノール(9:1〜4:1)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(595mg)を白色粉末とし
て得た。
m.p122〜125℃ NMRスペクトル(CD3OD)ppm: 0.7〜2.3(43H,m) 2.9〜4.2(10H,m) 4.67(2H,t,J=7Hz,−CH2 N) IRスペクトル(KBr)cm-1:3320(−NH),1700(−O−C
O−),1640(−S−CO−) 元素分析:C33H60BrN3O4S2・3/2H2Oとして 計算値:C,54.01;H,8.65;N,5.73;S,8.74 実測値:C,54.29;H,8.21;N,5.74;S,8.36 実施例8 dl−3−〔5−{(シス−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例67の化合物(550.2mg)およびチアゾール(0.65m
l)から実施例4と同様にして表記の化合物(526.9mg)
を白色の粉末として得た。mp115〜120℃。
O−),1640(−S−CO−) 元素分析:C33H60BrN3O4S2・3/2H2Oとして 計算値:C,54.01;H,8.65;N,5.73;S,8.74 実測値:C,54.29;H,8.21;N,5.74;S,8.36 実施例8 dl−3−〔5−{(シス−3−ヘプタデシルカルバモイ
ルオキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカル
ボニルアミノ}ペンチル〕チアゾリウム=ブロミド 参考例67の化合物(550.2mg)およびチアゾール(0.65m
l)から実施例4と同様にして表記の化合物(526.9mg)
を白色の粉末として得た。mp115〜120℃。
NMRスペクトル(CD3OD-CDCl3,1:1)ppm: 0.7〜2.3(43H,m) 3.0〜3.2(4H,m) 3.4〜3.8(2H,m) 3.9〜4.2(3H,m) 4.66(2H,t,J=7Hz,−CH2 N) 4.7〜4.9(1H,m,C(3)−H) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3460(−NH−),1705,1695
(−O−CO−) 元素分析:C33H60BrN3O5S・3H2Oとして 計算値:C,53.21;H,8.12;Br,13.48; N,5.64;S,3.30 実測値:C,53.31;H,7.99;Br,13.78; N,5.51;S,3.59 実施例9 dl−3−〔6−エトキシカルボニル−6−{(トランス
−3−ヘプタデシルカルバモイルオキシテトラヒドロピ
ラン−2−イル)メトキシカルボニルアミノ}ヘキシ
ル〕チアゾリウム=メタンスルホネート 参考例64の化合物(0.363g)とトリエチルアミン(0.16
ml)のベンゼン(5ml)溶液に、メタンスルホニルクロ
リド(0.099g)を氷冷下で加えた。室温で15分間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。油状の残渣(0.
357g)およびチアゾール(0.41ml)をトルエン(2.0m
l)に溶かし、90℃の油浴上で4日間加熱撹拌した。溶
媒を溜去した後、残渣をシリカゲル(30g)を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロリド−
メタノール(3:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表記
の化合物(0.205g)を白色粉末として得た。mp52〜60℃ NMRスペクトル(270MHz,CD3OD)ppm: 0.90(3H,t,J=7.0Hz) 1.25(3H,t,J=7.0Hz) 1.3〜1.9(39H,m) 2.01(2H,m) 2.20(1H,m) 2.70(3H,s) 3.06(2H,t,J=6.9Hz) 3.44(2H,m) 3.89(1H,m) 4.0〜4.3(2H,m) 4.16(2H,q,J=7.0Hz) 4.49(1H,m) 4.60(2H,t,J=7.5Hz) 8.29(1H,d,J=3.7Hz) 8.50(1H,d,J=3.7Hz) 元素分析:C38H69N3O10S2として 計算値:C,57.61;H,8.78;N,5.30 実測値:C,57.57;H,8.94;N,5.17 実施例10 dl−シス−2−{N−(2−ピリジルメチル)カルバモ
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−ヘプタデシルチオールカルバメート 参考例41の化合物(1.424g)とピリジン(0.54ml)のメ
チレンクロリド(20ml)溶液に、クロロ炭酸フェニル
(0.778g)のメチレンクロリド(8ml)溶液を加えた。
室温で1時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、メチレ
ンクロリドで3回抽出した。抽出液を順次10%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去した。得られた粗カーボネート
(2.01g)をクロロホルム(28ml)に溶かし、2−(ア
ミノメチル)ピリジン(0.68ml)を加えて44時間加熱還
流した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1〜0:1)で溶出される分画を集
め、さらにヘキサン−メチレンクロリドから再沈澱し、
表記の化合物(1.675g)を白色の固体として得た。m.p8
8〜90℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(37H,m) 3.1〜4.3(8H,m) 3.26(2H,q,−SCONHCH2 −) 4.51(2H,d,J=6Hz,−CH2 −2−ピリジル) 5.38(1H,m,−SCONH−) 5.82(1H,m,−OCONH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3440(−NH−),1720(−
O−CO−),1670(−S−CO−) 元素分析:C31H53N3O4Sとして 計算値:C,66.04;H,9.47;N,7.45;S,5.69 実測値:C,66.12;H,9.38;N,7.53;S,5.63 実施例11 dl−シス−2−{N−アセチル−N−(2−ピリジルメ
チル)カルバモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−アセチル−N−ヘプタデシルチオール
カルバメート 実施例10の化合物(1.632g)、4−ジメチルアミノピリ
ジン(3.54g)および無水酢酸(2.73ml)のトルエン(3
2ml)溶液を80℃で65時間加熱撹拌した。反応液を濃縮
乾固し、残渣をシリカゲル(40g)を用いたカラムクロ
マトグラフィー、さらにローバーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−メチレン
クロリド−酢酸エチル(15:5:4)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(0.493g)を油状物として得た。
(−O−CO−) 元素分析:C33H60BrN3O5S・3H2Oとして 計算値:C,53.21;H,8.12;Br,13.48; N,5.64;S,3.30 実測値:C,53.31;H,7.99;Br,13.78; N,5.51;S,3.59 実施例9 dl−3−〔6−エトキシカルボニル−6−{(トランス
−3−ヘプタデシルカルバモイルオキシテトラヒドロピ
ラン−2−イル)メトキシカルボニルアミノ}ヘキシ
ル〕チアゾリウム=メタンスルホネート 参考例64の化合物(0.363g)とトリエチルアミン(0.16
ml)のベンゼン(5ml)溶液に、メタンスルホニルクロ
リド(0.099g)を氷冷下で加えた。室温で15分間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。油状の残渣(0.
357g)およびチアゾール(0.41ml)をトルエン(2.0m
l)に溶かし、90℃の油浴上で4日間加熱撹拌した。溶
媒を溜去した後、残渣をシリカゲル(30g)を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロリド−
メタノール(3:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表記
の化合物(0.205g)を白色粉末として得た。mp52〜60℃ NMRスペクトル(270MHz,CD3OD)ppm: 0.90(3H,t,J=7.0Hz) 1.25(3H,t,J=7.0Hz) 1.3〜1.9(39H,m) 2.01(2H,m) 2.20(1H,m) 2.70(3H,s) 3.06(2H,t,J=6.9Hz) 3.44(2H,m) 3.89(1H,m) 4.0〜4.3(2H,m) 4.16(2H,q,J=7.0Hz) 4.49(1H,m) 4.60(2H,t,J=7.5Hz) 8.29(1H,d,J=3.7Hz) 8.50(1H,d,J=3.7Hz) 元素分析:C38H69N3O10S2として 計算値:C,57.61;H,8.78;N,5.30 実測値:C,57.57;H,8.94;N,5.17 実施例10 dl−シス−2−{N−(2−ピリジルメチル)カルバモ
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−ヘプタデシルチオールカルバメート 参考例41の化合物(1.424g)とピリジン(0.54ml)のメ
チレンクロリド(20ml)溶液に、クロロ炭酸フェニル
(0.778g)のメチレンクロリド(8ml)溶液を加えた。
室温で1時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、メチレ
ンクロリドで3回抽出した。抽出液を順次10%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去した。得られた粗カーボネート
(2.01g)をクロロホルム(28ml)に溶かし、2−(ア
ミノメチル)ピリジン(0.68ml)を加えて44時間加熱還
流した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1〜0:1)で溶出される分画を集
め、さらにヘキサン−メチレンクロリドから再沈澱し、
表記の化合物(1.675g)を白色の固体として得た。m.p8
8〜90℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(37H,m) 3.1〜4.3(8H,m) 3.26(2H,q,−SCONHCH2 −) 4.51(2H,d,J=6Hz,−CH2 −2−ピリジル) 5.38(1H,m,−SCONH−) 5.82(1H,m,−OCONH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3440(−NH−),1720(−
O−CO−),1670(−S−CO−) 元素分析:C31H53N3O4Sとして 計算値:C,66.04;H,9.47;N,7.45;S,5.69 実測値:C,66.12;H,9.38;N,7.53;S,5.63 実施例11 dl−シス−2−{N−アセチル−N−(2−ピリジルメ
チル)カルバモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−アセチル−N−ヘプタデシルチオール
カルバメート 実施例10の化合物(1.632g)、4−ジメチルアミノピリ
ジン(3.54g)および無水酢酸(2.73ml)のトルエン(3
2ml)溶液を80℃で65時間加熱撹拌した。反応液を濃縮
乾固し、残渣をシリカゲル(40g)を用いたカラムクロ
マトグラフィー、さらにローバーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−メチレン
クロリド−酢酸エチル(15:5:4)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(0.493g)を油状物として得た。
NMRスペクトル(60MHz CDCl3)ppm: 実施例12 dl−シス−2−{N−(2−ピリジルメチル)カルバモ
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−アセチル−N−ヘプタデシルチオールカルバメート 実施例11の化合物がシリカゲル(40g)のカラムより溶
出された後、更にヘキサン−メチレンクロリド−酢酸エ
チル(1:1:1)を用いて溶出を行い、得られた分画を集
めて得られた油状物をローバーBカラムを用いて精製し
た。上記溶媒で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(0.379g)を油状物として得た。
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−アセチル−N−ヘプタデシルチオールカルバメート 実施例11の化合物がシリカゲル(40g)のカラムより溶
出された後、更にヘキサン−メチレンクロリド−酢酸エ
チル(1:1:1)を用いて溶出を行い、得られた分画を集
めて得られた油状物をローバーBカラムを用いて精製し
た。上記溶媒で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(0.379g)を油状物として得た。
NMRスペクトル(60MHz,CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(37H,m) 2.41(3H,s,NCOCH3) 3.2〜4.6(10H,m) 5.90(1H,m,NH) 実施例13 dl−1−エチル−2−〔N−アセチル−N−{シス−3
−(N−アセチル−N−ヘプタデシルカルバモイルチ
オ)テトラヒドロピラン−2−イルメトキシカルボニ
ル}アミノメチル〕ピリジニウム クロリド 実施例11の化合物(0.493g)にヨウ化エチル(10ml)を
加えて91時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(44ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.368g)を得た。
−(N−アセチル−N−ヘプタデシルカルバモイルチ
オ)テトラヒドロピラン−2−イルメトキシカルボニ
ル}アミノメチル〕ピリジニウム クロリド 実施例11の化合物(0.493g)にヨウ化エチル(10ml)を
加えて91時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(44ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.368g)を得た。
NMRスペクトル(60MHz,CD3OD)ppm: 実施例14 dl−トランス−2−{N−(2−ピリジルメチル)カル
バモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル
=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例4の化合物(1.400g)とピリジン(0.55ml)のメ
チレンクロリド(20ml)溶液に、クロロ炭酸フェニル
(0.795g)のメチレンクロリド(8ml)溶液を加えた。
室温で1時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、メチレ
ンクロリドで3回抽出した。抽出液を順次10%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去した。得られた粗カーボネート
(2.04g)をクロロホルム(28ml)に溶かし、2−(ア
ミノメチル)ピリジン(0.70ml)を加えて49時間加熱還
流した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(1:1〜0:1)で溶出される分画を集
め、さらにヘキサン−メチレンクロリドから再沈澱し、
表記の化合物(1.663g)を白色の固体として得た。m.p7
8〜80℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.9〜3.7(4H,m) 3.7〜4.9(7H,m) 5.87(1H,m,−NH-CH2−2−ピリジル) マススペクトル(m/e):547(M+) 元素分析:C31H53N3O5として 計算値:C,67.97;H,9.75;N,7.67 実測値:C,67.94;H,9.65;N,7.69 実施例15 dl−トランス−2−{N−アセチル−N−(2−ピリジ
ルメチル)カルバモイルオキシ}メチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 実施例14の化合物(1.613g)、4−ジメチルアミノピリ
ジン(3.60g)および無水酢酸(2.78ml)のトルエン(3
2ml)溶液を80℃で86時間加熱撹拌した。反応液を濃縮
乾固し、残渣をシリカゲル(40g)を用いたカラムクロ
マトグラフィー、さらにローバーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(3:2)で溶出される分画を集め、さらにヘキサンか
ら再沈澱し、表記の化合物(0.408g)を固体として得
た。m.p79〜81℃ NMRスペクトル(60MHz,CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.62(3H,s,−COCH3) 2.8〜3.5(4H,m) 3.7〜5.2(7H,m) 5.11(2H,s,−CH2−2−ピリジル) 元素分析:C33H55N3O6として 計算値:C,67.20;H,9.40;N,7.12 実測値:C,66.95;H,9.67;N,7.08 実施例16 dl−1−エチル−2−〔N−アセチル−N−{トランス
−3−(N−ヘプタデシルカルバモイルオキシ)テトラ
ヒドロピラン−2−イルメトキシカルボニル}アミノメ
チル〕ピリジニウム クロリド 実施例15の化合物(0.365g)にヨウ化エチル(8ml)を
加えて40時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(35ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた内圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.345g)を得た。
バモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル
=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例4の化合物(1.400g)とピリジン(0.55ml)のメ
チレンクロリド(20ml)溶液に、クロロ炭酸フェニル
(0.795g)のメチレンクロリド(8ml)溶液を加えた。
室温で1時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、メチレ
ンクロリドで3回抽出した。抽出液を順次10%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去した。得られた粗カーボネート
(2.04g)をクロロホルム(28ml)に溶かし、2−(ア
ミノメチル)ピリジン(0.70ml)を加えて49時間加熱還
流した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(40
g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(1:1〜0:1)で溶出される分画を集
め、さらにヘキサン−メチレンクロリドから再沈澱し、
表記の化合物(1.663g)を白色の固体として得た。m.p7
8〜80℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.9〜3.7(4H,m) 3.7〜4.9(7H,m) 5.87(1H,m,−NH-CH2−2−ピリジル) マススペクトル(m/e):547(M+) 元素分析:C31H53N3O5として 計算値:C,67.97;H,9.75;N,7.67 実測値:C,67.94;H,9.65;N,7.69 実施例15 dl−トランス−2−{N−アセチル−N−(2−ピリジ
ルメチル)カルバモイルオキシ}メチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 実施例14の化合物(1.613g)、4−ジメチルアミノピリ
ジン(3.60g)および無水酢酸(2.78ml)のトルエン(3
2ml)溶液を80℃で86時間加熱撹拌した。反応液を濃縮
乾固し、残渣をシリカゲル(40g)を用いたカラムクロ
マトグラフィー、さらにローバーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(3:2)で溶出される分画を集め、さらにヘキサンか
ら再沈澱し、表記の化合物(0.408g)を固体として得
た。m.p79〜81℃ NMRスペクトル(60MHz,CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.62(3H,s,−COCH3) 2.8〜3.5(4H,m) 3.7〜5.2(7H,m) 5.11(2H,s,−CH2−2−ピリジル) 元素分析:C33H55N3O6として 計算値:C,67.20;H,9.40;N,7.12 実測値:C,66.95;H,9.67;N,7.08 実施例16 dl−1−エチル−2−〔N−アセチル−N−{トランス
−3−(N−ヘプタデシルカルバモイルオキシ)テトラ
ヒドロピラン−2−イルメトキシカルボニル}アミノメ
チル〕ピリジニウム クロリド 実施例15の化合物(0.365g)にヨウ化エチル(8ml)を
加えて40時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(35ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた内圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.345g)を得た。
NMRスペクトル(60MHz,CD3OD)ppm: 実施例17 dl−1−エチル−2−〔N−{シス−3−(N−アセチ
ル−N−ヘプタデシルカルバモイルチオ)テトラヒドロ
ピラン−2−イルメトキシカルボニル}アミノメチル〕
ピリジニウム クロリド 実施例12の化合物(0.379g)にヨウ化エタン(8ml)を
加えて91時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(35ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.302g)を得た。
ル−N−ヘプタデシルカルバモイルチオ)テトラヒドロ
ピラン−2−イルメトキシカルボニル}アミノメチル〕
ピリジニウム クロリド 実施例12の化合物(0.379g)にヨウ化エタン(8ml)を
加えて91時間加熱還流した。反応液を濃縮乾固し、残渣
を70%メタノールに溶かし、イオン交換樹脂IRA-410〔C
l-型、ローム・アンド・ハース社製〕(35ml)のカラム
を通過させた。同じ溶媒でカラムを洗い、通過液と洗液
を合わせて濃縮した。得られた粗クロリドをシリカゲル
(10g)を用いたカラムクロマトグラフィー、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(0.302g)を得た。
NMRスペクトル(60MHz,CD3OD)ppm: 0.7〜2.2(40H,m) 1.63(3H,t,J=7Hz, N−CH2 CH3 ) 2.38(3H,s,NCOCH3) 3.2〜5.0(13H,m) 4.73(2H,q,J=7Hz, N−CH2 CH3) 参考例1 6−ベンジルオキシメチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン 6−ヒドロキシメチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン
(5.71g)のジメチルホルムアミド(100ml)溶液を水素
化ナトリウム(55%の鉱油懸濁物、2.18g)とジメチル
ホルムアミドの混合物中に氷冷下で滴下した。室温で1
時間撹拌した後、ベンジルクロリド(6.33g)を加え
た。16時間撹拌した後、反応液を1の水中に注ぎ、酢
酸エチルで2回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮
し、油状の残渣(13g)をシリカゲル(200g)を用いた
