JPH0770472A - 紫外線硬化型塗料 - Google Patents
紫外線硬化型塗料Info
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract description 12
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 50
- -1 dimethylsiloxane Chemical class 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 32
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 13
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- PXCITKWFJZOGQA-UHFFFAOYSA-N methyl 2-phenacylbenzoate Chemical compound COC(=O)c1ccccc1CC(=O)c1ccccc1 PXCITKWFJZOGQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- PASIEQDVKZQWRI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O PASIEQDVKZQWRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010040880 Skin irritation Diseases 0.000 abstract description 14
- 230000036556 skin irritation Effects 0.000 abstract description 14
- 231100000475 skin irritation Toxicity 0.000 abstract description 14
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 28
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 19
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 19
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 15
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 15
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 15
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 7
- 208000010201 Exanthema Diseases 0.000 description 6
- 201000005884 exanthem Diseases 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 206010037844 rash Diseases 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 5
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 5
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 5
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 5
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PRBBFHSSJFGXJS-UHFFFAOYSA-N (2,2-dimethyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical group OCC(C)(C)C(O)=O.C=CC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C=C PRBBFHSSJFGXJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical group CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 3
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical class OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000639461 Rattus norvegicus Small nuclear ribonucleoprotein-associated protein B Proteins 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007794 irritation Effects 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 2
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 2,2-di(cyclopenten-1-yloxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1CCCC=1OC(COC(=O)C(=C)C)OC1=CCCC1 JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMLWXYJZDNNBTD-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-1-phenylethanone Chemical compound CN(C)CC(=O)C1=CC=CC=C1 UMLWXYJZDNNBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVVXXHVHGGWWPE-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C(O)=O DVVXXHVHGGWWPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-methyl-4h-1,4-benzoxazin-3-one Chemical compound C1=C(Br)C=C2NC(=O)C(C)OC2=C1 NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKKKWRHMRJZNV-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O[Si](OOC(C=C)=O)(C)C