JPH0772668B2 - 高い強さの赤外線熱処理装置 - Google Patents
高い強さの赤外線熱処理装置Info
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- JPH0772668B2 JPH0772668B2 JP4500702A JP50070292A JPH0772668B2 JP H0772668 B2 JPH0772668 B2 JP H0772668B2 JP 4500702 A JP4500702 A JP 4500702A JP 50070292 A JP50070292 A JP 50070292A JP H0772668 B2 JPH0772668 B2 JP H0772668B2
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- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
- F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path
- F27B9/24—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path being carried by a conveyor
- F27B9/2407—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path being carried by a conveyor the conveyor being constituted by rollers (roller hearth furnace)
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/34—Methods of heating
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- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements for supplying or controlling air or other gases for drying solid materials or objects
- F26B21/40—Arrangements for supplying or controlling air or other gases for drying solid materials or objects using gases other than air
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- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
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- F27B9/04—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
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Description
【発明の詳細な説明】 I.発明の背景 1.発明の分野 本発明は、製品を熱処理する装置に関する。特に、本発
明は、熱処理炉を形成する様に協働する赤外線ランプ組
立体及び反射性セラミックを備える熱処理装置に関す
る。
明は、熱処理炉を形成する様に協働する赤外線ランプ組
立体及び反射性セラミックを備える熱処理装置に関す
る。
2.従来技術の説明 製品の連続的な流れを熱処理するための赤外線放射の使
用は、周知である。この一例は、1980年10月21日付米国
特許第4,229,236号に示される。該特許では、高い強さ
の赤外線放射ランプの一対の離れた平行は列は、熱処理
領域の両側に配置される。製品の連続的なシートは、処
理領域を通って送られる。セラミック反射器は、ランプ
の列の外側に設けられる。該反射器は、空気の流れがラ
ンプを冷却するために通過可能な開口部を備えている。
用は、周知である。この一例は、1980年10月21日付米国
