JPH0772393A - 反射縮小投影光学系 - Google Patents
反射縮小投影光学系Info
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- JPH0772393A JPH0772393A JP5221001A JP22100193A JPH0772393A JP H0772393 A JPH0772393 A JP H0772393A JP 5221001 A JP5221001 A JP 5221001A JP 22100193 A JP22100193 A JP 22100193A JP H0772393 A JPH0772393 A JP H0772393A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レチクル面とウェハー面とを共に平行に維持す
ると共に往路の光束と復路の光束との分離を容易にする
事を目的とする。 【構成】第１部分光学系と第２部分光学系とを有する反
射屈折光学系に於いて、前記第１部分光学系は物体面側
から順に正屈折力の第１レンズ群Ｇ1 ，第１の凹面反射
鏡Ｍ1 ，弱い屈折力の第２レンズ群Ｇ2 を有し物体の一
次縮小像を形成し、前記第２部分光学系は第２の凹面反
射鏡Ｍ2 ，正屈折力の第３レンズ群Ｇ 3 を有し前記一次
縮小像を更に縮小して再結像させる構成としたものであ
る。そして、前記第１部分光学系中及び前記第２部分光
学系中に夫々一個の平面反射部材を配置している。
ると共に往路の光束と復路の光束との分離を容易にする
事を目的とする。 【構成】第１部分光学系と第２部分光学系とを有する反
射屈折光学系に於いて、前記第１部分光学系は物体面側
から順に正屈折力の第１レンズ群Ｇ1 ，第１の凹面反射
鏡Ｍ1 ，弱い屈折力の第２レンズ群Ｇ2 を有し物体の一
次縮小像を形成し、前記第２部分光学系は第２の凹面反
射鏡Ｍ2 ，正屈折力の第３レンズ群Ｇ 3 を有し前記一次
縮小像を更に縮小して再結像させる構成としたものであ
る。そして、前記第１部分光学系中及び前記第２部分光
学系中に夫々一個の平面反射部材を配置している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は反射面を有する反射光学
系、特に縮小投影を行なう結像光学系に関する。
系、特に縮小投影を行なう結像光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、超ＬＳＩ等の半導体素子の製造に
用いられる反射型縮小投影型の露光装置としては、例え
ば特開昭６３−１６３３１９に開示された構成が知られ
ている。この様な露光装置によりサブミクロンに達する
微細なパターンの転写が可能となっている。
用いられる反射型縮小投影型の露光装置としては、例え
ば特開昭６３−１６３３１９に開示された構成が知られ
ている。この様な露光装置によりサブミクロンに達する
微細なパターンの転写が可能となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き反射鏡を含
んだ光学系ではウェハー及びレチクルを平行に位置づけ
ていない。もしウェハー及びレチクルを平行に位置づけ
て構成しなければ、装置構成に無理がかかるようにな
り、レチクル面とステージ面とを同時に精度良く動かす
事が困難となる。つまり、ステージ特性が悪くなる。
んだ光学系ではウェハー及びレチクルを平行に位置づけ
ていない。もしウェハー及びレチクルを平行に位置づけ
て構成しなければ、装置構成に無理がかかるようにな
り、レチクル面とステージ面とを同時に精度良く動かす
事が困難となる。つまり、ステージ特性が悪くなる。
【０００４】また、一般的に反射屈折光学系は比較的大
きな開口数を有し、反射鏡に到達する光線は光軸から離
れるに従って大きな広がり角を持ち、反射面鏡を挟んで
光が往復する。この為、反射鏡の前後に位置するレンズ
が互いに物理的に干渉してしまったり、像面或いは物体
面がその光学系を構成する要素（レンズ，鏡筒等）に重
なったり極端に近づいてしまう事が多く、製造上の困難
を伴う場合が多い。
きな開口数を有し、反射鏡に到達する光線は光軸から離
れるに従って大きな広がり角を持ち、反射面鏡を挟んで
