JPH076330A - 磁気抵抗効果ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気抵抗効果ヘッドの製造方法Info
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- JPH076330A JPH076330A JP5165950A JP16595093A JPH076330A JP H076330 A JPH076330 A JP H076330A JP 5165950 A JP5165950 A JP 5165950A JP 16595093 A JP16595093 A JP 16595093A JP H076330 A JPH076330 A JP H076330A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反強磁性体膜であるＦｅＭｎの洗浄工程にお
ける溶解、腐食の発生を防止できるＭＲヘッド製造方法
を提供する。 【構成】 ＭＲ層１３とこのＭＲ層１３上に積層された
反強磁性体層１６とを有するＭＲヘッドの製造における
洗浄工程で弱アルカリ性の洗浄水を使用する。
ける溶解、腐食の発生を防止できるＭＲヘッド製造方法
を提供する。 【構成】 ＭＲ層１３とこのＭＲ層１３上に積層された
反強磁性体層１６とを有するＭＲヘッドの製造における
洗浄工程で弱アルカリ性の洗浄水を使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
媒体からの再生を行う磁気抵抗効果ヘッド（以下ＭＲヘ
ッドと称する）の製造方法に関する。
媒体からの再生を行う磁気抵抗効果ヘッド（以下ＭＲヘ
ッドと称する）の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク等の磁気媒体用の薄
膜磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッ
ドが実用化され始めている。ＭＲヘッドは、パーマロイ
等の強磁性体薄膜の磁気抵抗効果を利用したものである
ため、磁気媒体との相対速度に依存することなく大きな
再生出力を得ることができる。しかしながら、この種の
材質によるＭＲヘッドは、バルクハウゼンノイズを発生
し易いためこれを抑制する何らかの対策を施す必要があ
る。
膜磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッ
ドが実用化され始めている。ＭＲヘッドは、パーマロイ
等の強磁性体薄膜の磁気抵抗効果を利用したものである
ため、磁気媒体との相対速度に依存することなく大きな
再生出力を得ることができる。しかしながら、この種の
材質によるＭＲヘッドは、バルクハウゼンノイズを発生
し易いためこれを抑制する何らかの対策を施す必要があ
る。
【０００３】バルクハウゼンノイズの発生抑止には、磁
気媒体の面に平行でありかつＭＲ素子の縦方向に平行な
縦バイアス磁界を印加することによってＭＲ素子の単磁
区化を行うことが有効である。特開昭６２−４０６１０
号には、ＦｅＭｎによる反強磁性体膜をＭＲ膜上に積層
することにより反強磁性体膜とＭＲ膜との磁気的相互作
用を利用してこの種の縦バイアス磁界を発生するように
したＭＲヘッドが開示されている。
気媒体の面に平行でありかつＭＲ素子の縦方向に平行な
縦バイアス磁界を印加することによってＭＲ素子の単磁
区化を行うことが有効である。特開昭６２−４０６１０
号には、ＦｅＭｎによる反強磁性体膜をＭＲ膜上に積層
することにより反強磁性体膜とＭＲ膜との磁気的相互作
用を利用してこの種の縦バイアス磁界を発生するように
したＭＲヘッドが開示されている。
【０００４】一般に、ＭＲヘッドを製造する場合には複
数回の洗浄工程が実施される。例えば、ウエハ上に多数
のＭＲ素子を形成する薄膜集積工程においては、レジス
ト膜を有機溶剤で除去した後、洗浄が行われる。また、
ＭＲ素子を形成したウエハをバーに切断した後のスライ
ダ加工工程においては、例えば、精密研磨時に生じる研
磨くず、研磨スラリー等による汚れを取り除くために洗
浄が行われる。
数回の洗浄工程が実施される。例えば、ウエハ上に多数
のＭＲ素子を形成する薄膜集積工程においては、レジス
ト膜を有機溶剤で除去した後、洗浄が行われる。また、
ＭＲ素子を形成したウエハをバーに切断した後のスライ
ダ加工工程においては、例えば、精密研磨時に生じる研
磨くず、研磨スラリー等による汚れを取り除くために洗
浄が行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような洗浄工程で
は、フロンの廃止等もからみ、洗浄水として、超純水、
濃縮超純水、純水、市水等が用いられている。しかしな
がら、バルクハウゼンノイズ抑止のために用いられてい
る反強磁性体膜としてのＦｅＭｎは、この純水に非常に
侵されやすく、溶解及び腐食されやすい。例えば、純水
中においては、２０秒程度で激しい腐食が進行すること
が確認されている。
は、フロンの廃止等もからみ、洗浄水として、超純水、
濃縮超純水、純水、市水等が用いられている。しかしな
がら、バルクハウゼンノイズ抑止のために用いられてい
る反強磁性体膜としてのＦｅＭｎは、この純水に非常に
