JPH0760209A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0760209A JPH0760209A JP21150693A JP21150693A JPH0760209A JP H0760209 A JPH0760209 A JP H0760209A JP 21150693 A JP21150693 A JP 21150693A JP 21150693 A JP21150693 A JP 21150693A JP H0760209 A JPH0760209 A JP H0760209A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- rinse
- cleaning
- degassed
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 金属部品（中間製品や最終製品も含む）、プ
ラスチック部品（中間製品や最終製品も含む）、電子部
品などの水系洗浄において、リンス用水として脱気され
た水、特に溶存酸素濃度が５重量ｐｐｍ以下に脱気され
た水を使用することを特徴とする洗浄方法。 【効果】 リンス水として脱気水を用いることにより、
リンス水の表面張力低下の効果により、リンス時の泡切
れ、水切れが向上し、洗浄が効率的におこなわれるため
リンス用水の量が節約できる。特にすすぎが複数のリン
ス槽で行われる場合は、次槽へ持ち込まれる洗剤量が減
少し、リンス用水の量が節約できる。また、金属製品な
どの場合には、酸化が防止される。
ラスチック部品（中間製品や最終製品も含む）、電子部
品などの水系洗浄において、リンス用水として脱気され
た水、特に溶存酸素濃度が５重量ｐｐｍ以下に脱気され
た水を使用することを特徴とする洗浄方法。 【効果】 リンス水として脱気水を用いることにより、
リンス水の表面張力低下の効果により、リンス時の泡切
れ、水切れが向上し、洗浄が効率的におこなわれるため
リンス用水の量が節約できる。特にすすぎが複数のリン
ス槽で行われる場合は、次槽へ持ち込まれる洗剤量が減
少し、リンス用水の量が節約できる。また、金属製品な
どの場合には、酸化が防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】部品などの水系洗浄において、リ
ンス用水の量を節約する洗浄方法に関する。
ンス用水の量を節約する洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来は金属部品やプラスチック部品など
の洗浄にはフロンを用いていたが、フロンの使用規制に
伴い、水を使用する水系洗浄が行われるようになった。
水系洗浄の場合、洗剤を用いて洗浄を行った後、洗剤を
除去するため水でのリンスが行われる。リンスが、リン
ス槽中で行われかつリンス槽が複数の場合には、後段リ
ンス槽に水を供給し、後段からより前段へとオーバーフ
ローさせて各段に供給する節水方法が実施されている。
の洗浄にはフロンを用いていたが、フロンの使用規制に
伴い、水を使用する水系洗浄が行われるようになった。
水系洗浄の場合、洗剤を用いて洗浄を行った後、洗剤を
除去するため水でのリンスが行われる。リンスが、リン
ス槽中で行われかつリンス槽が複数の場合には、後段リ
ンス槽に水を供給し、後段からより前段へとオーバーフ
ローさせて各段に供給する節水方法が実施されている。
【０００３】
【発明が解決すべき課題】しかし、被洗浄品が複雑な形
状を成していると、泡切れ、水切れが悪く、洗剤の捕留
量が多くなるため、リンスの必要段数が増加したり、リ
ンス水量を増す必要があった。
状を成していると、泡切れ、水切れが悪く、洗剤の捕留
量が多くなるため、リンスの必要段数が増加したり、リ
ンス水量を増す必要があった。
【０００４】
【課題を解決すべき課題】本発明者等は、水系洗浄を行
なう際、被洗浄品に付着した洗剤の泡切れを良くし、リ
ンス用水の量を節約する方法について鋭意検討し、本発
明に到達した。即ち、本発明は、水系洗浄において、リ
ンス用水として脱気された水を使用することを特徴とす
る洗浄方法にある。
なう際、被洗浄品に付着した洗剤の泡切れを良くし、リ
ンス用水の量を節約する方法について鋭意検討し、本発
明に到達した。即ち、本発明は、水系洗浄において、リ
ンス用水として脱気された水を使用することを特徴とす
る洗浄方法にある。
【０００５】本発明によるとリンス用水として脱気水を
用いることにより、通常の水よりも表面張力が低下する
ことから、被洗浄品の泡切れ、水切れが向上し、特に複
数のリンス槽で行なう場合、次槽に持ち込まれるリンス
用水が減少し、洗浄が効率的に行われるため、リンス槽
の数を少なくできる等、リンス用水の量を節約すること
が出来る。
用いることにより、通常の水よりも表面張力が低下する
