JPH076555Y2 - 水素ペレット入射装置 - Google Patents
水素ペレット入射装置Info
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- JPH076555Y2 JPH076555Y2 JP1989125506U JP12550689U JPH076555Y2 JP H076555 Y2 JPH076555 Y2 JP H076555Y2 JP 1989125506 U JP1989125506 U JP 1989125506U JP 12550689 U JP12550689 U JP 12550689U JP H076555 Y2 JPH076555 Y2 JP H076555Y2
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- buffer tank
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- hydrogen
- gas
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Links
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- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 47
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、核融合分野において使用するものであっ
て、水素ガスを冷却固化して固体水素ペレットを生成
し、それを超高速でプラズマ中に入射させる水素ペレッ
ト入射装置に関するものである。
て、水素ガスを冷却固化して固体水素ペレットを生成
し、それを超高速でプラズマ中に入射させる水素ペレッ
ト入射装置に関するものである。
従来、水素ペレット入射装置としては例えば第２図に示
すようなものが知られている（例えば特開平1-110287号
公報参照）。これは真空容器１と、この真空容器１内に
配置された一対のクライオヘッド2a,2bと、この一対の
クライオヘッド2a,2bの間に配置されるペレットキャリ
アディスク３と、このペレットキャリアディスク３を極
低温に冷却する冷却手段４と、水素ペレット用の水素ガ
スを供給する水素ガス供給手段５と、水素ペレットを発
射する高圧ガス供給手段6aとを有するもので、供給され
た水素ガスが冷却固化されてペレットキャリアディスク
３に水素ペレットが生成され、この水素ペレットが高圧
ガスによって発射され、銃身７に案内されてプラズマ内
に入射されるように構成されたものである。
すようなものが知られている（例えば特開平1-110287号
公報参照）。これは真空容器１と、この真空容器１内に
配置された一対のクライオヘッド2a,2bと、この一対の
クライオヘッド2a,2bの間に配置されるペレットキャリ
アディスク３と、このペレットキャリアディスク３を極
低温に冷却する冷却手段４と、水素ペレット用の水素ガ
スを供給する水素ガス供給手段５と、水素ペレットを発
射する高圧ガス供給手段6aとを有するもので、供給され
た水素ガスが冷却固化されてペレットキャリアディスク
３に水素ペレットが生成され、この水素ペレットが高圧
ガスによって発射され、銃身７に案内されてプラズマ内
に入射されるように構成されたものである。
上記高圧ガス供給手段6aは、第３図に示すように上記ペ
レットキャリアディスク３の水素ペレット生成穴と対応
して６つの高圧ガス導入管路61aと、この高圧ガス導入
管路61aに高圧ガスを供給するガスボンベ62とから基本
構成されている。上記高圧ガス導入管路61aには上流側
から圧力設定用開閉弁63と、バッファタンク64と、この
バッファタンク64内の高圧ガスをペレットキャリアディ
スク３に射出する高速電磁弁65とが設けられ、上記圧力
設定用開閉弁63はバッファタンク64に接続された圧力検
出器641からの信号によって開閉が行われるように構成
されている。
レットキャリアディスク３の水素ペレット生成穴と対応
して６つの高圧ガス導入管路61aと、この高圧ガス導入
管路61aに高圧ガスを供給するガスボンベ62とから基本
構成されている。上記高圧ガス導入管路61aには上流側
