JPH0766479A - 高繰返しパルスレーザ発振装置 - Google Patents
高繰返しパルスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH0766479A JPH0766479A JP20909393A JP20909393A JPH0766479A JP H0766479 A JPH0766479 A JP H0766479A JP 20909393 A JP20909393 A JP 20909393A JP 20909393 A JP20909393 A JP 20909393A JP H0766479 A JPH0766479 A JP H0766479A
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- pulse laser
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 レーザガス流１中にレーザガス流１の方向と
放電方向が直交するように一対の主放電電極２が配設さ
れ、主放電電極２の上流側及び下流側に予備電離紫外線
発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生用ピン６
がそれぞれ配設され、上流側の予備電離紫外線発生部５
の近傍と主放電電極２の間に形成される主放電空間３の
下流側とをガスバイパス流路１１で接続した高繰返しパ
ルスレーザ発振装置。 【効果】 レーザガスの分解生成物が主放電空間３に流
入しにくくなり、レーザ出力が安定化する。
放電方向が直交するように一対の主放電電極２が配設さ
れ、主放電電極２の上流側及び下流側に予備電離紫外線
発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生用ピン６
がそれぞれ配設され、上流側の予備電離紫外線発生部５
の近傍と主放電電極２の間に形成される主放電空間３の
下流側とをガスバイパス流路１１で接続した高繰返しパ
ルスレーザ発振装置。 【効果】 レーザガスの分解生成物が主放電空間３に流
入しにくくなり、レーザ出力が安定化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、予備電離電極の放電に
よって主放電空間のレーザガスを予備電離し、パルス電
圧を印加して所望のレーザ出力を得る高繰返しパルスレ
ーザ発振装置に関する。
よって主放電空間のレーザガスを予備電離し、パルス電
圧を印加して所望のレーザ出力を得る高繰返しパルスレ
ーザ発振装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガスを媒介としたパルス発振方式の高繰
返しパルスレーザ発振装置は、一対の主放電電極をレー
ザガス中に配設し、この主放電電極間にパルス状の波形
の電圧を印加して、一対の主放電電極の間に形成される
主放電空間のレーザガスを励起する励起方式が一般的で
ある。
返しパルスレーザ発振装置は、一対の主放電電極をレー
ザガス中に配設し、この主放電電極間にパルス状の波形
の電圧を印加して、一対の主放電電極の間に形成される
主放電空間のレーザガスを励起する励起方式が一般的で
ある。
【０００３】従来の高繰返しパルスレーザ発振装置を図
４を参照して説明する。図４に示すように、レーザガス
流１中にこのレーザガス流１の方向と放電方向が直交す
るように一対の主放電電極２、２が配設されている。主
放電電極２、２の間には主放電空間３が形成され、主放
電電極２、２の上流側及び下流側には、主放電電極２、
２と電気的に並列接続されたコンデンサ群がそれぞれ配
設されている。コンデンサ群は複数のコンデンサ４によ
って構成されており、コンデンサ４には予備電離紫外線
発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生用ピン６
がそれぞれ配設されている。主放電電極２、２、コンデ
ンサ４及び予備電離紫外線発生用ピン６は、放電部７を
構成する。放電部７にはパルス電源８が電気的に接続さ
れており、放電部７はチャンバー９内に収納されてい
る。チャンバー９には循環用ファン１０が収納されてお
り、循環用ファン１０によって放電部７内のレーザガス
流１が制御される。
４を参照して説明する。図４に示すように、レーザガス
流１中にこのレーザガス流１の方向と放電方向が直交す
るように一対の主放電電極２、２が配設されている。主
放電電極２、２の間には主放電空間３が形成され、主放
電電極２、２の上流側及び下流側には、主放電電極２、
