JPH0763512A - 光位置検出装置 - Google Patents
光位置検出装置Info
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- JPH0763512A JPH0763512A JP20965193A JP20965193A JPH0763512A JP H0763512 A JPH0763512 A JP H0763512A JP 20965193 A JP20965193 A JP 20965193A JP 20965193 A JP20965193 A JP 20965193A JP H0763512 A JPH0763512 A JP H0763512A
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- light beam
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ビーム径が小さい場合でも、正確に安定し
た光位置検出ができる光位置検出装置を提供する。 【構成】 受光素子１の光ビームの入射側にはガラス４
が設けられ、このガラス４の表面には、微細な凹凸加工
が施されており、この部分が光拡散部４ａを構成してい
る。
た光位置検出ができる光位置検出装置を提供する。 【構成】 受光素子１の光ビームの入射側にはガラス４
が設けられ、このガラス４の表面には、微細な凹凸加工
が施されており、この部分が光拡散部４ａを構成してい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、受光素子に入射され
た光ビームの位置を検出する光位置検出装置に係り、各
種方向制御装置に適用して好適である。
た光ビームの位置を検出する光位置検出装置に係り、各
種方向制御装置に適用して好適である。
【０００２】
【従来の技術】掘削機用掘削方向制御装置を始めとする
各種方向制御装置には、光位置検出装置が用いられてい
る。従来の光位置検出装置としては、以下に示すものが
あった。 （１）単一の受光素子に入射された光ビームによってそ
の受光素子に発生する光起電力を利用して光ビームの位
置（以下、光位置という）を検出する（特開平５−５２
５６６号公報参照）。 （２）単一の受光素子に入射された光ビームによってそ
の受光素子に発生する光導電効果を利用して光位置を検
出する。 （３）マトリックス状に配置された複数の受光素子に入
射された光ビームによってその受光素子に発生する光導
電効果を利用して光位置を検出する（特開平５−５２５
６５号公報参照）。 （４）反射板又は透過板に照射された光ビームスポット
像をＣＣＤ（電荷結合素子）等の撮像素子によって撮像
し、得られた画像を処理することにより、光位置を検出
する（特開平５−５９８８４号公報参照）。
各種方向制御装置には、光位置検出装置が用いられてい
る。従来の光位置検出装置としては、以下に示すものが
あった。 （１）単一の受光素子に入射された光ビームによってそ
の受光素子に発生する光起電力を利用して光ビームの位
置（以下、光位置という）を検出する（特開平５−５２
５６６号公報参照）。 （２）単一の受光素子に入射された光ビームによってそ
の受光素子に発生する光導電効果を利用して光位置を検
出する。 （３）マトリックス状に配置された複数の受光素子に入
射された光ビームによってその受光素子に発生する光導
電効果を利用して光位置を検出する（特開平５−５２５
６５号公報参照）。 （４）反射板又は透過板に照射された光ビームスポット
像をＣＣＤ（電荷結合素子）等の撮像素子によって撮像
し、得られた画像を処理することにより、光位置を検出
する（特開平５−５９８８４号公報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
光位置検出装置においては、いずれの場合も、受光面に
入射される光ビーム径が小さすぎると、光位置検出精度
が低下したり、場合によっては光位置検出ができなくな
ってしまう。したがって、光ビーム径をある程度大きく
して用いる必要がある。以下にその理由を説明する。 受光素子の出力は、一般に、入射される光ビームのパ
ワー密度が所定値以上になると飽和する。そのため、光
ビームの出力が一定であっても、光ビーム径を小さくし
ていくと、受光素子の出力は飽和し、さらに光ビーム径
を小さくすると、受光素子の出力が低下してしまう。 受光素子の感度は、一般に、受光面全体に亙って均一
ではないため、入射される光ビーム径が小さいほど、感