から圧力設定用開閉弁63と、バッファタンク64と、この
バッファタンク64内の高圧ガスをペレットキャリアディ
スク３に射出する高速電磁弁65とが設けられ、上記圧力
設定用開閉弁63はバッファタンク64に接続された圧力検
出器641からの信号によって開閉が行われるように構成
されている。
したがって上記バッファタンク64には開閉弁63が開かれ
ることにより高圧ガスがガスボンベ62から注入され、バ
ッファタンク64の内圧が設定圧力に達することにより圧
力検出器641から上記開閉弁63に閉信号が発せられ、こ
れによりこの開閉弁63は自動的に閉じられる。
ることにより高圧ガスがガスボンベ62から注入され、バ
ッファタンク64の内圧が設定圧力に達することにより圧
力検出器641から上記開閉弁63に閉信号が発せられ、こ
れによりこの開閉弁63は自動的に閉じられる。
上記従来の水素ペレット入射装置においては、ガスボン
ベ62と、バッファタンク64との圧力差が比較的大きいた
めに、圧力設定用開閉弁63を開くとバッファタンク64内
の圧力が急速に上昇する。このためバッファタンク64の
内圧が設定圧力に達してから上記開閉弁63が閉じられる
までのわずかな時間にも、高圧ガスがこの開閉弁63を通
してバッファタンク64内に流入してしまうおそれがあ
る。この流入ガスによってバッファタンク64の内圧が設
定圧力より上昇すると、水素ペレット射出用ガスの圧力
設定を精度よく行うことができないことになる。この場
合には、水素ペレットを所定速度でプラズマへ入射させ
ることができず、上記プラズマ粒子の制御精度を上げる
ことができないという問題が生じる。
ベ62と、バッファタンク64との圧力差が比較的大きいた
めに、圧力設定用開閉弁63を開くとバッファタンク64内
の圧力が急速に上昇する。このためバッファタンク64の
内圧が設定圧力に達してから上記開閉弁63が閉じられる
までのわずかな時間にも、高圧ガスがこの開閉弁63を通
してバッファタンク64内に流入してしまうおそれがあ
る。この流入ガスによってバッファタンク64の内圧が設
定圧力より上昇すると、水素ペレット射出用ガスの圧力
設定を精度よく行うことができないことになる。この場
合には、水素ペレットを所定速度でプラズマへ入射させ
ることができず、上記プラズマ粒子の制御精度を上げる
ことができないという問題が生じる。
この考案は、このような従来の問題を解決するためにな
されたものであり、水素ペレット射出用ガスの圧力設定
を従来より精度よく行うことができる水素ペレット入射
装置を提供することを目的としている。
されたものであり、水素ペレット射出用ガスの圧力設定
を従来より精度よく行うことができる水素ペレット入射
装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、この考案の請求項１では、
水素ペレット生成用ディスクと、このディスクに水素ペ
レット射出用の高圧ガスを供給する高圧ガス供給手段と
を有する水素ペレット入射装置において、上記高圧ガス
供給手段は高圧ガス源と、高圧ガスを蓄圧するバッファ
タンクと、上記高圧ガス源からの高圧ガスを上記バッフ
ァタンクに導入する導入管路と、この導入管路のバッフ
ァタンク側に設けられた開閉弁と、上記導入管路の高圧
ガス源側に設けられた開閉弁と、上記バッファタンク内
の圧力と上記一対の開閉弁間の導入管路内圧力との圧力
差が設定値より大きい時に上記ガス源側開閉弁を閉状
態、上記圧力差が設定値より小さい時に上記ガス源側開
閉弁を開状態にそれぞれ作動させる制御器と、上記バッ
ファタンク内の高圧ガスを上記ディスクに対して解放す
る高速開閉弁とを有しているように構成した。
水素ペレット生成用ディスクと、このディスクに水素ペ
レット射出用の高圧ガスを供給する高圧ガス供給手段と
を有する水素ペレット入射装置において、上記高圧ガス
供給手段は高圧ガス源と、高圧ガスを蓄圧するバッファ
タンクと、上記高圧ガス源からの高圧ガスを上記バッフ
ァタンクに導入する導入管路と、この導入管路のバッフ
ァタンク側に設けられた開閉弁と、上記導入管路の高圧
ガス源側に設けられた開閉弁と、上記バッファタンク内
の圧力と上記一対の開閉弁間の導入管路内圧力との圧力
差が設定値より大きい時に上記ガス源側開閉弁を閉状
態、上記圧力差が設定値より小さい時に上記ガス源側開