２と電気的に並列接続されたコンデンサ群がそれぞれ配
設されている。コンデンサ群は複数のコンデンサ４によ
って構成されており、コンデンサ４には予備電離紫外線
発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生用ピン６
がそれぞれ配設されている。主放電電極２、２、コンデ
ンサ４及び予備電離紫外線発生用ピン６は、放電部７を
構成する。放電部７にはパルス電源８が電気的に接続さ
れており、放電部７はチャンバー９内に収納されてい
る。チャンバー９には循環用ファン１０が収納されてお
り、循環用ファン１０によって放電部７内のレーザガス
流１が制御される。
【０００４】放電部７にパルス電源８から電圧が印加さ
れると、予備電離紫外線発生用ピン６間に形成される予
備電離紫外線発生部５でスパーク放電が起こり、紫外線
が主放電空間３に照射される。この紫外線は主放電電極
２、２の側面から主放電空間３に照射され、主放電空間
３のレーザガスを予備電離状態とする。さらに、充電さ
れたコンデンサ４から、パルス電圧が主放電電極２、２
に印加されて主放電電極２間で放電が起こり、主放電空
間３がグロー放電状態となって主放電空間３のレーザガ
スが励起され所望のレーザ出力が得られる。
れると、予備電離紫外線発生用ピン６間に形成される予
備電離紫外線発生部５でスパーク放電が起こり、紫外線
が主放電空間３に照射される。この紫外線は主放電電極
２、２の側面から主放電空間３に照射され、主放電空間
３のレーザガスを予備電離状態とする。さらに、充電さ
れたコンデンサ４から、パルス電圧が主放電電極２、２
に印加されて主放電電極２間で放電が起こり、主放電空
間３がグロー放電状態となって主放電空間３のレーザガ
スが励起され所望のレーザ出力が得られる。
【０００５】このような高繰返しパルスレーザ発振装置
においては、主放電電極２、２の上流側及び下流側に予
備電離紫外線発生用ピン６を配設し、主放電空間３の両
側から均一な紫外線を照射するように構成している。レ
ーザ出力を安定化するためには主放電空間３で点弧され
るグロー放電を安定化する必要があり、主放電空間３に
照射される紫外線を均一化しなければならない。
においては、主放電電極２、２の上流側及び下流側に予
備電離紫外線発生用ピン６を配設し、主放電空間３の両
側から均一な紫外線を照射するように構成している。レ
ーザ出力を安定化するためには主放電空間３で点弧され
るグロー放電を安定化する必要があり、主放電空間３に
照射される紫外線を均一化しなければならない。
【０００６】しかしながら、このような構成の従来の高
繰返しパルスレーザ発振装置においては、予備電離紫外
線発生用ピン６間のスパーク放電によって予備電離紫外
線発生部５でレーザガスが分解すると、主放電電極２、
２の上流側にも予備電離紫外線発生用ピン６が配設され
ているため、分解生成物が主放電空間３に流入してしま
い、この分解生成物によって高繰返し運転時に安定した
グロー放電を点弧することができなくなるという問題が
あった。
繰返しパルスレーザ発振装置においては、予備電離紫外
線発生用ピン６間のスパーク放電によって予備電離紫外
線発生部５でレーザガスが分解すると、主放電電極２、
２の上流側にも予備電離紫外線発生用ピン６が配設され
ているため、分解生成物が主放電空間３に流入してしま
い、この分解生成物によって高繰返し運転時に安定した
グロー放電を点弧することができなくなるという問題が
あった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
高繰返しパルスレーザ発振装置では、予備電離紫外線発
生部で生成したレーザガスの分解生成物が主放電空間に
流入してしまうため、高繰返し運転時のレーザ出力が不
安定になるという問題があった。そこで本発明の目的
は、高繰返し運転時でも安定した出力が得られる高繰返
しパルスレーザ発振装置を提供することにある。
高繰返しパルスレーザ発振装置では、予備電離紫外線発
生部で生成したレーザガスの分解生成物が主放電空間に
流入してしまうため、高繰返し運転時のレーザ出力が不
安定になるという問題があった。そこで本発明の目的
は、高繰返し運転時でも安定した出力が得られる高繰返
しパルスレーザ発振装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明においては第１の発明として、レーザガス流中
にこのレーザガス流の方向と放電方向が直交するように
一対の主放電電極が配設され、この主放電電極の上流側
及び下流側に予備電離発生部を挟んで対向する一対の予