ことから、被洗浄品の泡切れ、水切れが向上し、特に複
数のリンス槽で行なう場合、次槽に持ち込まれるリンス
用水が減少し、洗浄が効率的に行われるため、リンス槽
の数を少なくできる等、リンス用水の量を節約すること
が出来る。
【０００６】本発明の被洗浄品としては、液晶表示板用
ガラス板、プリント配線板等の電子部品、ベアリング、
磁気ヘッド、ハードディスク（記録材料）、ＯＰＣドラ
ム等の金属部品（中間製品や、最終製品も含む）、各種
プラスチック部品（中間製品や、最終製品も含む）等が
挙げられる。
ガラス板、プリント配線板等の電子部品、ベアリング、
磁気ヘッド、ハードディスク（記録材料）、ＯＰＣドラ
ム等の金属部品（中間製品や、最終製品も含む）、各種
プラスチック部品（中間製品や、最終製品も含む）等が
挙げられる。
【０００７】本発明のリンス用水とは、被洗浄品の油分
や切削かす等を取り除くために洗剤を用いて洗浄した後
に、洗剤を落とすために使用される水のことである。本
発明でリンス用水として使用される脱気された水（以
下、脱気水と称す）は、溶存酸素濃度が５重量ｐｐｍ以
下、好ましくは３重量ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１
重量ｐｐｍ以下の水である。溶存酸素濃度は経済性の面
から限界はあろうが、低いこと自体に何ら不都合はな
い。
や切削かす等を取り除くために洗剤を用いて洗浄した後
に、洗剤を落とすために使用される水のことである。本
発明でリンス用水として使用される脱気された水（以
下、脱気水と称す）は、溶存酸素濃度が５重量ｐｐｍ以
下、好ましくは３重量ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１
重量ｐｐｍ以下の水である。溶存酸素濃度は経済性の面
から限界はあろうが、低いこと自体に何ら不都合はな
い。
【０００８】特に被洗浄品の酸化を防止する必要がある
場合には、脱気水の溶存酸素濃度は１００重量ｐｐｂ以
下や１０重量ｐｐｂ以下であることが好ましい。因み
に、２５℃、１気圧の空気中における水の飽和酸素濃度
は、８．１重量ｐｐｍである（化学便覧による）。窒素
などの酸素以外の溶存気体も空気中での飽和溶存量の８
０％以下に脱気されていることが好ましいが、測定が困
難であるし、酸素が除去されている場合は、他の溶存気
体も除去されることは経験上明らかなので、本発明に於
ては溶存酸素濃度で判定する。
場合には、脱気水の溶存酸素濃度は１００重量ｐｐｂ以
下や１０重量ｐｐｂ以下であることが好ましい。因み
に、２５℃、１気圧の空気中における水の飽和酸素濃度
は、８．１重量ｐｐｍである（化学便覧による）。窒素
などの酸素以外の溶存気体も空気中での飽和溶存量の８
０％以下に脱気されていることが好ましいが、測定が困
難であるし、酸素が除去されている場合は、他の溶存気
体も除去されることは経験上明らかなので、本発明に於
ては溶存酸素濃度で判定する。
【０００９】溶存酸素濃度は、オストワルド法（実験化
学講座１基本操作［Ｉ］、２４１頁、１９７５年、丸
善）や、マススペクトル法で測定することができるし、
ガルバニ電池型やポ−ラログラフ型などの簡便な酸素濃
度計や比色分析法で測定することができる。
学講座１基本操作［Ｉ］、２４１頁、１９７５年、丸
善）や、マススペクトル法で測定することができるし、
ガルバニ電池型やポ−ラログラフ型などの簡便な酸素濃
度計や比色分析法で測定することができる。
【００１０】脱気方法は任意であり、膜式真空脱気、真
空脱気、加熱脱気、酸素以外の気体のバブリングなどの
方法を採ることができるが、装置が小さいこと、溶存酸
素濃度を低くできることから膜式真空脱気が好ましく、
真空脱気がこれに次いで好ましい。膜式真空脱気は、気
体は透過するが水は透過しない隔膜の一方の側に水を流
し、他の側を減圧する方法であり、真空脱気は充填塔や
シャワー塔の内部を減圧する方法である。これらの方法
は、溶存酸素だけでなく溶存窒素や溶存炭酸ガスも除去
されるため効果が大きく好ましい。
空脱気、加熱脱気、酸素以外の気体のバブリングなどの
方法を採ることができるが、装置が小さいこと、溶存酸
素濃度を低くできることから膜式真空脱気が好ましく、
真空脱気がこれに次いで好ましい。膜式真空脱気は、気
体は透過するが水は透過しない隔膜の一方の側に水を流
し、他の側を減圧する方法であり、真空脱気は充填塔や
シャワー塔の内部を減圧する方法である。これらの方法
は、溶存酸素だけでなく溶存窒素や溶存炭酸ガスも除去
されるため効果が大きく好ましい。
【００１１】膜式真空脱気法は、装置が小形であるこ
と、取扱が容易であること、高度の脱気が可能であるこ
と等の点で好ましく、膜が中空糸膜であることで、脱酸
素装置をコンパクトにすることが可能であり、中空糸膜
の内径を２５０μｍ以下にすることで、よりコンパクト