光が往復する。この為、反射鏡の前後に位置するレンズ
が互いに物理的に干渉してしまったり、像面或いは物体
面がその光学系を構成する要素（レンズ，鏡筒等）に重
なったり極端に近づいてしまう事が多く、製造上の困難
を伴う場合が多い。
【０００５】本発明では、以上の事に鑑み、従来型の反
射縮小撮影露光装置のステージ特性が悪い事と往復光束
の物理的干渉及び製造上の困難を解決する為、レチクル
面とウェハー面とを共に平行に維持すると共に往路の光
束と復路の光束との分離を容易にする事を目的とする。
射縮小撮影露光装置のステージ特性が悪い事と往復光束
の物理的干渉及び製造上の困難を解決する為、レチクル
面とウェハー面とを共に平行に維持すると共に往路の光
束と復路の光束との分離を容易にする事を目的とする。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】本発明は、第１部分光学系
と第２部分光学系とを有する反射屈折光学系に於いて、
前記第１部分光学系は物体面側から順に正屈折力の第１
レンズ群Ｇ1 ，第１の凹面反射鏡Ｍ1 ，弱い屈折力の第
２レンズ群Ｇ2 を有し物体の一次縮小像を形成し、前記
第２部分光学系は第２の凹面反射鏡Ｍ2 ，正屈折力の第
３レンズ群Ｇ 3 を有し前記一次縮小像を更に縮小して再
結像させる構成としたものである。そして、前記第１部
分光学系中及び前記第２部分光学系中に夫々一個の平面
反射部材を配置している。
と第２部分光学系とを有する反射屈折光学系に於いて、
前記第１部分光学系は物体面側から順に正屈折力の第１
レンズ群Ｇ1 ，第１の凹面反射鏡Ｍ1 ，弱い屈折力の第
２レンズ群Ｇ2 を有し物体の一次縮小像を形成し、前記
第２部分光学系は第２の凹面反射鏡Ｍ2 ，正屈折力の第
３レンズ群Ｇ 3 を有し前記一次縮小像を更に縮小して再
結像させる構成としたものである。そして、前記第１部
分光学系中及び前記第２部分光学系中に夫々一個の平面
反射部材を配置している。
【０００７】具体的には、前記第１部分光学系中に配置
する平面反射部材Ｐ1 は第１レンズ群Ｇ1 と凹面反射鏡
Ｍ1 との間に配置し、前記第２部分光学系中に配置する
平面反射部材Ｐ2 は第２レンズ群Ｇ2 と凹面反射鏡Ｍ2
との間に配置する事が望ましい。更に往路の光束と復路
の光束を分離する為に、前記平面反射部材Ｐ1 と光軸と
のなす角をθ1 ，前記平面反射部材Ｐ2 と光軸とのなす
角をθ2 とするとき、以下の各条件を満足させる事が好
ましい。
する平面反射部材Ｐ1 は第１レンズ群Ｇ1 と凹面反射鏡
Ｍ1 との間に配置し、前記第２部分光学系中に配置する
平面反射部材Ｐ2 は第２レンズ群Ｇ2 と凹面反射鏡Ｍ2
との間に配置する事が望ましい。更に往路の光束と復路
の光束を分離する為に、前記平面反射部材Ｐ1 と光軸と
のなす角をθ1 ，前記平面反射部材Ｐ2 と光軸とのなす
角をθ2 とするとき、以下の各条件を満足させる事が好
ましい。
【０００８】３０°≦θ1 ≦６０° ３０°≦θ2 ≦６０°
【０００９】
【作用】物体面と像面を平行に構成する事により、屈折
型縮小投影露光装置と同じく精度を非常に高く維持する
事が可能となる。また、前記の様にレチクル面とウェハ
ー面が平行になるように光学系を配置した為、以前の反
射縮小投影光学系の様に複雑な配置になっていないの
で、製造が容易である。
型縮小投影露光装置と同じく精度を非常に高く維持する
事が可能となる。また、前記の様にレチクル面とウェハ
ー面が平行になるように光学系を配置した為、以前の反
射縮小投影光学系の様に複雑な配置になっていないの
で、製造が容易である。
【００１０】また、角度が適当な為、往路の光束と復路
の光束が重なり合う事が無く、物理的干渉が起こらな
い。上記条件式に示される角度範囲に於いては光学部材
間の物理的干渉を起こしにくく、これらの値を越えた角
度の場合には光路の往復での分離が困難となり、また製
造上も困難を伴うものとなる。更に、この様に、平面反
射部材が光線を曲げる角度が適当な為、平鏡面の反射増
加膜の極微小な凹凸による散乱等の悪い影響を受けにく
くなくなるので、更に良い性能の改善が期待できる。
の光束が重なり合う事が無く、物理的干渉が起こらな
い。上記条件式に示される角度範囲に於いては光学部材
