JPH076344A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH076344A JPH076344A JP14946993A JP14946993A JPH076344A JP H076344 A JPH076344 A JP H076344A JP 14946993 A JP14946993 A JP 14946993A JP 14946993 A JP14946993 A JP 14946993A JP H076344 A JPH076344 A JP H076344A
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- magnetic recording
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高Ｍｓおよび高保磁力を兼備した、ＣｏＳｍ
合金磁性層を備えた金属薄膜型磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板１の上
に非磁性下地層２、ＣｏＳｍ合金磁性層を備えた磁気記
録層３が同順序で積層成膜されており、前記非磁性下地
層２はＣｕ又はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成され
ている。
合金磁性層を備えた金属薄膜型磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板１の上
に非磁性下地層２、ＣｏＳｍ合金磁性層を備えた磁気記
録層３が同順序で積層成膜されており、前記非磁性下地
層２はＣｕ又はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成され
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク等の磁気記
録媒体に関する。
録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化に伴
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、非磁性基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、非磁性基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
【０００３】最近、ハードディスク装置の小型化と大容
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが更に小さくなるために、磁気ヘ
ッドの浮上量をできるだけ下げて読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される非磁
性基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが更に小さくなるために、磁気ヘ
ッドの浮上量をできるだけ下げて読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される非磁
性基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
【０００４】このため、非磁性基板として、前記Ａｌ合
金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代わってガラス基板が採用さ
れ、機械的加工による方向性のあるテキスチャーから化
学的腐食による無方向（等方向）性のテキスチャーが形
成されるようになった。機械的加工により形成したテキ
スチャーには微小なバリ状突起が形成され易く、これが
ヘッドの低浮上化を困難にしていたからである。
金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代わってガラス基板が採用さ
れ、機械的加工による方向性のあるテキスチャーから化
学的腐食による無方向（等方向）性のテキスチャーが形
成されるようになった。機械的加工により形成したテキ
スチャーには微小なバリ状突起が形成され易く、これが
ヘッドの低浮上化を困難にしていたからである。
【０００５】しかし、化学的腐食による無方向性のテキ
スチャーでは、形状効果による磁気的異方性の向上が期
待できないため、磁気記録媒体の高保磁力化に限界があ
った。この問題については、特開平３−２３５１３号公