備電離電極がそれぞれ配設されている高繰返しパルスレ
ーザ発振装置において、上流側の前記予備電離発生部の
近傍と一対の前記主放電電極の間に形成される主放電空
間の下流側とを補助ガス流路で接続したことを特徴とす
る高繰返しパルスレーザ発振装置を提供する。また第２
の発明として、前記補助ガス流路に、この補助ガス流路
を流れるガス流を制御するポンプを配設した高繰返しパ
ルスレーザ発振装置を提供する。
に本発明においては第１の発明として、レーザガス流中
にこのレーザガス流の方向と放電方向が直交するように
一対の主放電電極が配設され、この主放電電極の上流側
及び下流側に予備電離発生部を挟んで対向する一対の予
備電離電極がそれぞれ配設されている高繰返しパルスレ
ーザ発振装置において、上流側の前記予備電離発生部の
近傍と一対の前記主放電電極の間に形成される主放電空
間の下流側とを補助ガス流路で接続したことを特徴とす
る高繰返しパルスレーザ発振装置を提供する。また第２
の発明として、前記補助ガス流路に、この補助ガス流路
を流れるガス流を制御するポンプを配設した高繰返しパ
ルスレーザ発振装置を提供する。
【０００９】
【作用】上流側の予備電離発生部の近傍と主放電電極の
間に形成される主放電空間の下流側とを補助ガス流路で
接続することにより、主放電空間を経由しないガス流路
が形成される。従って、上流側の予備電離電極の放電に
よって予備電離発生部で発生したレーザガスの分解生成
物が直接、主放電空間に流入するのを防ぐことができ
る。
間に形成される主放電空間の下流側とを補助ガス流路で
接続することにより、主放電空間を経由しないガス流路
が形成される。従って、上流側の予備電離電極の放電に
よって予備電離発生部で発生したレーザガスの分解生成
物が直接、主放電空間に流入するのを防ぐことができ
る。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の第１の実施例を図１を参照し
て説明する。なお、従来と同じ部分については同一の番
号を付与して説明を省略する。図１に示すように、レー
ザガス流１中にこのレーザガス流１の方向と放電方向が
直交するように一対の主放電電極２、２が配設されてい
る。主放電電極２、２の間には主放電空間３が形成さ
れ、主放電電極２、２の上流側及び下流側には、主放電
電極２、２と電気的に並列接続されたコンデンサ群がそ
れぞれ配設されている。コンデンサ群は複数のコンデン
サ４によって構成されており、コンデンサ４には予備電
離紫外線発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生
用ピン６がそれぞれ配設されている。これらの主放電電
極２、２、コンデンサ４及び予備電離紫外線発生用ピン
６によって放電部７が構成される。放電部７にはパルス
電源８が電気的に接続されており、放電部７はチャンバ
ー９内に収納されている。チャンバー９には循環用ファ
ン１０が収納されており、循環用ファン１０によって放
電部７内のレーザガス流１が制御される。さらに上流側
の予備電離紫外線発生部５を通過したガスを主放電空間
３の下流側に流すように、補助ガス流路であるガスバイ
パス流路１１が、上流側の予備電離紫外線発生部５近傍
と主放電空間３の下流側を接続している。
て説明する。なお、従来と同じ部分については同一の番
号を付与して説明を省略する。図１に示すように、レー
ザガス流１中にこのレーザガス流１の方向と放電方向が
直交するように一対の主放電電極２、２が配設されてい
る。主放電電極２、２の間には主放電空間３が形成さ
れ、主放電電極２、２の上流側及び下流側には、主放電
電極２、２と電気的に並列接続されたコンデンサ群がそ
れぞれ配設されている。コンデンサ群は複数のコンデン
サ４によって構成されており、コンデンサ４には予備電
離紫外線発生部５を挟んで対向する予備電離紫外線発生
用ピン６がそれぞれ配設されている。これらの主放電電
極２、２、コンデンサ４及び予備電離紫外線発生用ピン
６によって放電部７が構成される。放電部７にはパルス
電源８が電気的に接続されており、放電部７はチャンバ
ー９内に収納されている。チャンバー９には循環用ファ
ン１０が収納されており、循環用ファン１０によって放
電部７内のレーザガス流１が制御される。さらに上流側
の予備電離紫外線発生部５を通過したガスを主放電空間
３の下流側に流すように、補助ガス流路であるガスバイ
パス流路１１が、上流側の予備電離紫外線発生部５近傍
と主放電空間３の下流側を接続している。
【００１１】次に本実施例の作用及び効果について説明
する。放電部７にパルス電源８から電圧が印加される