間の物理的干渉を起こしにくく、これらの値を越えた角
度の場合には光路の往復での分離が困難となり、また製
造上も困難を伴うものとなる。更に、この様に、平面反
射部材が光線を曲げる角度が適当な為、平鏡面の反射増
加膜の極微小な凹凸による散乱等の悪い影響を受けにく
くなくなるので、更に良い性能の改善が期待できる。
【００１１】
【実施例】本発明における第１〜第４実施例をそれぞれ
図１から図４に示す。これらの実施例は、平面鏡Ｐ1 と
Ｐ2 を抜いた状態を考えると、結像光学系としては全く
同一である。つまり、これら実施例は平面鏡Ｐ1 とＰ2
の配置場所及び配置角度が異なる事によって、光学系の
経路が色々な形態を採り得る事を示している。これらの
実施例は全て開口数は0.45で、結像倍率は0.25となって
いる。
図１から図４に示す。これらの実施例は、平面鏡Ｐ1 と
Ｐ2 を抜いた状態を考えると、結像光学系としては全く
同一である。つまり、これら実施例は平面鏡Ｐ1 とＰ2
の配置場所及び配置角度が異なる事によって、光学系の
経路が色々な形態を採り得る事を示している。これらの
実施例は全て開口数は0.45で、結像倍率は0.25となって
いる。
【００１２】以下、各実施例について詳述する。 〔第１実施例〕先ず、平面鏡Ｐ1 とＰ2 を挿入してない
状態での光学系について述べる。レチクル面Ｏ上の光軸
から外れたある一点から出た光は正の屈折力を持つ第１
レンズ群Ｇ1 を通り、次に屈折力の弱い第４レンズ群Ｇ
4 を通る。レチクル面Ｏからの光線が入射する順に、第
１レンズ群Ｇ1 は両凸正レンズＬ1 ，レチクル面Ｏに凸
面を向けた正メニスカスレンズＬ2 ，レチクル面Ｏに凸
面を向けた負メニスカスレンズＬ3 ，レチクル面Ｏに凹
面を向けたメニスカスレンズＬ4 から構成され、あまり
屈折作用の無い第４レンズ群Ｇ4 はレチクル面Ｏに凹面
を向けた正メニスカスレンズＬ14，レチクル面Ｏに凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ15から構成される。
状態での光学系について述べる。レチクル面Ｏ上の光軸
から外れたある一点から出た光は正の屈折力を持つ第１
レンズ群Ｇ1 を通り、次に屈折力の弱い第４レンズ群Ｇ
4 を通る。レチクル面Ｏからの光線が入射する順に、第
１レンズ群Ｇ1 は両凸正レンズＬ1 ，レチクル面Ｏに凸
面を向けた正メニスカスレンズＬ2 ，レチクル面Ｏに凸
面を向けた負メニスカスレンズＬ3 ，レチクル面Ｏに凹
面を向けたメニスカスレンズＬ4 から構成され、あまり
屈折作用の無い第４レンズ群Ｇ4 はレチクル面Ｏに凹面
を向けた正メニスカスレンズＬ14，レチクル面Ｏに凹面
を向けた負メニスカスレンズＬ15から構成される。
【００１３】負メニスカスレンズＬ15を出た光は凹面鏡
Ｍ1 によって反射され、再び第４レンズ群Ｇ4 を通り、
次に弱い屈折力を持つ第２レンズ群Ｇ2 を通る。第２レ
ンズ群Ｇ2 は、レチクル面Ｏからの光線が入射する順
に、凹面鏡Ｍ1 に凸面を向けたメニスカスレンズＬ5 ，
凹面鏡Ｍ1 に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ6 ，凹
面鏡Ｍ1 に凸面を向けたメニスカスレンズＬ7 から構成
されている。
Ｍ1 によって反射され、再び第４レンズ群Ｇ4 を通り、
次に弱い屈折力を持つ第２レンズ群Ｇ2 を通る。第２レ
ンズ群Ｇ2 は、レチクル面Ｏからの光線が入射する順
に、凹面鏡Ｍ1 に凸面を向けたメニスカスレンズＬ5 ，
凹面鏡Ｍ1 に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ6 ，凹
面鏡Ｍ1 に凸面を向けたメニスカスレンズＬ7 から構成
されている。
【００１４】第２レンズ群Ｇ2 を通過した光は、通過し
た直後の位置で、一度結像する。結像した光線は凹面鏡
Ｍ2 で反射され、第３レンズ群Ｇ3 を通過し、ウェハー
面Ｉ上の光軸から外れたある一点に結像する。第３レン
ズ群Ｇ3 の構成は、レチクル面Ｏからの光線が入射する
順に、凹面鏡Ｍ2 に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
8 ，両凸正レンズＬ9 ，両凹負レンズＬ10，正レンズＬ