カラムクロマトグラフィにかけた。エーテル−ヘキサン
(4:100〜5:100)で溶出された分画を集め、表記の化合
物(9.40g)を無色の油状物として得た。沸点(以下bp
と略記する。)125〜130℃(浴温)/1mmHg。
ン 6−ヒドロキシメチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン
(5.71g)のジメチルホルムアミド(100ml)溶液を水素
化ナトリウム(55%の鉱油懸濁物、2.18g)とジメチル
ホルムアミドの混合物中に氷冷下で滴下した。室温で1
時間撹拌した後、ベンジルクロリド(6.33g)を加え
た。16時間撹拌した後、反応液を1の水中に注ぎ、酢
酸エチルで2回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮
し、油状の残渣(13g)をシリカゲル(200g)を用いた
カラムクロマトグラフィにかけた。エーテル−ヘキサン
(4:100〜5:100)で溶出された分画を集め、表記の化合
物(9.40g)を無色の油状物として得た。沸点(以下bp
と略記する。)125〜130℃(浴温)/1mmHg。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.65〜2.2(4H,m,C(3)−H2,C(4)−H2) 3.87(2H,s,−CH2 ‐OCH2Ph) 4.03(2H,m,C(2)−H2) 4.57(2H,s,−O−CH2‐Ph) 4.80(1H,t,J=3.5Hz,C(5)−H) 7.2〜7.6(5H,m,C6H5−) 元素分析:C13H16O2として 計算値:C,76.44;H,7.90 実測値:C,76.36;H,7.90 参考例2 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−テトラヒド
ロピラン−3−オール 参考例1の化合物(9.00g)をテトラヒドロフラン(30m
l)に溶かし、−5℃〜0℃でボランの1Mテトラヒドロ
フラン溶液(29.3ml)を滴下した。室温で3時間撹拌し
た後、10%水酸化ナトリウム水溶液を滴下した。続いて
30%過酸化水素水(10.8ml)を32〜40℃で滴下した。室
温でさらに1時間撹拌した後、有機層を分取し、水洗、
乾燥、濃縮した。油状の粗生成物(10.5g)をシリカゲ
ル(250g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。酢酸エチル−塩化メチレン(1:20)で溶出された。
分画を集めて表記の化合物(8.82g)を得た。bp130〜13
5℃(浴温)/1mmHg。
ロピラン−3−オール 参考例1の化合物(9.00g)をテトラヒドロフラン(30m
l)に溶かし、−5℃〜0℃でボランの1Mテトラヒドロ
フラン溶液(29.3ml)を滴下した。室温で3時間撹拌し
た後、10%水酸化ナトリウム水溶液を滴下した。続いて
30%過酸化水素水(10.8ml)を32〜40℃で滴下した。室
温でさらに1時間撹拌した後、有機層を分取し、水洗、
乾燥、濃縮した。油状の粗生成物(10.5g)をシリカゲ
ル(250g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。酢酸エチル−塩化メチレン(1:20)で溶出された。
分画を集めて表記の化合物(8.82g)を得た。bp130〜13
5℃(浴温)/1mmHg。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.15〜2.25(4H,m,C(4)−H2,C(5)−H2) 2.83(1H,d,J=3Hz,−OH) 3.1〜3.6(3H,m) 3.68(2H,d,J=5Hz,−CH2−OCH2Ph) 3.75〜4.05(1H,m) 4.58(2H,s,−OCH2Ph) 7.2〜7.5(5H,m,C6H5−) マススペクトル(m/e):222(M+)。
元素分析:C13H18O2として 計算値:C,70.24;H,8.16 実測値:C,70.07;H,8.04 参考例3 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−テトラヒド
ロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート ステアリン酸(6.082g)、ジフェニルホスホリルアジド
(3.84ml)およびトリエチルアミン(2.48ml)のベンゼ
ン(200ml)溶液を3時間加熱還流した。冷却後、反応
液を重炭酸ナトリウム水溶液と食塩水で洗った。乾燥後
溶媒を留去し、残渣をベンゼン(160ml)中に再び溶か
した。参考例2の化合物(1.980g)を加え、窒素雰囲気
下で38時間加熱還流した。冷却後反応液を重炭酸ナトリ
ウム水溶液と水で順次洗い、乾燥後濃縮乾固した。残渣
をシリカゲル(60g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−メチレンクリド−エーテル(6:3:
1)で溶出される分画を集めて、表記の化合物(3.904
g)を白色の固体として得た。融点(以下mpと略記す
る)61〜63℃ IRスペクトル(CHCl3,cm-1:3460(−NH−),1720(−O
−CO−) マススペクトル(m/e):503(M+),412(M+−C
7H7) 元素分析:C31H53NO4として 計算値:C,73.91;H,10.60;N,2.78 実測値:C,74.27;H,10.70;N,2.71 参考例4 dl−(トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例3の化合物(3.800g)のメタノール(120ml)溶
液に10%パラジウム炭素を加え、パールの装置中室温4
気圧で8時間水素ガスと反応させた。触媒を去後、溶
媒を留去すると表記の化合物(2.729g)が白色の固体と
して得られた。mp84〜86℃(エーテル) IRスペクトル(CHCl3,cm-1):3570(−OH),3450(−N
H),1710(−O−CO−) マススペクトル(m/e):413(M+),382(M+−CH2OH) 元素分析:C24H47NO4として 計算値:C,69.69;H,11.45;N,3.39 実測値:C,69.38;H,11.35;N,3.52 参考例5 dl−(トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(5.405g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例2の化合物(1.118g)と反応させ、クロマ
トグラフィー後、dl−(トランス−2−ベンジルオキシ
メチルテトラヒドロピラン−3−イル)=N−オクタデ
シルカーバメート(1.417g)を固体として得た。この化
合物(1.395g)をさらに精製することなくテトラヒドロ
フラン(30ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(700m
g)の存在下パールの装置を用いて室温4気圧で7時間
水素化を行った。触媒を去し、溶媒を留去すると表記
の化合物(1.128g)が白色の固体として得られた。mp84
〜86℃(エーテル) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(39H,m) 2.80(1H,m,−OH) 3.0〜4.2(7H,m) 4.5〜4.9(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600(−OH),3460(−NH
−),1710(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),396(M+−CH2OH) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,69.91;H,11.55;N,3.19 参考例6 dl−トランス−2−{N−(5−ブロモペンチル)カル
バモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル
=N−ヘプタデシルカルバメート 6−ブロムヘキサン酸(1.41g)をベンゼン(40ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリルアジド(1.56ml)とトリ
エチルアミン(1.68ml)を加え、3時間加熱還流した。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で
洗った後、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(20ml)に
溶かし、参考例5の化合物(1.000g)とトリエチルアミ
ン(1.68ml)を加えて85℃の油浴上で67時間加熱した。
反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(30g)を用い
たカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸
エチル(4:1〜3:1)で溶出される分画を集め、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。上記溶媒で溶出される分画を集めて表記の化合
物(0.815g)を白色の蝋状物として得た。mp71〜75℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(43H,m) 2.6〜3.8(6H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 3.8〜4.9(6H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH),1720(−OCO
NH−) マススペクトル(m/e):606,604(M+),525(M+−B
r),524(M+−HBr) 元素分析:C30H57BrN2O5として 計算値:C,59.49;H,9.49;N,4.62 実測値:C,59.92;H,9.44;N,4.81 参考例7 (2R,3S)−3−O−ベンジル−4−ヨード−1,2−O−
イソプロピリデンブタン−1,2,3−トリオール 大野らの方法{Chem,Pharm.Bull.,33,572(1985)}に
従って合成した(2R,3R)−3−O−ベンジル−1,2−O
−イソプロピリデンスレイトール(57.00g)とトリエチ
ルアミン(44.10ml)のベンゼン(1)溶液にメタン
スルホニルクロリド(21.00ml)のベンゼン(100ml)を
氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌後、反応液を水洗、
乾燥・濃縮して(2R,3R)−2−ベンジルオキシ−3,4−
イソプロピリデンジオキシブチル=メタンスルホネート
(74.80g)を無色の油状物として得た。
ロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート ステアリン酸(6.082g)、ジフェニルホスホリルアジド
(3.84ml)およびトリエチルアミン(2.48ml)のベンゼ
ン(200ml)溶液を3時間加熱還流した。冷却後、反応
液を重炭酸ナトリウム水溶液と食塩水で洗った。乾燥後
溶媒を留去し、残渣をベンゼン(160ml)中に再び溶か
した。参考例2の化合物(1.980g)を加え、窒素雰囲気
下で38時間加熱還流した。冷却後反応液を重炭酸ナトリ
ウム水溶液と水で順次洗い、乾燥後濃縮乾固した。残渣
をシリカゲル(60g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−メチレンクリド−エーテル(6:3:
1)で溶出される分画を集めて、表記の化合物(3.904
g)を白色の固体として得た。融点(以下mpと略記す
る)61〜63℃ IRスペクトル(CHCl3,cm-1:3460(−NH−),1720(−O
−CO−) マススペクトル(m/e):503(M+),412(M+−C
7H7) 元素分析:C31H53NO4として 計算値:C,73.91;H,10.60;N,2.78 実測値:C,74.27;H,10.70;N,2.71 参考例4 dl−(トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例3の化合物(3.800g)のメタノール(120ml)溶
液に10%パラジウム炭素を加え、パールの装置中室温4
気圧で8時間水素ガスと反応させた。触媒を去後、溶
媒を留去すると表記の化合物(2.729g)が白色の固体と
して得られた。mp84〜86℃(エーテル) IRスペクトル(CHCl3,cm-1):3570(−OH),3450(−N
H),1710(−O−CO−) マススペクトル(m/e):413(M+),382(M+−CH2OH) 元素分析:C24H47NO4として 計算値:C,69.69;H,11.45;N,3.39 実測値:C,69.38;H,11.35;N,3.52 参考例5 dl−(トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(5.405g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例2の化合物(1.118g)と反応させ、クロマ
トグラフィー後、dl−(トランス−2−ベンジルオキシ
メチルテトラヒドロピラン−3−イル)=N−オクタデ
シルカーバメート(1.417g)を固体として得た。この化
合物(1.395g)をさらに精製することなくテトラヒドロ
フラン(30ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(700m
g)の存在下パールの装置を用いて室温4気圧で7時間
水素化を行った。触媒を去し、溶媒を留去すると表記
の化合物(1.128g)が白色の固体として得られた。mp84
〜86℃(エーテル) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(39H,m) 2.80(1H,m,−OH) 3.0〜4.2(7H,m) 4.5〜4.9(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600(−OH),3460(−NH
−),1710(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),396(M+−CH2OH) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,69.91;H,11.55;N,3.19 参考例6 dl−トランス−2−{N−(5−ブロモペンチル)カル
バモイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル
=N−ヘプタデシルカルバメート 6−ブロムヘキサン酸(1.41g)をベンゼン(40ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリルアジド(1.56ml)とトリ
エチルアミン(1.68ml)を加え、3時間加熱還流した。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で
洗った後、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(20ml)に
溶かし、参考例5の化合物(1.000g)とトリエチルアミ
ン(1.68ml)を加えて85℃の油浴上で67時間加熱した。
反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル(30g)を用い
たカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸
エチル(4:1〜3:1)で溶出される分画を集め、さらにロ
ーバーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。上記溶媒で溶出される分画を集めて表記の化合
物(0.815g)を白色の蝋状物として得た。mp71〜75℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(43H,m) 2.6〜3.8(6H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 3.8〜4.9(6H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH),1720(−OCO
NH−) マススペクトル(m/e):606,604(M+),525(M+−B
r),524(M+−HBr) 元素分析:C30H57BrN2O5として 計算値:C,59.49;H,9.49;N,4.62 実測値:C,59.92;H,9.44;N,4.81 参考例7 (2R,3S)−3−O−ベンジル−4−ヨード−1,2−O−
イソプロピリデンブタン−1,2,3−トリオール 大野らの方法{Chem,Pharm.Bull.,33,572(1985)}に
従って合成した(2R,3R)−3−O−ベンジル−1,2−O
−イソプロピリデンスレイトール(57.00g)とトリエチ
ルアミン(44.10ml)のベンゼン(1)溶液にメタン
スルホニルクロリド(21.00ml)のベンゼン(100ml)を
氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌後、反応液を水洗、
乾燥・濃縮して(2R,3R)−2−ベンジルオキシ−3,4−
イソプロピリデンジオキシブチル=メタンスルホネート
(74.80g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 2.92(3H,s,−O−SO2−CH3) 3.4〜4.5(6H,m) 4.65(2H,s,−CH2Ph) 7.25(5H,m,−Ph) 上記メタンスルホネート(74.80g)、炭酸水素ナトリウ
ム(113.92g)およびヨウ化ナトリウム(169.39g)を、
アセトン(1.1)中で12時間加熱還流した。放冷後反
応液をセライトろ過し不溶物を除いた。溶媒を溜去後残
渣を水で稀釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水
洗・乾燥・濃縮し油状の残渣をシリカゲル(600g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(95:5)で溶出される分画を集めて表記の化合
物(75.64g)を無色の油状物として得た。
ム(113.92g)およびヨウ化ナトリウム(169.39g)を、
アセトン(1.1)中で12時間加熱還流した。放冷後反
応液をセライトろ過し不溶物を除いた。溶媒を溜去後残
渣を水で稀釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水
洗・乾燥・濃縮し油状の残渣をシリカゲル(600g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(95:5)で溶出される分画を集めて表記の化合
物(75.64g)を無色の油状物として得た。
bp.130-150℃/1mmHg.▲〔α〕26 D▼+8.40°(c=1.2
5,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: IRスペクトル(CHCl3)cm-1:518(−I) マススペクトル(m/e):362(M+),347(M+−CH3) 元素分析:C14H19O3Iとして 計算値:C,46.22;H,5.29;I,35.04 実測値:C,46.47;H,5.18;I,35.11 参考例8 (2S,3R)−3−O−ベンジル−4−ヨード−1,2−O−
イソプロピリデンブタン−1,2,3−トリオール 大野らの方法{Chem,Pharm.Bull.,33,572(1985)}に
従って合成した(2S,3S)−3−O−ベンジル−1,2−O
−イソプロピリデンスレイトール(48.45g)、トリエチ
ルアミン(37.50ml)およびメタンスルホニルクロリド
(17.80ml)から、参考例1と同様にして(2S,3S)−2
−ベンジルオキシ−3,4−イソプロピリデンジオキシブ
チル=メタンスルホネート(63.45g)を得た。更に、上
記メタンスルホネート、炭酸水素ナトリウム(96.80g)
およびヨウ化ナトリウム(143.90g)から参考例1と同
様にして表記の化合物(66.87g)を得た。▲〔α〕26 D
▼−8.40°(c=1.00,CHCl3) 参考例9 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−2−エトキシカルボ
ニル−5,6−イソプロピリデンジオキシヘキサン酸エチ
ル マロン酸ジエチル(40.00g)のジメチルホルムアミド
(200ml)溶液を水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、1
2.00g)とジメチルホルムアミド(600ml)の混合物中に
5〜8℃で滴下した。室温で1時間撹拌した後、参考例
7の化合物(75.38g)のジメチルホルムアミド(300m
l)溶液を5〜8℃で滴下した。100℃で2時間加熱撹拌
し、放冷後反応液を2lの水中に注いで酢酸エチルで3回
抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し油状の残渣をシ
リカゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル(9:1)で溶出される分
画を集めて表記の化合物(68.92g)を無色の油状物とし
て得た。bp.170-180℃/1mmHg。
5,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: IRスペクトル(CHCl3)cm-1:518(−I) マススペクトル(m/e):362(M+),347(M+−CH3) 元素分析:C14H19O3Iとして 計算値:C,46.22;H,5.29;I,35.04 実測値:C,46.47;H,5.18;I,35.11 参考例8 (2S,3R)−3−O−ベンジル−4−ヨード−1,2−O−
イソプロピリデンブタン−1,2,3−トリオール 大野らの方法{Chem,Pharm.Bull.,33,572(1985)}に
従って合成した(2S,3S)−3−O−ベンジル−1,2−O
−イソプロピリデンスレイトール(48.45g)、トリエチ
ルアミン(37.50ml)およびメタンスルホニルクロリド
(17.80ml)から、参考例1と同様にして(2S,3S)−2
−ベンジルオキシ−3,4−イソプロピリデンジオキシブ
チル=メタンスルホネート(63.45g)を得た。更に、上
記メタンスルホネート、炭酸水素ナトリウム(96.80g)
およびヨウ化ナトリウム(143.90g)から参考例1と同
様にして表記の化合物(66.87g)を得た。▲〔α〕26 D
▼−8.40°(c=1.00,CHCl3) 参考例9 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−2−エトキシカルボ
ニル−5,6−イソプロピリデンジオキシヘキサン酸エチ
ル マロン酸ジエチル(40.00g)のジメチルホルムアミド
(200ml)溶液を水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、1
2.00g)とジメチルホルムアミド(600ml)の混合物中に
5〜8℃で滴下した。室温で1時間撹拌した後、参考例
7の化合物(75.38g)のジメチルホルムアミド(300m
l)溶液を5〜8℃で滴下した。100℃で2時間加熱撹拌
し、放冷後反応液を2lの水中に注いで酢酸エチルで3回
抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し油状の残渣をシ
リカゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル(9:1)で溶出される分
画を集めて表記の化合物(68.92g)を無色の油状物とし
て得た。bp.170-180℃/1mmHg。
▲〔α〕25 D▼+39.1°(c=1.00,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 2.01(2H,t,J=6.5Hz,C(3)−H2) 3.4〜4.4(5H,m) 4.15(4H,m,-CH2 ‐CH3×2) 4.68(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.38(5H,m,−Ph) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1730(−O−CO−) マススペクトル(m/e):379(M+−CH3) 元素分析:C21H30O7として 計算値:C,63.94;H,7.67 実測値:C,63.66;H,7.49 参考例10 (4S,5S)−4−ベンジルオキシ−2−エトキシカルボ