と、予備電離紫外線発生用ピン６間に形成される予備電
離紫外線発生部５でスパーク放電が起こり、紫外線が照
射される。この際、上流側の予備電離紫外線発生部５で
局部的に発生したレーザガスの分解生成物は、ガスバイ
パス流路１１を通って主放電空間３の下流側へ導かれる
ので、分解生成物が直接、主放電空間３に流入するのを
防ぐことができる。しかも、ガスバイパス流路１１は、
例えば紫外線を透過するガラス等で構成されているの
で、ガスバイパス流路１１の設置は紫外線の照射に影響
を及ぼさないため、安定したグロー放電を得ることがで
きる。本実施例の高繰返しパルスレーザ発振装置におい
ては、チャンバー９内に封入されたレーザガスは循環用
ファン１０によって循環され、ガスバイパス流路１１を
通るガス分解生成物の流れも、循環用ファン１０によっ
て制御されている。
する。放電部７にパルス電源８から電圧が印加される
と、予備電離紫外線発生用ピン６間に形成される予備電
離紫外線発生部５でスパーク放電が起こり、紫外線が照
射される。この際、上流側の予備電離紫外線発生部５で
局部的に発生したレーザガスの分解生成物は、ガスバイ
パス流路１１を通って主放電空間３の下流側へ導かれる
ので、分解生成物が直接、主放電空間３に流入するのを
防ぐことができる。しかも、ガスバイパス流路１１は、
例えば紫外線を透過するガラス等で構成されているの
で、ガスバイパス流路１１の設置は紫外線の照射に影響
を及ぼさないため、安定したグロー放電を得ることがで
きる。本実施例の高繰返しパルスレーザ発振装置におい
ては、チャンバー９内に封入されたレーザガスは循環用
ファン１０によって循環され、ガスバイパス流路１１を
通るガス分解生成物の流れも、循環用ファン１０によっ
て制御されている。
【００１２】次に本発明の第２の実施例を図２を参照し
て説明する。なお、第１の実施例と同じ部分について
は、同一の番号を付与して説明を省略する。図２に示す
ように、第２の実施例においては、上流側の予備電離紫
外線発生用ピン６は、紫外線を透過するガラス等で構成
されたガスバイパス流路１１内に配設されており、ガス
バイパス流路１１にはレーザガス流１に向かって開口す
るガス取入口１２が形成されている。
て説明する。なお、第１の実施例と同じ部分について
は、同一の番号を付与して説明を省略する。図２に示す
ように、第２の実施例においては、上流側の予備電離紫
外線発生用ピン６は、紫外線を透過するガラス等で構成
されたガスバイパス流路１１内に配設されており、ガス
バイパス流路１１にはレーザガス流１に向かって開口す
るガス取入口１２が形成されている。
【００１３】本実施例においては、予備電離紫外線発生
用ピン６がガスバイパス流路１１中に配設されているた
め、第１の実施例よりもさらに積極的に分解生成物を主
放電空間３の下流側に排出することができるという効果
を奏する。
用ピン６がガスバイパス流路１１中に配設されているた
め、第１の実施例よりもさらに積極的に分解生成物を主
放電空間３の下流側に排出することができるという効果
を奏する。
【００１４】次に本発明の第３の実施例を図３を参照し
て説明する。なお、第２の実施例と同じ部分について
は、同一の番号を付与して説明を省略する。図３に示す
ように、本実施例においては、予備電離紫外線発生用ピ
ン６は、レーザガス流１の方向に対して逆向きに開口し
ているガス取入口１２が形成された絶縁物からなるガス
バイパス流路１１内に配設されている。ガスバイパス流
路１１の途中には、ガスバイパス流路１１を通るガスの
流れを制御するポンプ１３が配設されている。
て説明する。なお、第２の実施例と同じ部分について
は、同一の番号を付与して説明を省略する。図３に示す
ように、本実施例においては、予備電離紫外線発生用ピ
ン６は、レーザガス流１の方向に対して逆向きに開口し
ているガス取入口１２が形成された絶縁物からなるガス
バイパス流路１１内に配設されている。ガスバイパス流
路１１の途中には、ガスバイパス流路１１を通るガスの
流れを制御するポンプ１３が配設されている。
【００１５】このような構成の第３の実施例において
は、ガスバイパス流路１１の途中に配設されたポンプ１
３によって、上流側の予備電離紫外線発生部５を通過し
た分解生成物を積極的に主放電空間３の下流側に排出す
ることができるという効果を奏する。
は、ガスバイパス流路１１の途中に配設されたポンプ１
３によって、上流側の予備電離紫外線発生部５を通過し
た分解生成物を積極的に主放電空間３の下流側に排出す
ることができるという効果を奏する。
【００１６】なお、第１の実施例ないし第３の実施例に