侵されやすく、溶解及び腐食されやすい。例えば、純水
中においては、２０秒程度で激しい腐食が進行すること
が確認されている。
【０００６】溶解や腐食が起こると、この反強磁性体膜
による磁気的相互作用が弱まってノイズ抑制効果が大幅
に低減する恐れがあり、さらに、反強磁性体膜自体がＭ
Ｒ層から剥れてしまい、歩留が悪化する恐れがある。
による磁気的相互作用が弱まってノイズ抑制効果が大幅
に低減する恐れがあり、さらに、反強磁性体膜自体がＭ
Ｒ層から剥れてしまい、歩留が悪化する恐れがある。
【０００７】従って本発明は、反強磁性体膜であるＦｅ
Ｍｎの洗浄工程における溶解、腐食の発生を防止できる
ＭＲヘッド製造方法を提供するものである。
Ｍｎの洗浄工程における溶解、腐食の発生を防止できる
ＭＲヘッド製造方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ＭＲ層
とこのＭＲ層上に積層された反強磁性体層とを有するＭ
Ｒヘッドの製造における洗浄工程で弱アルカリ性の洗浄
水が使用される。
とこのＭＲ層上に積層された反強磁性体層とを有するＭ
Ｒヘッドの製造における洗浄工程で弱アルカリ性の洗浄
水が使用される。
【０００９】上述の洗浄工程が、集積工程においてＭＲ
層上に反強磁性体層を積層した後に行われる洗浄工程、
又は集積工程後のスライダ加工工程において行われる洗
浄工程であってもよい。
層上に反強磁性体層を積層した後に行われる洗浄工程、
又は集積工程後のスライダ加工工程において行われる洗
浄工程であってもよい。
【００１０】
【作用】反強磁性体層であるＦｅＭｎは、超純水、濃縮
超純水、純水、市水等には侵されやすいがアルカリに対
しては比較的強い。従って、ｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アル
カリ性の洗浄水を用いて洗浄を行うことによりその腐食
を防止することができる。
超純水、純水、市水等には侵されやすいがアルカリに対
しては比較的強い。従って、ｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アル
カリ性の洗浄水を用いて洗浄を行うことによりその腐食
を防止することができる。
【００１１】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施例におけるＭＲヘッドの製造工
程の一部をＡＢＳ面側から概略的に表した工程図であ
る。
図１は、本発明の一実施例におけるＭＲヘッドの製造工
程の一部をＡＢＳ面側から概略的に表した工程図であ
る。
【００１２】同図（Ａ）に示すように、ウエハ上に形成
されたＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 等による絶縁層１０上に、
ＮｉＦｅＲｈ、ＮｉＦｅＣｒ、ＣｏＺｒＭｏ等の軟磁性
体層（ＳＡＬ）１１と、Ｔｉ、Ｔａ等の非磁性層（ＭＳ
Ｌ）１２と、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等のＭＲ層１３と
をこの順序で連続的に成膜する。この軟磁性体層１１
は、ＭＲ素子に横バイアス磁界を付加してその出力波形
の線形化及び出力増大化を図るための層である。この横
バイアス磁界付加層としては、軟磁性体層の代わりに永
久磁石層等を用いてもよい。
されたＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 等による絶縁層１０上に、
ＮｉＦｅＲｈ、ＮｉＦｅＣｒ、ＣｏＺｒＭｏ等の軟磁性
体層（ＳＡＬ）１１と、Ｔｉ、Ｔａ等の非磁性層（ＭＳ
Ｌ）１２と、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等のＭＲ層１３と
をこの順序で連続的に成膜する。この軟磁性体層１１
は、ＭＲ素子に横バイアス磁界を付加してその出力波形
の線形化及び出力増大化を図るための層である。この横
バイアス磁界付加層としては、軟磁性体層の代わりに永
久磁石層等を用いてもよい。
【００１３】次いで、同図（Ｂ）に示すごとく、ＭＲ層
１３上にレジスト１４を塗布してパターニングする。こ
の状態でエッチングを行った後にレジスト１４を除去す
ることによって、同図（Ｃ）に示すごとく個々のＭＲヘ
ッド部が分離形成される。
１３上にレジスト１４を塗布してパターニングする。こ
の状態でエッチングを行った後にレジスト１４を除去す
ることによって、同図（Ｃ）に示すごとく個々のＭＲヘ
ッド部が分離形成される。
【００１４】次いで、同図（Ｄ）に示すようにレジスト
１５を塗布してパターニングする。この状態で、逆スパ
ッタ等によりＭＲ層１３の表面をクリーニングする。次
いで、同図（Ｅ）に示すように、この上にＦｅＭｎの反
強磁性体層１６の成膜を行った後、レジスト１５を除去
してリフトオフ法による反強磁性体層１６のパターニン
グが行われる。この状態が同図（Ｆ）に示されている。
１５を塗布してパターニングする。この状態で、逆スパ
ッタ等によりＭＲ層１３の表面をクリーニングする。次
いで、同図（Ｅ）に示すように、この上にＦｅＭｎの反
強磁性体層１６の成膜を行った後、レジスト１５を除去
してリフトオフ法による反強磁性体層１６のパターニン