特許第4,229,236号に示される。該特許では、高い強さ
の赤外線放射ランプの一対の離れた平行は列は、熱処理
領域の両側に配置される。製品の連続的なシートは、処
理領域を通って送られる。セラミック反射器は、ランプ
の列の外側に設けられる。該反射器は、空気の流れがラ
ンプを冷却するために通過可能な開口部を備えている。
熱処理の目的のために赤外線ランプを使用する際、著し
い量の設備の休止時間は、時々切れるランプを交換する
必要に帰せられ得る。ランプの寿命を増大すると共に、
最高の可能なランプの強さを運転中に可能にすること
は、望ましい。又、米国特許第4,229,236号に示される
ような装置では、ランプは、製品を直接に加熱する。直
接の熱処理は、直接の熱が標的を外れるか又は局部的な
高温点を妨げ得るために連続的な製品の流れを熱処理す
る際に一般に望ましくない。熱処理領域に沿って均等な
熱の強さの炉状環境を設けることは、一層望ましい。
又、該装置を設けると共に熱処理領域内の雰囲気の制御
を可能にすることは、時には望ましい。
い量の設備の休止時間は、時々切れるランプを交換する
必要に帰せられ得る。ランプの寿命を増大すると共に、
最高の可能なランプの強さを運転中に可能にすること
は、望ましい。又、米国特許第4,229,236号に示される
ような装置では、ランプは、製品を直接に加熱する。直
接の熱処理は、直接の熱が標的を外れるか又は局部的な
高温点を妨げ得るために連続的な製品の流れを熱処理す
る際に一般に望ましくない。熱処理領域に沿って均等な
熱の強さの炉状環境を設けることは、一層望ましい。
又、該装置を設けると共に熱処理領域内の雰囲気の制御
を可能にすることは、時には望ましい。
II.発明の要約 本発明の好適実施例によると、装置は、製品を熱処理す
るために設けられる。該装置は、複数のランプ組立体を
備えている。各組立体は、赤外線放射に対してほゞ透明
な材料で形成される導管内に配置される赤外線ランプを
有している。冷却用ガスは、運転の際にランプを冷却す
るために導管の内部へ入れられる。フレームは、熱処理
領域を与えるために設けられる。該フレームは、熱処理
領域に対向する組立体を有する複数のランプ組立体を支
持する。反射性耐火物は、熱処理領域及びランプを包囲
して設けられる。
るために設けられる。該装置は、複数のランプ組立体を
備えている。各組立体は、赤外線放射に対してほゞ透明
な材料で形成される導管内に配置される赤外線ランプを
有している。冷却用ガスは、運転の際にランプを冷却す
るために導管の内部へ入れられる。フレームは、熱処理
領域を与えるために設けられる。該フレームは、熱処理
領域に対向する組立体を有する複数のランプ組立体を支
持する。反射性耐火物は、熱処理領域及びランプを包囲
して設けられる。
III.図面の詳細な説明 第１図は、本発明による熱処理装置の側部立面図であ
り、 第２図は、第１図の線２−２に沿って取られる図であ
り、 第３図は、第２図の線３−３に沿って取られる図であ
り、 第４図は、第２図の線４−４に沿って取られる図であ
り、 第５図は、第１図の装置の立面において取られる端面図
であり、 第６図は、分離されて示されるフレームの上側及び下側
の半分を有する第３図の図であり、 第７図は、本発明に使用するランプ組立体の拡大横断面
図である。
り、 第２図は、第１図の線２−２に沿って取られる図であ
り、 第３図は、第２図の線３−３に沿って取られる図であ
り、 第４図は、第２図の線４−４に沿って取られる図であ
り、 第５図は、第１図の装置の立面において取られる端面図
であり、 第６図は、分離されて示されるフレームの上側及び下側
の半分を有する第３図の図であり、 第７図は、本発明に使用するランプ組立体の拡大横断面
図である。
IV.好適実施例の説明 全体にわたって同一の要素が同一の符号を与えられる幾
つかの図面を次に参照して、本発明の好適実施例の説明
が次に与えられる。
つかの図面を次に参照して、本発明の好適実施例の説明
が次に与えられる。
本発明による熱処理装置10は、上側フレーム半分14と、
下側フレーム半分16とを有するフレーム12を備えて示さ
れる。フレーム半分14,16は、分離線18において結合さ
れる。上側フレーム半分14は、工場の床に支持される支
持構造の様な任意の好適な装置（図示せず）によって移
動しない様に固定される。下側フレーム半分16は、上側