ニル−5,6−イソプロピリデンジオキシヘキサン酸エチ
ル マロン酸ジエチル(35.48g)、水素化ナトリウム(55%
鉱油懸濁物、10.63g)および参考例8(66.87g)の化合
物から参考例9と同様にして表記の化合物(58.40g)を
得た。▲〔α〕26 D▼−39.5°(c=1.00,CHCl3) 参考例11 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン酸エチル 参考例9の化合物(68.70g)、塩化ナトリウム(12.20
g)、水(6.51ml)をジメチルスルホキシド(1.1)中
で混合し、210℃の油浴上で2時間加熱還流した。放冷
後反応液を2.5lの水中に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し
た。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカ
ゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(95:5)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(41.79g)を無色の油状物として得
た。bp.150-160℃/mmHg。▲〔α〕26 D▼+47.6°(c=
1.32,MeOH) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.23(3H,t,J=7.5Hz,−CH2 CH3 ) 1.6〜2.0(2H,m,C(3)−H2) 2.43(2H,t,J=7.5Hz,C(2)−H2) 3.3〜3.6(1H,m) 3.6〜4.4(3H,m) 4.10(2H,q,J=7.5Hz,−CH2 ‐CH3) 4.69(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.38(5H,s,−Ph) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1730(−O−CO−) マススペクトル(m/e):322(M+),307(M+−CH3) 元素分析:C18H26O5として 計算値:C,67.06;H,8.13 実測値:C,67.06;H,8.13 参考例12 (4S,5S)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン酸エチル 参考例10の化合物(58.68g)、塩化ナトリウム(10.43
g)および水(5.56ml)から参考例11と同様にして表記
の化合物(41.79g)を得た。▲〔α〕26 D▼−47.4°
(c=1.30,CHCl3) 参考例13 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン−1−オール 参考例11の化合物(47.65g)のテトラヒドロフラン(25
0ml)溶液を、水素化リチウムアルミニウム(6.75g)の
テトラヒドロフラン(750ml)懸濁液に5〜8℃で滴下
した。反応液を室温で2時間撹拌した後、4%水酸化ナ
トリウム水溶液(27.00ml)を4〜7℃で滴下した。懸
濁物をセライトを用いて過し、濃縮・乾固した。残渣
をシリカゲル(800g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される
分画を集めて表記の化合物(37.34g)を無色の油状物と
して得た。bp.150-160℃/1mmHg。▲〔α〕26 D▼+41.8
°(c=1.06,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.5〜1.8(4H,m,C(2)−H2,C(3)−H2) 1.71(1H,s,−OH) 3.4〜3.8(4H,m) 4.02(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(4)−H) 4.25(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(5)−H) 4.71(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.38(5H,m,−Ph) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−OH) マススペクトル(m/e):280(M+),265(M+−CH3) 元素分析:C16H24O4として 計算値:C,68.55;H,8.63 実測値:C,68.23;H,8.58 参考例14 (4S,5S)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン−1−オール 参考例12の化合物(41.00g)および水素化リチウムアル
ミニウム(5.78g)から、参考例13と同様にして表記の
化物(32.15g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕26
D▼−42.5°(c=1.10,CHCl3) 参考例15 (2R,3R)−3−ベンゾジルオキシ−6−(t−ブチル
ジフェニルシリルオキシ)−1,2−イソプロピリデンジ
オキシヘキサン 参考例13の化合物(19.27g)およびイミダゾール(10.2
9g)のジメチルホルムアミド(300ml)溶液に、t−ブ
チルジフェニルシリルクロリド(20.77g)のジメチルホ
ルムアミド(90ml)溶液を5〜7℃で滴下した。室温で
3時間撹拌した後、反応液を2lの水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで3回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し油状の
残渣をシリカゲル(700g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(98:2〜95:5)
で溶出される分画を集めて表記の化合物(32.80g)を無
色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼+21.4°(c=
1.11;CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3):ppm: 1.04(9H,s,(CH3)3−C−Si) 1.4〜1.8(4H,m) 3.3〜3.8(4H,m) 4.00(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(3)−H) 4.20(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(2)−H) 4.66(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.2-7.8(15H,m,−Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1100(Si−O) マススペクトル(m/e):503(M+−CH3) 元素分析:C32H42O4Siとして 計算値:C,74.09;H,8.16 実測値:C,74.20;H,8.18 参考例16 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1,2−イソプロピリデンジオ
キシヘキサン 参考例14の化合物(18.00g)、イミダゾール(9.62g)
およびt−ブチルジフェニルシリルクロリド(19.41g)
から参考例15と同様にして表記の化合物(30.97g)を無
色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼−20.8°(c=
1.25、CHCl3) 参考例17 (2R,3R)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)ヘキサン−1,2−ジオール 参考例15の化合物(32.49g)を、酢酸(300ml)および
水(30ml)に溶かし、室温で17時間、更に50℃で2時間
撹拌した。放冷後、溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル
(500g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
酢酸エチル−ヘキサン(1:2)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(27.40g)を無色の油状物として得た。
▲〔α〕26 D▼−20.4°(c=1.12,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.05(9H,s,(CH3)3−C−Si) 1.5〜1.9(4H,m) 1.9〜2.3(1H,m,−OH) 2.3〜2.65(1H,m,−OH) 3.4〜3.9(6H,m) 4.53(2H,ABq,J=12Hz) 7.2〜7.8(15H,m,Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3590,3460(−OH),1100
(Si−O) マススペクトル(m/e):479(M++1) 参考例18 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)ヘキサン−1,2−ジオール 参考例16の化合物(30.48g)、酢酸(300ml)および水
(30ml)から参考例17と同様にして表記の化合物(26.1
5g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼+20.6
°(c=1.15,CHCl3) 参考例19 (2R,3R)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1−トリフェニルメトキシ−
ヘキサン−2−オール 参考例17の化合物(26.22g)とトリエチルアミン(18.4
0ml)のトルエン(500ml)溶液にトリフェニルメチルク
ロリド(18.33g)を加え、3時間加熱還流した。放冷
後、反応液を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽
出液を順次水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和食塩水で洗い、乾燥後溶媒を溜去した。油状の残渣を
テトラヒドロフラン(270ml)に溶かし、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(90ml)を加えて、室温で1時間撹拌
した。上記と同様に後処理を行なって得られた油状物
(40g)を、シリカゲル(500g)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(95:5〜
9:1)で溶出される分画を集めて表記の化合物(37.01
g)を無色油状物として得た。
ニル−5,6−イソプロピリデンジオキシヘキサン酸エチ
ル マロン酸ジエチル(35.48g)、水素化ナトリウム(55%
鉱油懸濁物、10.63g)および参考例8(66.87g)の化合
物から参考例9と同様にして表記の化合物(58.40g)を
得た。▲〔α〕26 D▼−39.5°(c=1.00,CHCl3) 参考例11 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン酸エチル 参考例9の化合物(68.70g)、塩化ナトリウム(12.20
g)、水(6.51ml)をジメチルスルホキシド(1.1)中
で混合し、210℃の油浴上で2時間加熱還流した。放冷
後反応液を2.5lの水中に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し
た。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカ
ゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(95:5)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(41.79g)を無色の油状物として得
た。bp.150-160℃/mmHg。▲〔α〕26 D▼+47.6°(c=
1.32,MeOH) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.23(3H,t,J=7.5Hz,−CH2 CH3 ) 1.6〜2.0(2H,m,C(3)−H2) 2.43(2H,t,J=7.5Hz,C(2)−H2) 3.3〜3.6(1H,m) 3.6〜4.4(3H,m) 4.10(2H,q,J=7.5Hz,−CH2 ‐CH3) 4.69(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.38(5H,s,−Ph) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1730(−O−CO−) マススペクトル(m/e):322(M+),307(M+−CH3) 元素分析:C18H26O5として 計算値:C,67.06;H,8.13 実測値:C,67.06;H,8.13 参考例12 (4S,5S)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン酸エチル 参考例10の化合物(58.68g)、塩化ナトリウム(10.43
g)および水(5.56ml)から参考例11と同様にして表記
の化合物(41.79g)を得た。▲〔α〕26 D▼−47.4°
(c=1.30,CHCl3) 参考例13 (4R,5R)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン−1−オール 参考例11の化合物(47.65g)のテトラヒドロフラン(25
0ml)溶液を、水素化リチウムアルミニウム(6.75g)の
テトラヒドロフラン(750ml)懸濁液に5〜8℃で滴下
した。反応液を室温で2時間撹拌した後、4%水酸化ナ
トリウム水溶液(27.00ml)を4〜7℃で滴下した。懸
濁物をセライトを用いて過し、濃縮・乾固した。残渣
をシリカゲル(800g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される
分画を集めて表記の化合物(37.34g)を無色の油状物と
して得た。bp.150-160℃/1mmHg。▲〔α〕26 D▼+41.8
°(c=1.06,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.5〜1.8(4H,m,C(2)−H2,C(3)−H2) 1.71(1H,s,−OH) 3.4〜3.8(4H,m) 4.02(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(4)−H) 4.25(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(5)−H) 4.71(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.38(5H,m,−Ph) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−OH) マススペクトル(m/e):280(M+),265(M+−CH3) 元素分析:C16H24O4として 計算値:C,68.55;H,8.63 実測値:C,68.23;H,8.58 参考例14 (4S,5S)−4−ベンジルオキシ−5,6−イソプロピリデ
ンジオキシヘキサン−1−オール 参考例12の化合物(41.00g)および水素化リチウムアル
ミニウム(5.78g)から、参考例13と同様にして表記の
化物(32.15g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕26
D▼−42.5°(c=1.10,CHCl3) 参考例15 (2R,3R)−3−ベンゾジルオキシ−6−(t−ブチル
ジフェニルシリルオキシ)−1,2−イソプロピリデンジ
オキシヘキサン 参考例13の化合物(19.27g)およびイミダゾール(10.2
9g)のジメチルホルムアミド(300ml)溶液に、t−ブ
チルジフェニルシリルクロリド(20.77g)のジメチルホ
ルムアミド(90ml)溶液を5〜7℃で滴下した。室温で
3時間撹拌した後、反応液を2lの水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで3回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し油状の
残渣をシリカゲル(700g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(98:2〜95:5)
で溶出される分画を集めて表記の化合物(32.80g)を無
色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼+21.4°(c=
1.11;CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3):ppm: 1.04(9H,s,(CH3)3−C−Si) 1.4〜1.8(4H,m) 3.3〜3.8(4H,m) 4.00(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(3)−H) 4.20(1H,dt,J=7.5,6Hz,C(2)−H) 4.66(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.2-7.8(15H,m,−Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1100(Si−O) マススペクトル(m/e):503(M+−CH3) 元素分析:C32H42O4Siとして 計算値:C,74.09;H,8.16 実測値:C,74.20;H,8.18 参考例16 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1,2−イソプロピリデンジオ
キシヘキサン 参考例14の化合物(18.00g)、イミダゾール(9.62g)
およびt−ブチルジフェニルシリルクロリド(19.41g)
から参考例15と同様にして表記の化合物(30.97g)を無
色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼−20.8°(c=
1.25、CHCl3) 参考例17 (2R,3R)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)ヘキサン−1,2−ジオール 参考例15の化合物(32.49g)を、酢酸(300ml)および
水(30ml)に溶かし、室温で17時間、更に50℃で2時間
撹拌した。放冷後、溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル
(500g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
酢酸エチル−ヘキサン(1:2)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(27.40g)を無色の油状物として得た。
▲〔α〕26 D▼−20.4°(c=1.12,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.05(9H,s,(CH3)3−C−Si) 1.5〜1.9(4H,m) 1.9〜2.3(1H,m,−OH) 2.3〜2.65(1H,m,−OH) 3.4〜3.9(6H,m) 4.53(2H,ABq,J=12Hz) 7.2〜7.8(15H,m,Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3590,3460(−OH),1100
(Si−O) マススペクトル(m/e):479(M++1) 参考例18 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)ヘキサン−1,2−ジオール 参考例16の化合物(30.48g)、酢酸(300ml)および水
(30ml)から参考例17と同様にして表記の化合物(26.1
5g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕26 D▼+20.6
°(c=1.15,CHCl3) 参考例19 (2R,3R)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1−トリフェニルメトキシ−
ヘキサン−2−オール 参考例17の化合物(26.22g)とトリエチルアミン(18.4
0ml)のトルエン(500ml)溶液にトリフェニルメチルク
ロリド(18.33g)を加え、3時間加熱還流した。放冷
後、反応液を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽
出液を順次水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和食塩水で洗い、乾燥後溶媒を溜去した。油状の残渣を
テトラヒドロフラン(270ml)に溶かし、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(90ml)を加えて、室温で1時間撹拌
した。上記と同様に後処理を行なって得られた油状物
(40g)を、シリカゲル(500g)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(95:5〜
9:1)で溶出される分画を集めて表記の化合物(37.01
g)を無色油状物として得た。
▲〔α〕25 D▼−3.55°(c=1.03,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.05(9H,s,(CH3)3CSi) 1.4〜1.8(4H,m) 2.30(1H,d,J=6Hz,−OH) 3.22(2H,d,J=6Hz,C(1)−H2) 3.5〜3.9(4H,m) 4.45(2H,ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 7.1〜7.8(30H,m,−Ph×6) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3580(−OH),1100(O−S
i) マススペクトル(m/e):477(M+−HC(CH3)3) 元素分析:C48H52O4Siとして 計算値:C,79.96;H,7.27 実測値:C,79.71;H,7.11 参考例20 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1−トリフェニルメトキシヘ
キサン−2−オール 参考例18の化合物(25.96g)、トリエチルアミン(18.2
0ml)およびトリフェニルメチルクロリド(18.11g)か
ら参考例19と同様にして表記の化合物(36.50g)を無色
の油状物として得た。
i) マススペクトル(m/e):477(M+−HC(CH3)3) 元素分析:C48H52O4Siとして 計算値:C,79.96;H,7.27 実測値:C,79.71;H,7.11 参考例20 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ)−1−トリフェニルメトキシヘ
キサン−2−オール 参考例18の化合物(25.96g)、トリエチルアミン(18.2
0ml)およびトリフェニルメチルクロリド(18.11g)か
ら参考例19と同様にして表記の化合物(36.50g)を無色
の油状物として得た。
▲〔α〕25 D▼+3.56°(c=1.01,CHCl3) 参考例21 (2R,3R)−3−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシ−1
−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メタンスルホ
ネート 参考例19の化合物(36.89g)とトリエチルアミン(8.56
ml)のメチレンクロリド(500ml)溶液にメタンスルホ
ニルクロリド(4.75ml)を氷冷下(5℃)滴下した。室
温で1時間撹拌後、反応液を水中に注いだ。有機層を飽
和食塩水で洗った後、乾燥・濃縮して(2R,3R)−3−
ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシ)−1−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メ
タンスルホネート(40.91g)を無色の油状物として得
た。
−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メタンスルホ
ネート 参考例19の化合物(36.89g)とトリエチルアミン(8.56
ml)のメチレンクロリド(500ml)溶液にメタンスルホ
ニルクロリド(4.75ml)を氷冷下(5℃)滴下した。室
温で1時間撹拌後、反応液を水中に注いだ。有機層を飽
和食塩水で洗った後、乾燥・濃縮して(2R,3R)−3−
ベンジルオキシ−6−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシ)−1−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メ
タンスルホネート(40.91g)を無色の油状物として得
た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.01(9H,s,(CH3)3Si−) 1.3〜1.8(4H,m) 2.96(3H,s,−O−SO2−CH3) 3.0〜3.9(5H,m) 4.50(2H,,s,−CH2−Ph) 4.6〜4.9(1H,m,−CH(OSO2CH3)−) 7.1〜7.8(30H,m,−Ph×3) 上記メタンスルホネート(40.91g)のテトラヒドロフラ
ン(500ml)溶液に、1Nテトラブチルアンモニウムフル
オリド(テトラヒドロフラン溶液)(61.4ml)を、氷冷
下(5℃)滴下した。室温で14時間撹拌した後、反応液
を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水洗
・乾燥・濃縮し、残渣をシリカゲル(700g)を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(4:1〜2:1)で溶出される分画を集めて表記の化合物
(26.45g)を無色の油状物として得た。
ン(500ml)溶液に、1Nテトラブチルアンモニウムフル
オリド(テトラヒドロフラン溶液)(61.4ml)を、氷冷
下(5℃)滴下した。室温で14時間撹拌した後、反応液
を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水洗
・乾燥・濃縮し、残渣をシリカゲル(700g)を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(4:1〜2:1)で溶出される分画を集めて表記の化合物
(26.45g)を無色の油状物として得た。
▲〔α〕25 D▼+21.7°(c=1.22,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.37(1H,s,−OH) 1.4〜1.8(4H,m) 3.00(3H,s,−OSO2CH3) 3.30(1H,dd,J=11,6Hz,C(6)−H) 3.4〜3.6(2H,m) 3.60(1H,dd,J=11,3Hz,C(6)−H) 3.6〜3.9(1H,m) 4.56(2H,s,−CH2Ph) 4.82(1H,ddd,J=6,6,3Hz,C(5)−H) 7.2〜7.6(20H,m,−Ph×4) IRスペクトル(CDCl3)cm-1:3500(−OH),1360,1170
(−SO2−) マススペクトル(m/e):482(M+−C6H5),468(M+
−C6H5CH3) 参考例22 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシ−1
−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メタンスルホ
ネート 参考例20の化合物(35.60g)を用い、参考例21と同様に
して表記の化合物(25.18g)を無色の油状物として得
た。▲〔α〕25 D▼−21.7°(c=1.23,CHCl3) 参考例23 (2S,3R)−3−ベンジルオキシ−2−トリフェニルメ
トキシメチルテトラヒドロピラン 参考例21の化合物(26.08g)のt−ブタノール(290m
l)溶液を、カリウムt−ブトキシド(7.01g)のt−ブ
タノール(250ml)溶液に25℃で滴下した。40℃で4時
間撹拌した。反応液に酢酸(0.56ml)を加えた後、溶媒
を溜去した。残渣を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗って、乾燥・濃縮し、残渣をシリカゲル(43
0g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(95:5)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(21.04g)を結晶として得た。mp86.0〜88.0
℃(MeOH)。
(−SO2−) マススペクトル(m/e):482(M+−C6H5),468(M+
−C6H5CH3) 参考例22 (2S,3S)−3−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシ−1
−トリフェニルメトキシ−2−ヘキシル=メタンスルホ
ネート 参考例20の化合物(35.60g)を用い、参考例21と同様に
して表記の化合物(25.18g)を無色の油状物として得
た。▲〔α〕25 D▼−21.7°(c=1.23,CHCl3) 参考例23 (2S,3R)−3−ベンジルオキシ−2−トリフェニルメ
トキシメチルテトラヒドロピラン 参考例21の化合物(26.08g)のt−ブタノール(290m
l)溶液を、カリウムt−ブトキシド(7.01g)のt−ブ
タノール(250ml)溶液に25℃で滴下した。40℃で4時
間撹拌した。反応液に酢酸(0.56ml)を加えた後、溶媒
を溜去した。残渣を水で希釈し酢酸エチルで3回抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗って、乾燥・濃縮し、残渣をシリカゲル(43
0g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(95:5)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(21.04g)を結晶として得た。mp86.0〜88.0
℃(MeOH)。
▲〔α〕25 D▼−32.8°(c=1.01,CHCl3) NMRスペクトル(270MHz,CDCl3)ppm: 1.41(1H,dddd,J=12.3Hz,10.9Hz,9.3Hz,6.7Hz,C(4)
−Hax.) 1.70(2H,m,C(5)−H2) 2.26(1H,ddddd,J=12.3Hz,4.2Hz,3.9Hz,3.9Hz,〜1Hz,C
(4)−Heq.) 3.20(1H,dd,J=9.8Hz,5.0HZ,−CH−OTr) 3.37(1H,ddd,J=9.3Hz,5.0HZ,2.0Hz,C(2)-H) 3.39(1H,ddd,J=11.4Hz,9.3Hz,5.3HZ,C(6)−Hax) 3.48(1H,dd,J=9.8Hz,2.0Hz,−CH−OTr) 3.49(1H,ddd,J=10.9Hz,9.3Hz,4.2Hz,C(3)-H) 4.00(1H,dddd,J=11.4Hz,2.9Hz,2.9Hz,〜1Hz,C(6)
−Heq.) 4.38(2H,ABq,J=11.5Hz,−CH2Ph) 7.0〜7.5(20H,m,Ph×4) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1595,1490,1450(C6H
5−),1090,1070(C−O−C) マススペクトル(m/e):387(M+−C6H5),373(M+
−C7H7) 元素分析:C32H32O3として 計算値:C,82.73;H,6.94 実測値:C,82.56;H,6.83 参考例24 (2R,3S)−3−ベンジルオキシ−2−トリフェニルメ
トキシメチルテトラヒドロピラン 参考例22の化合物(24.98g)およびカリウムt−ブトキ
シド(6.06g)から参考例22と同様にして表記の化合物
(20.12g)を結晶として得た。mp.86.5-88.5℃。▲
〔α〕25 D▼+33.0°(c=1.00,CHCl3) 参考例25 (2S,3R)−3−ヒドロキシ−2−トリフェニルメトキ
シメチルテトラヒドロピラン 参考例23の化合物(3.513g)のエタノール(120ml)溶
液に、10%パラジウム炭素(1.852g)を加え、パールの
装置中室温下4気圧で30時間水素と振とうした。触媒を
去した後、溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(90g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(7:1)で溶出される分画を集めて表記の
化合物(2.557g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕
25 D▼+38.2°(c=1.07,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.2〜1.8(3H,m) 1.9〜2.3(1H,m) 3.00(1H,s,−OH) 3.1〜3.7(5H,m) 3.75〜4.05(1H,m) 7.2〜7.7(15H,m,Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3500(OH),1600,1490,145
0(−Pb),1090(C−O−C) マススペクトル(m/e):374(M+),297(M+−C
6H5) 参考例26 (2R,3S)−3−ヒドロキシ−2−トリフェニルメトキ
シメチルテトラヒドロピラン 参考例24の化合物(2.835g)および10%パラジウム炭素
(1.499g)を用い、参考例25と同様にして表記の化合物
(2.075g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕25 D▼
−38.0°(c=1.12,CHCl3) 参考例27 (2S,3R)−2−(トリフェニルメトキシ)メチルテト
ラヒドロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメ
ート ステアリン酸(4.782g)、ジフェニルホスホリルアジド
(3.62ml)およびトリエチルアミン(2.34ml)のベンゼ
ン(100ml)溶液を3時間加熱還流した。放冷後、反応
液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗った。乾燥後、溶媒を溜去し、残渣をトルエン
(25ml)に溶かした。トリエチルアミン(2.34ml)およ
び参考例25の化合物(2.518g)のトリエン(25ml)溶液
を加えて100℃で90時間加熱し、放冷後、反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液中に注いだ。酢酸エチルで3
回抽出し、抽出液を乾燥、濃縮し、油状の残渣をシリカ
ゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(7:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(3.131g)を無色の油状物として得
た。▲〔α〕25 D▼−28.5°(c=1.04,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.8〜3.6(6H,m) 3.8〜4.1(1H,m) 4.2〜4.8(2H,m) 7.1〜7.6(15H,m) マススペクトル(m/e):412(M+−C19H15),396(M
+−C19H15O),382(M+−C21H17O) 参考例28 (2R,3S)−2−(トリフェニルメトキシ)メチルテト
ラヒドロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメ
ート ステアリン酸(3.553g)、ジフェニルホスホリルアジド
(2.69ml)と参考例26の化合物(1.871g)を用い、参考
例27と同様にして表記の化合物(2.491g)を無色の油状
物として得た。▲〔α〕25 D▼+28.8°(c=1.13,CHCl
3) 参考例29 (2S,3R)−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例27の化合物(2.753g)のメタノール(55ml)溶液
にp−トルエンスルホン酸(240.0mg)を加え、1時間
加熱還流した。放冷後、炭酸水素ナトリウム(352.6m
g)を加えた。メタノールを溜去し、酢酸エチルを加え
て不溶物を去した。液を濃縮し、残渣をシリカゲル
(55g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(1.476g)を結晶として得た。mp.9
2.0-93.5℃(Et2O) ▲〔α〕25 D▼−7.20°(c=1.00,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(37H,m) 2.6〜2.85(1H,m,−OH) 2.9〜3.8(6H,m) 3.8〜4.1(1H,m) 4.4〜4.9(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH,−OH),1710,1
510(−NH−CO) マススペクトル(m/e):414(M++1),382(M+−CH2
OH) 元素分析:C24H47NO4として 計算値:C,69.69;H,11.45;N,3.39 実測値:C,69.33;H,11.40;N,3.53 参考例30 (2R,3S)−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン
−2−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例28の化合物(2.400g)を用い、参考例29と同様に
して表記の化合物(1.305g)を結晶として得た。mp.92.
5-93.5℃, ▲〔α〕25 D▼+7.25°(c=1.02,CHCl3) 参考例31 (2S,3R)−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバ
モイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=
N−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.706g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.88ml)、および参考例29の化合物(1.206
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(1.270
g)を蝋状固体として得た。mp.71.0-72.0℃, ▲〔α〕25 D▼−26.4°(c=1.18,CHCl3) 参考例32 (2R,3S)−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバ
モイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=
N−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.698g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.88ml)、および参考例30の化合物(1.200
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(1.283
g)を蝋状固体として得た。mp.71.5-72.0℃▲〔α〕25 D
▼+26.5°(c=1.00,CHCl3) 参考例33 dl−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラ
ン−3−オール 参考例2の化合物(2.22g)のアセトン(20ml)溶液に
ジョーンズ試薬(6ml,無水クロム酸として1.60g)を氷
冷下で加えた。室温で1時間撹拌した後、反応液を水中
に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。抽出液を水洗・乾
燥後濃縮した。得られた油状の粗ケトン(2.08g)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶かし、L−セレクトライ
ドのテトラヒドロフラン溶液(1M,12ml)を0〜5℃で
滴下した。氷冷下で30分、室温で2時間撹拌した後、10
%水酸化ナトリウム水溶液(6ml)を5〜15℃で滴下し
た。ついで35%過酸化水素水(6ml)を15〜30℃で滴下
し、有機層を分取して乾燥、濃縮した。油状の残渣をシ
リカゲル(60g)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけ、ヘキサン−酢酸エチル(100:15〜2:1)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(1.135g)を無色の液体
として得た。bp 130〜140℃(浴温)/1mmHg。
−Hax.) 1.70(2H,m,C(5)−H2) 2.26(1H,ddddd,J=12.3Hz,4.2Hz,3.9Hz,3.9Hz,〜1Hz,C
(4)−Heq.) 3.20(1H,dd,J=9.8Hz,5.0HZ,−CH−OTr) 3.37(1H,ddd,J=9.3Hz,5.0HZ,2.0Hz,C(2)-H) 3.39(1H,ddd,J=11.4Hz,9.3Hz,5.3HZ,C(6)−Hax) 3.48(1H,dd,J=9.8Hz,2.0Hz,−CH−OTr) 3.49(1H,ddd,J=10.9Hz,9.3Hz,4.2Hz,C(3)-H) 4.00(1H,dddd,J=11.4Hz,2.9Hz,2.9Hz,〜1Hz,C(6)
−Heq.) 4.38(2H,ABq,J=11.5Hz,−CH2Ph) 7.0〜7.5(20H,m,Ph×4) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1595,1490,1450(C6H
5−),1090,1070(C−O−C) マススペクトル(m/e):387(M+−C6H5),373(M+
−C7H7) 元素分析:C32H32O3として 計算値:C,82.73;H,6.94 実測値:C,82.56;H,6.83 参考例24 (2R,3S)−3−ベンジルオキシ−2−トリフェニルメ
トキシメチルテトラヒドロピラン 参考例22の化合物(24.98g)およびカリウムt−ブトキ
シド(6.06g)から参考例22と同様にして表記の化合物
(20.12g)を結晶として得た。mp.86.5-88.5℃。▲
〔α〕25 D▼+33.0°(c=1.00,CHCl3) 参考例25 (2S,3R)−3−ヒドロキシ−2−トリフェニルメトキ
シメチルテトラヒドロピラン 参考例23の化合物(3.513g)のエタノール(120ml)溶
液に、10%パラジウム炭素(1.852g)を加え、パールの
装置中室温下4気圧で30時間水素と振とうした。触媒を
去した後、溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(90g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(7:1)で溶出される分画を集めて表記の
化合物(2.557g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕
25 D▼+38.2°(c=1.07,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.2〜1.8(3H,m) 1.9〜2.3(1H,m) 3.00(1H,s,−OH) 3.1〜3.7(5H,m) 3.75〜4.05(1H,m) 7.2〜7.7(15H,m,Ph×3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3500(OH),1600,1490,145
0(−Pb),1090(C−O−C) マススペクトル(m/e):374(M+),297(M+−C
6H5) 参考例26 (2R,3S)−3−ヒドロキシ−2−トリフェニルメトキ
シメチルテトラヒドロピラン 参考例24の化合物(2.835g)および10%パラジウム炭素
(1.499g)を用い、参考例25と同様にして表記の化合物
(2.075g)を無色の油状物として得た。▲〔α〕25 D▼
−38.0°(c=1.12,CHCl3) 参考例27 (2S,3R)−2−(トリフェニルメトキシ)メチルテト
ラヒドロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメ
ート ステアリン酸(4.782g)、ジフェニルホスホリルアジド
(3.62ml)およびトリエチルアミン(2.34ml)のベンゼ
ン(100ml)溶液を3時間加熱還流した。放冷後、反応
液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗った。乾燥後、溶媒を溜去し、残渣をトルエン
(25ml)に溶かした。トリエチルアミン(2.34ml)およ
び参考例25の化合物(2.518g)のトリエン(25ml)溶液
を加えて100℃で90時間加熱し、放冷後、反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液中に注いだ。酢酸エチルで3
回抽出し、抽出液を乾燥、濃縮し、油状の残渣をシリカ
ゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(7:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(3.131g)を無色の油状物として得
た。▲〔α〕25 D▼−28.5°(c=1.04,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 2.8〜3.6(6H,m) 3.8〜4.1(1H,m) 4.2〜4.8(2H,m) 7.1〜7.6(15H,m) マススペクトル(m/e):412(M+−C19H15),396(M
+−C19H15O),382(M+−C21H17O) 参考例28 (2R,3S)−2−(トリフェニルメトキシ)メチルテト
ラヒドロピラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメ
ート ステアリン酸(3.553g)、ジフェニルホスホリルアジド
(2.69ml)と参考例26の化合物(1.871g)を用い、参考
例27と同様にして表記の化合物(2.491g)を無色の油状
物として得た。▲〔α〕25 D▼+28.8°(c=1.13,CHCl
3) 参考例29 (2S,3R)−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例27の化合物(2.753g)のメタノール(55ml)溶液
にp−トルエンスルホン酸(240.0mg)を加え、1時間
加熱還流した。放冷後、炭酸水素ナトリウム(352.6m
g)を加えた。メタノールを溜去し、酢酸エチルを加え
て不溶物を去した。液を濃縮し、残渣をシリカゲル
(55g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(1.476g)を結晶として得た。mp.9
2.0-93.5℃(Et2O) ▲〔α〕25 D▼−7.20°(c=1.00,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(37H,m) 2.6〜2.85(1H,m,−OH) 2.9〜3.8(6H,m) 3.8〜4.1(1H,m) 4.4〜4.9(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH,−OH),1710,1
510(−NH−CO) マススペクトル(m/e):414(M++1),382(M+−CH2
OH) 元素分析:C24H47NO4として 計算値:C,69.69;H,11.45;N,3.39 実測値:C,69.33;H,11.40;N,3.53 参考例30 (2R,3S)−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン
−2−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例28の化合物(2.400g)を用い、参考例29と同様に
して表記の化合物(1.305g)を結晶として得た。mp.92.
