JPH0760044A - 空気中不純物の除去装置 - Google Patents

空気中不純物の除去装置

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JPH0760044A
JPH0760044A JP22945593A JP22945593A JPH0760044A JP H0760044 A JPH0760044 A JP H0760044A JP 22945593 A JP22945593 A JP 22945593A JP 22945593 A JP22945593 A JP 22945593A JP H0760044 A JPH0760044 A JP H0760044A
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正憲 井上
Hiroshi Gomi
弘 五味
Hitoshi Inaba
仁 稲葉
Katsumi Sato
克己 佐藤
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理空気の湿度を一定に維持しながら高いガ
ス状不純物除去効率を得ることができる空気中不純物の
除去装置を提供する。 【構成】 本発明によれば、不純物除去手段5によりガ
ス状不純物を処理する前に、冷却手段4で対象空気を所
定の露点温度にまで冷却除湿し水分飽和空気とする。そ
の結果、気液接触時には、空気中の水分量が飽和してい
るので、気液間で水分の移動が行われず、したがって、
処理空気の水分量を変化させずにガス状不純物の除去が
行える。また処理空気に接触させる液状物質の温度を、
温調手段により処理空気の露点温度とほぼ等しくなるよ
うに調節することにより、気液間での水分の移動をより
効果的に回避することができる。さらにまたガス状不純
物のイオン化除去装置、あるいは帯電性ミストとガス状
不純物の接触により除去装置を、前処理装置として設置
すれば、より高い除去効率が継続的に達成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、空気中に含まれる不純
物の除去装置に関し、特に気液接触によるガス成分や微
小粒子などのガス状不純物(なお、本明細書において
「ガス状不純物」と云う場合には、空気中に含まれるガ
ス成分や微小粒子などの不純物を総称するものとする)
の除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】空気中には、塵埃の他に微量ではあるが
ガス状の不純物が含まれている。かかるガス状不純物は
人体に有害であるばかりでなく、半導体などの製造雰囲
気に混入した場合に、デバイスの電気特性劣化の原因と
なるおそれがある。また、半導体、液晶製造工程で使用
される各種薬液の蒸気がクリーンルーム内に漏洩した場
合にも、循環空気中に含まれるガス状薬液の濃度が高く
なり、薬品の品質を劣化させるおそれがある。さらに、
半導体などのデバイス製造工程に限らず、各種の機械製
造工場、食品関係の工場、動物飼育場などにおいても、
薬液処理工程において排出される排気ガスなどは周辺環
境に少なからぬ影響を与え、ひいては、環境汚染の原因
となるおそれがある。かかる背景より、空気中に含まれ
るガス状不純物を効率よく除去するための技術の確立が
待望されている。
【0003】このような空気中のガス成分や微小粒子な
どのガス状不純物を除去する方法の中で、従来より無機
系不純物に対しては、吸収法による不純物の除去処理が
行われている。かかる吸収法としては、ガスの吸収液と
して水または特殊な吸収液を用いる湿式法と、ガス吸着
剤を充填含浸させた吸着フィルタなどによりガス除去を
行う乾式法が知られている。湿式法は、性能の劣化や経
時変化が少ない代わりに、不純物ガスの除去効率を上げ
るためには多量の吸収液が必要である。また、乾式法の
吸着フィルタによれば、大がかりな設備を設置せずに、
不純物ガスを除去することが可能であるが、吸着能力が
経時的に劣化するため、定期的に交換や再生処理などの
メンテナンスが必要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の湿式法では、吸
収液と空気とが接触する際に、空気中の水分濃度が飽和
状態に達しておらず、しかも吸収液の温度が空気の露点
温度よりも高い場合には、吸収液中の水分が蒸発し空気