フレーム半分14に向かって又離れるように移動可能であ
る。空気作動シリンダ20は、下側フレーム半分16の運動
を制御するために設けられる。図をわかり易くするた
め、フレーム半分14,16の支持構造は、示されない。
又、図をわかり易くするため、第１図は、上側フレーム
半分14の母線、赤外線ランプ組立体又は冷却用空気のマ
ニホールドを示さない。これ等の要素は、他の図面に示
され、この明細書のどこかの所で説明される。
下側フレーム半分16とを有するフレーム12を備えて示さ
れる。フレーム半分14,16は、分離線18において結合さ
れる。上側フレーム半分14は、工場の床に支持される支
持構造の様な任意の好適な装置（図示せず）によって移
動しない様に固定される。下側フレーム半分16は、上側
フレーム半分14に向かって又離れるように移動可能であ
る。空気作動シリンダ20は、下側フレーム半分16の運動
を制御するために設けられる。図をわかり易くするた
め、フレーム半分14,16の支持構造は、示されない。
又、図をわかり易くするため、第１図は、上側フレーム
半分14の母線、赤外線ランプ組立体又は冷却用空気のマ
ニホールドを示さない。これ等の要素は、他の図面に示
され、この明細書のどこかの所で説明される。
フレーム半分14は、端壁22,24と、側壁26,28と、上壁30
とを有している。フレーム12の壁は、端壁22から端壁24
までの装置10の長さを延びる熱処理領域40を限定する様
に協働する。端部キャップ23,25は、端壁22,24に設けら
れる。
とを有している。フレーム12の壁は、端壁22から端壁24
までの装置10の長さを延びる熱処理領域40を限定する様
に協働する。端部キャップ23,25は、端壁22,24に設けら
れる。
第１図に示される様に、側壁26,28は、赤外線ランプ組
立体34（第２図参照）を収容する様な大きさの複数の孔
32を設けられる。保護ロッド38を収容する様な大きさの
小さい直径の孔36は、孔32の間に散在する。
立体34（第２図参照）を収容する様な大きさの複数の孔
32を設けられる。保護ロッド38を収容する様な大きさの
小さい直径の孔36は、孔32の間に散在する。
好適実施例では、本発明は、装置を通って常に移動する
連続的な又は同様なワイヤ42の形状の製品を熱処理する
際に使用する様に意図される（装置10は、ワイヤ42を熱
処理する様に示されるが、多種多様の製品を熱処理する
のに使用可能なことが認められる）。好ましくは、３本
又はそれ以上のワイヤが端壁22,24及び端部キャップ23,
25に孔を形成することにより（端部キャップ25に示され
る孔45、第５図参照、及び端壁24に示される孔47、第３
図参照の様に）同時に熱処理されてもよい。
連続的な又は同様なワイヤ42の形状の製品を熱処理する
際に使用する様に意図される（装置10は、ワイヤ42を熱
処理する様に示されるが、多種多様の製品を熱処理する
のに使用可能なことが認められる）。好ましくは、３本
又はそれ以上のワイヤが端壁22,24及び端部キャップ23,
25に孔を形成することにより（端部キャップ25に示され
る孔45、第５図参照、及び端壁24に示される孔47、第３
図参照の様に）同時に熱処理されてもよい。
前述の様に、複数のランプ組立体34は、側壁26から側壁
28を通り孔32を貫通して延びて設けられる。各組立体34
は、高い強さの赤外線ランプ44を有している。各組立体
34は、ランプ44を収容するための導管として作用する赤
外線透過の石英チューブ46を更に有している。装置（図
示しないが好ましくは商業上入手可能な保持クリップの
形状の）は、各石英チューブ46内に赤外線ランプ44を同
心状に位置決めするために設けられる。組立体34は、側
壁26,28を貫通して延びる石英チューブを有し熱処理領
域40内に配置される。赤外線ランプ44は、石英チューブ
46の端末端部を僅かに越えて延びる様にランプ44の電気
導線端部49に対して選択される長さを有している（第２
図参照）。
28を通り孔32を貫通して延びて設けられる。各組立体34
は、高い強さの赤外線ランプ44を有している。各組立体
34は、ランプ44を収容するための導管として作用する赤
外線透過の石英チューブ46を更に有している。装置（図
示しないが好ましくは商業上入手可能な保持クリップの
形状の）は、各石英チューブ46内に赤外線ランプ44を同