グが行われる。この状態が同図（Ｆ）に示されている。
【００１５】レジスト１５を有機溶剤等で溶解して反強
磁性体層１６のパターニングを終了した後、洗浄工程が
実施される。本実施例においては、洗浄に用いられる純
水等にＮａＯＨ、Ｎａ2 ＣＯ3 等を加えて実質的にｐＨ
７〜ｐＨ１０の弱アルカリ性の洗浄水を作成し、これに
よって洗浄を行っている。弱アルカリ性の洗浄水によれ
ば、反強磁性体層１６であるＦｅＭｎの腐食を防止する
ことができる。洗浄に用いられる純水等にＮＨ3 等の可
溶性ガスをバブリングしてｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アルカ
リ性の洗浄水を作成し、これによって洗浄を行ってもよ
い。
磁性体層１６のパターニングを終了した後、洗浄工程が
実施される。本実施例においては、洗浄に用いられる純
水等にＮａＯＨ、Ｎａ2 ＣＯ3 等を加えて実質的にｐＨ
７〜ｐＨ１０の弱アルカリ性の洗浄水を作成し、これに
よって洗浄を行っている。弱アルカリ性の洗浄水によれ
ば、反強磁性体層１６であるＦｅＭｎの腐食を防止する
ことができる。洗浄に用いられる純水等にＮＨ3 等の可
溶性ガスをバブリングしてｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アルカ
リ性の洗浄水を作成し、これによって洗浄を行ってもよ
い。
【００１６】次いで、同図（Ｇ）に示すように、反強磁
性体層１６上にＷ等の電極層１７を成膜及びパターニン
グする。この電極層１７の間の領域が、ＭＲ素子のトラ
ック幅Ｔｗに対応する領域であることは周知の通りであ
る。電極層１７のパターニングの後にも洗浄が行われ
る。この洗浄工程においても、弱アルカリ性の洗浄水に
よって洗浄を行えば、反強磁性体層１６はもちろんのこ
と電極層１７を構成するＷの純水による腐食や溶解をも
防止できる。
性体層１６上にＷ等の電極層１７を成膜及びパターニン
グする。この電極層１７の間の領域が、ＭＲ素子のトラ
ック幅Ｔｗに対応する領域であることは周知の通りであ
る。電極層１７のパターニングの後にも洗浄が行われ
る。この洗浄工程においても、弱アルカリ性の洗浄水に
よって洗浄を行えば、反強磁性体層１６はもちろんのこ
と電極層１７を構成するＷの純水による腐食や溶解をも
防止できる。
【００１７】なお、同図（Ｅ）に示す反強磁性体層１６
の成膜の後、電極層１７を連続成膜してからレジスト１
５を除去するように構成すれば、反強磁性体層１６が空
気中に直接さらされることもないし、洗浄工程も１回で
済むからより好ましい。
の成膜の後、電極層１７を連続成膜してからレジスト１
５を除去するように構成すれば、反強磁性体層１６が空
気中に直接さらされることもないし、洗浄工程も１回で
済むからより好ましい。
【００１８】図２は、本発明の他の実施例におけるＭＲ
ヘッドの製造工程をＡＢＳ面側から概略的に表した工程
図である。
ヘッドの製造工程をＡＢＳ面側から概略的に表した工程
図である。
【００１９】同図（Ａ）〜（Ｃ）の工程は、図１の
（Ａ）〜（Ｃ）の工程と全く同じである。即ち、ウエハ
上に形成されたＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 等による絶縁層２
０上に、ＮｉＦｅＲｈ、ＮｉＦｅＣｒ、ＣｏＺｒＭｏ等
の軟磁性体層（ＳＡＬ）２１と、Ｔｉ、Ｔａ等の非磁性
層（ＭＳＬ）２２と、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等のＭＲ
層２３とをこの順序で連続的に成膜する。次いで、同図
（Ｂ）に示すごとく、ＭＲ層２３上にレジスト２４を塗
布してパターニングする。この状態でエッチングを行っ
た後にレジスト２４を除去することによって、同図
（Ｃ）に示すごとく個々のＭＲヘッド部が分離形成され
る。
（Ａ）〜（Ｃ）の工程と全く同じである。即ち、ウエハ
上に形成されたＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 等による絶縁層２
０上に、ＮｉＦｅＲｈ、ＮｉＦｅＣｒ、ＣｏＺｒＭｏ等
の軟磁性体層（ＳＡＬ）２１と、Ｔｉ、Ｔａ等の非磁性
層（ＭＳＬ）２２と、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等のＭＲ
層２３とをこの順序で連続的に成膜する。次いで、同図
（Ｂ）に示すごとく、ＭＲ層２３上にレジスト２４を塗
布してパターニングする。この状態でエッチングを行っ
た後にレジスト２４を除去することによって、同図
（Ｃ）に示すごとく個々のＭＲヘッド部が分離形成され
る。
【００２０】次いで同図（Ｄ）に示すごとく、この上に
ＦｅＭｎの反強磁性体層２５の成膜を行った後、同図
（Ｅ）に示すようにレジスト２６を塗布してパターニン
グする。この状態で同図の矢印２７に示すようにイオン
ミリングを行う。同図（Ｆ）は、イオンミリング後の状
態を示している。
ＦｅＭｎの反強磁性体層２５の成膜を行った後、同図
（Ｅ）に示すようにレジスト２６を塗布してパターニン
グする。この状態で同図の矢印２７に示すようにイオン
ミリングを行う。同図（Ｆ）は、イオンミリング後の状
態を示している。
【００２１】次いで同図（Ｇ）に示すように、レジスト