中の水分濃度を上昇させ、しかも、このような作用は、
不純物除去性能を高めるために気体と液体との接触効率
を高めれば高めるほど強くなる傾向にあるため問題とな
っていた。特に、半導体製造工程で用いるクリーンルー
ム用の取り入れ外気中の不純物を処理する場合などに
は、クリーンルーム内では循環空気の露点温度を制御す
る必要があるため、外気を循環空気として取り入れる際
に循環空気の露点温度まで冷却除湿せねばならず、従来
の湿式法では、吸収液と空気との接触で空気中に蒸発し
た水分についても余分に除湿せねばならないため、効率
が悪かった。
【0005】また従来の乾式法では、上記のように処理
時間の経過とともに吸着剤の性能が低下するので、必要
な吸着能力を維持するために、定期的な吸着剤の交換や
再生を行う必要があり、また除去装置の吸着効率を高め
ようとすると、吸着フィルタに対する吸着剤の充填率を
高くせねばならず、その結果、処理空気が吸着フィルタ
を通過する際の圧力損失が大きくなり、多くの送風動力
を必要とするという問題があった。
【0006】本発明は、このような従来の空気不純物の
除去装置の有する問題点に鑑みてなされたものであり、
したがって、その目的とするところは、不純物を除去す
る際に対象空気中の水分濃度を上昇させることなく、ま
た多くの送風動力を必要とせずに、高い除去効率で対象
空気中に含まれるガス成分や微粒子などのガス状不純物
を除去することが可能であり、しかもメンテナンスが容
易な新規かつ改良された対象空気中に含まれる不純物の
除去装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明によれば、不純物、例えばガス成分や微小粒子
などのガス状不純物を含む対象空気流を上流より下流に
流通させることが可能なチャンバに、対象空気流に含ま
れる不純物を取り込み可能な液状物質、例えば純水を対
象空気流に接触させた後回収することができる不純物除
去手段を設置し、さらにその不純物除去手段の上流に対
象空気流を水分飽和状態にまで冷却することが可能な冷
却手段を設置した空気中不純物の除去装置が提供され
る。
【0008】さらに本発明によれば、不純物除去手段内
の液状物質の温度を調節する温調手段を設け、その温調
手段により液状物質の温度を、接触する対象空気流の露
点温度にほぼ等しくなるように調整する構成とすること
ができる。
【0009】また本発明によれば、液状物質と対象空気
流とを接触させる不純物除去手段として、液滴状態の液
状物質を対象空気流と接触させることが可能な手段、液
状物質を流通させることが可能な多孔質体、または空気
流通方向に対して略平行にかつ略垂直方向に並列配列さ
れその表面に液状部室を流通させることができる平行平
板などの構成を採用することができる。
【0010】さらに本発明によれば、上記構成に加え
て、チャンバ内に導入された空気流中の不純物をイオン
化するイオン化手段とその下流側に設置されておりイオ
ン化された不純物を静電気力により吸着除去する集塵手
段とからなる前処理装置、あるいはチャンバ内に導入さ
れた空気流に対して帯電性ミストを噴霧する噴霧手段と
その噴霧手段の下流側に設置されて帯電性ミストを静電
気力により吸着除去する集塵手段とから成る前処理装置
を、冷却手段の上流側に設置する構成とすることもでき
る。その際に、集塵手段の表面に液状物質を流通させる
構成を採用することも可能である。
【0011】
【作用】本発明に基づいて構成された空気中不純物の除
去装置によれば、不純物除去手段によりガス状不純物を
処理する前に、冷却手段により対象空気を、例えばクリ
ーンルーム内循環空気の露点温度にまで冷却除湿し、水
分飽和空気とすることができる。その結果、不純物除去
手段において気体と液体とが接触する際には、入口空気
中の水分量が飽和に達しているので、気体と液体との間
で水分の移動が行われず、したがって、処理空気の水分
量を変化させずにガス状不純物の除去を行うことができ
る。
【0012】また処理空気に接触させる液状物質の温度
を、温調手段により、例えば処理空気の露点温度とほぼ
等しくなるように調節することにより、処理空気と液状
物質との間での水分の移動をより効果的に回避すること
ができる。
【0013】さらに液滴状態の液状物質を気液接触部に
導入する構成とすることにより、気液接触面積を拡大
し、高い除去効率を得ることができる。さらに多孔質体
を用いる構成とする場合には、液状物質が多孔質体表面