Chemical compound C(C=C)(=O)O[Si](OOC(C=C)=O)(C)C BEKKKWRHMRJZNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241001561902 Chaetodon citrinellus Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N Padimate A Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C(C)=C OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- QKQSRIKBWKJGHW-UHFFFAOYSA-N morpholine;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C1COCCN1 QKQSRIKBWKJGHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIBXONLBXXZVBI-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C WIBXONLBXXZVBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoinden-5-yl methacrylate Chemical compound C12CCCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
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- Paints Or Removers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
なく、硬化後の臭気が少ない紫外線硬化型塗料を得るこ
とを目的とする。 【構成】 本発明は、PII値が2以下の三官能以上の
メタクリル酸エステル及び/またはアクリル酸エステル
が合計で30〜60重量部と、PII値が2以下の二官
能のメタクリル酸エステル及び/またはアクリル酸エス
テルが合計で20〜50重量部と、PII値が2以下の
メタクリル酸エステル及び/またはアクリル酸エステル
が合計で5〜25重量部、官能基含有ジメタクリレート
及び/または官能基含有ジアクリレート、二官能のジメ
チルシロキサンを0.01〜1.0重量部、及び、光重
合開始剤が5〜15重量部からなる紫外線硬化型塗料で
ある。ここで、光重合開始剤は、パラジメチルアミノア
セトフェノンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混
合物であるか、パラジメチルアミノアセトフェノンとベ
ンゾフェノンとの混合物である。
Description
スク、光磁気ディスクなどの保護膜に適用して好適な紫
外線硬化型塗料に関する。
クトディスク、光磁気ディスク等をはじめとする光ディ
スクは、ポリカーボネート等の透明性基板上に蒸着又は
スパッタリングにより形成された金属薄膜層を有する構
造を持っている。この金属薄膜層は、大気中で酸素や水
分の影響を受け、その特性が劣化し易い為従来保護膜と
して紫外線硬化型樹脂などが使用されてきた。一般に塗
布方法としてはスピンコーティング法が採られている。
が厚くなると基板が反る傾向にあり、その結果、記録情
報を装置が誤読したり、或いは判読不能になるため保護
層の層厚を薄くする必要がある。そのため、スピンコー
ティング法で用いるオーバーコート組成物は低粘度であ
ることが要求されている。
れている特に低分子量で低粘度である化合物は一般的に
PII値が高いため、製造装置のメンテナーがその光硬
化性樹脂組成物に触れて、かぶれるという問題がいくつ
か報告されている。
平2−6562号公報にはトリメチロールプロパントリ
アクリレートのエチレンオキサイド3モル付加物の如
き、従来の低分子量アクリレート化合物をエチレンオキ
サイドで変性した化合物を使用した光ディスク用保護コ
ート剤が提案されている。しかしながら、この光ディス
ク用保護コート剤は、分子量を大きくしたため、粘度が
高いという問題点を有していた。
腐食性能力が低下し、保護膜として成り立たなくなる。
更に、PII値を低くした保護膜では、硬化後の臭気が
強く、作業環境を悪化させるという問題点を有してい
た。
料のディスク基板に対する塗れ性がよくなるように表面
張力が低いことが望ましいが、その表面張力を低下させ
るために添加した添加剤の影響で泡が発生しやすくなり
ディスクの製品不良の多発、歩留まりの低下等生産性を
悪くするという問題と、さらには保護膜上への添加剤の
しみだしにより印刷密着性が低下し、それにより印刷イ
ンクの剥がれ等が生じるという問題点を有していた。
ものであり、皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得る
ことを目的とする。また、本発明は、保護膜としての能
力に優れ、硬化後の臭気が少ない紫外線硬化型塗料を得
ることを目的とする。また、本発明は、泡の発生が少な
く表面張力の低い紫外線硬化型塗料を得ることを目的と
する。
料は、PII値が2以下の三官能以上のメタクリル酸エ
ステル及び/またはアクリル酸エステルが合計で30〜
60重量部と、PII値が2以下の二官能のメタクリル
酸エステル及び/またはアクリル酸エステルが合計で2
0〜50重量部と、PII値が2以下のメタクリル酸エ
ステル及び/またはアクリル酸エステルが合計で5〜2
5重量部、そして、官能基含有ジメタクリレート及び/
または官能基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤
からなるものである。
能以上のアクリル酸エステルがエチレンオキサイド変性
トリメチロールプロパントリアクリル酸エステルである
紫外線硬化型塗料である。
能のアクリル酸エステルがヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレートである上述構成の紫外
線硬化型塗料である。
能アクリル酸エステルがエチレンオキサイド変性ネオペ
ンチルグリコールジアクリレートである上述構成の紫外
線硬化型塗料である。
リル酸エステルがフェノキシエチルアクリレート及び/
またはフェノキシジエチレングリコールアクリレートで
ある上述構成の紫外線硬化型塗料である。
合開始剤が2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
プロパン−1−オンである上述構成の紫外線硬化型塗料
である。
基含有ジメタクリレートがエチレンオキサイド変性リン
酸ジメタクリレートである上述構成の紫外線硬化型塗料
である。
I値が2以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
/またはアクリル酸エステルが合計で30〜60重量部