度のばらつきによる影響を受けやすい。
光位置検出装置においては、いずれの場合も、受光面に
入射される光ビーム径が小さすぎると、光位置検出精度
が低下したり、場合によっては光位置検出ができなくな
ってしまう。したがって、光ビーム径をある程度大きく
して用いる必要がある。以下にその理由を説明する。 受光素子の出力は、一般に、入射される光ビームのパ
ワー密度が所定値以上になると飽和する。そのため、光
ビームの出力が一定であっても、光ビーム径を小さくし
ていくと、受光素子の出力は飽和し、さらに光ビーム径
を小さくすると、受光素子の出力が低下してしまう。 受光素子の感度は、一般に、受光面全体に亙って均一
ではないため、入射される光ビーム径が小さいほど、感
度のばらつきによる影響を受けやすい。
【０００４】上記した（３）の光位置検出装置におい
ては、マトリックス状に配置された複数の受光素子間に
不感帯があるため、光ビーム径を少なくとも不感帯の幅
以上にする必要がある。また、高精度化、高分解能化の
ためには、光ビームが常に複数の受光素子に入射されて
いることが望ましく、そのためには、光ビーム径を各受
光素子の大きさ以上にする必要がある。 上記した（４）の光位置検出装置においては、光ビー
ムスポット像が小さくなると、画像処理過程において、
画像信号と、それに含まれるノイズ成分との判別が困難
となり、光位置検出ができなくなってしまう。
ては、マトリックス状に配置された複数の受光素子間に
不感帯があるため、光ビーム径を少なくとも不感帯の幅
以上にする必要がある。また、高精度化、高分解能化の
ためには、光ビームが常に複数の受光素子に入射されて
いることが望ましく、そのためには、光ビーム径を各受
光素子の大きさ以上にする必要がある。 上記した（４）の光位置検出装置においては、光ビー
ムスポット像が小さくなると、画像処理過程において、
画像信号と、それに含まれるノイズ成分との判別が困難
となり、光位置検出ができなくなってしまう。
【０００５】しかしながら、光ビーム径をある程度以上
大きくしてしまうと、以下に示すような不都合がある。
例えば、光ビーム源として、測量等で一般的に用いられ
るレーザセオドライドを用いると仮定する。通常、測量
時には、光ビーム径を最小に絞る必要があり、また、こ
の状態で測量用のスコープ（望遠鏡）の像は合焦する。
このため、光ビーム径をある程度以上大きくするという
ことは、スコープの像がぼやけることを意味し、目視に
よる光ビームスポット像の確認も難しくなる。その結
果、光位置検出結果の信頼性が低下してしまう。
大きくしてしまうと、以下に示すような不都合がある。
例えば、光ビーム源として、測量等で一般的に用いられ
るレーザセオドライドを用いると仮定する。通常、測量
時には、光ビーム径を最小に絞る必要があり、また、こ
の状態で測量用のスコープ（望遠鏡）の像は合焦する。
このため、光ビーム径をある程度以上大きくするという
ことは、スコープの像がぼやけることを意味し、目視に
よる光ビームスポット像の確認も難しくなる。その結
果、光位置検出結果の信頼性が低下してしまう。
【０００６】この発明は、上述の事情に鑑みてなされた
もので、光ビーム径が小さい場合でも、正確に安定した
光位置検出ができる光位置検出装置を提供することを目
的としている。
もので、光ビーム径が小さい場合でも、正確に安定した
光位置検出ができる光位置検出装置を提供することを目
的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の光位置検出装置は、受光素子又はタ
ーゲットに入射された光ビームの位置を検出する光位置
検出装置において、上記受光素子又はターゲットの上記
光ビームの入射側に、上記受光素子又はターゲットに入
射される上記光ビームの径を拡大する光拡散部材を設け
ることを特徴としている。
に、請求項１記載の光位置検出装置は、受光素子又はタ
ーゲットに入射された光ビームの位置を検出する光位置
検出装置において、上記受光素子又はターゲットの上記
光ビームの入射側に、上記受光素子又はターゲットに入
射される上記光ビームの径を拡大する光拡散部材を設け
ることを特徴としている。
【０００８】また、請求項２記載の光位置検出装置は、
請求項１記載の発明において、上記光拡散部材の上記光
ビームの入射方向の厚さは、上記受光素子又はターゲッ
トに入射される上記光ビームの最小径と、上記受光素子
又はターゲットの有効最小光ビームスポット径と、上記
光拡散部材内における上記光ビームの拡散角とによって