報に開示されているＣｏＳｍ合金を用いて磁性層を形成
することにより、無方向性のテキスチャーであっても、
また低温スパッタリングによっても、従来のＣｏ合金磁
性層と同程度以上の高保磁力が得られる。
スチャーでは、形状効果による磁気的異方性の向上が期
待できないため、磁気記録媒体の高保磁力化に限界があ
った。この問題については、特開平３−２３５１３号公
報に開示されているＣｏＳｍ合金を用いて磁性層を形成
することにより、無方向性のテキスチャーであっても、
また低温スパッタリングによっても、従来のＣｏ合金磁
性層と同程度以上の高保磁力が得られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｃｒ下
地層の上にＣｏＳｍ合金を用いて磁性層を形成する場
合、Ｃｒ／ＣｏＳｍ合金界面で拡散層が生じ、磁性層の
飽和磁化Ｍｓが低下するという問題がある。本発明はか
かる問題に鑑みなされたもので、高Ｍｓおよび高保磁力
を兼備した、ＣｏＳｍ合金磁性層を備えた金属薄膜型磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
地層の上にＣｏＳｍ合金を用いて磁性層を形成する場
合、Ｃｒ／ＣｏＳｍ合金界面で拡散層が生じ、磁性層の
飽和磁化Ｍｓが低下するという問題がある。本発明はか
かる問題に鑑みなされたもので、高Ｍｓおよび高保磁力
を兼備した、ＣｏＳｍ合金磁性層を備えた金属薄膜型磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、非磁性基板の上に非磁性下地層、ＣｏＳｍ合金磁性
層を備えた磁気記録層が同順序で積層成膜された金属薄
膜型磁気記録媒体において、前記非磁性下地層をＣｕ又
はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成されている。
は、非磁性基板の上に非磁性下地層、ＣｏＳｍ合金磁性
層を備えた磁気記録層が同順序で積層成膜された金属薄
膜型磁気記録媒体において、前記非磁性下地層をＣｕ又
はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成されている。
【０００８】
【作用】Ｃｕ下地層の上にＣｏＳｍ合金層を成膜する
と、Ｃｕ／ＣｏＳｍ合金界面に拡散層がほとんど生じ
ず、ＣｏＳｍ合金の微細結晶（Ｘ線回折では結晶質を示
すピークは検出されないもの）が前記下地層の上にエピ
タキシャル成長し、面内磁気異方性を示し、面内方向に
保磁力を有する膜となる。
と、Ｃｕ／ＣｏＳｍ合金界面に拡散層がほとんど生じ
ず、ＣｏＳｍ合金の微細結晶（Ｘ線回折では結晶質を示
すピークは検出されないもの）が前記下地層の上にエピ
タキシャル成長し、面内磁気異方性を示し、面内方向に
保磁力を有する膜となる。
【０００９】下地層の材質としては、純Ｃｕのみなら
ず、ＣｏＳｍ合金との間に拡散層をほとんど生じない、
Ｃｕを主成分としたＣｕ合金でもよく、合金元素として
結晶の微細化作用等を奏する元素を含有することができ
る。例えば、Ｃｒを１０原子％以下含有してもよく、こ
の場合でもＣｏＳｍ合金磁性層のＭｓは減少しない。
ず、ＣｏＳｍ合金との間に拡散層をほとんど生じない、
Ｃｕを主成分としたＣｕ合金でもよく、合金元素として
結晶の微細化作用等を奏する元素を含有することができ
る。例えば、Ｃｒを１０原子％以下含有してもよく、こ
の場合でもＣｏＳｍ合金磁性層のＭｓは減少しない。
【００１０】
【実施例】図１は実施例に係る磁気記録媒体の要部断面
図を示しており、非磁性の基板１の上に、非磁性下地層
２が成膜されており、その上に成膜後面内に大きな結晶
磁気異方性を有するＣｏＳｍ合金磁性層からなる磁気記
録層３が成膜され、更にその上に非磁性保護層４がスパ
ッタリングにより積層成膜されている。
図を示しており、非磁性の基板１の上に、非磁性下地層
２が成膜されており、その上に成膜後面内に大きな結晶
磁気異方性を有するＣｏＳｍ合金磁性層からなる磁気記
録層３が成膜され、更にその上に非磁性保護層４がスパ
ッタリングにより積層成膜されている。
【００１１】前記基板１としては、Ａｌ合金／Ｎｉ−Ｐ
メッキ基板やチタン等の金属基板、ガラス，セラミック
ス，カーボン，ポリマーなどの非金属基板が使用され
る。基板１の表面には、微細な凹凸からなるテキスチャ
ーが形成されるが、該テキスチャーは円周方向に沿って
形成する必要はなく、無方向性のものでもよい。基板１
の上に形成される非磁性下地層２は、既述の通り、Ｃｕ
又はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成され、該下地層
２の上に形成されるＣｏＳｍ合金磁性層の面内方向の結
晶磁気異方性を向上させる。層厚は、通常、５００〜２
０００Å程度とされる。
メッキ基板やチタン等の金属基板、ガラス，セラミック
ス，カーボン，ポリマーなどの非金属基板が使用され
る。基板１の表面には、微細な凹凸からなるテキスチャ
ーが形成されるが、該テキスチャーは円周方向に沿って
形成する必要はなく、無方向性のものでもよい。基板１
の上に形成される非磁性下地層２は、既述の通り、Ｃｕ
又はＣｕを主成分としたＣｕ合金で形成され、該下地層
２の上に形成されるＣｏＳｍ合金磁性層の面内方向の結
晶磁気異方性を向上させる。層厚は、通常、５００〜２
０００Å程度とされる。
【００１２】前記磁気記録層３は、既述の通り、高保磁
力が得られるＣｏＳｍ合金により成膜される。Ｓｍ含有
量は、６００ｅｍｕ／ｃｃ程度以上の高Ｍｓを確保する
には、２０ａｔ％程度以下にすることが望ましい。尚、
磁気記録層は所定のＣｏＳｍ合金磁性層を図例のように
単層として形成したものに限らず、ＣｏＳｍ合金磁性層
と、Ｃｒや下地層を形成する前記Ｃｕ又はＣｕ合金から
なる非磁性中間層とを交互に積層形成したものでもよ
い。磁気記録層３の層厚（ＣｏＳｍ合金単層ならその層
厚、複層ならＣｏＳｍ合金層の合計厚）は通常２００〜
８００Å程度とされる。
力が得られるＣｏＳｍ合金により成膜される。Ｓｍ含有
量は、６００ｅｍｕ／ｃｃ程度以上の高Ｍｓを確保する
には、２０ａｔ％程度以下にすることが望ましい。尚、
磁気記録層は所定のＣｏＳｍ合金磁性層を図例のように
単層として形成したものに限らず、ＣｏＳｍ合金磁性層
と、Ｃｒや下地層を形成する前記Ｃｕ又はＣｕ合金から
なる非磁性中間層とを交互に積層形成したものでもよ
い。磁気記録層３の層厚（ＣｏＳｍ合金単層ならその層
厚、複層ならＣｏＳｍ合金層の合計厚）は通常２００〜
８００Å程度とされる。
【００１３】前記磁気記録層３の上にはカーボン、Ｓｉ
Ｏ2 又はＣｒ／ＳｉＯ2 等からなる非磁性保護層４が２
００〜４００Å程度形成されており、更にその上にフッ
素化ポリエーテル等の液体潤滑剤を２０〜５０Å程度
（単分子厚程度）塗布してもよい。尚、前記保護層４や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。非磁性下地層、
磁気記録層、非磁性保護層は、通常、スパッタリングに
より成膜される。スパッタリング条件は、通常、Ａｒガ
ス分圧が１０〜５０ｍＴｏｒｒ、基板温度が室温〜１０
０℃程度とされる。
Ｏ2 又はＣｒ／ＳｉＯ2 等からなる非磁性保護層４が２
００〜４００Å程度形成されており、更にその上にフッ
素化ポリエーテル等の液体潤滑剤を２０〜５０Å程度
（単分子厚程度）塗布してもよい。尚、前記保護層４や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。非磁性下地層、
磁気記録層、非磁性保護層は、通常、スパッタリングに
より成膜される。スパッタリング条件は、通常、Ａｒガ
ス分圧が１０〜５０ｍＴｏｒｒ、基板温度が室温〜１０
０℃程度とされる。
【００１４】次に具体的実施例を掲げる。ＲＦ３元スパ
ッタリング装置を用いて、化学的腐食により無方向性の
テキスチャーを施したガラス基板の上にＣｕ又はＣｕ−
５ａｔ％Ｃｒ下地層を種々の膜厚で形成し、該下地層の
上にＣｏ−１３ａｔ％Ｓｍ合金磁性層からなる磁気記録
層を５００Å、さらにその上に１００Åの膜厚のＣｒ層
を介してＳｉＯ2 保護層を１５０Å積層成膜した。成膜
時の基板温度は室温のままとし、成膜時のＡｒガス分圧
および高周波電力は、下地層成膜時１５ｍＴｏｒｒで２
００Ｗ、磁性層成膜時３５ｍＴｏｒｒで１６０Ｗ、Ｃｒ
層成膜時１０ｍＴｏｒｒで２００Ｗ、保護層成膜時１５
ｍＴｏｒｒで２００Ｗとした。
ッタリング装置を用いて、化学的腐食により無方向性の
テキスチャーを施したガラス基板の上にＣｕ又はＣｕ−
５ａｔ％Ｃｒ下地層を種々の膜厚で形成し、該下地層の
上にＣｏ−１３ａｔ％Ｓｍ合金磁性層からなる磁気記録
層を５００Å、さらにその上に１００Åの膜厚のＣｒ層
を介してＳｉＯ2 保護層を１５０Å積層成膜した。成膜
時の基板温度は室温のままとし、成膜時のＡｒガス分圧
および高周波電力は、下地層成膜時１５ｍＴｏｒｒで２
００Ｗ、磁性層成膜時３５ｍＴｏｒｒで１６０Ｗ、Ｃｒ
層成膜時１０ｍＴｏｒｒで２００Ｗ、保護層成膜時１５
ｍＴｏｒｒで２００Ｗとした。
【００１５】得られた実施例の磁気記録媒体を用いて、