閉弁を開状態にそれぞれ作動させる制御器と、上記バッ
ファタンク内の高圧ガスを上記ディスクに対して解放す
る高速開閉弁とを有しているように構成した。
また請求項２では、バッファタンク側に設けられる開閉
弁として、弁の開作動により微小間隔で開閉を繰返す開
閉弁が用いられているように構成した。
弁として、弁の開作動により微小間隔で開閉を繰返す開
閉弁が用いられているように構成した。
上記請求項１の構成によれば、バッファタンク側開閉弁
の出口側であるバッファタンク内の圧力と、入口側であ
る一対の開閉弁間の導入管路内圧力との圧力差が設定値
より小さくなり、これによりバッファタンクの圧力上昇
速度が比較的遅くなり、上記開閉弁の閉動作に伴うバッ
ファタンク内へのガスの流入が少なくなる。
の出口側であるバッファタンク内の圧力と、入口側であ
る一対の開閉弁間の導入管路内圧力との圧力差が設定値
より小さくなり、これによりバッファタンクの圧力上昇
速度が比較的遅くなり、上記開閉弁の閉動作に伴うバッ
ファタンク内へのガスの流入が少なくなる。
また請求項２の構成によれば、上記請求項１による作用
に加え、ガスボンベから高圧ガスを注入する際に、バッ
ファタンク側開閉弁が常時開状態ではなく微小間隔で開
閉を繰返しているために、バッファタンク内圧は徐々に
上昇され、上記請求項１よりもさらに圧力上昇速度が遅
くなる。
に加え、ガスボンベから高圧ガスを注入する際に、バッ
ファタンク側開閉弁が常時開状態ではなく微小間隔で開
閉を繰返しているために、バッファタンク内圧は徐々に
上昇され、上記請求項１よりもさらに圧力上昇速度が遅
くなる。
この考案による実施例は、第２図および第３図に示す従
来装置とは高圧ガス供給手段の構成が異なるもので、他
の構成は基本的に上記従来装置と同様に構成されてい
る。すなわち第２図において、水素ペレット入射装置
は、真空容器１と、この真空容器１内に配置された一対
のクライオヘッド2a,2bと、この一対のクライオヘッド2
a,2bの間に配置されるペレットキャリアディスク３と、
このペレットキャリアディスク３を極低温に冷却する冷
却手段４と、水素ペレット用の水素ガスを供給する水素
ガス供給手段５と、水素ペレットを発射する高圧ガス供
給手段６と、生成された水素ペレットをプラズマに案内
する銃身７とによって基本構成されている。
来装置とは高圧ガス供給手段の構成が異なるもので、他
の構成は基本的に上記従来装置と同様に構成されてい
る。すなわち第２図において、水素ペレット入射装置
は、真空容器１と、この真空容器１内に配置された一対
のクライオヘッド2a,2bと、この一対のクライオヘッド2
a,2bの間に配置されるペレットキャリアディスク３と、
このペレットキャリアディスク３を極低温に冷却する冷
却手段４と、水素ペレット用の水素ガスを供給する水素
ガス供給手段５と、水素ペレットを発射する高圧ガス供
給手段６と、生成された水素ペレットをプラズマに案内
する銃身７とによって基本構成されている。
上記真空容器１の内部には円筒状のクライオジェニック
ハウジング20が配置され、このクライオジェニックハウ
ジング20の一端面には第１のクライオヘッド2aが形成さ
れている。また上記クライオジェニックハウジング20の
内部には、第２のクライオヘッド2bが上記第１のクライ
オヘッド2aと相対向して配置され、両者の間にペレット
キャリアディスク３が水平軸回りに回転可能に介在され
ている。
ハウジング20が配置され、このクライオジェニックハウ
ジング20の一端面には第１のクライオヘッド2aが形成さ
れている。また上記クライオジェニックハウジング20の
内部には、第２のクライオヘッド2bが上記第１のクライ
オヘッド2aと相対向して配置され、両者の間にペレット
キャリアディスク３が水平軸回りに回転可能に介在され
ている。
上記一対のクライオヘッド2a,2bには、冷却手段４の寒
材供給管路41の下流端が接続され、この寒材供給管路41
によって液体ヘリウム（LHe）などの寒材が供給され、
これによって上記クライオヘッド2a,2bは所定の極低温
まで冷却される。そしてペレットキャリアディスク３
は、このペレットキャリアディスク３の両面が上記一対
のクライオヘッド2a,2bと圧着することにより冷却され
る。
材供給管路41の下流端が接続され、この寒材供給管路41