決定されることを特徴としている。
請求項１記載の発明において、上記光拡散部材の上記光
ビームの入射方向の厚さは、上記受光素子又はターゲッ
トに入射される上記光ビームの最小径と、上記受光素子
又はターゲットの有効最小光ビームスポット径と、上記
光拡散部材内における上記光ビームの拡散角とによって
決定されることを特徴としている。
【０００９】さらに、請求項３記載の光位置検出装置
は、請求項１又は２記載の光位置検出装置において、上
記光拡散部材は、上記光ビームの入射側の面に微細な凹
凸加工が施されていることを特徴としている。
は、請求項１又は２記載の光位置検出装置において、上
記光拡散部材は、上記光ビームの入射側の面に微細な凹
凸加工が施されていることを特徴としている。
【００１０】
【作用】この発明の構成によれば、光ビーム径が光拡散
部材によって拡大された後、受光素子又はターゲットに
入射されるので、光位置検出装置は、径が拡大された光
ビームの位置を検出する。
部材によって拡大された後、受光素子又はターゲットに
入射されるので、光位置検出装置は、径が拡大された光
ビームの位置を検出する。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して、この発明の実施例に
ついて説明する。図１は、この発明の第１実施例である
光位置検出装置に用いられる光位置検出器の構成を示す
断面図である。この光位置検出器は、入射された光ビー
ムによって発生する光起電力を利用して光位置を検出す
るものであり、受光部１は、例えば、アモルファス太陽
電池型受光センサによって構成されている。また、受光
部１は、表面のＰ層１ａと、裏面のＮ層１ｂと、中間に
あるＩ層１ｃとの３層から構成されており、Ｐ層１ａの
表面には、均一の抵抗を得るために、ＳｎＯ2等の導電
性のある材料からなる透明電極２が形成されている。一
方、Ｎ層１ｂの裏面には、保護コート３が施されてい
る。また、透明電極２の表面には、ガラス４が設けられ
ている。このガラス４の表面には、微細な凹凸加工が施
されており、この部分が光拡散部４ａを構成している。
光拡散部４ａと受光部１のＰ層１ａの表面（受光面）と
の距離は、ｄである。
ついて説明する。図１は、この発明の第１実施例である
光位置検出装置に用いられる光位置検出器の構成を示す
断面図である。この光位置検出器は、入射された光ビー
ムによって発生する光起電力を利用して光位置を検出す
るものであり、受光部１は、例えば、アモルファス太陽
電池型受光センサによって構成されている。また、受光
部１は、表面のＰ層１ａと、裏面のＮ層１ｂと、中間に
あるＩ層１ｃとの３層から構成されており、Ｐ層１ａの
表面には、均一の抵抗を得るために、ＳｎＯ2等の導電
性のある材料からなる透明電極２が形成されている。一
方、Ｎ層１ｂの裏面には、保護コート３が施されてい
る。また、透明電極２の表面には、ガラス４が設けられ
ている。このガラス４の表面には、微細な凹凸加工が施
されており、この部分が光拡散部４ａを構成している。
光拡散部４ａと受光部１のＰ層１ａの表面（受光面）と
の距離は、ｄである。
【００１２】このような構成によれば、この光位置検出
器に図１中右方向から入射された光ビームは、図２に示
すように、光拡散部４ａにおいて拡散角θで拡散されつ
つ、ガラス４内を伝搬され、受光素子１の受光面に到達
する。ここで、図３に示すように、図示せぬ光ビーム源
から放射される光ビームの光ビーム径（以下、入射光ビ
ーム径という）をＬ、受光素子１の受光面における光ビ
ームスポット径をＬａとすると、Ｌａは（１）式で表さ
れる。 Ｌａ＝Ｌ＋２ｄ×ｔａｎθ・・・（１）
器に図１中右方向から入射された光ビームは、図２に示
すように、光拡散部４ａにおいて拡散角θで拡散されつ
つ、ガラス４内を伝搬され、受光素子１の受光面に到達
する。ここで、図３に示すように、図示せぬ光ビーム源
から放射される光ビームの光ビーム径（以下、入射光ビ
ーム径という）をＬ、受光素子１の受光面における光ビ
ームスポット径をＬａとすると、Ｌａは（１）式で表さ
れる。 Ｌａ＝Ｌ＋２ｄ×ｔａｎθ・・・（１）
【００１３】また、受光素子１の適用最小光ビーム径を
Ｌminとすると、受光面における光ビームスポット径
は、（２）式を満足すれば良い。 Ｌａ≧Ｌmin・・・（２） すなわち、光拡散部４ａと受光部１の受光面との距離ｄ
は、（３）式を満足するように設計すれば良いことにな
る。 ｄ≧（Ｌmin−Ｌ）／（２ｔａｎθ）・・・（３）
Ｌminとすると、受光面における光ビームスポット径