心状に位置決めするために設けられる。組立体34は、側
壁26,28を貫通して延びる石英チューブを有し熱処理領
域40内に配置される。赤外線ランプ44は、石英チューブ
46の端末端部を僅かに越えて延びる様にランプ44の電気
導線端部49に対して選択される長さを有している（第２
図参照）。
複数の充電されて接地される母線48,50の夫々は、側壁2
6,28に夫々装着されて設けられる。各線48,50は同一で
ある。線48,50は、中空であり導電性材料から形成され
る。線48,50は、装着用ブラケット54に支持される誘電
性スペーサ52によって側壁26,28に装着される（第４
図、第５図であれば最良に示される）。
6,28に夫々装着されて設けられる。各線48,50は同一で
ある。線48,50は、中空であり導電性材料から形成され
る。線48,50は、装着用ブラケット54に支持される誘電
性スペーサ52によって側壁26,28に装着される（第４
図、第５図であれば最良に示される）。
赤外線ランプ44の露出される電気導線端部49は、電気導
体56によって母線48,50に結合される（第２図参照）。
（第２図ではわかり易くするために総てではないランプ
44が母線48,50に結合されて示される。）主な電気導線5
8.60は、ランプを横切る回路を完成する様に電位又はア
ース（図示せず）に母線48,50を夫々結合する。
体56によって母線48,50に結合される（第２図参照）。
（第２図ではわかり易くするために総てではないランプ
44が母線48,50に結合されて示される。）主な電気導線5
8.60は、ランプを横切る回路を完成する様に電位又はア
ース（図示せず）に母線48,50を夫々結合する。
前述の様に、各母線48,50は、中空である。主分配マニ
ホールド62は、上側フレーム半分14上に支持され、導管
64を経て圧力空気源（図示せず）。複数の分配導管66
は、母線48,50の内部へ圧力空気を分配するために各中
空母線48,50の内部にマニホールド62を結合する。複数
の銅チューブ68は、導管46の内部へ空気流を通過する様
に母線48,50の内部に結合して設けられる。図示の様
に、母線48,50からのチューブ68は、１本置きの隣接す
る導管46へ延びる。従って、圧力空気は、マニホールド
62から各ランプ組立体34へ入れられる。
ホールド62は、上側フレーム半分14上に支持され、導管
64を経て圧力空気源（図示せず）。複数の分配導管66
は、母線48,50の内部へ圧力空気を分配するために各中
空母線48,50の内部にマニホールド62を結合する。複数
の銅チューブ68は、導管46の内部へ空気流を通過する様
に母線48,50の内部に結合して設けられる。図示の様
に、母線48,50からのチューブ68は、１本置きの隣接す
る導管46へ延びる。従って、圧力空気は、マニホールド
62から各ランプ組立体34へ入れられる。
第２図に示される様に、ランプ組立体34は、製品ワイヤ
42の移動の方向に対してほゞ横方向に並んだ関係で配置
される。セラミック保護スペーサ38は、ランプ組立体34
の平面の下に延びる。スペーサ38は、石英チューブ46へ
の損傷を防止するためにランプ組立体34から離れた関係
に製品ワイヤ42を保つ。
42の移動の方向に対してほゞ横方向に並んだ関係で配置
される。セラミック保護スペーサ38は、ランプ組立体34
の平面の下に延びる。スペーサ38は、石英チューブ46へ
の損傷を防止するためにランプ組立体34から離れた関係
に製品ワイヤ42を保つ。
反射性セラミック70の形状の反射性耐火材料は、ランプ
組立体34を包囲し且つ熱処理領域40を包囲して設けられ
る。第３図、第６図に最も良く示される耐火材料70は、
塑造可能なセラミック繊維（好ましくは3000゜Ｆ（1649
℃）の塑造可能なセラミック繊維）の薄いシート71,73
である。セラミック繊維シートの厚さは、例示の目的の
ために第３図、第６図に誇張して示される。
組立体34を包囲し且つ熱処理領域40を包囲して設けられ
る。第３図、第６図に最も良く示される耐火材料70は、
塑造可能なセラミック繊維（好ましくは3000゜Ｆ（1649
℃）の塑造可能なセラミック繊維）の薄いシート71,73
である。セラミック繊維シートの厚さは、例示の目的の
ために第３図、第６図に誇張して示される。
シート71は、上側フレーム半分14によって支持され、シ