によって液体ヘリウム（LHe）などの寒材が供給され、
これによって上記クライオヘッド2a,2bは所定の極低温
まで冷却される。そしてペレットキャリアディスク３
は、このペレットキャリアディスク３の両面が上記一対
のクライオヘッド2a,2bと圧着することにより冷却され
る。
上記ペレットキャリアディスク３には図示しない６つの
ペレット生成穴が同一円軌跡上に形成され、このペレッ
ト生成穴に対向して水素ガス供給手段５からの６つの水
素ガス導入管路51が導かれている。第１のクライオヘッ
ド2aには高圧ガス供給手段６から高圧ガスが導入される
６つの導入管路61の下流端が接続され、また第２のクラ
イオヘッド2bには水素ペレットを核融合プラズマ実験装
置に入射させる６つの銃身７が接続され、上記導入管路
61と銃身７とはペレットキャリアディスク３を回転させ
ることによりその水素ペレット生成穴と相対向するよう
に配置されている。
ペレット生成穴が同一円軌跡上に形成され、このペレッ
ト生成穴に対向して水素ガス供給手段５からの６つの水
素ガス導入管路51が導かれている。第１のクライオヘッ
ド2aには高圧ガス供給手段６から高圧ガスが導入される
６つの導入管路61の下流端が接続され、また第２のクラ
イオヘッド2bには水素ペレットを核融合プラズマ実験装
置に入射させる６つの銃身７が接続され、上記導入管路
61と銃身７とはペレットキャリアディスク３を回転させ
ることによりその水素ペレット生成穴と相対向するよう
に配置されている。
高圧ガス供給手段６は、第１図に示すようにガスボンベ
（高圧ガス源）62と、このガスボンベ62に上流端が接続
された供給管路60と、この供給管路60の下流端から分岐
した６つの導入管路61と、この導入管路61に設けられた
バッファタンク64と、このバッファタンク64の上流側に
設けられたバッファタンク側開閉弁63と、上記バッファ
タンク64の下流側に設けられた高速電磁弁65と、上記供
給管路60に設けられたガスボンベ側開閉弁66と、この開
閉弁の開閉を制御する制御器67とから構成されている。
（高圧ガス源）62と、このガスボンベ62に上流端が接続
された供給管路60と、この供給管路60の下流端から分岐
した６つの導入管路61と、この導入管路61に設けられた
バッファタンク64と、このバッファタンク64の上流側に
設けられたバッファタンク側開閉弁63と、上記バッファ
タンク64の下流側に設けられた高速電磁弁65と、上記供
給管路60に設けられたガスボンベ側開閉弁66と、この開
閉弁の開閉を制御する制御器67とから構成されている。
上記バッファタンク64には圧力検出器641が接続され、
上記バッファタンク側開閉弁63はこの圧力検出器641か
らの信号によってその開閉が行われる。この圧力検出器
641は、バッファタンク64の内圧が所定の計画値に達す
ることにより上記バッファタンク側開閉弁63に閉作動信
号を発するように上記開閉弁63と接続されている。
上記バッファタンク側開閉弁63はこの圧力検出器641か
らの信号によってその開閉が行われる。この圧力検出器
641は、バッファタンク64の内圧が所定の計画値に達す
ることにより上記バッファタンク側開閉弁63に閉作動信
号を発するように上記開閉弁63と接続されている。
制御器67は、ガスボンベ側開閉弁66の下流側に接続され
た圧力検出器601からの圧力検出値（一対の開閉弁63,66
間の管路60,61の内部圧力値）と、バッファタンク64の
圧力検出器641からの圧力検出値（バッファタンクの内
部圧力値）とに基づいて上記ガスボンベ側開閉弁66の開
閉制御を行うように構成されている。すなわち上記制御
器67は、最小値選択器671と、演算器672と、比較器673
とからなり、これらの機器671,672,673は次のように作
動する。
た圧力検出器601からの圧力検出値（一対の開閉弁63,66
間の管路60,61の内部圧力値）と、バッファタンク64の
圧力検出器641からの圧力検出値（バッファタンクの内
部圧力値）とに基づいて上記ガスボンベ側開閉弁66の開
閉制御を行うように構成されている。すなわち上記制御
器67は、最小値選択器671と、演算器672と、比較器673
とからなり、これらの機器671,672,673は次のように作
動する。
最小値選択器671は、バッファタンク64側の６つの圧力