または内部をゆっくりと流れるため、気液接触面積を拡
大し、高い除去効率を得ることができる。また、液状物
質は連続的に流通し常に入れ替わっているため、不純物
の吸収が飽和に達することなく、常に安定した除去効率
を得ることができる。また同様の効果を平行平板型構成
により得ることも可能である。
【0014】さらにまたガス状不純物のイオン化による
除去装置、あるいは帯電性ミストとガス状不純物の接触
により除去装置を、前処理装置として設置することによ
り、より高い除去効率を継続的に得ることが可能にな
る。
【0015】
【実施例】以下に添付図面を参照しながら、本発明に基
づいて構成された空気中不純物の除去装置をクリーンル
ーム用外気処理空調機に適用した実施例について詳細に
説明する。
【0016】図1のクリーンルーム用外気処理空調機1
においては、上流から外気を取り入れて下流から処理空
気をクリーンルームに供給する処理チャンバ2内に、H
EPAフィルタなどの乾式の高性能エアフィルタなどか
ら構成されるプレフィルタ3と、本発明に基づいて設置
された冷却コイル4と、ガス状不純物を除去するための
不純物処理装置すなわちガス除去部5と、空気流を発生
させるための送風ユニット6と、温度調整を行うための
電気ヒータなどの温調ユニット7と、最終的に塵埃を除
去するためのHEPAやULPAフィルタなどから構成
される後処理ユニット8とが、上流側から下流側に向か
って順次配置されている。
【0017】送風機ユニット6によりチャンバ2内に導
入されたガス成分や微小粒子などのガス状不純物を含む
空気は、まずプレフィルタ3において、HEPAフィル
タなどの乾式の高性能エアフィルタにより、例えば0.
3μm以上の固形不純物などが除去される。
【0018】次いで、高性能エアフィルタにより塵埃を
除去された空気は、本発明に基づいて後述するように気
液接触により不純物を除去するガス除去部5より上流側
に設置された冷却コイル4にて、クリーンルーム内の設
定露点温度まで冷却除湿が行われる。この結果、冷却コ
イル4の下流側の空気流は、空気温度が低下し水分飽和
状態に達している。
【0019】次いで、空気温度が低下し水分飽和状態に
ある空気流は、ガス除去部5において、その空気流に含
まれるガス状不純物を取り込み可能な液状物質、例えば
ガス成分を溶解可能な純水と接触させられ、空気中の不
純物が除去される。この際、本発明の好適な実施例によ
れば、図示しない温調手段により、不純物吸収液の温度
もクリーンルーム内の設定露点温度、例えば10℃前後
にまで冷却されている。このように、ガス除去部に供給
する純水などの不純物吸収液の温度を、冷却コイル4に
より冷却された空気流の露点温度とほぼ同温に調整し
て、ガス除去部5において気液接触を行うことにより、
吸収液の蒸発や空気中の水分の凝縮を生じさせずに、す
なわち空気流の湿度を一定に保持したまま、ガス状不純
物の除去のみを行うことが可能である。この際、気液接
触部において相接触する気体も液体も夏期や中間期等で
は外気温度よりも低温となっているため、ガス状不純物
の溶解度が向上する。その結果、不純物吸収液の吸収効
率が良くなるとともに、吸収の飽和点が高くなるため、
ガス除去部5に供給する吸収液の供給量も少なくするこ
とができる。また、冬季等の外気温度が低い場合は、気
液接触部において適度な加湿を行うことが可能である。
なお、上述の気液接触部すなわちガス除去部5として
は、後述のように例えば図2〜図5に示す構造を採用す
ることが可能であり、要求性能に応じて適宜選択するこ
とが可能である。
【0020】以上のようにして、不純物が除去された対
象空気は、送風ユニット4により形成された空気流にの
ってさらに下流に送られ、そこで必要に応じて電気ヒー
タなどの温調手段7によって室内設定温度(乾球温度)
にまで加温され、さらに高性能フィルタで除塵された
後、クリーンルーム内に供給することが可能である。
【0021】次に図2〜図5を参照しながら、本発明に
基づいて構成された空気中不純物の除去装置1に設置す
ることが可能な気液接触によるガス除去部5の好適な実
施例について説明する。
【0022】図2に示す気液接触部9は、エアーシャワ
ー方式のものであり、チャンバ10内の天井部付近には
純水などの不純物吸収液をミスト状に散水するためのノ
ズル装置11が設置されるとともに、チャンバ10の底
部付近には液滴を回収し外部に排水するための排水手段