は、（２）式を満足すれば良い。 Ｌａ≧Ｌmin・・・（２） すなわち、光拡散部４ａと受光部１の受光面との距離ｄ
は、（３）式を満足するように設計すれば良いことにな
る。 ｄ≧（Ｌmin−Ｌ）／（２ｔａｎθ）・・・（３）
【００１４】さらに、（３）式において、入射光ビーム
径Ｌがほぼ０に等しいとすれば、（４）式が得られる。 ｄ≧Ｌmin／（２ｔａｎθ）・・・（４） すなわち、この例の構成によれば、入射光ビーム径Ｌの
大きさに関わらず、安定した光位置検出を行うことがで
きる。また、光拡散部４ａは、光ビームがその入射面か
ら正反射するのを防止するので、光ビーム入射側から光
位置検出器上の光ビームを観測する観測者の目を保護す
ることもできる。
径Ｌがほぼ０に等しいとすれば、（４）式が得られる。 ｄ≧Ｌmin／（２ｔａｎθ）・・・（４） すなわち、この例の構成によれば、入射光ビーム径Ｌの
大きさに関わらず、安定した光位置検出を行うことがで
きる。また、光拡散部４ａは、光ビームがその入射面か
ら正反射するのを防止するので、光ビーム入射側から光
位置検出器上の光ビームを観測する観測者の目を保護す
ることもできる。
【００１５】次に、この発明の第２実施例について説明
する。図４は、この発明の第２実施例である光位置検出
装置の構成を示す断面図である。この図において、ター
ゲット板５は、その受光面５ａに、図示せぬ光ビーム源
から放射され、図４中右方向から入射された光ビームを
受光する。また、ターゲット板５の表面には、ガラス６
が設けられている。このガラス６の表面には、微細な凹
凸加工が施されており、この部分が光拡散部６ａを構成
している。また、カメラ７は、ターゲット板５に近接し
て設けられ、ターゲット板５が受光した光ビームスポッ
ト像を撮影する。カメラ７は、レンズ８、及びＣＣＤ等
の固体撮像素子９等から構成されている。
する。図４は、この発明の第２実施例である光位置検出
装置の構成を示す断面図である。この図において、ター
ゲット板５は、その受光面５ａに、図示せぬ光ビーム源
から放射され、図４中右方向から入射された光ビームを
受光する。また、ターゲット板５の表面には、ガラス６
が設けられている。このガラス６の表面には、微細な凹
凸加工が施されており、この部分が光拡散部６ａを構成
している。また、カメラ７は、ターゲット板５に近接し
て設けられ、ターゲット板５が受光した光ビームスポッ
ト像を撮影する。カメラ７は、レンズ８、及びＣＣＤ等
の固体撮像素子９等から構成されている。
【００１６】上記構成において、この光位置検出器に図
４中右方向から入射された光ビームは、光拡散部６ａに
おいて所定の拡散角で拡散されつつ、ガラス６内を伝搬
され、ターゲット板５の受光面５ａに到達するので、カ
メラ７は、光拡散部６ａによって拡大され、ターゲット
板５の受光面５ａにおいて受光された光ビームスポット
像を撮影する。上記構成によれば、図示せぬ光ビーム源
から放射された光ビームの光ビーム径が小さい場合で
も、安定した光位置検出を行うことができる。また、光
拡散部６ａは、光ビームがその入射面から正反射するの
を防止するので、光ビーム入射側からターゲット板５上
の光ビームを観測する観測者の目を保護することもでき
る。
４中右方向から入射された光ビームは、光拡散部６ａに
おいて所定の拡散角で拡散されつつ、ガラス６内を伝搬
され、ターゲット板５の受光面５ａに到達するので、カ
メラ７は、光拡散部６ａによって拡大され、ターゲット
板５の受光面５ａにおいて受光された光ビームスポット
像を撮影する。上記構成によれば、図示せぬ光ビーム源
から放射された光ビームの光ビーム径が小さい場合で
も、安定した光位置検出を行うことができる。また、光
拡散部６ａは、光ビームがその入射面から正反射するの
を防止するので、光ビーム入射側からターゲット板５上
の光ビームを観測する観測者の目を保護することもでき
る。
【００１７】次に、この発明の第３実施例について説明
する。図５は、この発明の第３実施例である光位置検出
装置の構成を示す断面図である。この図において、図４
の各部に対応した部分には同一の符号を付け、その説明
を省略する。図５に示す光位置検出装置が図４のものと
異なる点は、反射型のターゲット板５に代えて、透光性
のあるターゲット板１０が新たに設けられている点と、
ターゲット板１０の裏面側からターゲット板１０の受光
面１０ａにおいて受光された光ビームスポット像をカメ
ラ７によって撮影する点とである。なお、その他の構成
及び動作については、上述の第２実施例と同様であるの