２６を有機溶剤等で溶解して反強磁性体層２５のパター
ニングを終了した後、洗浄工程が実施される。本実施例
においても、洗浄に用いられる純水等にＮａＯＨ、Ｎａ
2 ＣＯ3 等を加えて実質的にｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アル
カリ性の洗浄水を作成し、これによって洗浄を行ってい
る。弱アルカリ性の洗浄水によれば、反強磁性体層２５
であるＦｅＭｎの腐食を防止することができる。洗浄に
用いられる純水等にＮＨ3 等の可溶性ガスをバブリング
してｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アルカリ性の洗浄水を作成
し、これによって洗浄を行ってもよいことも前述の実施
例の場合と同じである。
２６を有機溶剤等で溶解して反強磁性体層２５のパター
ニングを終了した後、洗浄工程が実施される。本実施例
においても、洗浄に用いられる純水等にＮａＯＨ、Ｎａ
2 ＣＯ3 等を加えて実質的にｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アル
カリ性の洗浄水を作成し、これによって洗浄を行ってい
る。弱アルカリ性の洗浄水によれば、反強磁性体層２５
であるＦｅＭｎの腐食を防止することができる。洗浄に
用いられる純水等にＮＨ3 等の可溶性ガスをバブリング
してｐＨ７〜ｐＨ１０の弱アルカリ性の洗浄水を作成
し、これによって洗浄を行ってもよいことも前述の実施
例の場合と同じである。
【００２２】次いで、同図（Ｈ）に示すように、反強磁
性体層２５上にＷ等の電極層２８を成膜及びパターニン
グする。電極層２８のパターニングの後にも洗浄が行わ
れる。この洗浄工程においても、弱アルカリ性の洗浄水
によって洗浄を行えば、反強磁性体層２５はもちろんの
こと電極層２８を構成するＷの純水による腐食をも防止
できる。
性体層２５上にＷ等の電極層２８を成膜及びパターニン
グする。電極層２８のパターニングの後にも洗浄が行わ
れる。この洗浄工程においても、弱アルカリ性の洗浄水
によって洗浄を行えば、反強磁性体層２５はもちろんの
こと電極層２８を構成するＷの純水による腐食をも防止
できる。
【００２３】以上の実施例は、ウエハ状態における薄膜
集積工程での洗浄、即ちＭＲ層上に反強磁性体層を積層
した後に行われる洗浄に弱アルカリ性洗浄水を用いるも
のであるが、集積工程後にウエハをバー状態に切り出し
てスライダ加工する際、又は個々のスライダに分離した
後の最終的な洗浄工程においても弱アルカリ性洗浄水を
用いることにより、反強磁性体層であるＦｅＭｎはもち
ろん、ＡＢＳ面に露出した金属層の腐食を防止すること
ができる。
集積工程での洗浄、即ちＭＲ層上に反強磁性体層を積層
した後に行われる洗浄に弱アルカリ性洗浄水を用いるも
のであるが、集積工程後にウエハをバー状態に切り出し
てスライダ加工する際、又は個々のスライダに分離した
後の最終的な洗浄工程においても弱アルカリ性洗浄水を
用いることにより、反強磁性体層であるＦｅＭｎはもち
ろん、ＡＢＳ面に露出した金属層の腐食を防止すること
ができる。
【００２４】実際に、精密研磨後のスライダについて、
純水で洗浄した場合と弱アルカリ性洗浄水で洗浄した場
合とを比較した。前者の場合はＦｅＭｎの腐食が認めら
れ、再生波形にバルクハウゼンノイズが多く含まれてい
たが、後者の場合はＦｅＭｎの腐食が全くなく、再生波
形にバルクハウゼンノイズは存在しなかった。
純水で洗浄した場合と弱アルカリ性洗浄水で洗浄した場
合とを比較した。前者の場合はＦｅＭｎの腐食が認めら
れ、再生波形にバルクハウゼンノイズが多く含まれてい
たが、後者の場合はＦｅＭｎの腐食が全くなく、再生波
形にバルクハウゼンノイズは存在しなかった。
【００２５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、ＭＲ層とこのＭＲ層上に積層された反強磁性体層と
を有するＭＲヘッドの製造における洗浄工程で弱アルカ
リ性の洗浄水を使用しているため、反強磁性体膜である
ＦｅＭｎの溶解、腐食の発生を防止することができる。
その結果、反強磁性体膜によるノイズ抑制効果が低減す
るような不都合がなく、また、反強磁性体膜自体がＭＲ
層から剥れてしまって歩留が悪化するようなこともな
い。
ば、ＭＲ層とこのＭＲ層上に積層された反強磁性体層と
を有するＭＲヘッドの製造における洗浄工程で弱アルカ
リ性の洗浄水を使用しているため、反強磁性体膜である
ＦｅＭｎの溶解、腐食の発生を防止することができる。
その結果、反強磁性体膜によるノイズ抑制効果が低減す
るような不都合がなく、また、反強磁性体膜自体がＭＲ
層から剥れてしまって歩留が悪化するようなこともな
い。
【図１】本発明の一実施例におけるＭＲヘッドの製造工
程の一部をＡＢＳ側から概略的に表した工程図である。
程の一部をＡＢＳ側から概略的に表した工程図である。
【図２】本発明の他の実施例におけるＭＲヘッドの製造
工程の一部をＡＢＳ側から概略的に表した工程図であ
る。
工程の一部をＡＢＳ側から概略的に表した工程図であ
る。
１０、２０ 絶縁層 １１、２１ 軟磁性体層 １２、２２ 非磁性層 １３、２３ ＭＲ層 １４、１５、２４、２６ レジスト １６、２５ 反強磁性体層 １７、２８ 電極層