11，凹面鏡Ｍ2 に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ12，正レンズＬ13から成っている。以下に、上記の平
面鏡Ｐ1 及びＰ2 を挿入してない状態での光学系の諸元
を示す。 〔平面鏡を抜いた場合の実施例の諸元〕 Ｎｏ． 曲率半径 面間隔 硝材 （物体面） 156.413 １ -1504.578 32.000 ＳｉＯ2 Ｌ1 Ｇ1 ２ 473.028 0.100 ３ -243.213 33.000 ＳｉＯ2 Ｌ2 ４ -338.265 163.516 ５ -942.162 20.500 ＣａＦ2 Ｌ3 ６ -174.852 31.615 ７ 388.155 22.000 ＳｉＯ2 Ｌ4 ８ 264.475 267.743 ９ -489.715 30.000 ＳｉＯ2 Ｌ14 Ｇ4 １０ -247.927 15.000 １１ -195.710 24.000 ＳｉＯ2 Ｌ15 １２ -524.075 423.353 １３ -803.136 -423.353 凹面鏡 Ｍ1 １４ 524.075 -24.000 ＳｉＯ2 Ｌ15 Ｇ4 １５ 195.710 -15.000 １６ 247.927 -30.000 ＳｉＯ2 Ｌ14 １７ 489.715 -229.529 １８ 359.729 -20.000 ＳｉＯ2 Ｌ5 Ｇ2 １９ 267.913 -23.693 ２０ -204.736 -18.000 ＣａＦ2 Ｌ6 ２１ -437.175 -1.859 ２２ -340.140 -24.521 ＳｉＯ2 Ｌ7 ２３ -200.439 -666.695 ２４ 774.540 541.695 凹面鏡 Ｍ2 ２５ 191.906 17.000 ＳｉＯ2 Ｌ8 Ｇ3 ２６ 655.666 0.500 ２７ 145.173 27.730 ＣａＦ2 Ｌ9 ２８ -456.891 1.473 ２９ -336.794 11.000 ＳｉＯ2 Ｌ10 ３０ 506.419 0.500 ３１ 162.008 28.731 ＳｉＯ2 Ｌ11 ３２ -3757.555 0.500 ３３ 310.672 12.000 ＳｉＯ2 Ｌ12 ３４ 85.820 1.528 ３５ 99.150 44.619 ＳｉＯ2 Ｌ13 ３６ -587.904 15.134 Ｎ．Ａ．＝0.45 ， β＝0.25 図１に示した第１実施例では、平面鏡Ｐ1 の挿入位置は
第１レンズ群Ｇ1 と第２レンズ群Ｇ2 との間で、平面鏡
Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹面鏡Ｍ 2 との間
である。更に平面鏡Ｐ1 とＰ2 は互いに平行に配置され
ていて、これらと光軸とのなす角である挿入角は夫々４
５°である。 〔第２実施例〕図２に示した第２実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置は第１レンズ群Ｇ1 と第２レンズ群Ｇ2 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。更に平面鏡Ｐ1 とＰ2 は互いに
平行に配置されていて、これらと光軸とのなす角である
挿入角は夫々４０°である。平面鏡を除いた光学系は第
１実施例と同一である。 〔第３実施例〕図３に示した第３実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置が第２レンズ群Ｇ2 と第３レンズ群Ｇ3 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。平面鏡Ｐ1 は、凹面鏡Ｍ1 から
射出する射出光線を凹面鏡Ｍ1に入射する入射光線を横
切らない方向に曲げ、光軸とのなす角である挿入角は４
５°である。平面鏡Ｐ2 は平面鏡Ｐ1 と平行に配置さ
れ、平面鏡Ｐ2 と光軸のなす角である挿入角は４５°で
ある。平面鏡を除いた光学系は第１実施例と同一であ
る。 〔第４実施例〕図４に示した第４実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置が第２レンズ群Ｇ2 と第３レンズ群Ｇ3 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。平面鏡Ｐ1 は、凹面鏡Ｍ1 から