検出器641と互いに接続され、この圧力検出器641から入
力される検出値のうち所定の計画値に達していないもの
の最小値を選択してその最小値を演算器672に入力す
る。演算器672は圧力検出器601と互いに接続され、この
圧力検出器601から入力された検出値より上記最小値を
減算し、この減算値を比較器673に入力する。そして比
較器673は、この比較器673にあらかじめ設定された設定
値と上記減算値とを比較し、減算値が上記設定値より大
きいときにガスボンベ側開閉弁66に閉作動信号を発し、
減算値が設定値より小さいときに上記開閉弁66に開作動
信号を発する。
検出器641と互いに接続され、この圧力検出器641から入
力される検出値のうち所定の計画値に達していないもの
の最小値を選択してその最小値を演算器672に入力す
る。演算器672は圧力検出器601と互いに接続され、この
圧力検出器601から入力された検出値より上記最小値を
減算し、この減算値を比較器673に入力する。そして比
較器673は、この比較器673にあらかじめ設定された設定
値と上記減算値とを比較し、減算値が上記設定値より大
きいときにガスボンベ側開閉弁66に閉作動信号を発し、
減算値が設定値より小さいときに上記開閉弁66に開作動
信号を発する。
上記構成の水素ペレット入射装置においては、第１およ
び第２のクライオヘッド2a,2bは冷却手段４から供給さ
れたLHeによって極低温まで冷却され、このクライオヘ
ッド2a,2bによってペレットキャリアディスク３が冷却
される。これによって水素ガス供給管路51を通して水素
ペレット生成穴に供給された水素ガスは冷却固化され、
水素ペレットが生成される。
び第２のクライオヘッド2a,2bは冷却手段４から供給さ
れたLHeによって極低温まで冷却され、このクライオヘ
ッド2a,2bによってペレットキャリアディスク３が冷却
される。これによって水素ガス供給管路51を通して水素
ペレット生成穴に供給された水素ガスは冷却固化され、
水素ペレットが生成される。
つぎに、上記ペレットキャリアディスク３を回転操作す
ることにより、上記水素ペレット生成穴は高圧ガスの導
入管路61と銃身７とに合わされる。この状態で高圧ガス
供給手段６の高速電磁弁65を瞬間的に順次開くことによ
り高圧ガスを射出ガスとして導入し、この射出ガスによ
り上記水素ペレット生成穴内の水素ペレットが銃身７に
連続的に射出される。そしてこの水素ペレットは銃身７
内で加速されてプラズマに上記射出ガス圧力に応じた速
度で入射される。
ることにより、上記水素ペレット生成穴は高圧ガスの導
入管路61と銃身７とに合わされる。この状態で高圧ガス
供給手段６の高速電磁弁65を瞬間的に順次開くことによ
り高圧ガスを射出ガスとして導入し、この射出ガスによ
り上記水素ペレット生成穴内の水素ペレットが銃身７に
連続的に射出される。そしてこの水素ペレットは銃身７
内で加速されてプラズマに上記射出ガス圧力に応じた速
度で入射される。
上記射出ガスとしての高圧ガスの導入手順を、次に説明
する。まず、バッファタンク側開閉弁63およびガスボン
ベ側開閉弁66を開設定することにより、ガスボンベ62の
高圧ガスがバッファタンク64に注入される。制御器67で
は、最小値選択器671で圧力検出器641からの６つの検出
値の内の所定の計画値に達していないものの最小値が選
択され、演算器672で圧力検出器601からの検出値から上
記最小値が減算され、比較器673で減算値と設定値とが
比較される。
する。まず、バッファタンク側開閉弁63およびガスボン
ベ側開閉弁66を開設定することにより、ガスボンベ62の
高圧ガスがバッファタンク64に注入される。制御器67で
は、最小値選択器671で圧力検出器641からの６つの検出
値の内の所定の計画値に達していないものの最小値が選
択され、演算器672で圧力検出器601からの検出値から上
記最小値が減算され、比較器673で減算値と設定値とが
比較される。
上記比較器673での比較の結果、上記減算値が設定値よ
り大きいとき、すなわちバッファタンク側開閉弁63の出
口側（低圧側）である圧力検出器641と入口側（高圧
側）である圧力検出器601との圧力差が上記設定値より
大きいときにはガスボンベ側開閉弁66に閉作動信号が発
せられ、この開閉弁66は閉状態となる。これによりガス