と、PII値が2以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び/またはアクリル酸エステルが合計で20〜50重
量部と、PII値が2以下のメタクリル酸エステル及び
/またはアクリル酸エステルが合計で5〜25重量部、
官能基含有ジメタクリレート及び/または官能基含有ジ
アクリレート、二官能のジメチルシロキサンを0.01
〜1.0重量部、及び、光重合開始剤が5〜15重量部
からなるものである。
合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンとオル
ソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であり、それぞ
れの重量%比が25:75〜80:20の範囲にある上
述構成の紫外線硬化型塗料である。
合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンとベン
ゾフェノンとの混合物であり、それぞれの重量%比が1
7:83〜67:33の範囲にある上述構成の紫外線硬
化型塗料である。
が2以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び/ま
たはアクリル酸エステルが合計で30〜60重量部と、
PII値が2以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
/またはアクリル酸エステルが合計で20〜50重量部
と、PII値が2以下のメタクリル酸エステル及び/ま
たはアクリル酸エステルが合計で5〜25重量部、そし
て、光重合開始剤からなるものとすることにより、皮膚
刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることができ、製造
装置のメンテナーのかぶれをなくすることができる。
ば、PII値が2以下の三官能以上のメタクリル酸エス
テル及び/またはアクリル酸エステルが合計で30〜6
0重量部と、PII値が2以下の二官能のメタクリル酸
エステル及び/またはアクリル酸エステルが合計で20
〜50重量部と、PII値が2以下のメタクリル酸エス
テル及び/またはアクリル酸エステルが合計で5〜25
重量部、官能基含有ジメタクリレート及び/または官能
基含有ジアクリレート、二官能のジメチルシロキサンを
0.01〜1.0重量部、及び、光重合開始剤が5〜1
5重量部からなる紫外線硬化型塗料とすることにより、
上述の効果の他に、皮膚刺激性が低く泡の発生が少な
い、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
ば、光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノ
ンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であ
り、それぞれの重量%比が25:75〜80:20の範
囲にあることことにより、または、光重合開始剤が、パ
ラジメチルアミノアセトフェノンとベンゾフェノンとの
混合物であり、それぞれの重量%比が17:83〜6
7:33の範囲にあることにより、上述の効果の他に、
硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化させ
ることなく改善することができる。
いて説明しよう。
の略号は以下の通りである。 3EO−TMPTA:エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア (新中村化学) クリレート MANDA:ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート(日本化薬) フォトマー4160:エチレンオキサイド変性ネオペン
チルグリコールジアクリレート(サンノプコ) Po−A:フェノキシエチルアクリレート(共栄社油
脂) M−101:フェノキシジエチレングリコールアクリレ
ート(東亜合成) THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート(大阪
有機) PM−2:エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレ
ート(日本化薬) 1173:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
プロパン−1−オン(メルク)
40重量部、MANDA 40重量部、希釈剤とし
て、Po−A 20重量部、密着性促進剤として、PM
−2 0.1重量部、開始剤として、1173 7重量
部を用いて、均一に混合し、コーティング剤とした。
以外は実施例1と同様にしてコーティング剤とした。
を50重量部、MANDAを45重量部、希釈剤として
PO−Aを5重量部用いた。これ以外は、実施例Iと同
様とした。
を40重量部、MANDAを35重量部、希釈剤として
PO−Aを25重量部用いた。これ以外は、実施例Iと
同様とした。
ステルとして3EO−TMPTAを30重量部、エチレ
ンオキサイド変性の2官能(メタ)アクリル酸エステル
としてフォトマー4160を50重量部、希釈剤として
PO−Aを20重量部、密着性促進剤としてPM−2を
0.1重量部、開始剤として1173を7重量部用いて
均一に混合しコーティング剤とした。
フォトマー4160を30重量部に変更した以外は実施
例5と同様にしてコーティング剤とした。
ォトマー4160を20重量部に変更した以外は実施例
5と同様にしてコーティング剤とした。
フォトマー4160を30重量部、PO−Aを10重量
部に変更した以外は実施例5と同様にしてコーティング
剤とした。
て、PM−2を0.1重量部、開始剤として1173を
7重量部用いて均一に混合し、コーティング剤とした。
うち30重量部を希釈剤としてのPO−Aに変更した以
外は比較例1と同様にしてコーティング剤とした。
は実施例1と同様にしてコーティング剤とした。
例5と同様にしてコーティング剤とした。
ー4160を80重量部、PO−Aを10重量部として
コーティング剤とした。
以下のようにして評価した。
−365PD
を測定した。粘度計はハーケのもので、センサシステム
はPK100、測定システムはPotovisco RV20−M
5、センサはPK5,1°を使用した。一方、サンプル
の体積は0.5cm3 とし、ずり速度(Shear rate)は
1000s-1とした。
て推算し、表1に示すようにその数値によってその刺激
性について評価を行った。数値は0〜8の範囲に分類さ
れており小さい程刺激性は低い。
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、JIS K5400に基づいて表
面の硬度を測定した。
る密着 まず、アルミニウムが蒸着された直径12cm、厚み
1.2mmのポリカーボネート基板に、実施例及び比較
例の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーテンィグし、