5-93.5℃, ▲〔α〕25 D▼+7.25°(c=1.02,CHCl3) 参考例31 (2S,3R)−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバ
モイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=
N−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.706g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.88ml)、および参考例29の化合物(1.206
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(1.270
g)を蝋状固体として得た。mp.71.0-72.0℃, ▲〔α〕25 D▼−26.4°(c=1.18,CHCl3) 参考例32 (2R,3S)−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバ
モイルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=
N−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.698g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.88ml)、および参考例30の化合物(1.200
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(1.283
g)を蝋状固体として得た。mp.71.5-72.0℃▲〔α〕25 D
▼+26.5°(c=1.00,CHCl3) 参考例33 dl−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラ
ン−3−オール 参考例2の化合物(2.22g)のアセトン(20ml)溶液に
ジョーンズ試薬(6ml,無水クロム酸として1.60g)を氷
冷下で加えた。室温で1時間撹拌した後、反応液を水中
に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。抽出液を水洗・乾
燥後濃縮した。得られた油状の粗ケトン(2.08g)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶かし、L−セレクトライ
ドのテトラヒドロフラン溶液(1M,12ml)を0〜5℃で
滴下した。氷冷下で30分、室温で2時間撹拌した後、10
%水酸化ナトリウム水溶液(6ml)を5〜15℃で滴下し
た。ついで35%過酸化水素水(6ml)を15〜30℃で滴下
し、有機層を分取して乾燥、濃縮した。油状の残渣をシ
リカゲル(60g)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけ、ヘキサン−酢酸エチル(100:15〜2:1)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(1.135g)を無色の液体
として得た。bp 130〜140℃(浴温)/1mmHg。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.25〜2.30(4H,m,C(4)−H2,C(5)−H2) 2.68(1H,d,J=6Hz,−OH) 3.3〜3.7(4H,m) 3.80(1H,m) 4.03(1H,m) 4.59(2H,s,−OCH2Ph) 7.2〜7.5(5H,m,C6H5) マススペクトル(m/e):222(M+) 参考例34 dl−シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン−
3−イル=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(2.627g)を用い、参考例3のように操作
して参考例33の化合物(0.815g)と反応させた。粗生成
物をシリカゲル(70g)のカラムを用いて精製し、酢酸
エチル−ヘキサン(1:5)で溶出される分画を集めてdl
−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−オクタデシルカルバメート(1.05g)
を得た。この化合物をテトラヒドロフラン−メタノール
(2:1,30ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(0.50g)
の存在下パールの装置中で室温、4気圧で8時間水素化
反応を行った。触媒を去後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル(20g)を用いるカラムクロマトグラフィーに
かけた。酢酸エチル−ヘキサン(1:5〜1:2)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(0.732g)を結晶として得
た。mp85〜86℃(エーテル−ヘキサン)。
3−イル=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(2.627g)を用い、参考例3のように操作
して参考例33の化合物(0.815g)と反応させた。粗生成
物をシリカゲル(70g)のカラムを用いて精製し、酢酸
エチル−ヘキサン(1:5)で溶出される分画を集めてdl
−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラン
−3−イル=N−オクタデシルカルバメート(1.05g)
を得た。この化合物をテトラヒドロフラン−メタノール
(2:1,30ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(0.50g)
の存在下パールの装置中で室温、4気圧で8時間水素化
反応を行った。触媒を去後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル(20g)を用いるカラムクロマトグラフィーに
かけた。酢酸エチル−ヘキサン(1:5〜1:2)で溶出され
る分画を集めて表記の化合物(0.732g)を結晶として得
た。mp85〜86℃(エーテル−ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(39H,m) 2.9〜3.8(7H,m) 3.9〜4.2(1H,m) 4.65〜5.1(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600(−OH),3450(−NH
−),1700(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),396(M+−CH2OH) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,70.27;H,11.73;N,3.28 参考例35 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−3−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロピラン 参考例2の化合物(2.22g)、ジヒドロピラン(2.65m
l)およびパラトルエンスルホン酸ピリジン塩(0.05g)
をメチレンクロリド(40ml)に溶かし、室温で4時間撹
拌した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲル(80g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−エ
ーテル(6:1〜5:1)で溶出される分画を集めて表記の化
合物(2.93g)を無色油状物として得た。
−),1700(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),396(M+−CH2OH) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,70.27;H,11.73;N,3.28 参考例35 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−3−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロピラン 参考例2の化合物(2.22g)、ジヒドロピラン(2.65m
l)およびパラトルエンスルホン酸ピリジン塩(0.05g)
をメチレンクロリド(40ml)に溶かし、室温で4時間撹
拌した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲル(80g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−エ
ーテル(6:1〜5:1)で溶出される分画を集めて表記の化
合物(2.93g)を無色油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.1〜2.4(10H,m) 3.15〜4.15(8H,m) 4.57(ABq,J=12Hz,−CH2Ph) 4.78(1H,m,−O−CH−O−) 7.35(5H,m,C6H5−) マススペクトル(m/e):306(M+) 元素分析:C18H26O4として 計算値:C,70.56;H,8.55 実測値:C,70.65;H,8.45 参考例36 dl−トランス−2−ヒドロキシメチル−3−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロピラン 参考例35の化合物(2.93g)のテトラヒドロフラン(130
ml)溶液に、10%パラジウム炭素(1.30g)を加え、パ
ールの装置中室温、4気圧で8時間水素化反応を行っ
た。触媒を去後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
(50g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−エーテル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(1.87g)を無色油状物として得た。
ドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロピラン 参考例35の化合物(2.93g)のテトラヒドロフラン(130
ml)溶液に、10%パラジウム炭素(1.30g)を加え、パ
ールの装置中室温、4気圧で8時間水素化反応を行っ
た。触媒を去後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
(50g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−エーテル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(1.87g)を無色油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 2.2〜2.4(10H,m) 2.77(1H,t,J=7Hz,−OH) 3.1〜4.1(8H,m) IRスペクトル(CDCl3)cm-1:3600,3480(−OH) 元素分析:C11H20O4として 計算値:C,61.12;H,9.33 実測値:C,60.75;H,9.29 参考例37 dl−(トランス−3−ヒドロキシテトラヒドロピラン−
2−イル)メチル=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(6.247g)を参考例3のように操作して、
参考例36の化合物(1.809g)と85℃の油浴上で24時間反
応させた。冷後反応液を過し、濃縮乾固した。残渣を
シリカゲル(100g)を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけ、エーテル−ヘキサン−メチレンクロリド(1:5:
5)で溶出される分画を集めてdl−{トランス−3−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロ
ピラン−2−イル}メチル=N−オクタデシルカルバメ
ート(4.20g)を固体として得た。さらに精製すること
なく、これをテトラヒドロフラン−メタノール(1:2,30
ml)に溶かし、カンファースルホン酸(0.20g)を加え
て室温で45分間撹拌した。飽和重炭酸ナトリウム水溶液
(10ml)を加えた後、溶媒を留去し残渣にエーテルを加
えて分液した。有機層を水洗、乾燥、濃縮し、残渣(3.
57g)をシリカゲル(70g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン−メチレンクロリド−エーテ
ル(5:5:1)で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(3.289g)を白色結晶として得た。mp55〜56℃(エーテ
ル−ヘキサン)。
2−イル)メチル=N−オクタデシルカルバメート ノナデカン酸(6.247g)を参考例3のように操作して、
参考例36の化合物(1.809g)と85℃の油浴上で24時間反
応させた。冷後反応液を過し、濃縮乾固した。残渣を
シリカゲル(100g)を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけ、エーテル−ヘキサン−メチレンクロリド(1:5:
5)で溶出される分画を集めてdl−{トランス−3−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)テトラヒドロ
ピラン−2−イル}メチル=N−オクタデシルカルバメ
ート(4.20g)を固体として得た。さらに精製すること
なく、これをテトラヒドロフラン−メタノール(1:2,30
ml)に溶かし、カンファースルホン酸(0.20g)を加え
て室温で45分間撹拌した。飽和重炭酸ナトリウム水溶液
(10ml)を加えた後、溶媒を留去し残渣にエーテルを加
えて分液した。有機層を水洗、乾燥、濃縮し、残渣(3.
57g)をシリカゲル(70g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン−メチレンクロリド−エーテ
ル(5:5:1)で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(3.289g)を白色結晶として得た。mp55〜56℃(エーテ
ル−ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.75〜2.30(39H,m) 3.00〜3.60(5H,m) 3.69(1H,d,J=4Hz,−OH) 3.85〜4.20(2H,m) 4.76(1H,dd,J1=13,J2=3Hz) 4.95(1H,m,−NH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH−,−OH),170
0(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),409(M+−H2O) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,70.31;H,11.42;N,3.27 参考例38 dl−S−(シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒド
ロピラン−3−イル)=チオアセテート 参考例2の化合物(2.00g)とトリエチルアミン(2.51m
l)のベンゼン(40ml)溶液に、メタンスルホニルクロ
リド(1.04ml)を氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、油状の粗メタンス
ルホネートを得た。次に、水素化ナトリウム(55%鉱油
懸濁物、0.47g)をジメチルホルムアミド(5ml)中に懸
濁し、チオ酢酸(0.77ml)のジメチルホルムアミド(5m
l)溶液を氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌した後、
上記メタンスルホネートのジメチルホルムアミド(10m
l)溶液を加え、80℃で16時間、さらに100℃で10時間加
熱撹拌した。冷却後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、油状の残渣
をシリカゲル(50g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。エーテル−ヘキサン(3:97〜10:90)で溶
出された分画を集め、表記の化合物(1.448g)を油状物
として得た。
0(−O−CO−) マススペクトル(m/e):427(M+),409(M+−H2O) 元素分析:C25H49NO4として 計算値:C,70.21;H,11.55;N,3.28 実測値:C,70.31;H,11.42;N,3.27 参考例38 dl−S−(シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒド
ロピラン−3−イル)=チオアセテート 参考例2の化合物(2.00g)とトリエチルアミン(2.51m
l)のベンゼン(40ml)溶液に、メタンスルホニルクロ
リド(1.04ml)を氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、油状の粗メタンス
ルホネートを得た。次に、水素化ナトリウム(55%鉱油
懸濁物、0.47g)をジメチルホルムアミド(5ml)中に懸
濁し、チオ酢酸(0.77ml)のジメチルホルムアミド(5m
l)溶液を氷冷下滴下した。室温で1時間撹拌した後、
上記メタンスルホネートのジメチルホルムアミド(10m
l)溶液を加え、80℃で16時間、さらに100℃で10時間加
熱撹拌した。冷却後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、油状の残渣
をシリカゲル(50g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。エーテル−ヘキサン(3:97〜10:90)で溶
出された分画を集め、表記の化合物(1.448g)を油状物
として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.10〜2.20(4H,m,C(4)−H2,C(5)−H2) 2.30(3H,s,−COCH3) 3.20〜4.20(6H,m) 4.52(2H,ABq,J=12Hz,−OCH2Ph) 7.20〜7.50(5H,m,−C6H5) マススペクトル(m/e):280(M+) 元素分析:C15H20O3Sとして 計算値:C,64.26;H,7.19;S,11.44 実測値:C,64.19;H,6.96;S,11.67 参考例39 dl−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラ
ン−3−チオール 参考例38の化合物(1.422g)のメタノール(30ml)溶液
にナトリウムメトキシドのメタノール溶液(約28重量
%、1.04ml)を−10℃で滴下した。−10〜0℃で2時間
撹拌した後、メタンスルホン酸(0.33ml)を加え、反応
液を水中に注いだ。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水
洗、乾燥、濃縮した。油状の残渣をシリカゲル(30g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、エーテル−
ヘキサン(3:97〜5:95)で溶出された分画を集めて、表
記の化合物(1.146g)を油状物として得た。
ン−3−チオール 参考例38の化合物(1.422g)のメタノール(30ml)溶液
にナトリウムメトキシドのメタノール溶液(約28重量
%、1.04ml)を−10℃で滴下した。−10〜0℃で2時間
撹拌した後、メタンスルホン酸(0.33ml)を加え、反応
液を水中に注いだ。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水
洗、乾燥、濃縮した。油状の残渣をシリカゲル(30g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、エーテル−
ヘキサン(3:97〜5:95)で溶出された分画を集めて、表
記の化合物(1.146g)を油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.10〜2.40(4H,m,C(4)−H2,C(5)−H2) 1.66(1H,d,J=10Hz,−SH) 2.95〜3.25(1H,m) 3.25〜3.85(4H,m) 3.85〜4.20(1H,m) 4.55(2H,ABq,J=12Hz,−OCH2Ph) 7.10〜7.50(5H,m,−C6H5) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:2580(−SH) マススペクトル(m/e):238(M+) 元素分析:C13H18O2Sとして 計算値:C,65.51;H,7.61;S,13.45 実測値:C,65.62;H,7.83;S,13.19 参考例40 dl−S−(シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒド
ロピラン−3−イル)=N−ヘプタデシルチオールカル
バメート ステアリン酸(7.75g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例39の化合物(2.60g)と反応させた。粗生
成物をシリカゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、エーテル−ヘキサン(1:10〜1:2)で溶
出される分画を集めて表記の化合物(5.29g)を白色結
晶として得た。mp80〜81℃(エーテル−ヘキサン)。
ロピラン−3−イル)=N−ヘプタデシルチオールカル
バメート ステアリン酸(7.75g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例39の化合物(2.60g)と反応させた。粗生
成物をシリカゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、エーテル−ヘキサン(1:10〜1:2)で溶
出される分画を集めて表記の化合物(5.29g)を白色結
晶として得た。mp80〜81℃(エーテル−ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.8〜2.2(37H,m) 3.1〜4.2(8H,m) 4.57(2H,ABq,JAB=12H,−CH2Ph) 5.31(1H,m,−NH−) 7.35(5H,m,−C6H5) 赤外スペクトル(CHCl3)cm-1:3430(−NH−),1670
(−S−CO−) 元素分析:C31H53NO3Sとして 計算値:C,71.63;H,10.28;N,2.69; S,6.17 実測値:C,71.73;H,10.19;N,2.64; S,6.43 参考例41 dl−S−(シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−ヘプタデシルチオールカルバメ
ート アセトニトリル(200ml)とメチレンクロリド(100ml)
の混合液を氷水浴中で冷却し、塩化アルミニウム(6.67
g)とヨウ化ナトリウム(7.50g)を順次加えた。次いで
参考例40の化合物(5.20g)のメチレンクロリド(100m
l)溶液を加え、室温で4時間撹拌した。反応液に水を
加え、セライト層に通じて不溶物を除いた。メチレンク
ロリドを加えて分液し、水層を再びメチレンクロリドで
抽出した。有機層を合わせ、チオ硫酸ソーダ水溶液と水
で洗い、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(90g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−メ
チレンクロリド−酢酸エチル(10:10:1〜2:2:1)で溶出
される分画を集めて、表記の化合物(4.04g)を白色結
晶として得た。mp90〜91℃(ヘキサン)。
(−S−CO−) 元素分析:C31H53NO3Sとして 計算値:C,71.63;H,10.28;N,2.69; S,6.17 実測値:C,71.73;H,10.19;N,2.64; S,6.43 参考例41 dl−S−(シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)=N−ヘプタデシルチオールカルバメ
ート アセトニトリル(200ml)とメチレンクロリド(100ml)
の混合液を氷水浴中で冷却し、塩化アルミニウム(6.67
g)とヨウ化ナトリウム(7.50g)を順次加えた。次いで
参考例40の化合物(5.20g)のメチレンクロリド(100m
l)溶液を加え、室温で4時間撹拌した。反応液に水を
加え、セライト層に通じて不溶物を除いた。メチレンク
ロリドを加えて分液し、水層を再びメチレンクロリドで
抽出した。有機層を合わせ、チオ硫酸ソーダ水溶液と水
で洗い、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(90g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−メ
チレンクロリド−酢酸エチル(10:10:1〜2:2:1)で溶出
される分画を集めて、表記の化合物(4.04g)を白色結
晶として得た。mp90〜91℃(ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(38H,m) 3.15〜4.15(8H,m) 5.53(1H,m,−NH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3430(−NH−,−OH),165
0(−S−CO−) 元素分析:C24H47NO3Sとして 計算値:C,67.08;H,11.02;N,3.26; S,7.46 実測値:C,67.04;H,10.98;N,3.31; S,7.63 参考例42 dl−{シス−3−(N−ヘプタデシルカルバモイルチ
オ)テトラヒドロピラン−2−イル}メチル=N−(5
−ブロモペンチル)カルバメート 6−ブロムヘキサン酸(1.36g)をベンゼン(40ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリルアジド(1.50ml)とトリ
エチルアミン(1.62ml)を加えて3時間加熱還流した。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で
洗浄した後、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(20ml)
に溶かし、参考例41の化合物(1.000g)を加え、85℃の
油浴上で64時間加熱した。反応液を濃縮乾固し、残渣を
シリカゲル(30g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ー、さらにローバー−B−カラムを用いた中圧液体クロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(4:
1)で溶出される分画を集めて表記の化合物(1.279g)
を蝋状固体として得た。mp 73〜75℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(43H,m) 2.9〜4.3(10H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 4.77(1H,br,−OCONH−) 5.33(1H,br,−SCONH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH−),1720(−