ボンベ62からの高圧ガスの供給が停止され、このために
上記圧力差はガスボンベ62から高圧ガスが供給されてい
たときよりも小さくなる。
り大きいとき、すなわちバッファタンク側開閉弁63の出
口側（低圧側）である圧力検出器641と入口側（高圧
側）である圧力検出器601との圧力差が上記設定値より
大きいときにはガスボンベ側開閉弁66に閉作動信号が発
せられ、この開閉弁66は閉状態となる。これによりガス
ボンベ62からの高圧ガスの供給が停止され、このために
上記圧力差はガスボンベ62から高圧ガスが供給されてい
たときよりも小さくなる。
また上記減算値が設定値より小さいとき、すなわちバッ
ファタンク側開閉弁63の出口側と入口側との圧力差が上
記設定値より小さいときにはガスボンベ側開閉弁66に開
作動信号が発せられ、この開閉弁66は開状態となる。こ
れによりガスボンベ62からの高圧ガスが供給され、この
ために上記圧力差は拡大化傾向となる。そしてこの圧力
差が上記設定値よりも大きくなると、上記ガスボンベ側
開閉弁66は比較器673によって閉作動されることにな
る。
ファタンク側開閉弁63の出口側と入口側との圧力差が上
記設定値より小さいときにはガスボンベ側開閉弁66に開
作動信号が発せられ、この開閉弁66は開状態となる。こ
れによりガスボンベ62からの高圧ガスが供給され、この
ために上記圧力差は拡大化傾向となる。そしてこの圧力
差が上記設定値よりも大きくなると、上記ガスボンベ側
開閉弁66は比較器673によって閉作動されることにな
る。
バッファタンク64の内部圧力が所定の計画値に達するこ
とにより、圧力検出器641の検出信号に基づいてバッフ
ァタンク側開閉弁63が閉じられる。この後、高速電磁弁
65が開操作されることにより、上記計画圧力を有する高
圧ガスが水素ペレットの射出ガスとしてペレットキャリ
アディスク３に導入される。
とにより、圧力検出器641の検出信号に基づいてバッフ
ァタンク側開閉弁63が閉じられる。この後、高速電磁弁
65が開操作されることにより、上記計画圧力を有する高
圧ガスが水素ペレットの射出ガスとしてペレットキャリ
アディスク３に導入される。
このように高圧ガス供給手段６では、ガスボンベ側開閉
弁66の開閉制御を行うことにより、バッファタンク側開
閉弁63の入口側と出口側との圧力差の最大値が一定値に
制限され、これによりバッファタンク64の圧力上昇速度
を比較的遅くすることができる。このためバッファタン
ク64の内部圧力が上記計画値に達してから上記バッファ
タンク側開閉弁63が閉状態に移行するわずかな時間にバ
ッファタンク64へ流入するガスが一定量以下に抑制する
ことができる。したがってバッファタンク64内の圧力を
所定の計画値に上記制御を行わない場合よりも近付ける
ことができ、これにより射出ガスの圧力設定を従来装置
よりも精度よく行うことができる。
弁66の開閉制御を行うことにより、バッファタンク側開
閉弁63の入口側と出口側との圧力差の最大値が一定値に
制限され、これによりバッファタンク64の圧力上昇速度
を比較的遅くすることができる。このためバッファタン
ク64の内部圧力が上記計画値に達してから上記バッファ
タンク側開閉弁63が閉状態に移行するわずかな時間にバ
ッファタンク64へ流入するガスが一定量以下に抑制する
ことができる。したがってバッファタンク64内の圧力を
所定の計画値に上記制御を行わない場合よりも近付ける
ことができ、これにより射出ガスの圧力設定を従来装置
よりも精度よく行うことができる。
第２実施例としては、図示しないが上記第１実施例にお
けるバッファタンク側開閉弁63の構成を変化させたもの
が提案される。すなわちこの第２実施例では、バッファ
タンク側開閉弁として、弁の開作動状態において例えば
パルス列信号に基づいて微小間隔で開閉動作を繰返すよ
うに構成された開閉弁を用い、この開閉弁が圧力検出器
641（第１図参照）の検出信号によって閉作動されるよ
うにしている。
けるバッファタンク側開閉弁63の構成を変化させたもの
が提案される。すなわちこの第２実施例では、バッファ
タンク側開閉弁として、弁の開作動状態において例えば
パルス列信号に基づいて微小間隔で開閉動作を繰返すよ
うに構成された開閉弁を用い、この開閉弁が圧力検出器
641（第１図参照）の検出信号によって閉作動されるよ