ート73は、下側フレーム半分16によって支持される。上
側フレーム半分14内にシート71を保持するため、タイロ
ッド72は、上側フレーム半分14の長さに延びて設けられ
る。タイロッド72は、セラミックの各シート71を貫通し
て延びる。タイロッド72は、金属クリップ74によって上
壁30から支持される。
ート73は、下側フレーム半分16によって支持される。上
側フレーム半分14内にシート71を保持するため、タイロ
ッド72は、上側フレーム半分14の長さに延びて設けられ
る。タイロッド72は、セラミックの各シート71を貫通し
て延びる。タイロッド72は、金属クリップ74によって上
壁30から支持される。
セラミックスペーサ76は、下側フレーム半分16内に設け
られる装着用クリップ78上に支持される。スペーサ78
は、スペーサ38,76の間に位置決めされる製品ワイヤ42
に関して配置される。スペーサ76は、製品42が垂れ下が
って下側セラミックシート73に接触するのを防止する。
られる装着用クリップ78上に支持される。スペーサ78
は、スペーサ38,76の間に位置決めされる製品ワイヤ42
に関して配置される。スペーサ76は、製品42が垂れ下が
って下側セラミックシート73に接触するのを防止する。
ガス進入ポート80は、上壁30から絶縁材71を通り熱処理
領域40内へ延びて設けられる。ポート80は、任意の所望
の制御ガス源（図示せず）へ結合されてもよい。例え
ば、ポート80は、工程の適用がそのように必要であれ
ば、不活性ガスとしての加圧窒素又は任意の還元ガスの
源へ結合されてもよい。
領域40内へ延びて設けられる。ポート80は、任意の所望
の制御ガス源（図示せず）へ結合されてもよい。例え
ば、ポート80は、工程の適用がそのように必要であれ
ば、不活性ガスとしての加圧窒素又は任意の還元ガスの
源へ結合されてもよい。
このように説明される装置により、製品42は、端壁24か
ら端壁22へ装置10を通って連続的に送給されてもよい。
赤外線ランプ44は、母線48,50を付勢することによって
付勢される。好適な例では、該ランプは、領域40を約20
00゜Ｆ（1093℃）に加熱するために約4000゜Ｆ（2204
℃）に熱くなる。ランプ44は、熱処理領域40内のエネル
ギを消散する様に反射性セラミック70と協働する。従っ
て、領域40内の温度は、熱処理領域40の長さの全体にわ
たって一定である。これは、装置10の内部の炉状効果を
生じる。該装置が製品ワイヤ42等を熱処理するために使
用される際、窒素の様な不活性ガスは、周囲の空気圧力
よりも大きい圧力においてポート80を経て処理領域40へ
入れられる。これは、領域40内の不活性雰囲気の存在を
保証する。工程の全体にわたって、冷却剤空気（即ち、
加圧される周囲空気）は、主マニホールド62からチュー
ブ68を経て各石英導管46内へ送られる。冷却剤空気は、
ランプをそれ等の有効寿命の向上のために冷却する。
ら端壁22へ装置10を通って連続的に送給されてもよい。
赤外線ランプ44は、母線48,50を付勢することによって
付勢される。好適な例では、該ランプは、領域40を約20
00゜Ｆ（1093℃）に加熱するために約4000゜Ｆ（2204
℃）に熱くなる。ランプ44は、熱処理領域40内のエネル
ギを消散する様に反射性セラミック70と協働する。従っ
て、領域40内の温度は、熱処理領域40の長さの全体にわ
たって一定である。これは、装置10の内部の炉状効果を
生じる。該装置が製品ワイヤ42等を熱処理するために使
用される際、窒素の様な不活性ガスは、周囲の空気圧力
よりも大きい圧力においてポート80を経て処理領域40へ
入れられる。これは、領域40内の不活性雰囲気の存在を
保証する。工程の全体にわたって、冷却剤空気（即ち、
加圧される周囲空気）は、主マニホールド62からチュー
ブ68を経て各石英導管46内へ送られる。冷却剤空気は、
ランプをそれ等の有効寿命の向上のために冷却する。
前述の様に、冷却ガスは、ランプ組立体34を経て送られ
る。運転の際、装置の温度は、全く高くてもよい。例え
ば、熱処理領域40内の温度は、好ましくは約1500゜Ｆ
（816℃）である。1500゜Ｆ（816℃）をこえる温度で
は、石英チューブ46は、劣化し得る。例えば1500゜Ｆか
ら1800゜Ｆ（816℃から982℃）まででは、石英は軟化し
て垂れ下がる。