で、その説明を省略する。この例の構成の構成によれ
ば、上述した第２実施例と同様の効果を得ることができ
る。
する。図５は、この発明の第３実施例である光位置検出
装置の構成を示す断面図である。この図において、図４
の各部に対応した部分には同一の符号を付け、その説明
を省略する。図５に示す光位置検出装置が図４のものと
異なる点は、反射型のターゲット板５に代えて、透光性
のあるターゲット板１０が新たに設けられている点と、
ターゲット板１０の裏面側からターゲット板１０の受光
面１０ａにおいて受光された光ビームスポット像をカメ
ラ７によって撮影する点とである。なお、その他の構成
及び動作については、上述の第２実施例と同様であるの
で、その説明を省略する。この例の構成の構成によれ
ば、上述した第２実施例と同様の効果を得ることができ
る。
【００１８】次に、この発明の第４実施例について説明
する。図６はこの発明の第４実施例である光位置検出装
置の構成を示す断面図である。この図において、図５の
各部に対応した部分には同一の符号を付け、その説明を
省略する。図６に示す光位置検出装置が図５のものと異
なる点は、ガラス６及びターゲット板１０に代えて、表
面及び裏面に微細な凹凸加工が施され、光拡散部１１
ａ，１１ｂが形成されたガラス１１が新たに設けられて
いる点である。これは、ガラス１１の光拡散部１１ａ，
１１ｂは、ターゲット板の役割をも果たすことができる
からである。なお、その他の構成及び動作については、
上述の第２実施例と同様であるので、その説明を省略す
る。この例の構成の構成によっても、上述した第２実施
例と同様の効果を得ることができる。
する。図６はこの発明の第４実施例である光位置検出装
置の構成を示す断面図である。この図において、図５の
各部に対応した部分には同一の符号を付け、その説明を
省略する。図６に示す光位置検出装置が図５のものと異
なる点は、ガラス６及びターゲット板１０に代えて、表
面及び裏面に微細な凹凸加工が施され、光拡散部１１
ａ，１１ｂが形成されたガラス１１が新たに設けられて
いる点である。これは、ガラス１１の光拡散部１１ａ，
１１ｂは、ターゲット板の役割をも果たすことができる
からである。なお、その他の構成及び動作については、
上述の第２実施例と同様であるので、その説明を省略す
る。この例の構成の構成によっても、上述した第２実施
例と同様の効果を得ることができる。
【００１９】以上、この発明の実施例を図面を参照して
詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られる
ものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計
の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、上述
の第１実施例においては、光位置検出器として、入射さ
れた光ビームによって発生する光起電力を利用して光位
置を検出するものを用いた例を示したが、これに限定さ
れず、入射された光ビームによって発生する光導電効果
を利用して光位置を検出する、単一の受光素子や、マト
リックス状に配置された複数の受光素子を用いても良
い。
詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られる
ものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計
の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、上述
の第１実施例においては、光位置検出器として、入射さ
れた光ビームによって発生する光起電力を利用して光位
置を検出するものを用いた例を示したが、これに限定さ
れず、入射された光ビームによって発生する光導電効果
を利用して光位置を検出する、単一の受光素子や、マト
リックス状に配置された複数の受光素子を用いても良
い。
【００２０】また、上述の第１ないし第４実施例におい
て、透明電極２の表面、ターゲット板５の受光面５ａ、
ターゲット板１０の受光面１０ａ、ガラス１１の光拡散
部１１ａ，１１ｂに、図７に示すように、遮光性のマー
クや目盛り等（以下、単に、マークという）１２を設け
ても良い。このマーク１２は、例えば、第１実施例の場
合、図８（ａ）に示すように、受光素子１を枠体１３に
取り付けると共に、ガラス４の裏面４ｂ側に透明な接着
剤１４によってマーク１２を貼付し、そのガラス４を枠