おいては、予備電離紫外線発生部５の近傍と主放電空間
３の下流側とを連通するガスバイパス流路１１を上流側
に設置された予備電離紫外線発生部５毎に配設している
が、上流側の全ての予備電離紫外線発生部５の近傍と主
放電空間３の下流側を一括して連通するようなガスバイ
パス流路を設けてもよい。
おいては、予備電離紫外線発生部５の近傍と主放電空間
３の下流側とを連通するガスバイパス流路１１を上流側
に設置された予備電離紫外線発生部５毎に配設している
が、上流側の全ての予備電離紫外線発生部５の近傍と主
放電空間３の下流側を一括して連通するようなガスバイ
パス流路を設けてもよい。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、上流側の
予備電離発生部の近傍と主放電空間の下流側とを施助ガ
ス流路で接続することにより、高繰返し運転時でも安定
した出力が得られる高繰返しパルスレーザ発振装置を提
供することができる。
予備電離発生部の近傍と主放電空間の下流側とを施助ガ
ス流路で接続することにより、高繰返し運転時でも安定
した出力が得られる高繰返しパルスレーザ発振装置を提
供することができる。
【図１】本発明の第１の実施例を示す高繰返しパルスレ
ーザ発振装置の配置図
ーザ発振装置の配置図
【図２】本発明の第２の実施例を示す高繰返しパルスレ
ーザ発振装置の要部拡大図
ーザ発振装置の要部拡大図
【図３】本発明の第３の実施例を示す高繰返しパルスレ
ーザ発振装置の要部拡大図
ーザ発振装置の要部拡大図
【図４】従来の高繰返しパルスレーザ発振装置の配置図
１…レーザガス流、２…主放電電極、３…主放電空間、
４…コンデンサ、５…予備電離紫外線発生部、６…予備
電離紫外線発生用ピン、１１…ガスバイパス流路、１２
…ガス取入口、１３…ポンプ。
４…コンデンサ、５…予備電離紫外線発生部、６…予備
電離紫外線発生用ピン、１１…ガスバイパス流路、１２
…ガス取入口、１３…ポンプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/134 3/22 Ｈ０１Ｓ 3/097 Ｄ 3/22
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザガス流中にこのレーザガス流の方
向と放電方向が直交するように一対の主放電電極が配設
され、この主放電電極の上流側及び下流側に予備電離発
生部を挟んで対向する一対の予備電離電極がそれぞれ配
設されている高繰返しパルスレーザ発振装置において、 上流側の前記予備電離発生部の近傍と一対の前記主放電
電極の間に形成される主放電空間の下流側とを補助ガス
流路で接続したことを特徴とする高繰返しパルスレーザ
発振装置。 - 【請求項２】 前記補助ガス流路に、この補助ガス流路
を流れるガス流を制御するポンプを配設したことを特徴
とする請求項１に記載の高繰返しパルスレーザ発振装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20909393A JPH0766479A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 高繰返しパルスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20909393A JPH0766479A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 高繰返しパルスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0766479A true JPH0766479A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16567173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20909393A Pending JPH0766479A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 高繰返しパルスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766479A (ja) |
-
1993
- 1993-08-24 JP JP20909393A patent/JPH0766479A/ja active Pending
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