化が可能である。また、不均質膜は気体透過速度が高く
水の漏洩の恐れがない為、脱酸素膜として好適であり、
ポリ−４−メチルペンテン−１は疎水性で気体透過速度
が高く強度もあり、膜素材として好適である。
と、取扱が容易であること、高度の脱気が可能であるこ
と等の点で好ましく、膜が中空糸膜であることで、脱酸
素装置をコンパクトにすることが可能であり、中空糸膜
の内径を２５０μｍ以下にすることで、よりコンパクト
化が可能である。また、不均質膜は気体透過速度が高く
水の漏洩の恐れがない為、脱酸素膜として好適であり、
ポリ−４−メチルペンテン−１は疎水性で気体透過速度
が高く強度もあり、膜素材として好適である。
【００１２】減圧装置としては、各種真空ポンプやアス
ピレーター、エジェクター等任意のものを使用し得る
が、水封式真空ポンプ、ダイヤフラム式真空ポンプ、ド
ライ型真空ポンプ、水流アスピレーターが、大量の水蒸
気の吸入に耐えるため好ましい。
ピレーター、エジェクター等任意のものを使用し得る
が、水封式真空ポンプ、ダイヤフラム式真空ポンプ、ド
ライ型真空ポンプ、水流アスピレーターが、大量の水蒸
気の吸入に耐えるため好ましい。
【００１３】脱気水は、放置すると空気が再溶解し、攪
拌により溶解速度が増大する。したがって脱気水を空気
から遮断して貯蔵できない場合には、脱気水製造後速や
かに使用することが好ましく、また、脱気水を取り扱う
際には、空気の巻き込みや攪拌をなるべく避けることが
好ましい。
拌により溶解速度が増大する。したがって脱気水を空気
から遮断して貯蔵できない場合には、脱気水製造後速や
かに使用することが好ましく、また、脱気水を取り扱う
際には、空気の巻き込みや攪拌をなるべく避けることが
好ましい。
【００１４】リンス方法は洗剤を洗浄出来る方法であれ
ば特に制約はなく、シャワー法や、リンス槽中での攪拌
や超音波法など任意の方法を採ることができる。リンス
が被洗浄品を水槽に浸漬して行われる場合には、脱気水
を水槽に供給することにより実施できる。リンス槽が複
数の場合には、全槽とも脱気水を使用することが好まし
く、後段に脱気水を供給し、後段からより前段へとオー
バーフローさせて各段に供給することも好ましい。
ば特に制約はなく、シャワー法や、リンス槽中での攪拌
や超音波法など任意の方法を採ることができる。リンス
が被洗浄品を水槽に浸漬して行われる場合には、脱気水
を水槽に供給することにより実施できる。リンス槽が複
数の場合には、全槽とも脱気水を使用することが好まし
く、後段に脱気水を供給し、後段からより前段へとオー
バーフローさせて各段に供給することも好ましい。
【００１５】
【実施例】以下実施例を用いて本発明をさらに具体的に
説明する。 ［実施例１］ ＜脱気水の調製＞特開昭６３−２５８６０５に開示され
ている方法により、ポリ４メチルペンテン１中空糸不均
質膜を用いた膜面積１ｍ2のモジュールを作製し、中空
糸内側にイオン交換水を流し、中空糸膜外側をダイヤフ
ラム式真空ポンプにて１００ｔｏｒｒに減圧することに
より、溶存酸素濃度１．５重量ｐｐｍの脱気水を調製し
た。 ＜リンス試験＞リンスのモデル試験を実施した。直径約
３ｍｍのボールベアリング１ｋｇをステンレス製の籠に
入れた状態で、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
を主体とする洗剤（２重量％濃度）で超音波洗浄した
後、溶存酸素濃度０．４５重量ｐｐｍの脱気水を満たし
た容量各１リットルの第１リンス槽および第２リンス槽
にて超音波をかけてリンスした。
説明する。 ［実施例１］ ＜脱気水の調製＞特開昭６３−２５８６０５に開示され
ている方法により、ポリ４メチルペンテン１中空糸不均
質膜を用いた膜面積１ｍ2のモジュールを作製し、中空
糸内側にイオン交換水を流し、中空糸膜外側をダイヤフ
ラム式真空ポンプにて１００ｔｏｒｒに減圧することに
より、溶存酸素濃度１．５重量ｐｐｍの脱気水を調製し
た。 ＜リンス試験＞リンスのモデル試験を実施した。直径約
３ｍｍのボールベアリング１ｋｇをステンレス製の籠に
入れた状態で、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
を主体とする洗剤（２重量％濃度）で超音波洗浄した
後、溶存酸素濃度０．４５重量ｐｐｍの脱気水を満たし
た容量各１リットルの第１リンス槽および第２リンス槽
にて超音波をかけてリンスした。
【００１６】それぞれのリンス槽の水を変えることな
く、１０籠の被洗浄品をリンスした後、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム濃度を液体クロマトグラフによ
り測定したところ、第１リンス槽は２９３重量ｐｐｍ、
第２リンス槽は２０．８重量ｐｐｍであった。 ［比較例１］リンス槽に、脱気していないイオン交換水