12が設置されている。また、ノズル装置11により散
水される液滴は図示しない温調手段により所望の温度、
例えば処理対象空気の露点温度に調節することが可能で
ある。さらに、この方式では、不純物吸収液のミストが
下流側に飛散するおそれがあるので、気液接触部9の下
流側に飛散ミストを回収除去するためのエリミネータ1
3等を設置することが好ましい。
【0023】図1に示す冷却コイル4により設定露点温
度にまで冷却され水分飽和状態にある空気流は、図2に
示す気液接触部9において純水などの液状物質と接触
し、その空気流中のガス状不純物は純水中に取り込まれ
(溶解し)液滴とともに下方に落下し、排水手段12に
より外部に除去される。その際、本発明によれば、ミス
トの温度も設定露点温度に調整されているので、気液間
で水分の移動が発生しないため、空気流の湿度を一定に
保持したたま、空気流中のガス状不純物を効果的に除去
することができる。
【0024】図3に示す気液接触部14は、多孔質ブロ
ックを用いたタイプのものであり、チャンバ15内の空
気流通路には多孔質ブロック16が設置されており、そ
の上部の給水手段17から散水される純水などの不純物
吸収液は多孔質ブロック16の表面及び内部をゆっくり
と伝って流れ、チャンバ15の底部に設置された排水手
段18により回収されて外部に排出される。また本実施
例の場合にも、給水手段17から散水される吸収液を図
示しない温調手段により所望の温度、例えば処理対象空
気流の設定露点温度に調節することが可能である。さら
に本実施例の場合には図示しない温調手段により多孔質
ブロック16自体の温度も所望の温度、例えば上記設定
露点温度に調整することが可能である。
【0025】この実施例の場合にも図1に示す冷却コイ
ル4により設定露点温度にまで冷却されて水分飽和状態
にある空気流は、多孔質ブロック16の表面および内部
において、そのブロック内を下方に向かってゆっくりと
流れていく不純物吸収液と接触し、その際に空気流中の
ガス状不純物は吸収液に取り込まれ下方に流れ、排水手
段18により回収され外部に除去される。なお不純物吸
収液の供給量は、流れていく吸収液中のガス状不純物が
飽和しない程度に設定される。
【0026】このタイプの気液接触部14においては、
純水などの吸収液が多孔質ブロック16の表面および内
部をゆっくりと流れるため、気液接触面積が大きくな
り、高い不純物吸収効率または除去効率を得ることがで
きる。また多孔質ブロック16の表面および内部の純水
は常に入れ替わっているため、純水中への不純物ガスの
吸収または溶解が飽和に達することがないので、常に安
定したガス除去効率を得ることができる。
【0027】図4に示す気液接触部19は、平行平板を
用いたタイプのものであり、チャンバ20内の空気流通
路には、図5に示すような複数枚の平板21が空気の流
れと平行に設置されており、その上部に配置された給水
手段22から散水される純水などの不純物吸収液が平行
平板21の表面を伝ってゆっくりと流れ、チャンバ20
の底部に設置された排水手段23により回収されて外部
に排出される。また本実施例の場合にも、給水手段22
から散水される吸収液を図示しない温調手段により所望
の温度、例えば処理空気流の設定露点温度に調節するこ
とが可能である。さらに図示しない温調手段により平行
平板21自体の温度も所望の温度、例えば上記設定露点
温度に調整することが可能である。
【0028】この実施例の場合には、図1に示す冷却コ
イル4により設定露点温度にまで冷却されて水分飽和状
態にある空気流は、平行平板の表面を下方に向かってゆ
っくりと流れていく不純物吸収液と接触し、その際に空
気流中のガス状不純物は吸収液に取り込まれ(溶解し)
下方に流れ、排水手段23により回収され外部に除去さ
れる。この場合にも不純物吸収液の供給量は、流れてい
く吸収液中のガス状不純物が飽和しない程度に設定され
る。その結果、本実施例の場合にも常に安定した高いガ
ス除去効率を得ることができる。
【0029】次に、図6および図7を参照しながら本発
明に基づいて構成された空気中不純物の除去装置の他の
実施例について説明する。なおこれらの実施例におい
て、図1に説明した装置の構成要素と同じ機能を有する
構成要素については同じ参照番号を付することにより詳
細な説明は省略する。
【0030】図6の実施例は、図1の外調機に不純物ガ
スのイオン化によるガス除去装置をさらに組み込んでい