上述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み7μm程度
の保護膜を形成した。この場合、スピンコーターとして
はミカサ株式会社製のMIKASA SPINCOAT
ER1 H−DXIIを使用し、回転数を3000RP
M、振り切り時間を粘度によって変更し、膜厚を均一に
調整した。上記のように作成したサンプルをカッターナ
イフでアルミニウム蒸着膜に達するように硬化膜に切れ
目を入れ、切れ目に沿ってセロテープを貼り、テープの
一端を塗膜面に対し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。
その結果、硬化膜にアルミニウム蒸着膜が付着した状態
で剥離するときは、密着力を「A」とし、硬化膜とアル
ミニウム蒸着膜の間に剥離が生じ、アルミニウム蒸着膜
がPETフィルム上に半分ほど残ったときの密着力を
「B」とし、アルミニウム蒸着膜がPETフィルム上に
全て残ったときの密着力を「C」とした。
グしたサンプルを、カッターナイフでポリカーボネート
基板に達するように硬化膜に100個の碁盤目を入れ、
その上からセロテープを貼りテープの一端を塗膜面に対
し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。ポリカーボネート
基板上に残った硬化膜の碁盤目の数をそのサンプルのポ
リカーボネート板に対する密着力とした。
mのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングしたサンプルを、60℃ 95%RHのオーブン
中に配置して100時間エージングを行い、Al層の腐
食によるピンホールの増加量を測定した。このピンホー
ルは次のようなものである。即ち、例えばコンパクトデ
ィスクの反射膜には、金属Alが用いられ、また、光磁
気ディスクには基板上に順次、誘電体膜/光磁気記録膜
/誘電体膜/反射膜(Al層)がスパッタリングにより
形成されているが、これらのスパッタ膜は大気中の酸素
や水分の影響を受け、非常に腐蝕しやすいため有機材料
からなる保護膜をコーティングする。そして、Al層等
の無機材料からなる無機層は基材と保護膜との間に挟ま
れた形となる。通常、このような構成ではディスク下面
から光源によって照明しディスク上面から観察した場
合、不透明な無機層に遮られて光を確認することができ
ない。しかし、高温高湿下に放置したディスクを同様に
観察した場合、不透明な無機層に遮られていた光が腐食
により透明化した円形状の孔の部分から確認することが
できる。この孔をピンホールと呼ぶ。本実施例において
は、ピンホールの大きさを、0〜10μm:10〜30
μm:30〜50μm:50〜100μm:100μm
以上に分類し、100μm以上のピンホール及び50〜
100μmのピンホールで成長性の腐食を有するものを
確認した場合に、ピンホール有りとしてカウントし、表
2に示すようにその数によって腐食性について評価を行
った。
述した項目により評価した結果は表3に示すとおりであ
る。
mPa・s/25℃、PII値はA、硬度はH、密着性
(対Al)はA、密着性(対Pc)は100/100、
また耐食性はAと全ての項目について満足すべきもので
あった。MANDAが40重量部入っていることから、
密着性(対Al)及び対腐食性が、比較例2と比較する
と改善されている。
造式を有するM−101をPO−Aの代わりに20重量
部添加したものであるが、実施例1に比較して、粘度が
25mPa・s/25℃から30mPa・s/25℃に
僅かに大きくなっているが、他の項目については実施例
1と同様に満足すべき値であった。
1に対して、3EO−TMPTAを40〜50重量部、
MANDAを35〜45重量部、PO−Aを5〜25重
量部と変化させた場合であるが、粘度が多少変化する他
は、全ての項目について実施例1と同様、満足すべき結
果が得られた。
価項目について満足することのできるコーティング剤が
得られた。
で得られたコーティング剤は、粘度が高く、また架橋密
度が高いため、ポリカーボネートの密着が不十分であっ
た。それゆえ、耐環境試験において、金属薄膜層の腐食
がディスク基板の外周に多く見られた。
官能モノマーが30重量部入っているため硬度が低く、
また3EO−TMPTAの配合量が多いので金属薄膜層
(Al)との密着性も不十分であった。
釈剤で用いたTHFAのPII値が高いため、全体的に
この化合物のPII値が実施例1や実施例2に比べて、
高くなっている。
例3と同様に希釈剤で用いたTHFAのPII値が高い
ため、全体的に、この化合物のPII値が実施例5〜実
施例8に比べて高くなっている。
度が低く、保護膜としての耐擦傷性が不十分であった。
て、PII値が低く、かつ低粘度で紫外線により硬化が
速く密着性、硬度に優れ、また耐環境試験において金属
薄膜層の腐食が極めて良好な膜を得ることのできる光デ
ィスク用材料を提供することに成功した。
以下の多官能(メタ)アクリル酸エステルモノマーとし
ては、例えば、アリル化シクロヘキシルジアクリレー
ト、EO(エチレンオキサイド)変性ビスフェノールA
ジアクリレート、PO(プロピレンオキサイド)変性ビ
スフェノールAジアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールトリアクリレート、カプロラクトン変性
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1.6−
ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメ
チロールプロパンジアクリレート、EO変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、PO変性ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、1.9−ノナンジオールジア
クリレート、2−ヒドロキシ1.3−ジメタクリロキシ
プロパン、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、P
O変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジ
アクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレ
ートなどがあげられる。これらの多官能(メタ)アクリ
ル酸エステルモノマーは、皮膚刺激性におけるかぶれな
どの理由からPII値が2以下であることが好ましく、
この化合物の使用範囲は75〜95重量部で、より好ま
しくは80〜90重量部となる割合が適している。しか
しながら、この化合物の光重合性二重結合を3個以上有
したもの、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリア
クリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リアクリレートについては、使用範囲が70重量部を超