うにしている。
この第２実施例によれば、バッファタンクへのガス注入
時に上記バッファタンク側開閉弁が開作動設定されて
も、この開閉弁はわずかな間隔で開閉動作を繰返すため
に、バッファタンクの圧力上昇速度を開閉弁が常時開状
態に保たれている第１実施例よりも遅くすることができ
る。このため、バッファタンク圧力が計画値に達してか
ら上記バッファタンク側開閉弁が閉状態へ移行するわず
かな時間にバッファタンク64へ流入する高圧ガスを第１
実施例よりも少なくすることができ、これにより射出ガ
スの圧力設定を第１実施例よりも精度よく行うことがで
きる。
時に上記バッファタンク側開閉弁が開作動設定されて
も、この開閉弁はわずかな間隔で開閉動作を繰返すため
に、バッファタンクの圧力上昇速度を開閉弁が常時開状
態に保たれている第１実施例よりも遅くすることができ
る。このため、バッファタンク圧力が計画値に達してか
ら上記バッファタンク側開閉弁が閉状態へ移行するわず
かな時間にバッファタンク64へ流入する高圧ガスを第１
実施例よりも少なくすることができ、これにより射出ガ
スの圧力設定を第１実施例よりも精度よく行うことがで
きる。
なお上記第１および第２の実施例においては、制御器67
を最小値選択器671と演算器672と673とによって構成し
ているが、これに限らず、同様な作動を行うものであれ
ば他の機器の組合せによって制御器を構成してもよい。
を最小値選択器671と演算器672と673とによって構成し
ているが、これに限らず、同様な作動を行うものであれ
ば他の機器の組合せによって制御器を構成してもよい。
また上記第１および第２の実施例では、ペレットキャリ
アディスクに６つの水素ペレット生成穴が形成されてい
る例を示したが、これに限らず、例えば単発式の水素ペ
レット入射装置にこの考案を適用してもよい。この場合
には、最小値選択器671（第１図参照）を省略して圧力
検出器641での検出値を演算器に直接入力させるように
制御器を構成すればよい。
アディスクに６つの水素ペレット生成穴が形成されてい
る例を示したが、これに限らず、例えば単発式の水素ペ
レット入射装置にこの考案を適用してもよい。この場合
には、最小値選択器671（第１図参照）を省略して圧力
検出器641での検出値を演算器に直接入力させるように
制御器を構成すればよい。
以上説明したように、この考案の請求項１によれば、バ
ッファタンク側開閉弁の入口側と出口側との圧力差が設
定値以下に制御され、これによりバッファタンクの圧力
上昇速度を比較的遅くすることができる。このためバッ
ファタンクの内部圧力が所定の計画値に達してから上記
バッファタンク側開閉弁が閉状態に移行するわずかな時
間にバッファタンクへ流入するガスを一定量以下に抑制
することができる。したがってバッファタンク内の圧力
を所定の計画値に上記制御を行わない場合よりも近付け
ることができ、これにより射出ガスの圧力設定を従来装
置よりも精度よく行うことができる。
ッファタンク側開閉弁の入口側と出口側との圧力差が設
定値以下に制御され、これによりバッファタンクの圧力
上昇速度を比較的遅くすることができる。このためバッ
ファタンクの内部圧力が所定の計画値に達してから上記
バッファタンク側開閉弁が閉状態に移行するわずかな時
間にバッファタンクへ流入するガスを一定量以下に抑制
することができる。したがってバッファタンク内の圧力
を所定の計画値に上記制御を行わない場合よりも近付け
ることができ、これにより射出ガスの圧力設定を従来装
置よりも精度よく行うことができる。
また請求項２の構成によれば、上記請求項１による作用
に加え、ガスボンベから高圧ガスを注入する際に、上記
バッファタンク側開閉弁が常時開状態ではなく微小間隔
で開閉を繰返しているために、バッファタンクの圧力上
昇速度が上記請求項１の構成よりも遅くすることがで
き、これにより射出ガスの圧力設定を請求項１よりもさ
らに精度よく行うことができる。
に加え、ガスボンベから高圧ガスを注入する際に、上記
バッファタンク側開閉弁が常時開状態ではなく微小間隔
で開閉を繰返しているために、バッファタンクの圧力上
昇速度が上記請求項１の構成よりも遅くすることがで
き、これにより射出ガスの圧力設定を請求項１よりもさ
らに精度よく行うことができる。
第１図はこの考案の実施例の要部を示す説明図、第２図