る。運転の際、装置の温度は、全く高くてもよい。例え
ば、熱処理領域40内の温度は、好ましくは約1500゜Ｆ
（816℃）である。1500゜Ｆ（816℃）をこえる温度で
は、石英チューブ46は、劣化し得る。例えば1500゜Ｆか
ら1800゜Ｆ（816℃から982℃）まででは、石英は軟化し
て垂れ下がる。
石英チューブ46を通過する空気は、垂れ下がりを防止す
る様に石英チューブ46を冷却する。しかしながら、空気
の流れは、赤外線ランプ44の効率に悪影響を及ぼし得
る。従って、石英チューブ46を通る空気の流れは、石英
チューブ46が垂れ下がるのを防止するのに充分な冷却を
与えると共にランプ44の効率への悪影響を最小限にする
様に釣り合いを取らねばならない。
る様に石英チューブ46を冷却する。しかしながら、空気
の流れは、赤外線ランプ44の効率に悪影響を及ぼし得
る。従って、石英チューブ46を通る空気の流れは、石英
チューブ46が垂れ下がるのを防止するのに充分な冷却を
与えると共にランプ44の効率への悪影響を最小限にする
様に釣り合いを取らねばならない。
望ましい釣り合いを達成するため、石英チューブ46を通
る空気の流れは、熱処理領域40内の温度が所定の最低温
度を越えるときにのみ与えられる（好適実施例では、所
定の最低温度は、1500゜Ｆ（816℃）である）。
る空気の流れは、熱処理領域40内の温度が所定の最低温
度を越えるときにのみ与えられる（好適実施例では、所
定の最低温度は、1500゜Ｆ（816℃）である）。
チューブ46を通る空気の流れの量は、チューブ46の熱エ
ネルギに釣り合う様に選択される。即ち、熱処理領域40
における空気の質量は、チューブ46から熱エネルギを奪
う。チューブ46から奪われる熱エネルギが所定の温度よ
り低くチューブ46の温度を保つのに不十分であれば、空
気の流れは、チューブ46からエネルギを抽出する様に選
択される比率においてチューブ46を通過する。空気の流
れの量は、チューブ46の長さと、ランプ44を横切る電圧
と、周囲温度（即ち、チューブ46の直ぐ近くにおける領
域40の温度）との関数である。空気の流れの実際の量
は、所与の装置10に対して経験的に得られ、装置が使用
される操作工程によって変化する。
ネルギに釣り合う様に選択される。即ち、熱処理領域40
における空気の質量は、チューブ46から熱エネルギを奪
う。チューブ46から奪われる熱エネルギが所定の温度よ
り低くチューブ46の温度を保つのに不十分であれば、空
気の流れは、チューブ46からエネルギを抽出する様に選
択される比率においてチューブ46を通過する。空気の流
れの量は、チューブ46の長さと、ランプ44を横切る電圧
と、周囲温度（即ち、チューブ46の直ぐ近くにおける領
域40の温度）との関数である。空気の流れの実際の量
は、所与の装置10に対して経験的に得られ、装置が使用
される操作工程によって変化する。
釣り合いを達成するため、熱電対100（第１図、第４図
にのみ概略で示される）は、チャンバ40内の温度を検知
するために設けられる。熱電対100は、コントローラ102
へ信号を与える。コントローラ102は、ランプ44を横切
る電圧を検知する電圧センサー104からも入力を受け取
る。ランプ44の電圧と、チャンバ40内の温度とを比較し
て、コントローラ102は、熱処理領域40内の温度が所定
の最低温度を越えるとき、石英チューブ46に冷却剤ガス
を流通させる様に送風機106を運転する。石英チューブ4
6を通る空気の流れは、熱電対100によって測定される温
度によって増大される様にランプ44を横切る電圧の増加
関数として選択される。該増加関数は、石英チューブ46
の劣化を防止するのに必要な最小空気流である様に空気
の流れに対して選択される。
にのみ概略で示される）は、チャンバ40内の温度を検知
するために設けられる。熱電対100は、コントローラ102
へ信号を与える。コントローラ102は、ランプ44を横切
る電圧を検知する電圧センサー104からも入力を受け取
る。ランプ44の電圧と、チャンバ40内の温度とを比較し
て、コントローラ102は、熱処理領域40内の温度が所定
の最低温度を越えるとき、石英チューブ46に冷却剤ガス
を流通させる様に送風機106を運転する。石英チューブ4
6を通る空気の流れは、熱電対100によって測定される温
度によって増大される様にランプ44を横切る電圧の増加