えた場合、そのコーティング剤から形成された塗膜は硬
化収縮ひずみが大きくなり基材との密着性が悪く、かつ
耐候性の低下をきたすため好ましくない。そこで、光重
合性二重結合を3個以上有しているこの化合物の他に、
前述したPII値が2以下の二官能(メタ)アクリル酸
エステルモノマーを1種ないし2種以上をブレンドする
ことにより、その二官能(メタ)アクリル酸エステルモ
ノマー単独を使用するよりもさらに密着性、硬度に優れ
たコーティング剤が得られ、好ましい。これら多官能
(メタ)アクリル酸エステルモノマーの使用範囲は、光
重合性二重結合を3個以上有している化合物が20〜7
0重量部好ましくは30〜60重量部、光重合性二重結
合を2個有している化合物が5〜75重量部、好ましく
は20〜50重量部である。
イド変性の三官能(メタ)アクリルエステルとしては例
えばトリメチロールプロパントリアクリレート(NKエ
ステル A−TMPA−3Eo、新中村化学)等があげ
られる。この使用範囲は、70重量部を超えた場合その
コーティング剤から形成された塗膜は硬化収縮、ひずみ
が大きくなり、基材との密着性が悪くかつ耐候性の低下
をきたすため好ましくない。また、20重量部以下の場
合、そのコーティング剤から形成された塗膜は、傷つき
やすく膜表面の硬度が低くなる。よってこのエチレンオ
キサイド変性の三官能(メタ)アクリル酸エステルの使
用範囲は20〜70重量%好ましくは30〜60重量部
である。
イド変性の二官能(メタ)アクリル酸エステルとして
は、例えばネオペンチルグリコールジアクリレート(フ
ォトマー4160,サンノプコ)、1.6−ヘキサンジ
オールジアクリレート(フォトマー4017,サンノプ
コ)等があげられる。この使用範囲は5〜75重量部好
ましくは20〜50重量部である。
下で25℃における粘度が20mPa.s以下の希釈効
果の高い、かつ光ディスクの記録層保護膜としての性能
を維持できる(メタ)アクリル酸エステルとしては、例
えば1.4−ブタンジオールジメタクリレート,1.3
−ブチレングリコールジメタクリレート,ジエチレング
リコールジメタクリレート,エチレングリコールジメタ
クリレート,ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート,ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト,テトラエチレングリコールジメタクリレート,トリ
エチレングリコールジメタクリレート,トリプロピレン
グリコールジアクリレート,フェノキシジエチレングリ
コールアクリレート,フェノキシエチルアクリレート,
イソボニルアクリレート,モルホリンアクリレート,テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート,ジシクロペンタ
ニルメタクリレート,ジシクロペンテニロキシエチルメ
タクリレート,ラウリル(メタ)アクリレートステアリ
ルメタクリレート,ポリプロピレングリコールメタクリ
レート,2−エチルヘキシルメタクリレート,2−エト
キシエチルメタクリレート等があげられる。
リレート又はフェノキシジエチレングリコールアクリレ
ートは希釈能(低粘度)、低皮膚刺激性を有する成分
で、使用範囲が25重量部を超えた場合、そのコーティ
ング剤から形成された塗膜は膜表面が硬化しにくく硬度
にも支障をきたす。また使用範囲が5重量部未満である
場合、希釈効果が小さくなる傾向にあるので好ましくな
い。よってこの希釈モノマーの使用範囲は5〜25重量
部が好ましい。
は、例えばアセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフ
ェノン系、チオキサンソン系、その他特殊グループのも
のがあげられ、このうちアセトフェノン系及びベンゾイ
ン系のものは単独で使用され、ベンゾフェノン系及びチ
オキサンソン系のものは光開始助剤との組み合わせで使
用される。この場合、光開始助剤としてはアミン類、ス
ルホン類、ホスフィン類等のものが使用可能である。
ネルギー)の差によりラジカル発生機構が2種類、即ち
分子結合開裂型(P1型)と分子間水素引抜き型(P2
型)がある。これらのうちP1型がアセトフェノン系、
ベンゾイン系で、P2型がベンゾフェノン系、チオキサ
ンソン系に該当する。
としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン(DEA
P)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロ
パン−1−オン(ダロキュア 1173)、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュア 1
84)、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モルホリノプロパン−1(イルガキュア 9
07)等があげられる。
は例えば、ベンゾイン(セイクオールZ)、ベンゾイン
メチルエーテル(ニッソキュアMBO)、ベンゾインエ
チルエーテル(セイクオールBEE)、ベンゾインイソ
プロピルエーテル(BIP)、ベンゾインイソブチルエ
ーテル(セイクオールBBI)、ベンジルジメチルケタ
ール(イルガキュア651)等があげられる。
しては、例えば、ベンゾフェノン(カヤキュアBP)、
ベンゾイル安息香酸メチル(ユビソレーター250)、
4−フェニルベンゾフェノン(Trigonal1
2)、ヒドロキシベンゾフェノン(UvecrylP−
36)、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルサル
ファイド(Quantacure BMS)、3.3′
−ジメチル−4−メトキシブンゾフェノン(カヤキュア
MBP)等があげられる。
しては、チオキサンソン(ニッソキュアTX)、2−ク
ロルチオキサンソン(カヤキュア CTX)、2−メチ
ルチオキサンソン(ニッソキュアMTX)、2,4−ジ
メチルチオキサンソン(カヤキュア RTX)、イソプ
ロピルチオキサンソン(Quantacure IT
X)、2,4−ジクロロチオキサンソン(カヤキュア
CTX)、2,4−ジエチルチオキサンソン(カヤキュ
ア DETX)、2,4−ジイソプロピルチオキサンソ
ン(カヤキュア DITX)等があげられる。
ては、例えばα−アシロキシムエステル(Quanta
cure PDO)、アシルホスフィンオキサイド(ル
シリン TPO)、メチルフェニルグリオキシレート
(バイキュア55)、ベンジル(セイクオール B
Z)、カンファーキノン(東京化成など)、ジベンゾス
ベロン(Quantacure DBS)、2−エチル
アンスラキノン(BASF)、3,3′、4,4′−テ
トラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン(BTTB)等があげられる。
00重量部に対し、0.2〜20重量部である。
ン系の光開始助剤としては、例えばトリエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、4,4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、