O−CO−),1675(−S−CO−) マススペクトル(m/e):623,621(M++1),541(M+
−Br) 元素分析:C30H57BrN2O4Sとして 計算値:C,57.95;H,9.24;Br,12.85; N,4.51;S,5.61 実測値:C,57.85;H,9.34;Br,12.85; N,4.52;S,5.28 参考例43 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−3−ヘキサ
デシルオキシテトラヒドロピラン 水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、0.480g)をジメチ
ルホルムアミド(10ml)中に懸濁し、参考例2のアルコ
ール(2.22g)のジメチルホルムアミド(10ml)溶液を
氷冷下で滴下した。室温で1時間撹拌後、ヘキサデシル
ブロミド(5.49g)を加え、さらに4時間撹拌した。最
後に60℃で1時間撹拌し、冷却後100mlの水中に注ぐ。
酢酸エチルで2回抽出し、抽出液を水洗・乾燥・濃縮
し、油状の残渣をシリカゲル(100g)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(1:20
〜1:10)で溶出された分画を集めて表記の化合物(3.82
g)を低融点の固体として得た。
0(−S−CO−) 元素分析:C24H47NO3Sとして 計算値:C,67.08;H,11.02;N,3.26; S,7.46 実測値:C,67.04;H,10.98;N,3.31; S,7.63 参考例42 dl−{シス−3−(N−ヘプタデシルカルバモイルチ
オ)テトラヒドロピラン−2−イル}メチル=N−(5
−ブロモペンチル)カルバメート 6−ブロムヘキサン酸(1.36g)をベンゼン(40ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリルアジド(1.50ml)とトリ
エチルアミン(1.62ml)を加えて3時間加熱還流した。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で
洗浄した後、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(20ml)
に溶かし、参考例41の化合物(1.000g)を加え、85℃の
油浴上で64時間加熱した。反応液を濃縮乾固し、残渣を
シリカゲル(30g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ー、さらにローバー−B−カラムを用いた中圧液体クロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(4:
1)で溶出される分画を集めて表記の化合物(1.279g)
を蝋状固体として得た。mp 73〜75℃ NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.2(43H,m) 2.9〜4.3(10H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 4.77(1H,br,−OCONH−) 5.33(1H,br,−SCONH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH−),1720(−
O−CO−),1675(−S−CO−) マススペクトル(m/e):623,621(M++1),541(M+
−Br) 元素分析:C30H57BrN2O4Sとして 計算値:C,57.95;H,9.24;Br,12.85; N,4.51;S,5.61 実測値:C,57.85;H,9.34;Br,12.85; N,4.52;S,5.28 参考例43 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチル−3−ヘキサ
デシルオキシテトラヒドロピラン 水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、0.480g)をジメチ
ルホルムアミド(10ml)中に懸濁し、参考例2のアルコ
ール(2.22g)のジメチルホルムアミド(10ml)溶液を
氷冷下で滴下した。室温で1時間撹拌後、ヘキサデシル
ブロミド(5.49g)を加え、さらに4時間撹拌した。最
後に60℃で1時間撹拌し、冷却後100mlの水中に注ぐ。
酢酸エチルで2回抽出し、抽出液を水洗・乾燥・濃縮
し、油状の残渣をシリカゲル(100g)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(1:20
〜1:10)で溶出された分画を集めて表記の化合物(3.82
g)を低融点の固体として得た。
mp28.5〜29.5℃(冷メタノール) NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(35H,m) 3.0〜4.2(8H,m) 4.60(2H,ABq,J=13Hz,−OCH2Ph) 7.2〜7.45(5H,m,C6H5−) マススペクトル(m/e):446(M+) 元素分析:C29H50O3として 計算値:C,77.97;H,11.28 実測値:C,78.06;H,11.31 参考例44 dl−{トランス−3−ヘキサデシルオキシ−テトラヒド
ロピラン−2−イル}−メタノール 参考例43の化合物(3.757g)のメタノール(150ml)溶
液に、10%パラジウム炭素(1.5g)を加え、パールの装
置中室温下4気圧で水素と振りまぜた。20時間後、触媒
を去し、溶媒を溜去すると表記の化合物(2.749g)が
固体として得られた。mp41〜42℃(冷ヘキサン) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600,3470(−OH) マススペクトル(m/e):357(M++1),356(M+) 元素分析:C22H44O3として 計算値:C,74.10;H,12.43 実測値:C,74.12;H,12.11 参考例45 dl−シス−2−ベンジルオキシメチル−3−ヘキサデシ
ルオキシテトラヒドロピラン 参考例33のアルコール(1.037g)、ヘキサデシルブロミ
ド(1.709g)、水酸化カリウム(0.77g)およびトルエ
ン(15ml)の混合物を120℃で10時間加熱撹拌した。冷
却後反応液を水中に注ぎ、水層をエーテルで2回抽出し
た。有機層を合わせ、水洗・乾燥・濃縮した。油状の残
渣(3.3g)をシリカゲル(50g)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(1:10)で
溶出された分画より表記の化合物(1.455g)を無色油状
物として得た。
ロピラン−2−イル}−メタノール 参考例43の化合物(3.757g)のメタノール(150ml)溶
液に、10%パラジウム炭素(1.5g)を加え、パールの装
置中室温下4気圧で水素と振りまぜた。20時間後、触媒
を去し、溶媒を溜去すると表記の化合物(2.749g)が
固体として得られた。mp41〜42℃(冷ヘキサン) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600,3470(−OH) マススペクトル(m/e):357(M++1),356(M+) 元素分析:C22H44O3として 計算値:C,74.10;H,12.43 実測値:C,74.12;H,12.11 参考例45 dl−シス−2−ベンジルオキシメチル−3−ヘキサデシ
ルオキシテトラヒドロピラン 参考例33のアルコール(1.037g)、ヘキサデシルブロミ
ド(1.709g)、水酸化カリウム(0.77g)およびトルエ
ン(15ml)の混合物を120℃で10時間加熱撹拌した。冷
却後反応液を水中に注ぎ、水層をエーテルで2回抽出し
た。有機層を合わせ、水洗・乾燥・濃縮した。油状の残
渣(3.3g)をシリカゲル(50g)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(1:10)で
溶出された分画より表記の化合物(1.455g)を無色油状
物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(35H,m) 3.1〜3.8(5H,m) 3.61(2H,s,-CH2 −OCH2Ph) 3.85〜4.15(1H,m) 4.55(2H,ABq,J=13Hz,−OCH2Ph) 7.2〜7.5(5H,m,C6H5−) マススペクトル(m/e):447(M++1) 元素分析:C29H50O3として 計算値:C,77.97;H,11.28 実測値:C,77.68;H,11.16 参考例46 dl−{シス−3−ヘキサデシルオキシテトラヒドロピラ
ン−2−イル}メタノール 参考例45の化合物(1.409g)をメタノール−エタノール
混合物(1:1,100ml)に溶かし、10%パラジウム炭素
(0.70g)を加えた。以下参考例44と同様に操作して接
触還元を行い、粗生成物(1.116g)をシリカゲル(30
g)のカラムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−
ヘキサン(1:20〜1:5)で溶出された分画より表記の化
合物(1.031g)が得られた。
ン−2−イル}メタノール 参考例45の化合物(1.409g)をメタノール−エタノール
混合物(1:1,100ml)に溶かし、10%パラジウム炭素
(0.70g)を加えた。以下参考例44と同様に操作して接
触還元を行い、粗生成物(1.116g)をシリカゲル(30
g)のカラムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−
ヘキサン(1:20〜1:5)で溶出された分画より表記の化
合物(1.031g)が得られた。
mp 42〜43℃(冷ヘキサン) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600,3460(−OH) マススペクトル(m/e):357(M++1) 356(M+) 元素分析:C22H44O3として 計算値:C,74.10;H,12.43 実測値:C,73.85;H,12.13 参考例47 dl−{トランス−3−ヘキサデシルオキシテトラヒドロ
ピラン−2−イル}メチル=N−(5−ブロモペンチ
ル)カルバメート 6−ブロムヘキサン酸(985mg)をベンゼン(30ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリンアジド(1.09ml)、トリ
エチルアミン(1.17ml)を加え、3時間還流した。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗
い、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(12ml)に溶か
し、参考例44の化合物(600mg)、トリエチルアミン
(1.17ml)を加えて85℃で15時間加熱した。反応液を濃
縮乾固し、残渣をシリカゲル(20g)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(1
7:3〜4:1)で溶出される分画を集めローバ−B−カラム
を用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけた。上記の
溶媒系で溶出される分画を集めて表記の化合物(744m
g)を油状物として得た。
ピラン−2−イル}メチル=N−(5−ブロモペンチ
ル)カルバメート 6−ブロムヘキサン酸(985mg)をベンゼン(30ml)に
溶かし、ジフェニルホスホリンアジド(1.09ml)、トリ
エチルアミン(1.17ml)を加え、3時間還流した。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗
い、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン(12ml)に溶か
し、参考例44の化合物(600mg)、トリエチルアミン
(1.17ml)を加えて85℃で15時間加熱した。反応液を濃
縮乾固し、残渣をシリカゲル(20g)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(1
7:3〜4:1)で溶出される分画を集めローバ−B−カラム
を用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけた。上記の
溶媒系で溶出される分画を集めて表記の化合物(744m
g)を油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(41H,m) 2.9〜3.7(7H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 3.96(1H,m) 4.75(1H,m,−NH−) マススペクトル(m/e):550,548(M++1),468(M+
−Br) 元素分析:C28H54BrNO4として 計算値:C,61.30;H,9.92;Br,14.56; N,2.55 実測値:C,61.19;H,9.79;Br,14.24; N,2.67 参考例48 4,5−ジヒドロフルフリルアルコール ジヒドロフラン(58.7g)の無水テトラヒドロフラン(3
50ml)溶液に氷水浴中5〜10℃でn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液(15.08重量%、358g)を30分で滴下し
た。反応液を50℃で2時間加熱撹拌し、再び氷浴中で0
℃に冷却した。パラホルム(25.0g)を一挙に加え、50
℃で2時間加熱撹拌した。冷却後反応液を氷水(500m
l)で洗った。水層を塩化メチレンで5回抽出した。有
機層を合わせ、乾燥・濃縮した。油状の残渣(14g)を
減圧蒸留すると表記の化合物(8.97g)が無色の液体と
して得られた。bp66〜67℃/7mmHg。本化合物は容易に二
量化するので直ちに次の工程に使用する。
−Br) 元素分析:C28H54BrNO4として 計算値:C,61.30;H,9.92;Br,14.56; N,2.55 実測値:C,61.19;H,9.79;Br,14.24; N,2.67 参考例48 4,5−ジヒドロフルフリルアルコール ジヒドロフラン(58.7g)の無水テトラヒドロフラン(3
50ml)溶液に氷水浴中5〜10℃でn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液(15.08重量%、358g)を30分で滴下し
た。反応液を50℃で2時間加熱撹拌し、再び氷浴中で0
℃に冷却した。パラホルム(25.0g)を一挙に加え、50
℃で2時間加熱撹拌した。冷却後反応液を氷水(500m
l)で洗った。水層を塩化メチレンで5回抽出した。有
機層を合わせ、乾燥・濃縮した。油状の残渣(14g)を
減圧蒸留すると表記の化合物(8.97g)が無色の液体と
して得られた。bp66〜67℃/7mmHg。本化合物は容易に二
量化するので直ちに次の工程に使用する。
NMRスペクトル(C6D6)ppm: 2.21(2H,broad t,J=9Hz,C(4)−H2) 2.98(1H,broad t,J=6Hz,−OH) 3.98(2H,d,J=6Hz,−CH2OH) 4.00(2H,t,J=9Hz,C(5)−H2) 4.68(1H,m,C(3)−H) マススペクトル:200(M×2),101(M++1),100
(M+) 参考例49 2−ベンジルオキシメチル−4,5−ジヒドロフラン 水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、7.69g)をジメチ
ルホルムアミド(150ml)中に懸濁し、参考例48の化合
物(17.64g)のジメチルホルムアミド(30ml)溶液を氷
冷下5〜10℃で30分間に滴下した。反応液を室温で1時
間撹拌した後、ベンジルブロミド(20.93ml)を氷冷下1
0〜15℃で30分間に滴下した。室温で1時間撹拌した
後、反応液を水(2l)中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出
した。抽出液を水洗、乾燥した後、溶媒を溜去する。油
状の残渣(17.8g)をシリカゲル(400g)を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル
(7:100)で溶出される分画を集めて表記の化合物(3.7
1g)を無色の液体として得た。
(M+) 参考例49 2−ベンジルオキシメチル−4,5−ジヒドロフラン 水素化ナトリウム(55%鉱油懸濁物、7.69g)をジメチ
ルホルムアミド(150ml)中に懸濁し、参考例48の化合
物(17.64g)のジメチルホルムアミド(30ml)溶液を氷
冷下5〜10℃で30分間に滴下した。反応液を室温で1時
間撹拌した後、ベンジルブロミド(20.93ml)を氷冷下1
0〜15℃で30分間に滴下した。室温で1時間撹拌した
後、反応液を水(2l)中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出
した。抽出液を水洗、乾燥した後、溶媒を溜去する。油
状の残渣(17.8g)をシリカゲル(400g)を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル
(7:100)で溶出される分画を集めて表記の化合物(3.7
1g)を無色の液体として得た。
NMRスペクトル(CDCl3,ppm): 2.65(2H,tm,J=10Hz,C(4)−H2) 4.03(2H,m,C(2)−CH2 −) 4.39(2H,t,J=10Hz,C(5)−H2) 3.58(2H,s,−CH2Ph) 4.93(1H,m,C(3)−H) 7.35(5H,m,C6H5−) マススペクトル(m/e):190(m+) 参考例50 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロ
フラン−3−オール 参考例49の化合物(3.389g)を用い、参考例2のように
してハイドロボレーションを行った。粗生成物(3.93
g)をシリカゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(1:2)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(2.012g)を無色油状物
として得た。
フラン−3−オール 参考例49の化合物(3.389g)を用い、参考例2のように
してハイドロボレーションを行った。粗生成物(3.93
g)をシリカゲル(120g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(1:2)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(2.012g)を無色油状物
として得た。
NMRスペクトル(CDCl3) 1.6〜2.4(2H,m,C(4)−H2) 2.28(1H,m,−OH) 3.74〜4.10(3H,m) 4.27(1H,m,C(3)−H) 4.58(2H,s,−OCH2 Ph) 7.30(5H,s,−C6H5) マススペクトル(m/e):208(m+) 参考例51 dl−トランス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロ
フラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例50の化合物(1.967g)を用い、参考例3のように
操作して表記の化合物(3.711g)を白色結晶として得
た。mp54〜56℃(ヘキサン)。
フラン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例50の化合物(1.967g)を用い、参考例3のように
操作して表記の化合物(3.711g)を白色結晶として得
た。mp54〜56℃(ヘキサン)。
NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,ppm): 0.8〜1.7(33H,m,−C16H33) 1.90〜2.30(2H,m,C(4)−H2) 3.15(2H,dt,J1=J2=6.6Hz,−OCONH−CH2 −) 3.59(2H,d,J=4.4Hz,C(2)−CH2 ) 3.88(1H,m) 4.05(2H,m) 4.56(2H,s,−OCH2Ph) 4.67(1H,m,−NH−) 5.10(1H,m,C(3)−H) 7.32(5H,m,−C6H5) IRスペクトル(CHCl3,cm-1):3450(−NH−),1720(−
OCONH−) マススペクトル(m/e):489(M+),398(M+−C
7H7) 元素分析:C30H51NO4として 計算値:C,73.57;H,10.50;N,2.86 実測値:C,73.09;H,10.33;N,2.87 参考例52 dl−トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロフラ
ン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例51の化合物(1.142g)を用い、参考例4のように
して脱ベンジル化反応を行った。表記の化合物(0.841
g)を白色結晶として得た。mp77〜78℃(エーテル−ヘ
キサン)。
OCONH−) マススペクトル(m/e):489(M+),398(M+−C
7H7) 元素分析:C30H51NO4として 計算値:C,73.57;H,10.50;N,2.86 実測値:C,73.09;H,10.33;N,2.87 参考例52 dl−トランス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロフラ
ン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例51の化合物(1.142g)を用い、参考例4のように
して脱ベンジル化反応を行った。表記の化合物(0.841
g)を白色結晶として得た。mp77〜78℃(エーテル−ヘ
キサン)。
NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,ppm): 0.8〜1.7(33H,m,−C16H33) 1.95〜2.25(2H,m,C(4)−H2) 2.41(1H,t,J=6.2Hz,−OH) 3.16(2H,dt,J1=J2=6.6Hz,−OCONH−CH2 −) 3.70(2H,m,C(2)−CH2−) 3.80〜4.10(3H,m) 4.72(1H,m,−NH−) 5.01(1H,m,C(3)−H) IRスペクトル(CHCl3,cm-1):3600(−OH),3450(−NH
−),1710(−OCONH−) マススペクトル(m/e):400(M++1),399(M+),36
8(M+−CH3O) 元素分析:C23H45NO4として 計算値:C,69.13;H,11.35;N,3.50 実測値:C,68.98;H,11.22;N,3.70 参考例53 6−{7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ヘ
プチルオキシ}メチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン 7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−1−ヘ
プタノール(4.32g)とトリエチルアミン(5.56ml)の
ベンゼン(80ml)溶液に、メタンスルホニルクロリド
(2.32ml)のベンゼン(10ml)溶液を氷冷下で滴下し
た。室温で1時間撹拌した後、反応液を水洗、乾燥、濃
縮して7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ヘ
プチル=メタンスルホネート(5.86g)を油状物として
得た。
−),1710(−OCONH−) マススペクトル(m/e):400(M++1),399(M+),36
8(M+−CH3O) 元素分析:C23H45NO4として 計算値:C,69.13;H,11.35;N,3.50 実測値:C,68.98;H,11.22;N,3.70 参考例53 6−{7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ヘ
プチルオキシ}メチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン 7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−1−ヘ
プタノール(4.32g)とトリエチルアミン(5.56ml)の
ベンゼン(80ml)溶液に、メタンスルホニルクロリド
(2.32ml)のベンゼン(10ml)溶液を氷冷下で滴下し
た。室温で1時間撹拌した後、反応液を水洗、乾燥、濃
縮して7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ヘ
プチル=メタンスルホネート(5.86g)を油状物として
得た。
ジメチルホルムアミド(20ml)中に水素化ナトリウム
(55%;0.87g)を懸濁し、6−ヒドロキシメチル−3,4
−ジヒドロ−2H−ピラン(2.28g)のジメチルホルムア
ミド(5ml)溶液を滴下した。室温で1時間撹拌した
後、上記のメタンスルホネートをジメチルホルムアミド
(5ml)に溶かして加えた。70℃の油浴上で1時間加熱
撹拌した後、反応液を水(200ml)中に注いだ、エーテ
ルで2回抽出し、抽出液を水洗、乾燥、濃縮した。油状
の残渣(6.47g)をシリカゲル(180g)を用いたカラム
クロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−エーテル(1:10
〜1:5)で溶出される分画を集めて表記の化合物(5.26
g)を無色油状物として得た。
(55%;0.87g)を懸濁し、6−ヒドロキシメチル−3,4
−ジヒドロ−2H−ピラン(2.28g)のジメチルホルムア
ミド(5ml)溶液を滴下した。室温で1時間撹拌した
後、上記のメタンスルホネートをジメチルホルムアミド
(5ml)に溶かして加えた。70℃の油浴上で1時間加熱
撹拌した後、反応液を水(200ml)中に注いだ、エーテ
ルで2回抽出し、抽出液を水洗、乾燥、濃縮した。油状
の残渣(6.47g)をシリカゲル(180g)を用いたカラム
クロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−エーテル(1:10
〜1:5)で溶出される分画を集めて表記の化合物(5.26
g)を無色油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.1〜2.2(20H,m) 3.25〜4.15(10H,m) 4.60(1H,m) 4.80(1H,m) マススペクトル(m/e):312(M+),225(M+−C5H9
O) 元素分析:C18H32O4として 計算値:C,69.19;H,10.33 実測値:C,69.16;H,10.22 参考例54 dl−トランス−2−{7−(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラ
ン−3−オール 参考例53の化合物(5.26g)を用い、参考例2のように
してハイドロボレーション反応を行った。粗生成物(5.
64g)をシリカゲル(100g)を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(4.17g)を無色油状
物として得た。
O) 元素分析:C18H32O4として 計算値:C,69.19;H,10.33 実測値:C,69.16;H,10.22 参考例54 dl−トランス−2−{7−(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラ
ン−3−オール 参考例53の化合物(5.26g)を用い、参考例2のように
してハイドロボレーション反応を行った。粗生成物(5.