射出する射出光線を凹面鏡Ｍ1に入射する入射光線を横
切る方向に曲げ、光軸とのなす角である挿入角は４５°
である。平面鏡Ｐ2 は平面鏡Ｐ1 と直角に配置され、平
面鏡Ｐ2 と光軸のなす角である挿入角は４５°である。
平面鏡を除いた光学系は第１実施例と同一である。
た直後の位置で、一度結像する。結像した光線は凹面鏡
Ｍ2 で反射され、第３レンズ群Ｇ3 を通過し、ウェハー
面Ｉ上の光軸から外れたある一点に結像する。第３レン
ズ群Ｇ3 の構成は、レチクル面Ｏからの光線が入射する
順に、凹面鏡Ｍ2 に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ
8 ，両凸正レンズＬ9 ，両凹負レンズＬ10，正レンズＬ
11，凹面鏡Ｍ2 に凸面を向けた負メニスカスレンズ
Ｌ12，正レンズＬ13から成っている。以下に、上記の平
面鏡Ｐ1 及びＰ2 を挿入してない状態での光学系の諸元
を示す。 〔平面鏡を抜いた場合の実施例の諸元〕 Ｎｏ． 曲率半径 面間隔 硝材 （物体面） 156.413 １ -1504.578 32.000 ＳｉＯ2 Ｌ1 Ｇ1 ２ 473.028 0.100 ３ -243.213 33.000 ＳｉＯ2 Ｌ2 ４ -338.265 163.516 ５ -942.162 20.500 ＣａＦ2 Ｌ3 ６ -174.852 31.615 ７ 388.155 22.000 ＳｉＯ2 Ｌ4 ８ 264.475 267.743 ９ -489.715 30.000 ＳｉＯ2 Ｌ14 Ｇ4 １０ -247.927 15.000 １１ -195.710 24.000 ＳｉＯ2 Ｌ15 １２ -524.075 423.353 １３ -803.136 -423.353 凹面鏡 Ｍ1 １４ 524.075 -24.000 ＳｉＯ2 Ｌ15 Ｇ4 １５ 195.710 -15.000 １６ 247.927 -30.000 ＳｉＯ2 Ｌ14 １７ 489.715 -229.529 １８ 359.729 -20.000 ＳｉＯ2 Ｌ5 Ｇ2 １９ 267.913 -23.693 ２０ -204.736 -18.000 ＣａＦ2 Ｌ6 ２１ -437.175 -1.859 ２２ -340.140 -24.521 ＳｉＯ2 Ｌ7 ２３ -200.439 -666.695 ２４ 774.540 541.695 凹面鏡 Ｍ2 ２５ 191.906 17.000 ＳｉＯ2 Ｌ8 Ｇ3 ２６ 655.666 0.500 ２７ 145.173 27.730 ＣａＦ2 Ｌ9 ２８ -456.891 1.473 ２９ -336.794 11.000 ＳｉＯ2 Ｌ10 ３０ 506.419 0.500 ３１ 162.008 28.731 ＳｉＯ2 Ｌ11 ３２ -3757.555 0.500 ３３ 310.672 12.000 ＳｉＯ2 Ｌ12 ３４ 85.820 1.528 ３５ 99.150 44.619 ＳｉＯ2 Ｌ13 ３６ -587.904 15.134 Ｎ．Ａ．＝0.45 ， β＝0.25 図１に示した第１実施例では、平面鏡Ｐ1 の挿入位置は
第１レンズ群Ｇ1 と第２レンズ群Ｇ2 との間で、平面鏡
Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹面鏡Ｍ 2 との間
である。更に平面鏡Ｐ1 とＰ2 は互いに平行に配置され
ていて、これらと光軸とのなす角である挿入角は夫々４
５°である。 〔第２実施例〕図２に示した第２実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置は第１レンズ群Ｇ1 と第２レンズ群Ｇ2 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。更に平面鏡Ｐ1 とＰ2 は互いに
平行に配置されていて、これらと光軸とのなす角である
挿入角は夫々４０°である。平面鏡を除いた光学系は第
１実施例と同一である。 〔第３実施例〕図３に示した第３実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置が第２レンズ群Ｇ2 と第３レンズ群Ｇ3 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。平面鏡Ｐ1 は、凹面鏡Ｍ1 から