外部磁場１０ｋＯｅの下で、媒体の磁気特性をＶＳＭを
用いて測定した。その結果を図２に示す。図２より、下
地層が５００Å程度以上あれば、２０００Ｏｅ以上の高
保磁力を備えることが分かる。
外部磁場１０ｋＯｅの下で、媒体の磁気特性をＶＳＭを
用いて測定した。その結果を図２に示す。図２より、下
地層が５００Å程度以上あれば、２０００Ｏｅ以上の高
保磁力を備えることが分かる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の金属薄膜型
磁気記録媒体は、非磁性下地層をＣｕ又はＣｕを主成分
としたＣｕ合金で成膜するので、該下地層の上に拡散層
をほとんど生じさせることなく、ＣｏＳｍ合金膜を面内
に磁気異方性を発現させるようにエピタキシャル成長さ
せることができ、これにより磁気記録層のＭｓを減少さ
せることなく、高保磁力を得ることができる。
磁気記録媒体は、非磁性下地層をＣｕ又はＣｕを主成分
としたＣｕ合金で成膜するので、該下地層の上に拡散層
をほとんど生じさせることなく、ＣｏＳｍ合金膜を面内
に磁気異方性を発現させるようにエピタキシャル成長さ
せることができ、これにより磁気記録層のＭｓを減少さ
せることなく、高保磁力を得ることができる。
【図１】実施例にかかる金属薄膜型磁気記録媒体の要部
断面図である。
断面図である。
【図２】Ｃｕ又はＣｕ−５ａｔ％Ｃｒ下地層を有するＣ
ｏＳｍ磁性層を備えた実施例の磁気記録媒体における下
地層厚さと保磁力Ｈｃとの関係を示すグラフ図である。
ｏＳｍ磁性層を備えた実施例の磁気記録媒体における下
地層厚さと保磁力Ｈｃとの関係を示すグラフ図である。
１ 基板 ２ 非磁性下地層 ３ 磁気記録層 ４ 保護層
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性基板の上に非磁性下地層、ＣｏＳ
ｍ合金磁性層を備えた磁気記録層が同順序で積層成膜さ
れた金属薄膜型磁気記録媒体において、 前記非磁性下地層はＣｕ又はＣｕを主成分としたＣｕ合
金で形成されていることを特徴とする金属薄膜型磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14946993A JPH076344A (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14946993A JPH076344A (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076344A true JPH076344A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15475824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14946993A Pending JPH076344A (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076344A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005109431A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-21 | Univ Waseda | Ｓｍ−Ｃｏ合金系垂直磁気異方性薄膜及びその形成方法 |
| JP2014053065A (ja) * | 2012-08-07 | 2014-03-20 | Hitachi Metals Ltd | 熱アシスト磁気記録媒体のヒートシンク層形成用スパッタリングターゲット材 |
-
1993
- 1993-06-21 JP JP14946993A patent/JPH076344A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005109431A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-21 | Univ Waseda | Ｓｍ−Ｃｏ合金系垂直磁気異方性薄膜及びその形成方法 |
| JP2014053065A (ja) * | 2012-08-07 | 2014-03-20 | Hitachi Metals Ltd | 熱アシスト磁気記録媒体のヒートシンク層形成用スパッタリングターゲット材 |
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