る。すなわち、この実施例では、チャンバ2内に導入さ
れた空気流は、プレフィルタ3により固形粒子が除去さ
れた後、冷却コイル4で設定露点温度まで冷却され、水
分飽和状態になる。冷却コイル4の下流側には、イオン
化部30および空気流に対して平行に並列された平行平
板型電極群31が設置されており、イオン化部30にお
いて不純物ガス成分が一次イオン化または二次イオン化
された後、平行平板型電極群31においてイオン化され
た不純物が静電気力により吸着され除去される。平行平
板型電極群表面には、常時不純物吸収液が上部から下部
に流れており、不純物吸収の飽和を防止している。さら
に、この不純物吸収液の温度は、空気流の設定露点温度
と同じに調節されている。この平行平板型電極群31に
より除去しきれなかった不純物ガス成分が、下流側に設
置されているガス除去部5において上述した方法により
気液接触法により除去されるので、本実施例によれば、
非常に高いガス状不純物の除去効率を得ることが可能で
ある。また、必要とされる除去効率によっては、下流側
のガス除去部を省略することができる。
【0031】なお、本実施例において使用することので
きるイオン化方法としては、ガス状不純物をイオン化す
ることができるコロナ放電法、紫外線照射法、軟X線照
射法などを採用することが可能であり、用途に応じて最
適な方法を選択することができる。また使用する平行平
板型電極31は乾式で用いる方法と、平行平板型電極群
31の上部に配置された給水手段32から平行平板型電
極の表面に純水などの液状物質を流すことにより、表面
の清浄化と不純物の回収を行い平板電極での吸着効果を
継続して維持できるようにする湿式方法があり、用途に
応じて最適な方法を選択することが可能である。特に、
イオン化時にオゾンの発生がない軟X線照射法による不
純物除去がより有効である。
【0032】図7の実施例は、図1の外調機に微小帯電
液滴とガス状不純物との接触によるガス除去装置をさら
に組み込んでいる。すなわち、この実施例では、チャン
バ2に導入された空気流は、プレフィルタ3により固形
粒子が除去された後、冷却コイル4によって設定露点温
度にまで冷却され、水分飽和状態となる。冷却コイル4
の下流側には、給水ユニット33から送られた純水など
の液状物質を噴霧するためのスプレーノズル34および
空気流に対して平行に並列された平行平板型電極群31
が設置されており、スプレーノズル34から噴霧された
微小帯電液滴と接触し、空気流中の不純物ガス成分は液
滴に吸収(溶解)され、その後図6に示すものとほぼ同
様の構成を有する平行平板型電極群31において静電気
力により吸着され除去される。この平行平板型電極群3
1により除去しきれなかった不純物ガス成分について
は、下流側に設置されているガス除去部5において上述
した方法により気液接触法により除去されるので、本実
施例によっても、非常に高いガス状不純物の除去効率を
得ることが可能であり、したがって高純度の清浄空気を
得ることができる。なお、必要とされる除去効率によっ
ては、下流側のガス除去部を省略することもできる。
【0033】なお、本実施例においては、処理が進展す
るにつれ、平行平板電極表面に多くの微小帯電液滴が付
着し、表面全体が濡れ、さらに付着量が多くなると重力
で下方へ平行平板電極表面上を流れ落ち、吸着した不純
物も同時に排出することができるため、図6の実施例の
ように給水手段32により外部から表面洗浄用液体を供
給せずとも、高い吸着効果を継続して維持することがで
きる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
不純物除去手段によりガス状不純物を処理する前に、冷
却手段により対象空気を例えばクリーンルーム内循環空
気の露点温度にまで冷却除湿し水分飽和空気とすること
ができる。その結果、不純物除去手段で気体と液体とが
接触する際には、入口空気中の水分量が飽和に達してい
るので、気体と液体との間で水分の移動が行われず、し
たがって、処理空気の水分量を変化させずにガス状不純
物の除去を行うことができる。これは、外気中の水分濃
度が高い夏期の場合や除湿運転が必要な場合に特に有効
な手段となる。
【0035】また処理空気に接触させる液状物質の温度
を、温調手段により、例えば処理空気の露点温度とほぼ
等しくなるように調節することにより、処理空気と液状
物質との間での水分の移動をより効果的に回避すること
ができる。