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気抵抗効果層と該磁気抵抗効果層上に
積層された反強磁性体層とを有する磁気抵抗効果ヘッド
を製造する方法であって、洗浄工程では弱アルカリ性の
洗浄水を用いて洗浄を行うことを特徴とする磁気抵抗効
果ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記洗浄工程が、集積工程において磁気
抵抗効果層上に反強磁性体層を積層した後に行われる洗
浄工程であることを特徴とする請求項１に記載の製造方
法。 - 【請求項３】 前記洗浄工程が、集積工程後のスライダ
加工工程において行われる洗浄工程であることを特徴と
する請求項１又は２に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5165950A JPH076330A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 磁気抵抗効果ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5165950A JPH076330A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 磁気抵抗効果ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076330A true JPH076330A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15822102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5165950A Pending JPH076330A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 磁気抵抗効果ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076330A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5761010A (en) * | 1995-08-31 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Magnetoresistive head, manufacturing method of the head and magnetic recording/reproducing drive |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53121006A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-23 | Henkel Kgaa | Method of washing metal by spray |
| JPH0567314A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Hitachi Ltd | 磁気抵抗効果型ヘツドの製造方法 |
| JPH0569560A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-23 | Seiko Epson Corp | プリンターのワイヤードツトヘツドの洗浄方法 |
-
1993
- 1993-06-14 JP JP5165950A patent/JPH076330A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53121006A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-23 | Henkel Kgaa | Method of washing metal by spray |
| JPH0567314A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Hitachi Ltd | 磁気抵抗効果型ヘツドの製造方法 |
| JPH0569560A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-23 | Seiko Epson Corp | プリンターのワイヤードツトヘツドの洗浄方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5761010A (en) * | 1995-08-31 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Magnetoresistive head, manufacturing method of the head and magnetic recording/reproducing drive |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020514 |