は実施例と従来例との全体構成を示す説明図、第３図は
従来の水素ペレット入射装置の要部を示す説明図であ
る。 ３……ペレットキャリアディスク、６……高圧ガス供給
手段、60……供給管路、61……導入管路、62……ガスボ
ンベ、63……バッファタンク側開閉弁、64……バッファ
タンク、65……高速電磁弁、66……ガスボンベ側開閉
弁、67……制御器、601……圧力検出器、641……圧力検
出器。
は実施例と従来例との全体構成を示す説明図、第３図は
従来の水素ペレット入射装置の要部を示す説明図であ
る。 ３……ペレットキャリアディスク、６……高圧ガス供給
手段、60……供給管路、61……導入管路、62……ガスボ
ンベ、63……バッファタンク側開閉弁、64……バッファ
タンク、65……高速電磁弁、66……ガスボンベ側開閉
弁、67……制御器、601……圧力検出器、641……圧力検
出器。
Claims (2)
- 【請求項１】水素ペレット生成用ディスクと、このディ
スクに水素ペレット射出用の高圧ガスを供給する高圧ガ
ス供給手段とを有する水素ペレット入射装置において、
上記高圧ガス供給手段は高圧ガス源と、高圧ガスを蓄圧
するバッファタンクと、上記高圧ガス源からの高圧ガス
を上記バッファタンクに導入する導入管路と、この導入
管路のバッファタンク側に設けられた開閉弁と、上記導
入管路の高圧ガス源側に設けられた開閉弁と、上記バッ
ファタンク内の圧力と上記一対の開閉弁間の導入管路内
圧力との圧力差が設定値より大きい時に上記ガス源側開
閉弁を閉状態、上記圧力差が設定値より小さい時に上記
ガス源側開閉弁を開状態にそれぞれ作動させる制御器
と、上記バッファタンク内の高圧ガスを上記ディスクに
対して解放する高速開閉弁とを有していることを特徴と
する水素ペレット入射装置。 - 【請求項２】バッファタンク側に設けられる開閉弁とし
て、弁の開作動により微小間隔で開閉を繰返す開閉弁が
用いられていることを特徴とする請求項１記載の水素ペ
レット入射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989125506U JPH076555Y2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 水素ペレット入射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989125506U JPH076555Y2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 水素ペレット入射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0363897U JPH0363897U (ja) | 1991-06-21 |
| JPH076555Y2 true JPH076555Y2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=31673374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989125506U Expired - Lifetime JPH076555Y2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 水素ペレット入射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076555Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4319420B2 (ja) | 2003-02-04 | 2009-08-26 | Ｓｒｉスポーツ株式会社 | ゴルフクラブヘッド及びゴルフクラブ |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP1989125506U patent/JPH076555Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0363897U (ja) | 1991-06-21 |
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