【0036】さらにまたガス状不純物のイオン化による
除去装置、あるいは帯電性ミストとガス状不純物の接触
により除去装置を、前処理装置として設置することによ
り、より高い除去効率を継続的に得ることが可能にな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に基づいて構成された空気中不純物の除
去装置をクリーンルーム用の外調機に適用した実施例の
概略的な側面図である。
【図2】図1の外調機に適用可能なノズル式ガス除去部
の概略的な側面図である。
【図3】図1の外調機に適用可能な多孔質ブロック式ガ
ス除去部の概略的な側面図である。
【図4】図1の外調機に適用可能な平行平板型ガス除去
部の概略的な側面図である。
【図5】図4のガス除去部に用いられる平行平板の配置
を示す説明図である。
【図6】本発明に基づいてイオン化によるガス除去装置
を付加した別の実施例の概略的な側面図である。
【図7】本発明に基づいてスプレー式ガス除去装置を付
加したさらに別の実施例の概略的な側面図である。
【符号の説明】
1 外調機 2 チャンバ 3 プレフィルタ 4 冷却コイル 5 ガス除去部 6 送風機 7 電気ヒータ 8 高性能フィルタ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 不純物を含む対象空気流を上流より下流
    に流通させることが可能なチャンバと、そのチャンバ内
    に設置されており上記対象空気流に含まれる上記不純物
    を取り込み可能な液状物質を上記対象空気流に接触させ
    た後回収することができる不純物除去手段と、その不純
    物除去手段の上流に設置されており上記対象空気流を水
    分飽和状態にまで冷却することが可能な冷却手段とから
    成ることを特徴とする、空気中不純物の除去装置。
  2. 【請求項2】 さらに、上記不純物除去手段内の上記液
    状物質の温度を上記液状物質が接触する上記対象空気流
    の露点温度にほぼ等しい温度に調節することが可能な温
    調手段を設けたことを特徴とする、請求項1に記載の空
    気中不純物の除去装置。
  3. 【請求項3】 上記不純物除去手段が、液滴状態の上記
    液状物質を上記対象空気流と接触させることが可能な手
    段を備えていることを特徴とする、請求項1または2に
    記載の空気中不純物の除去装置。
  4. 【請求項4】 上記不純物除去手段が、上記液状物質を
    流通させることが可能な多孔質体を備えていることを特
    徴とする、請求項1、2または3のいずれかに記載の空
    気中不純物の除去装置。
  5. 【請求項5】 上記不純物除去手段が、空気流通方向に
    対して略平行にかつ略垂直方向に並列配列された複数の
    平行平板を備え、その平行平板の表面に上記液状物質を
    流通させることが可能であることを特徴とする、請求項
    1、2、3または4のいずれかに記載の空気中不純物の
    除去装置。
  6. 【請求項6】 さらに、上記チャンバ内に導入された空
    気流中の不純物をイオン化するイオン化手段と、その下
    流側に設置されておりイオン化された不純物を静電気力
    により吸着除去する集塵手段とが、上記冷却手段の上流
    側に順次設置されていることを特徴とする、請求項1、
    2、3、4または5のいずれかに記載の空気中不純物の
    除去装置。
  7. 【請求項7】 さらに、上記チャンバ内に導入された空
    気流に対して帯電性ミストを噴霧する噴霧手段と、その
    噴霧手段の下流側に設置されて帯電性ミストを静電気力
    により吸着除去する集塵手段とが、上記冷却手段の上流
    側に順次設置されていることを特徴とする、請求項1、
    2、3、4または5のいずれかに記載の空気中不純物の
    除去装置。
  8. 【請求項8】 上記集塵手段の表面に上記液状物質を流
    通させることが可能であることを特徴とする、請求項6
    または7に記載の空気中不純物の除去装置。
  9. 【請求項9】 上記液状物質が純水であることを特徴と
    する、請求項1、2、3、4、5、6、7または8のい
    ずれかに記載の空中不純物除去装置。
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