4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ベトキシ)
エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−
ジメチルアミノ安息香酸、2−エチルヘキシル等があげ
られる。これらの使用範囲は、光重合開始剤の0.1〜
10重量部が好ましい。
用してもよく、また、P1型とP2型の光重合開始剤同
士を併用することも可能である。
ィング剤は、上記の成分物質だけで十分所期の目的を達
成できるものであるが、さらに性能改良のため、本来の
特性を変えない範囲で従来公知の下記成分、例えばレベ
リング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリ
ング剤、シリコンオイル、接着促進剤等の添加剤を適宜
含ませるようにしてもよい。
る密着性をさらに改良するに至っては、接着促進剤、例
えばエチレンオキサイド変性コハク酸(メタ)アクリレ
ート、エチレンオキサイド変性フタル酸(メタ)アクリ
レート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリ
レートの他、カルボキシル基、リン酸基又は水酸基を有
する(メタ)アクリレート等を添加することにより密着
性を向上させることができる。これらの接着促進剤の使
用範囲は本発明の組成物100重量物に対し、0.1〜
5重量部である。
前述した各成分を一般的な配合方法により配合して製造
される。本発明のコーティング剤より光ディスクを基材
に保護コーティング層を形成するには、配合したコーテ
ィング剤を0.2μmメンブランフィルターにより濾過
した後、クリーンルーム内でスピンコーターを用い、塗
膜が5〜10μmとなるように塗布し、次いで紫外線を
照射して硬化させればよい。
は高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ラン
プなどを使用することができる。なお、これらの方法に
おいて、光ディスク用材料の硬化は紫外線照射の代わり
に電子線照射によることもできる。
皮膚刺激性が低く、低粘度で紫外線による硬化が速くさ
らに光ディスク用基材の保護膜として表面硬度、密着
性、耐腐蝕性に優れた硬化塗膜が形成される。
が2以下の多官能(メタ)アクリル酸エステル75〜9
5重量部、フェノキシエチルアクリレート又はフェノキ
シジエチレングリコールアクリレート5〜25重量部及
びこれらの合計100重量部に対して0.2〜20重量
部の光重合開始剤を含むことから、皮膚刺激性の低い、
低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、この
ことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなくな
り、また製造においても塗布性が良く作業性が良いとい
う効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐蝕に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
例について説明しよう。
は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通りである。 BP100 :ベンゾフェノン OBM :オルソベンゾイル安息香酸メチル DAA−P :パラ(P)ジメチルアミノアセト
フェノン
6に示す通りである。ここで、実施例9〜21におい
て、多官能アクリレ−トとして3EO一TMPTAを5
0重量部、フォトマ−4160を30重量部、希釈剤と
してPO−Aを20重量部、密着性促進剤としてPM−
2を0.1重量部は一定としこれをベースとした。すな
わち、実施例6と同じベースである。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌し
コ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
重量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹
拌しコ−ティング剤とした。
うにして評価した。なお、以下に示した以外の物性の評
価については、上述した実施例と同様な方法により評価
した。
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはPK100,測定システムはRotoviscoRV20
−M5,センサはPK5,1゜を使用した。一方、サン
プルの体積は1. 0cm3 とし、ずり速度(Shear ra
te)は1000s-1とした。粘度の値が25mPa・s
〜35mPa・sのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
1.2mmのポリカーボネート基板に実施例及び比較例
の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーティングし、上
述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み7μm程度の
保護膜を形成し、目視により評価を行った。
mのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングし硬化させたサンプルを100枚積み重ね用意
し、硬化直後と24時間後に積み重なった100枚のデ
ィスクから発せられる臭気の強さを評価した。
項目により評価した結果は表6に示す通りである。
と、粘度は○、PII値はA、硬度はH、密着性(対A
l)はA、密着性(対ポリカーボネート)は100/1
00、対腐食性はA、外観は○、また臭気は○と全ての
項目について満足すべきものであった。
3EO一TMPTAを50重量部、フォトマ−4160
を30重量部、希釈剤としてPO−Aを20重量部、密
着性促進剤としてPM−2を0.1重量部をベースと
し、重合開始剤として1173を7重量部配合したも
の、すなわち実施例6においては臭気が認められ、評価
としてはXであった。
あったのに対して、実施例9〜実施例21においては○
と改善されたのは、本実施例では重合開始剤としてベン
ゾフェノン:Pージメチルアミノアセトフェノンの混合
物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メチル:Pージメチ
ルアミノアセトフェノンの混合物を用いたためと思われ
る。
ては、硬化性、臭気、外観それに耐腐食性を同時に満足
するために、ベンゾフェノン:Pージメチルアミノアセ
トフェノンの混合物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メ
チル:Pージメチルアミノアセトフェノンの混合物を用
いるのが好ましい。その成分の量としては、ベンゾフェ