射出する射出光線を凹面鏡Ｍ1に入射する入射光線を横
切らない方向に曲げ、光軸とのなす角である挿入角は４
５°である。平面鏡Ｐ2 は平面鏡Ｐ1 と平行に配置さ
れ、平面鏡Ｐ2 と光軸のなす角である挿入角は４５°で
ある。平面鏡を除いた光学系は第１実施例と同一であ
る。 〔第４実施例〕図４に示した第４実施例では、平面鏡Ｐ
1 の挿入位置が第２レンズ群Ｇ2 と第３レンズ群Ｇ3 と
の間で、平面鏡Ｐ2 の挿入位置は第３レンズ群Ｇ3 と凹
面鏡Ｍ 2 との間である。平面鏡Ｐ1 は、凹面鏡Ｍ1 から
射出する射出光線を凹面鏡Ｍ1に入射する入射光線を横
切る方向に曲げ、光軸とのなす角である挿入角は４５°
である。平面鏡Ｐ2 は平面鏡Ｐ1 と直角に配置され、平
面鏡Ｐ2 と光軸のなす角である挿入角は４５°である。
平面鏡を除いた光学系は第１実施例と同一である。
【００１５】
【発明の効果】本発明の如く、少なくとも二枚の平面鏡
を適切な位置，適切な角度で反射屈折光学系の中に入れ
ることにより、光学素子間の物理的干渉を避ける事が出
来る。更に、反射縮小投影露光装置として構造上有利な
ように二枚の平面鏡の挿入角度を適切に選択する事によ
り物体と像を平行に維持しつつ、しかも装置の構成とし
て無理の無い場所に位置づける事が可能になり、製造に
おいても有利になる。
を適切な位置，適切な角度で反射屈折光学系の中に入れ
ることにより、光学素子間の物理的干渉を避ける事が出
来る。更に、反射縮小投影露光装置として構造上有利な
ように二枚の平面鏡の挿入角度を適切に選択する事によ
り物体と像を平行に維持しつつ、しかも装置の構成とし
て無理の無い場所に位置づける事が可能になり、製造に
おいても有利になる。
【図１】Ｐ1 の挿入場所がＧ1 とＧ2 との間で、Ｐ2 の
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
【図２】Ｐ1 の挿入場所がＧ1 とＧ2 との間で、Ｐ2 の
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４０°。
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４０°。
【図３】Ｐ1 の挿入場所がＧ2 とＧ3 との間で、Ｐ2 の
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
【図４】Ｐ1 の挿入場所がＧ2 とＧ3 との間で、Ｐ2 の
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
挿入場所はＧ3 とＭ2の間であり、Ｐ1 とＰ2 の挿入角
は夫々４５°。
Claims (4)
- 【請求項１】第１部分光学系と第２部分光学系とを有す
る反射屈折光学系に於いて、前記第１部分光学系は物体
面側から順に正屈折力の第１レンズ群Ｇ1 ，第１の凹面
反射鏡Ｍ1 ，弱い屈折力の第２レンズ群Ｇ2 を有し物体
の一次縮小像を形成し、前記第２部分光学系は第２の凹
面反射鏡Ｍ2 ，正屈折力の第３レンズ群Ｇ3 を有し前記
一次縮小像を更に縮小して再結像させ、前記第１部分光
学系中及び前記第２部分光学系中に夫々一個の平面反射
部材を配置する事により物体面と像面とを平行に配置し
た事を特徴とする反射縮小投影光学系。 - 【請求項２】前記第１部分光学系中に配置する平面反射
部材Ｐ1 は、第１レンズ群Ｇ1 と凹面反射鏡Ｍ1 との間
に配置することを特徴とする請求項１記載の反射縮小投
影光学系。 - 【請求項３】前記第２部分光学系中に挿入する平面反射
部材Ｐ2 は、第２レンズ群Ｇ2 と凹面反射鏡Ｍ2 との間
に配置することを特徴とする請求項１記載の反射縮小投
影光学系。 - 【請求項４】前記第１の平面反射部材Ｐ1 と光軸とのな
す角をθ1 ，前記第２の平面反射部材Ｐ2 と光軸とのな
す角をθ2 とするとき、以下の各条件を満足することを
特徴とする請求項１乃至３記載の反射縮小投影光学系。 ３０°≦θ1 ≦６０° ３０°≦θ2 ≦６０°
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5221001A JPH0772393A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 反射縮小投影光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5221001A JPH0772393A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 反射縮小投影光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772393A true JPH0772393A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16759922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5221001A Pending JPH0772393A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 反射縮小投影光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0772393A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999045580A1 (en) * | 1998-03-06 | 1999-09-10 | Nikon Corporation | Exposure device and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2000047114A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Carl Zeiss:Fa | カタディオプトリック光学系およびそれを有する露光装置 |
| JP2002372668A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
| WO2003036361A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-05-01 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus having the projection optical system |
| WO2006137349A1 (en) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Catadioptric projection optical system, and exposure apparatus having the same |
-
1993
- 1993-09-06 JP JP5221001A patent/JPH0772393A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6583856B1 (en) | 1998-03-06 | 2003-06-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and fabrication method of semiconductor device using the same |
| JP4333035B2 (ja) * | 1998-03-06 | 2009-09-16 | 株式会社ニコン | 露光装置および該装置を用いた半導体デバイスの製造方法 |
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| WO2002103431A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-27 | Nikon Corporation | Catadioptric system and exposure system provided with the system |
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