64g)をシリカゲル(100g)を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(4.17g)を無色油状
物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.1〜2.3(20H,m) 3.10(1H,d,J=2.5Hz,−OH) 3.15〜4.10(12H,m) 4.60(1H,m) マススペクトル(m/e):329(M+−1) 元素分析:C18H34O5として 計算値:C,65.42;H,10.37 実測値:C,65.05;H,10.07 参考例55 dl−7−(トランス−3−ヘキサデシルオキシテトラヒ
デロピラン−2−イル)メトキシ−1−ヘプタノール 水素化ナトリウム(55%;0.24g)とジメチルホルムアミ
ド(5ml)の混合物中に、参考例54の化合物(1.652g)
のジメチルホルムアミド(5ml)溶液を室温で滴下し
た。室温で30分撹拌した後、反応液を60℃の油浴上で30
分間加熱した。ヘキサデシルブロミド(1.83g)を室温
で加え、60℃の油浴上で30分加熱撹拌した。反応液を冷
却し、水素化ナトリウム(55%;0.24g)を再び室温で加
えた。60℃の油浴上で30分加熱した後、反応液を室温に
戻し、ヘキサデシルブロミド(1.83g)を再び加えた。6
0℃の油浴上で30分加熱撹拌した後、反応液を冷却して
水中に注いだ。メチレンクロリドで3回抽出し、抽出液
を合わせて乾燥、濃縮した。油状の残渣(5.74g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶かし、メタノール(40m
l)と濃塩酸(0.5ml)を加えて室温で30分間撹拌した。
溶媒を溜去して残渣に水を加え、エーテルで2回抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と食塩水で
洗い、乾燥、濃縮した。油状の残渣(5.14g)をシリカ
ゲル(90g)を用いたカラムクロマトグラフィーにか
け、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(2.123g)を粘稠な油状物として得
た。
デロピラン−2−イル)メトキシ−1−ヘプタノール 水素化ナトリウム(55%;0.24g)とジメチルホルムアミ
ド(5ml)の混合物中に、参考例54の化合物(1.652g)
のジメチルホルムアミド(5ml)溶液を室温で滴下し
た。室温で30分撹拌した後、反応液を60℃の油浴上で30
分間加熱した。ヘキサデシルブロミド(1.83g)を室温
で加え、60℃の油浴上で30分加熱撹拌した。反応液を冷
却し、水素化ナトリウム(55%;0.24g)を再び室温で加
えた。60℃の油浴上で30分加熱した後、反応液を室温に
戻し、ヘキサデシルブロミド(1.83g)を再び加えた。6
0℃の油浴上で30分加熱撹拌した後、反応液を冷却して
水中に注いだ。メチレンクロリドで3回抽出し、抽出液
を合わせて乾燥、濃縮した。油状の残渣(5.74g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶かし、メタノール(40m
l)と濃塩酸(0.5ml)を加えて室温で30分間撹拌した。
溶媒を溜去して残渣に水を加え、エーテルで2回抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と食塩水で
洗い、乾燥、濃縮した。油状の残渣(5.14g)をシリカ
ゲル(90g)を用いたカラムクロマトグラフィーにか
け、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分画を
集めて表記の化合物(2.123g)を粘稠な油状物として得
た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.75〜2.05(44H,m) 2.1〜2.4(1H,m) 3.00〜3.80(12H,m) 3.80〜4.10(1H,m) マススペクトル(m/e):471(M++1) 元素分析:C29H58O4として 計算値:C,73.99;H,12.42 実測値:C,73.69;H,12.30 参考例56 dl−2−{7−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−
オン ピリジンクロロクロメート(2.33g)、酢酸ソーダ(1.7
8g)とメチレンクロリド(10ml)の混合物中に参考例54
の化合物(2.387g)のメチレンクロリド(10ml)溶液を
一度に加えた。室温で3時間撹拌した後、反応液にエー
テル(30ml)を加えてシリカゲル(50g)のカラムに通
じた。カラムをエーテルで洗い、通過液と洗液を合わせ
て濃縮した。油状の残渣(2.24g)をシリカゲル(60g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(3:1〜2:1)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(1.786g)を油状物として得た。
シ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−
オン ピリジンクロロクロメート(2.33g)、酢酸ソーダ(1.7
8g)とメチレンクロリド(10ml)の混合物中に参考例54
の化合物(2.387g)のメチレンクロリド(10ml)溶液を
一度に加えた。室温で3時間撹拌した後、反応液にエー
テル(30ml)を加えてシリカゲル(50g)のカラムに通
じた。カラムをエーテルで洗い、通過液と洗液を合わせ
て濃縮した。油状の残渣(2.24g)をシリカゲル(60g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(3:1〜2:1)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(1.786g)を油状物として得た。
IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1730 マススペクトル(m/e):244(M+−C5H8O),227(M
+−C5H9O2) 参考例57 dl−シス−2−{7−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−
3−オール 参考例56の化合物(1.718g)を用い、参考例33後半のよ
うに還元反応を行って表記の化合物(1.320g)を無色の
油状物として得た。
+−C5H9O2) 参考例57 dl−シス−2−{7−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)ヘプチルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−
3−オール 参考例56の化合物(1.718g)を用い、参考例33後半のよ
うに還元反応を行って表記の化合物(1.320g)を無色の
油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.15〜2.40(20H,m) 2.95(1H,d,J=4Hz,−OH) 3.25〜4.25(10H,m) 4.60(1H,m) マススペクトル(m/e):330(M+),329(M+−1) 元素分析:C18H34O5として 計算値:C,65.42;H,10.37 実測値:C,65.22;H,10.44 参考例58 dl−7−(シス−3−ヘキサデシルオキシテトラヒドロ
ピラン−2−イル)メトキシ−1−ヘプタノール 参考例57の化合物(1.150g)を用い、参考例55のように
操作して表記の化合物(1.282g)を粘稠な油状物として
得た。
ピラン−2−イル)メトキシ−1−ヘプタノール 参考例57の化合物(1.150g)を用い、参考例55のように
操作して表記の化合物(1.282g)を粘稠な油状物として
得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.35(45H,m) 2.16(1H,m,−OH) 3.10〜3.85(11H,m) 3.90〜4.20(1H,m) マススペクトル(m/e):470(M+),411(M+−C3H7
O) 元素分析:C29H58O4として 計算値:C,73.99;H,12.42 実測値:C,73.72;H,12.31 参考例59 5−(2−メトキシエトキシ)メトキシ−1−ペンタノ
ール 1,5−ペンタンジオール(50.00g)のジメチルホルムア
ミド(100ml)溶液を、水素化ナトリウム(55%の鉱油
懸濁物、23.00g)とジメチルホルムアミド(300ml)の
混合物中に氷冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で1時
間撹拌した後、2−メトキシエトキシメチルクロリド
(65.79g)のジメチルホルムアミド(100ml)溶液を氷
冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で3時間撹拌した
後、反応液を2.5lの水中に注ぎ、メチレンクロリドで5
回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣
をシリカゲル(850g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。メチレンクロリド−メタノール(98:2〜9
5:5)で溶出される分画を集めて表記の化合物(48.40
g)を無色の油状物として得た。
O) 元素分析:C29H58O4として 計算値:C,73.99;H,12.42 実測値:C,73.72;H,12.31 参考例59 5−(2−メトキシエトキシ)メトキシ−1−ペンタノ
ール 1,5−ペンタンジオール(50.00g)のジメチルホルムア
ミド(100ml)溶液を、水素化ナトリウム(55%の鉱油
懸濁物、23.00g)とジメチルホルムアミド(300ml)の
混合物中に氷冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で1時
間撹拌した後、2−メトキシエトキシメチルクロリド
(65.79g)のジメチルホルムアミド(100ml)溶液を氷
冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で3時間撹拌した
後、反応液を2.5lの水中に注ぎ、メチレンクロリドで5
回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣
をシリカゲル(850g)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。メチレンクロリド−メタノール(98:2〜9
5:5)で溶出される分画を集めて表記の化合物(48.40
g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.3〜1.8(7H,m) 3.39(3H,s,−OCH3) 3.4〜3.8(8H,m) 4.72(2H,s,−O−CH2−O) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3480(−OH),1050(C−
O−C) マススペクトル(m/e):193(M++1),117(M+−C3
H7O2) 元素分析:C9H20O4として 計算値:C,56.23;H,10.49 実測値:C,55.95;H,10.28 参考例60 1−ブロモ−5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペ
ンタン 参考例59の化合物(48.40g)と四臭化炭素(100.19g)
のメチレンクロリド(500ml)溶液にトリフェニルホス
フィン(79.32g)を氷冷下(5〜8℃)で加えた。室温
で1時間撹拌した後溶媒を溜去し、残渣にジエチルエー
テルを加え不溶物を過した。液を濃縮し残渣をシリ
カゲル(850g)を用いたカラムクロマトグラフィーにか
けた。酢酸エチル−ヘキサン(1:9)で溶出される分画
を集めて表記の化合物(57.87g)を無色の油状物として
得た。
O−C) マススペクトル(m/e):193(M++1),117(M+−C3
H7O2) 元素分析:C9H20O4として 計算値:C,56.23;H,10.49 実測値:C,55.95;H,10.28 参考例60 1−ブロモ−5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペ
ンタン 参考例59の化合物(48.40g)と四臭化炭素(100.19g)
のメチレンクロリド(500ml)溶液にトリフェニルホス
フィン(79.32g)を氷冷下(5〜8℃)で加えた。室温
で1時間撹拌した後溶媒を溜去し、残渣にジエチルエー
テルを加え不溶物を過した。液を濃縮し残渣をシリ
カゲル(850g)を用いたカラムクロマトグラフィーにか
けた。酢酸エチル−ヘキサン(1:9)で溶出される分画
を集めて表記の化合物(57.87g)を無色の油状物として
得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.4〜1.8(4H,m) 1.90(2H,quintet,J=6.5Hz,C(2)−H2) 3.40(3H,s,−OCH3) 3.4〜3.8(8H,m) 4.72(2H,s,−O−CH2−O−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1045(C−O−C),565
(−Br) マススペクトル(m/e):225,223(M+−OCH3),181,179
(M+−OCH2CH2OCH3) 元素分析:C19H19BrO3として 計算値:C,42.37;H,7.51;Br,31.32 実測値:C,42.39;H,7.31;Br,31.13 参考例61 2−{5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペンチ
ル}マロン酸ジエチル 無水エタノール(30ml)に金属ナトリウム(3.00g)を
徐々に加えて溶かし、次いでマロン酸ジエチル(37.80
g)の無水エタノール(20ml)溶液を滴下した。更に参
考例60の化合物(30.01g)の無水エタノール(10ml)溶
液を滴下し、21時間加熱還流した。放冷後、溶媒を溜去
し残渣に冷水を加えて酢酸エチルで3回抽出した。抽出
液を水洗・乾燥・濃縮し残渣をシリカゲル(850g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(4:1)で溶出される分画を集めて表記の化合
物(32.78g)を無色の油状物として得た。
(−Br) マススペクトル(m/e):225,223(M+−OCH3),181,179
(M+−OCH2CH2OCH3) 元素分析:C19H19BrO3として 計算値:C,42.37;H,7.51;Br,31.32 実測値:C,42.39;H,7.31;Br,31.13 参考例61 2−{5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペンチ
ル}マロン酸ジエチル 無水エタノール(30ml)に金属ナトリウム(3.00g)を
徐々に加えて溶かし、次いでマロン酸ジエチル(37.80
g)の無水エタノール(20ml)溶液を滴下した。更に参
考例60の化合物(30.01g)の無水エタノール(10ml)溶
液を滴下し、21時間加熱還流した。放冷後、溶媒を溜去
し残渣に冷水を加えて酢酸エチルで3回抽出した。抽出
液を水洗・乾燥・濃縮し残渣をシリカゲル(850g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(4:1)で溶出される分画を集めて表記の化合
物(32.78g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.26(6H,t,J=7.0Hz,−CH2 CH3 ×2) 1.3〜2.1(8H,m) 3.2〜3.8(7H,m) 3.40(3H,s,−OCH3) 4.20(4H,q,J=7.0Hz,−CH2 −CH3×2) 4.71(2H,s,−O−CH2−O−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:1725(−CO−),1040(−
C−O−C) マススペクトル(m/e):275(M+−C3H7O),259(M
+−C3H7O2) 元素分析:C16H30O7として 計算値:C,57.47;H,9.04 実測値:C,57.56;H,8.98 参考例62 2−{5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペンチ
ル}マロン酸水素エチル 参考例61の化合物(1.029g)のエタノール(1.5ml)溶
液に、水酸化カリウム(0.203g)の水(1.5ml)溶液を
氷冷下で加えた。反応液を室温で5時間撹拌した後、エ
ーテルで洗った。水層に10%塩酸を滴下してpH2とし、
メチレンクロリドで4回抽出した。抽出液を合わせて乾
燥、濃縮し、油状の残渣(0.94g)をシリカゲル(20g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(0.764g)を無色の油状物として得た。
C−O−C) マススペクトル(m/e):275(M+−C3H7O),259(M
+−C3H7O2) 元素分析:C16H30O7として 計算値:C,57.47;H,9.04 実測値:C,57.56;H,8.98 参考例62 2−{5−(2−メトキシエトキシ)メトキシペンチ
ル}マロン酸水素エチル 参考例61の化合物(1.029g)のエタノール(1.5ml)溶
液に、水酸化カリウム(0.203g)の水(1.5ml)溶液を
氷冷下で加えた。反応液を室温で5時間撹拌した後、エ
ーテルで洗った。水層に10%塩酸を滴下してpH2とし、
メチレンクロリドで4回抽出した。抽出液を合わせて乾
燥、濃縮し、油状の残渣(0.94g)をシリカゲル(20g)
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表
記の化合物(0.764g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3,ppm) 1.28(3H,t,J=7Hz,−OCH2 CH3 ) 1.15〜2.10(8H,m) 3.25〜3.80(7H,m) 3.42(3H,s,−OCH3) 4.24(2H,q,J=7Hz,−OCH2 CH3) 4.73(2H,s,−O−CH2−O−) 元素分析:C14H26O7として 計算値:C,54.88;H,8.55 実測値:C,54.70;H,8.45 参考例63 2−{(dl−トランス−3−ヘプタデシルカルバモイル
オキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニル}アミノ−5−{(2−メトキシエトキシ)−メト
キシ}ヘプタン酸エチル 参考例62の化合物(0.731g)、ジフェニルホスホリルア
ジド(0.51ml)およびトリエチルアミン(0.50ml)のベ
ンゼン(15ml)溶液を4時間加熱還流した。放冷後、反
応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾
燥、濃縮した。油状の残渣(0.748g)をトルエン(15m
l)に溶かし、参考例4の化合物(0.329g)およびトリ
エチルアミン(0.50ml)を加えて90℃の油浴上で24時間
加熱撹拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(30
g)を用いてカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集
め、表記の化合物(0.596g)を蝋状物として得た。
オキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニル}アミノ−5−{(2−メトキシエトキシ)−メト
キシ}ヘプタン酸エチル 参考例62の化合物(0.731g)、ジフェニルホスホリルア
ジド(0.51ml)およびトリエチルアミン(0.50ml)のベ
ンゼン(15ml)溶液を4時間加熱還流した。放冷後、反
応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾
燥、濃縮した。油状の残渣(0.748g)をトルエン(15m
l)に溶かし、参考例4の化合物(0.329g)およびトリ
エチルアミン(0.50ml)を加えて90℃の油浴上で24時間
加熱撹拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(30
g)を用いてカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集
め、表記の化合物(0.596g)を蝋状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3,ppm) 0.8〜2.5(48H,m) 3.17(2H,dt,J1=J2=7Hz,−NH−CH2−) 3.43(3H,s,−OCH3) 3.35〜4.95(14H,m) 4.23(2H,q,J=7Hz,−CO−OCH2 CH3) 4.73(2H,s,−O−CH2−O−) 5.37(1H,m,−NH−) マススペクトル(m/e):641(M+−C3H7O2),627
(M+−C4H9O2) 参考例64 2−{(dl−トランス−3−ヘプタデシルカルバモイル
オキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニル}アミノ−5−ヒドロキシヘプタン酸エチル 参考例63の化合物(0.584g)のエタノール(10ml)溶液
にアセチルクロリド(0.2ml)の氷冷下で加えた。室温
で4.5時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(50ml)で
希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗った。
乾燥後溶媒を溜去し、ロウ状の残渣(0.479g)をシリカ
ゲル(20g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(1:1〜2:1)で溶出される分
画を集めて表記の化合物(0.405g)をmp43〜46℃の蝋状
物として得た。
(M+−C4H9O2) 参考例64 2−{(dl−トランス−3−ヘプタデシルカルバモイル
オキシテトラヒドロピラン−2−イル)メトキシカルボ
ニル}アミノ−5−ヒドロキシヘプタン酸エチル 参考例63の化合物(0.584g)のエタノール(10ml)溶液
にアセチルクロリド(0.2ml)の氷冷下で加えた。室温
で4.5時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(50ml)で
希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗った。
乾燥後溶媒を溜去し、ロウ状の残渣(0.479g)をシリカ
ゲル(20g)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−酢酸エチル(1:1〜2:1)で溶出される分
画を集めて表記の化合物(0.405g)をmp43〜46℃の蝋状
物として得た。
NMRスペクトル(CD3OD,ppm): 0.8〜2.40(48H,m) 3.08(2H,t,J=7Hz,−NH−CH2 −) 3.2〜4.7(7H,m) 3.55(2H,t,J=6Hz,−CH2 −OH) 4.17(2H,q,J=7Hz,−OCH2 CH3) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3500(−OH),3400(−N
H),1720(−O−CO−) 参考例65 dl−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラ
ン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート ステアリン酸(2.758g)、ジフェニルホスホリルアジド
(2.09ml)と参考例33の化合物(0.862g)を用い、参考
例3と同様にして表記の化合物(1.407g)を結晶として
得た。mp63.0〜65.0℃(エーテル−ヘキサン)。
H),1720(−O−CO−) 参考例65 dl−シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラ
ン−3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート ステアリン酸(2.758g)、ジフェニルホスホリルアジド
(2.09ml)と参考例33の化合物(0.862g)を用い、参考
例3と同様にして表記の化合物(1.407g)を結晶として
得た。mp63.0〜65.0℃(エーテル−ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.4(37H,m) 3.0〜3.8(6H,m) 3.9〜4.2(1H,m) 4.55(2H,ABq,J=12Hz,−OCH2Ph) 4.5〜5.0(2H,m) 7.2〜7.4(5H,m,C6H5−) IRスペクトル(CHCl3,cm-1):3460(−NH−),1715(−
O−CO−) マススペクトル(m/e):504(M++1),396(M+−OC7
H7),382(M+−CH2OC7H7) 元素分析:C31H53NO4として 計算値:C,73.91;H,10.60;N,2.78 実測値:C,73.76;H,10.72;N,2.79 参考例66 dl−シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン−
3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例65の化合物(1.300g)のエタノール(30ml)溶
液、および10%パラジウム炭素(0.819g)を用い、参考
例4と同様にして表記の化合物(0.977g)を結晶として
得た。mp 81.0-82.0℃(エーテル)。
O−CO−) マススペクトル(m/e):504(M++1),396(M+−OC7
H7),382(M+−CH2OC7H7) 元素分析:C31H53NO4として 計算値:C,73.91;H,10.60;N,2.78 実測値:C,73.76;H,10.72;N,2.79 参考例66 dl−シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン−
3−イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例65の化合物(1.300g)のエタノール(30ml)溶
液、および10%パラジウム炭素(0.819g)を用い、参考
例4と同様にして表記の化合物(0.977g)を結晶として
得た。mp 81.0-82.0℃(エーテル)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(37H,m) 2.9〜3.1(1H,m,−OH) 3.0〜3.7(6H,m) 3.9〜4.2(1H,m) 4.7〜5.1(2H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3600(−OH),3460(−NH
−),1700(−O−CO−) マススペクトル(m/e):413(M+),382(M+−CH2OH) 参考例67 dl−シス−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバモ
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.245g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.37ml)、および参考例66の化合物(0.880
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(0.933
g)を蝋状固体として得た。mp 95.0-96.0℃(エーテ
ル)。
−),1700(−O−CO−) マススペクトル(m/e):413(M+),382(M+−CH2OH) 参考例67 dl−シス−2−{N−(5−ブロモペンチル)カルバモ
イルオキシ}メチルテトラヒドロピラン−3−イル=N
−ヘプタデシルカルバメート 5−ブロモヘキサン酸(1.245g)、ジフェニルホスホリ
ルアジド(1.37ml)、および参考例66の化合物(0.880
g)を用い、参考例6と同様にして表記の化合物(0.933
g)を蝋状固体として得た。mp 95.0-96.0℃(エーテ
ル)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(43H,m) 3.0〜3.8(6H,m) 3.38(2H,t,J=7Hz,−CH2Br) 4.00(1H,m,C(2)−H) 4.13(2H,d,J=7Hz,−CH2OCO−) 4.6〜5.1(3H,m) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3460(−NH−) 1720(−
O−CO−) マススペクトル(m/e):606,604(M+),524(M+−HB
r) 元素分析:C30H57BrN2O5として 計算値:C,59.49;H,9.49;Br,13.19; N,4.62 実測値:C,59.61;H,9.58;Br,13.14; N,4.74 参考例68 dl−S−(シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒド
ロピラン−3−イル)N−オクタデシルチオールカルバ
メート ノナデカン酸(3.38g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例39の化合物(1.124g)と反応させた。粗生
成物をシリカゲル(80g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、エーテル−ヘキサン(1:5〜1:2)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(2.283g)を白色結晶
として得た。mp 85〜86℃(エーテル−ヘキサン)。
O−CO−) マススペクトル(m/e):606,604(M+),524(M+−HB
r) 元素分析:C30H57BrN2O5として 計算値:C,59.49;H,9.49;Br,13.19; N,4.62 実測値:C,59.61;H,9.58;Br,13.14; N,4.74 参考例68 dl−S−(シス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒド
ロピラン−3−イル)N−オクタデシルチオールカルバ
メート ノナデカン酸(3.38g)を用い、参考例3のように操作
して、参考例39の化合物(1.124g)と反応させた。粗生
成物をシリカゲル(80g)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、エーテル−ヘキサン(1:5〜1:2)で溶出
される分画を集めて表記の化合物(2.283g)を白色結晶
として得た。mp 85〜86℃(エーテル−ヘキサン)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 8.0〜2.2(39H,m) 3.1〜4.2(8H,m) 4.57(2H,ABq,JAB=12H,−CH2Ph) 5.33(1H,m,−NH−) 7.35(5H,m,−C6H5) 赤外スペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH−),1675
(−S−CO−) 元素分析:C32H55NO3Sとして 計算値:C,71.99;H,10.38;N,2.62; S,6.01 実測値:C,71.87;H,10.30;N,2.67; S,6.17 参考例67 dl−S−(シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)N−オクタデシルチオールカルバメー
ト アセトニトリル(70ml)とメチレンクロリド(35ml)の
混合液を氷水浴中で冷却し、塩化アルミニウム(2.32
g)とヨウ化ナトリウム(2.61g)を順次加えた。次いで
参考例68の化合物(1.859g)のメチレンクロリド(35m
l)溶液を加え、室温で7時間撹拌した。反応液に水を
加え、セライト層に通じて不溶物を除いた。メチレンク
ロリドを加えて分液し、水層を再びメチレンクロリドで
抽出した。有機層を合わせ、チオ硫酸ソーダ水溶液と水
で洗い、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(45g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル
(1:5〜1:2)で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(1.200g)を白色結晶として得た。
(−S−CO−) 元素分析:C32H55NO3Sとして 計算値:C,71.99;H,10.38;N,2.62; S,6.01 実測値:C,71.87;H,10.30;N,2.67; S,6.17 参考例67 dl−S−(シス−2−ヒドロキシメチルテトラヒドロピ
ラン−3−イル)N−オクタデシルチオールカルバメー
ト アセトニトリル(70ml)とメチレンクロリド(35ml)の
混合液を氷水浴中で冷却し、塩化アルミニウム(2.32
g)とヨウ化ナトリウム(2.61g)を順次加えた。次いで
参考例68の化合物(1.859g)のメチレンクロリド(35m
l)溶液を加え、室温で7時間撹拌した。反応液に水を
加え、セライト層に通じて不溶物を除いた。メチレンク
ロリドを加えて分液し、水層を再びメチレンクロリドで
抽出した。有機層を合わせ、チオ硫酸ソーダ水溶液と水
で洗い、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(45g)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル
(1:5〜1:2)で溶出される分画を集めて、表記の化合物
(1.200g)を白色結晶として得た。
mp 93〜94℃(エーテル)。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 0.7〜2.3(40H,m) 3.15〜4.15(8H,m) 5.53(1H,m,−NH−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3450(−NH−,−OH),165
0(−S−CO−) 元素分析:C25H49NO3Sとして 計算値:C,67.67;H,11.13;N,3.16; S,7.23 実測値:C,67.65;H,11.24;N,2.96; S,7.51 参考例70 2−ヒドロキシメチル−7−(2−メトキシエトキシ)
メトキシ−1−ヘプタノール 参考例61の化合物(10.29g)のテトラヒドロフラン(10
0ml)溶液を、水素化リチウムアルミニウム(2.40g)と
テトラヒドロフラン(100ml)の混合物中に氷冷下(5
〜7℃)で滴下した。室温で3時間撹拌した後、4%水
酸化ナトリウム水溶液(9.60ml)を5〜9℃で滴下し
た。室温で30分撹拌した後、セライトで過し、液を
濃縮して得られる残渣を、シリカゲル(105g)を用いた
カラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロリド
−メタノール(98:2〜95:5)で溶出される分画を集めて
表記の化合物(6.94g)を無色の油状物として得た。
0(−S−CO−) 元素分析:C25H49NO3Sとして 計算値:C,67.67;H,11.13;N,3.16; S,7.23 実測値:C,67.65;H,11.24;N,2.96; S,7.51 参考例70 2−ヒドロキシメチル−7−(2−メトキシエトキシ)
メトキシ−1−ヘプタノール 参考例61の化合物(10.29g)のテトラヒドロフラン(10
0ml)溶液を、水素化リチウムアルミニウム(2.40g)と
テトラヒドロフラン(100ml)の混合物中に氷冷下(5
〜7℃)で滴下した。室温で3時間撹拌した後、4%水
酸化ナトリウム水溶液(9.60ml)を5〜9℃で滴下し
た。室温で30分撹拌した後、セライトで過し、液を
濃縮して得られる残渣を、シリカゲル(105g)を用いた
カラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロリド
−メタノール(98:2〜95:5)で溶出される分画を集めて
表記の化合物(6.94g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.2〜2.0(9H,m) 2.52(2H,m,−OH) 3.40(3H,s,−OCH3) 3.5〜4.0(10H,m) 4.71(2H,s,−O−CH2−O−) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3420(OH),1040(−C−
O−C) マススペクトル(m/e):251(M++1) 元素分析:C12H26O5として 計算値:C,57.57;H,10.47 実測値:C,57.46;H,10.22 参考例71 (2RS)−2−ベンジルオキシメチル−7−(2−メト
キシエトキシ)メトキシ−1−ヘプタノール 参考例70の化合物(3.06g)のジメチルホルムアミド(2
0ml)溶液を、水素化ナトリウム(55%の鉱油懸濁物、5
87mg)とジメチルホルムアミド(40ml)の混合物中に氷
冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で1時間撹拌した
後、ベンジルブロミド(1.60ml)を氷冷下(5〜7℃)
で滴下した。室温で2時間撹拌した後、反応液を0.3lの
水中に注ぎ、酢酸エチルで5回抽出した。抽出液を水洗
・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカゲル(60g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表記の
化合物(2.37g)を無色の油状物として得た。
O−C) マススペクトル(m/e):251(M++1) 元素分析:C12H26O5として 計算値:C,57.57;H,10.47 実測値:C,57.46;H,10.22 参考例71 (2RS)−2−ベンジルオキシメチル−7−(2−メト
キシエトキシ)メトキシ−1−ヘプタノール 参考例70の化合物(3.06g)のジメチルホルムアミド(2
0ml)溶液を、水素化ナトリウム(55%の鉱油懸濁物、5
87mg)とジメチルホルムアミド(40ml)の混合物中に氷
冷下(5〜7℃)で滴下した。室温で1時間撹拌した
後、ベンジルブロミド(1.60ml)を氷冷下(5〜7℃)
で滴下した。室温で2時間撹拌した後、反応液を0.3lの
水中に注ぎ、酢酸エチルで5回抽出した。抽出液を水洗
・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカゲル(60g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢
酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分画を集めて表記の
化合物(2.37g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(CDCl3)ppm: 1.2〜2.0(9H,m) 2.47(1H,t,J=6Hz,−OH) 3.39(3H,s,−OCH3) 3.4〜3.8(10H,m) 4.52(2H,s,−O−CH2−Ph) 4.71(2H,s,−O−CH2−O−) 7.26(5H,s,−C6H5) IRスペクトル(CHCl3)cm-1:3500(−OH),1040(C−
O−C) マススペクトル(m/e):341(M++1) 元素分析:C19H32O5として 計算値:C,67.03;H,9.47 実測値:C,66.88;H,9.39 試験例1 PAF血圧降下作用の抑制 試験動物として、イナクチン(90mg/kg 腹腔内投与)
で麻酔したウィスター今道ラット(体重350〜450g)を
使用した。血圧は、大腿動脈に挿入したカニューレより
連続的に測定し、薬物は、大腿静脈に挿入したカニュー
レより静注した。まず、PAF(l−C16:0型)10ng/kgを
5分間隔で静注し、その降圧反応の大きさが一定するま
で繰り返した。次に、被検薬を静注し、その1分後に再
びPAFの同じ用量を投与した。被検薬は、累積的に投与
し、そのPAF降圧作用の抑制率より、50%抑制用量(ID
50)を決定し、PAF拮抗活性の指標とした。尚、PAFおよ
び被検薬は0.25%牛血清アルブミン(BSA)を含有する
生理食塩液に溶解して使用し、この溶媒に不溶の被検液
のみ20%エタノールを含有する生理食塩水に溶解した。
O−C) マススペクトル(m/e):341(M++1) 元素分析:C19H32O5として 計算値:C,67.03;H,9.47 実測値:C,66.88;H,9.39 試験例1 PAF血圧降下作用の抑制 試験動物として、イナクチン(90mg/kg 腹腔内投与)
で麻酔したウィスター今道ラット(体重350〜450g)を
使用した。血圧は、大腿動脈に挿入したカニューレより
連続的に測定し、薬物は、大腿静脈に挿入したカニュー
レより静注した。まず、PAF(l−C16:0型)10ng/kgを
5分間隔で静注し、その降圧反応の大きさが一定するま
で繰り返した。次に、被検薬を静注し、その1分後に再
びPAFの同じ用量を投与した。被検薬は、累積的に投与
し、そのPAF降圧作用の抑制率より、50%抑制用量(ID
50)を決定し、PAF拮抗活性の指標とした。尚、PAFおよ
び被検薬は0.25%牛血清アルブミン(BSA)を含有する
生理食塩液に溶解して使用し、この溶媒に不溶の被検液
のみ20%エタノールを含有する生理食塩水に溶解した。
試験例2 in vitroにおける血小板PAF凝集抑制作用 ウサギより採血し、直ちに1/9容の3.8%クエン酸ソーダ
と混合した。室温下に150gで15分間遠心し、上層より多
血小板血漿(PRP)を得た。残りの血液を1000gにてさら
に15分間遠心し、上層より乏血小板血漿(PPP)を得
た。PRPとPPPを適量混合し、PRPの最終血小板数をμl
あたり60万個に調整した。血小板の凝集はボーンらの方
法(G.V.R Born J.Physiol.62,67-68(1962))により
アグリコメーターを用い透過光の増加により測定した。
250μlのPRPに被検薬溶液25μlを加えて1分後に25μ
lのPAF(C16,終濃度10-8〜3×-8M)を添加し、そ
の後5分間観察し凝集抑制作用をみた。抑制率は検液の
かわりに生理食塩水を用いた場合のPAFによる凝集をも
とに求め、用量反応曲線によりIC50を算出した。
と混合した。室温下に150gで15分間遠心し、上層より多
血小板血漿(PRP)を得た。残りの血液を1000gにてさら
に15分間遠心し、上層より乏血小板血漿(PPP)を得
た。PRPとPPPを適量混合し、PRPの最終血小板数をμl
あたり60万個に調整した。血小板の凝集はボーンらの方
法(G.V.R Born J.Physiol.62,67-68(1962))により
アグリコメーターを用い透過光の増加により測定した。
250μlのPRPに被検薬溶液25μlを加えて1分後に25μ
lのPAF(C16,終濃度10-8〜3×-8M)を添加し、そ
の後5分間観察し凝集抑制作用をみた。抑制率は検液の
かわりに生理食塩水を用いた場合のPAFによる凝集をも
とに求め、用量反応曲線によりIC50を算出した。
試験1および2の結果を表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 405/12 207 213 215 217 233 237 239 241 257 413/12 313 417/12 307 309 313 // A61K 31/335 ACG 31/34 ABN 31/35 ACB 31/40 31/415 ABF 31/42 31/425 31/44 31/445 AED 31/495 31/50 31/505 31/535 31/54
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 [式中、lは2乃至4の整数を示し、A及びBは同一又
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R1及びR2の
うち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル
基或いは を有する基(式中、R3は炭素数10乃至22個の直鎖又は
分枝鎖アルキル基を示し、R4は水素原子、低級アルキ
ル基、アラルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシ
ル基、アルキルオキシカルボニル基若しくはアルケニル
オキシカルボニル基を示す。)を示し、他方は、 を有する基(式中、Xは単結合、 を有する基(式中、R6はR4と同様の基を示す。)を示
し、mは0乃至3の整数を示し、nは0乃至10の整数を
示し、R5は水素原子又は保護されていてもよいカルボ
キシ基を示し、Z はアニオンを示し、Qは を有する基(式中、R7、R8及びR9は同一又は異なっ
て水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)、又は、
式−Gを有する基(式中、Gは5乃至10員複素環基を示
す。)を示す。)を示す。]を有する環状エーテル誘導
体並びにその分子内塩及びその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16473487A JPH0759574B2 (ja) | 1986-07-04 | 1987-07-01 | 環状エ−テル誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15731986 | 1986-07-04 | ||
| JP61-157319 | 1986-07-04 | ||
| JP16473487A JPH0759574B2 (ja) | 1986-07-04 | 1987-07-01 | 環状エ−テル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152373A JPS63152373A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0759574B2 true JPH0759574B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=26484813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16473487A Expired - Lifetime JPH0759574B2 (ja) | 1986-07-04 | 1987-07-01 | 環状エ−テル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0759574B2 (ja) |
-
1987
- 1987-07-01 JP JP16473487A patent/JPH0759574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63152373A (ja) | 1988-06-24 |
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