体１３に接着する。図８（ｂ）は、ガラス４のａの部分
の拡大断面図である。
て、透明電極２の表面、ターゲット板５の受光面５ａ、
ターゲット板１０の受光面１０ａ、ガラス１１の光拡散
部１１ａ，１１ｂに、図７に示すように、遮光性のマー
クや目盛り等（以下、単に、マークという）１２を設け
ても良い。このマーク１２は、例えば、第１実施例の場
合、図８（ａ）に示すように、受光素子１を枠体１３に
取り付けると共に、ガラス４の裏面４ｂ側に透明な接着
剤１４によってマーク１２を貼付し、そのガラス４を枠
体１３に接着する。図８（ｂ）は、ガラス４のａの部分
の拡大断面図である。
【００２１】このように構成すれば、目視によっても光
位置を確認することができる。この場合、マーク１２
が、光ビームが受光素子１等に入射されるのを遮ること
になるので、従来のように光ビーム径が小さい場合に
は、その影響を無視できない。特に、光ビーム径がマー
ク１２の幅より小さい場合には、受光素子１等には光ビ
ームが全く入射されないことになる。しかしながら、こ
の発明によれば、光拡散部４ａ等によって受光素子１等
に入射される光ビーム径を拡大しているので、そのよう
な問題は発生しない。なお、マーク１２は、遮光性を有
していなくても良い。さらに、上述の第１ないし第４実
施例においては、光拡散部としてガラスの表面に微細な
凹凸加工を施した例を示したが、これに限定されず、例
えば、ガラス等の透明な部材の表面近傍、あるいは全体
に屈折率の異なる拡散粒子を混入させても良い。要する
に、入射光ビーム径を拡大できれば良い。
位置を確認することができる。この場合、マーク１２
が、光ビームが受光素子１等に入射されるのを遮ること
になるので、従来のように光ビーム径が小さい場合に
は、その影響を無視できない。特に、光ビーム径がマー
ク１２の幅より小さい場合には、受光素子１等には光ビ
ームが全く入射されないことになる。しかしながら、こ
の発明によれば、光拡散部４ａ等によって受光素子１等
に入射される光ビーム径を拡大しているので、そのよう
な問題は発生しない。なお、マーク１２は、遮光性を有
していなくても良い。さらに、上述の第１ないし第４実
施例においては、光拡散部としてガラスの表面に微細な
凹凸加工を施した例を示したが、これに限定されず、例
えば、ガラス等の透明な部材の表面近傍、あるいは全体
に屈折率の異なる拡散粒子を混入させても良い。要する
に、入射光ビーム径を拡大できれば良い。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の光位置
検出装置によれば、光ビーム径が小さい場合でも、正確
に安定した光位置検出ができる。また、光拡散部材は、
光ビームがその入射面から正反射するのを防止するの
で、光ビーム入射側から光位置検出装置やターゲット上
の光ビームを観測する観測者の目を保護することもでき
る。
検出装置によれば、光ビーム径が小さい場合でも、正確
に安定した光位置検出ができる。また、光拡散部材は、
光ビームがその入射面から正反射するのを防止するの
で、光ビーム入射側から光位置検出装置やターゲット上
の光ビームを観測する観測者の目を保護することもでき
る。
【図１】この発明の第１実施例である光位置検出装置に
用いられる光検出器の構成を示す断面図である。
用いられる光検出器の構成を示す断面図である。
【図２】光拡散部における光ビームの拡散例を説明する
ための図である。
ための図である。
【図３】入射光ビーム径と光ビームスポット径との関係
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図４】この発明の第２実施例である光位置検出装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図５】この発明の第３実施例である光位置検出装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図６】この発明の第４実施例である光位置検出装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図７】受光面にマークを設ける場合の一例を示す断面
図である。
図である。
【図８】受光面にマークを設ける場合の一例を示す断面
図である。
図である。
１ 受光素子 ４，６，１１ ガラス（光拡散部材） ４ａ，６ａ，１１ａ，１１ｂ 光拡散部
Claims (3)
- 【請求項１】 受光素子又はターゲットに入射された光