ノン:Pージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、2成分合計で4重量部〜15重量部、ベンゾフェノ
ンの量としては2重量部〜10重量部、それにベンゾフ
ェノン:P−ジメチルアミノアセトフェノンの比が1
0:1〜1:2を同時に満足する場合、特性的に満足で
きるコーティング剤を得ることができる。
ル:Pージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、2成分合計で5重量部〜15重量部、オルソベンゾ
イル安息香酸メチルの量としては1重量部〜10重量
部、それにベンゾフェノン:P−ジメチルアミノアセト
フェノンの比が10:1〜1:4を同時に満足する場
合、特性的に満足できるコーティング剤を得ることがで
きる
適範囲などは上述実施例と同様である。
の3官能と2官能をブレンドした(メタ)アクリル酸エ
ステル75〜95重量部、フェノキシエチルアクリレー
ト叉はフェノキシジエチレングリコールアクリレート5
〜25重量部及びこれらの合計100重量部に対して、
ベンゾフェノン:Pージメチルアミノアセトフェノンを
組み合わせた光重合開始剤を4重量部〜15重量部、ま
たは、オルソベンゾイル安息香酸メチル:Pージメチル
アミノアセトフェノンを組み合わせた光重合開始剤を5
重量部〜15重量部を含むことから、皮膚刺激性の低
い、低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、
このことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなく
なり、また製造においても塗布性が良く作業性が良いと
いう効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐食に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
気が極めて少ないため、大量のディスクを製造した際に
も、異臭により作業環境を悪化させることが無い。
例について説明しよう。
物の略号は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通り
である。 SM11 :EO/PO変性ジメチルシロキサ
ン(松本油脂) SA200 :ジメチルシロキサンジアクリレー
ト(新中村化学) Newcal 1607:ポリオキシエチレンアルキル
エーテル(日本乳化剤)
比較例7の組成物配合比は表7に示す通りである。
いて、多官能アクリレ−トとして3EO一TMPTAを
50重量部、フォトマ−4160を30重量部、希釈剤
としてPO−Aを20重量部、密着性促進剤としてPM
−2を0.1重量部は一定としこれをベースとした。す
なわち、実施例6と同じベースである。
部、表面張力調整剤としてSA200を0.5重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
部、表面張力調整剤としてSA200を1.0重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤としてSA200を0.01重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤としてSA200を0.1重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤としてEO/PO変性ジメチルシ
ロキサン SM11を0.1重量部、これをベースと共
に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ−ティン
グ剤とした。
量部、表面張力調整剤として炭化水素系界面活性剤ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルNewcal1607
を0.1重量部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解
装置で均一に溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
を以下のようにして評価した。なお、以下に示した以外
の物性の評価については、上述した実施例と同様な方法
により評価した。
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはPK100,測定システムはRotoviscoRV20
−M5,センサはPK5,1゜を使用した。一方、サン
プルの体積は1. 0cm3 とし、ずり速度(Shear ra
te)は1000s-1とした。粘度の値が24mPa・s
〜35mPa・sのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、JIS K5400に基づいて表
面の硬度を測定した。実用硬度としては、基板であるポ
リカーボネートのB叉はHBより硬いF以上であること
が好ましいので、F以上の硬さのものを「○」、ポリカ
ーボネートと同等以下の硬度のものを「×」とした。
0g入れ、ペイントシェーカー(Red Devil社
製モデルNos.5400)にて5分間シェイキングを
行った後に静置し、泡の消えるまでの時間を測定した。
10分以内に完全に消泡した場合「○」、20分以上消
えない場合「×」、それ以外を「△」とした。
VP−A3型)を用いて、25℃の値を求めた。表面張
力が30dyne/cm以下であれば、蒸着アルミ面、
スパッタアルミ面に対して安定した濡れ性を示すので、
この場合を「○」、30dyne/cmより大きな値を
示すとき、濡れ性が悪くなる傾向にある。この場合を
「×」とした。ちなみに、界面活性剤を添加しない樹脂
組成物の表面張力は35〜45dyne/cmの範囲の
値を示し、この場合、光ディスクの記録膜上のアルミニ
ウムの状態によっては、例えば、蒸着されてから樹脂が
コーティングされるまでの間にアルミニウムが酸化する
ことにより、アルミ表面の表面張力が低下し、樹脂組成
物の表面張力に近くなることで、濡れ性が悪くなり、最
悪の場合、完全にはじいてしまう。
比較例7について、上述した項目により評価した結果は
表7に示す通りである。
と、粘度は○、PII値はA、硬度は○、密着性(対A
l)はA、密着性(対ポリカーボネート)は100/1
00、対腐食性はA、消泡性は○、表面張力は○と全て
の項目について満足すべきものであった。
果を見ると、粘度は○、PII値はA、硬度は○、密着
は、対アルミ、対ポリカーボネートともに問題無し、耐
腐食性はAと以上の項目について満足すべきものであっ
たが、消泡性、表面張力の何れか一方において満足でき
ないものであった。
できる結果となったのは、表面張力調整剤として、ジメ
チルシロキサンジメタクリル酸エステルであるSA20
0(新中村化学)を用いた為と思われる。
としては、消泡性と表面張力低下を同時に満足するため
に、ジメチルシロキサンジメタクリル酸エステル叉はア
クリル酸エステルを用いるのが好ましい。その成分の量
としては、0.01重量部〜1.0重量部とする時、特
性的に満足できるコーティング剤を得ることができる。