（溶存酸素濃度８．２重量ｐｐｍ）を満たしたこと以外
は実施例１と同様のリンス試験を行った。１０籠の被洗
浄品をリンスした後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム濃度は第１リンス槽は２９３重量ｐｐｍ、第２リ
ンス槽は２８．１重量ｐｐｍであった。
く、１０籠の被洗浄品をリンスした後、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム濃度を液体クロマトグラフによ
り測定したところ、第１リンス槽は２９３重量ｐｐｍ、
第２リンス槽は２０．８重量ｐｐｍであった。 ［比較例１］リンス槽に、脱気していないイオン交換水
（溶存酸素濃度８．２重量ｐｐｍ）を満たしたこと以外
は実施例１と同様のリンス試験を行った。１０籠の被洗
浄品をリンスした後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム濃度は第１リンス槽は２９３重量ｐｐｍ、第２リ
ンス槽は２８．１重量ｐｐｍであった。
【００１７】実施例１、比較例１とも、第１槽中の洗剤
濃度は同程度で洗剤の落ち方は同じであるが、脱気水を
用いた方が泡切れ、水切れが向上し、次槽に持ち込まれ
る洗剤量が減少した。
濃度は同程度で洗剤の落ち方は同じであるが、脱気水を
用いた方が泡切れ、水切れが向上し、次槽に持ち込まれ
る洗剤量が減少した。
【００１８】
【効果】リンス水として脱気水を用いることにより、リ
ンス水の表面張力低下の効果により、リンス時の泡切
れ、水切れが向上し、洗浄が効率的におこなわれるため
リンス用水の量が節約できる。特にすすぎが複数のリン
ス槽で行われる場合は、次槽へ持ち込まれる洗剤量が減
少し、リンス用水の量が節約できる。また、金属製品な
どの場合には、酸化が防止される。
ンス水の表面張力低下の効果により、リンス時の泡切
れ、水切れが向上し、洗浄が効率的におこなわれるため
リンス用水の量が節約できる。特にすすぎが複数のリン
ス槽で行われる場合は、次槽へ持ち込まれる洗剤量が減
少し、リンス用水の量が節約できる。また、金属製品な
どの場合には、酸化が防止される。
Claims (4)
- 【請求項１】 水系洗浄において、リンス用水として脱
気された水を使用することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】 リンス用水の溶存酸素濃度が５重量ｐｐ
ｍ以下である請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 リンス用水が膜式真空脱気法または真空
脱気法で脱気されたものである請求項１または２記載の
洗浄方法。 - 【請求項４】 リンスが被洗浄品を水槽に浸漬して行わ
れるものである請求項１、２または３記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21150693A JPH0760209A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21150693A JPH0760209A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0760209A true JPH0760209A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16607065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21150693A Pending JPH0760209A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0760209A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6943115B2 (en) | 2000-06-23 | 2005-09-13 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and method of manufacture thereof |
-
1993
- 1993-08-26 JP JP21150693A patent/JPH0760209A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6943115B2 (en) | 2000-06-23 | 2005-09-13 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and method of manufacture thereof |
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