ビームの位置を検出する光位置検出装置において、 前記受光素子又はターゲットの前記光ビームの入射側
に、前記受光素子又はターゲットに入射される前記光ビ
ームの径を拡大する光拡散部材を設けることを特徴とす
る光位置検出装置。 - 【請求項２】 前記光拡散部材の前記光ビームの入射方
向の厚さは、前記受光素子又はターゲットに入射される
前記光ビームの最小径と、前記受光素子又はターゲット
の有効最小光ビームスポット径と、前記光拡散部材内に
おける前記光ビームの拡散角とによって決定されること
を特徴とする請求項１記載の光位置検出装置。 - 【請求項３】 前記光拡散部材は、前記光ビームの入射
側の面に微細な凹凸加工が施されていることを特徴とす
る請求項１又は２記載の光位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20965193A JP3231152B2 (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 光位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20965193A JP3231152B2 (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 光位置検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0763512A true JPH0763512A (ja) | 1995-03-10 |
| JP3231152B2 JP3231152B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=16576339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20965193A Expired - Fee Related JP3231152B2 (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 光位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231152B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002090883A1 (fr) * | 2001-05-07 | 2002-11-14 | Tokimec Construction Systems Inc. | Detecteur de position |
| JP2005222023A (ja) * | 2004-01-06 | 2005-08-18 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像読取方法及び放射線画像読取装置並びに輝尽性蛍光体プレート |
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-
1993
- 1993-08-24 JP JP20965193A patent/JP3231152B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US10444358B2 (en) | 2015-10-09 | 2019-10-15 | Fujitsu Limited | Distance measuring apparatus, distance measuring method, and table creating method |
| US10627493B2 (en) | 2016-01-08 | 2020-04-21 | Fujitsu Limited | Apparatus, method for laser distance measurement, and non-transitory computer-readable storage medium |
| JP2019164172A (ja) * | 2019-07-05 | 2019-09-26 | 富士通株式会社 | 距離測定装置、距離測定方法、距離測定プログラムおよびテーブルの作成方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3231152B2 (ja) | 2001-11-19 |
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