適範囲などは上述実施例と同様である。
皮膚刺激性が低く泡の発生がすくない、低粘度で紫外線
による硬化が速くさらに光ディスク用基材の保護膜とし
て表面硬度、密着性、耐腐食性に優れ、且つ硬化後に強
い臭気を発しない硬化塗膜が形成される。
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。
皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることができ
る。すなわち、製造装置のメンテナーのかぶれをなくす
ることができる。また、製造においても、塗布性が良く
なり、作業性が良いという効果がある。また、紫外線に
よる硬化が速く、密着性、硬度に優れ、さらに、金属薄
膜層の腐食に対しても極めて良好な保護膜となる。ま
た、硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化
させることが無い。また、皮膚刺激性が低く泡の発生が
少ない、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
Claims (10)
- 【請求項1】 PII値が2以下の三官能以上のメタク
リル酸エステル及び/またはアクリル酸エステルが合計
で30〜60重量部と、 PII値が2以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
/またはアクリル酸エステルが合計で20〜50重量部
と、 PII値が2以下のメタクリル酸エステル及び/または
アクリル酸エステルが合計で5〜25重量部、 そして、官能基含有ジメタクリレート及び/または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなるこ
とを特徴とする紫外線硬化型塗料。 - 【請求項2】 三官能以上のアクリル酸エステルがエチ
レンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリ
ル酸エステルであることを特徴とする請求項1記載の紫
外線硬化型塗料。 - 【請求項3】 二官能のアクリル酸エステルがヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートで
あることを特徴とする請求項1記載の紫外線硬化型塗
料。 - 【請求項4】 二官能のアクリル酸エステルがエチレン
オキサイド変性ネオペンチルグリコールジアクリレート
であることを特徴とする請求項1記載の紫外線硬化型塗
料。 - 【請求項5】 アクリル酸エステルがフェノキシエチル
アクリレート及び/またはフェノキシジエチレングリコ
ールアクリレートであることを特徴とする請求項1記載
の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項6】 光重合開始剤は、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オンであることを
特徴とする請求項1記載の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項7】 官能基含有ジメタクリレートは、エチレ
ンオキサイド変性リン酸ジメタクリレートであることを
特徴とする請求項1記載の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項8】 PII値が2以下の三官能以上のメタク
リル酸エステル及び/またはアクリル酸エステルが合計
で30〜60重量部と、 PII値が2以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
/またはアクリル酸エステルが合計で20〜50重量部
と、 PII値が2以下のメタクリル酸エステル及び/または
アクリル酸エステルが合計で5〜25重量部と、 官能基含有ジメタクリレート及び/または官能基含有ジ
アクリレートと、 二官能のジメチルシロキサンが0.01〜1.0重量部
と、 光重合開始剤が5〜15重量部とからなることを特徴と
する紫外線硬化型塗料。 - 【請求項9】 光重合開始剤が、パラジメチルアミノア
セトフェノンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混
合物であり、それぞれの重量%比が25:75〜80:
20の範囲にあることを特徴とする請求項1または請求
項8記載の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項10】 光重合開始剤が、パラジメチルアミノ
アセトフェノンとベンゾフェノンとの混合物であり、そ
れぞれの重量%比が17:83〜67:33の範囲にあ
ることを特徴とする請求項1または請求項8記載の紫外
線硬化型塗料。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14498794A JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
| US08/645,156 US5663211A (en) | 1994-06-27 | 1996-05-13 | Ultraviolet curing resin having low primary irritation index for optical disk |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-159173 | 1993-06-29 | ||
| JP15917393 | 1993-06-29 | ||
| JP14498794A JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770472A true JPH0770472A (ja) | 1995-03-14 |
| JP3381099B2 JP3381099B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=26476258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14498794A Expired - Lifetime JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3381099B2 (ja) |
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1994
- 1994-06-27 JP JP14498794A patent/JP3381099B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
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| JP3381099B2 (ja) | 2003-02-24 |
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