関数として選択される。該増加関数は、石英チューブ46
の劣化を防止するのに必要な最小空気流である様に空気
の流れに対して選択される。
本発明の説明の前述の詳細により、本発明が好適な態様
において如何に達成されたかが示される。しかしなが
ら、当業者に容易に考えられるものの様な開示される概
念の変更及び同等なものは、本発明の範囲内に含まれる
様に意図される。
において如何に達成されたかが示される。しかしなが
ら、当業者に容易に考えられるものの様な開示される概
念の変更及び同等なものは、本発明の範囲内に含まれる
様に意図される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−8355（ＪＰ，Ａ) 実公 昭61−5598（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (16)
- 【請求項１】（１）（イ）赤外線ランプ （ロ）該赤外線ランプがその内部に配置され、赤外線を
透過させる材料製のランプ導管、及び （ハ）冷却用ガスを前記ランプ導管に入れるための冷却
用ガス導入装置 とよりなるランプ組立体が複数個配置され、 （２）熱処理領域を限定し、第一半分と第二半分とより
なり、且つ第一半分が前記複数のランプ組立体を支持す
るフレームを有し、 （３）更に前記限定された領域が反射性耐火物で囲まれ
ている 製品を熱処理する装置。 - 【請求項２】前記組立体が、前記領域に対向してほゞ並
んだ関係で配置され、前記反射性耐火物が、該領域に対
向する該組立体の側部の該耐火物の第１部分と、該組立
体の反対側の該領域の側部の該耐火物の第２部分とより
なる請求の範囲第１項記載の装置。 - 【請求項３】前記領域へ制御ガスを入れる雰囲気制御装
置を備える請求の範囲第１項に記載の装置。 - 【請求項４】前記ガスが、不活性である請求の範囲第３
項に記載の装置。 - 【請求項５】前記ガスが、還元ガスである請求の範囲第
３項に記載の装置。 - 【請求項６】前記ガスが、窒素である請求の範囲第４項
に記載の装置。 - 【請求項７】前記制御ガスが、周囲圧力よりも大きい圧
力において前記領域へ入れられる請求の範囲第３項に記
載装置。 - 【請求項８】前記フレームが、前記熱処理領域を露出す
るために前記第１及び第２の半分を分離する装置を備え
る請求の範囲第２項に記載の装置。 - 【請求項９】前記冷却用ガス進入装置が、冷却用ガスの
加圧される流れを前記ランプ導管の内部へ入れる装置を
有する請求の範囲第１項に記載の装置。 - 【請求項１０】前記冷却用ガスが、空気である請求の範
囲第９項に記載の装置。 - 【請求項１１】前記導管が、石英である請求の範囲第１
項に記載の装置。 - 【請求項１２】前記反射性耐火物が、反射性セラミック
を含む請求の範囲第１項に記載の装置。 - 【請求項１３】製品の長さに沿って連続的に移動される
製品を熱処理する装置において、 前記製品が該製品の長さに沿って移動される際に該製品
を収容する様な大きさの製品熱処理領域を限定する複数
の壁を有するフレームを備え、該複数の壁が、端壁の間
に延びる該製品を伴い該フレームの外部から該熱処理領
域内へ該製品を通す装置を有する端壁を含み、該フレー
ムは第一の半分と第二の半分、及び前記熱処理領域を露
出するために前記第一及び第二の半分を分離する装置を
含み、 更に、赤外線ランプを内部に有し、赤外線を透過させる
材料製のランプ導管及び冷却用ガスを前記ランプに入れ
るための冷却用ガス導入管とよりなるランプ組立体が複
数個配置され、該複数のランプ組立体は、前記第一半分
に固定され前記熱処理領域に対向してほゞ並んだ関係に
配置されて、前記フレームに支持され、 更に前記製品を前記組立体から離すためのスペーサを備
え、 且つ、該熱処理領域を包囲し、フレームの前記第一半分
に固定され該領域に対向して前記組立体の横に配置され
る第一部分と、フレームの前記第二半分に固定され前記
組立体と対向して前記領域の横に配置される第二部分を
含む反射性耐火物を備える装置。 - 【請求項１４】制御ガスを前記熱処理領域へ入れる雰囲
気制御装置を備える請求の範囲第13項に記載の装置。 - 【請求項１５】前記耐火物第一部分が、面対空間の関係
で配置される反射性セラミックの複数のシートを有する
請求の範囲第13項に記載の装置。 - 【請求項１６】少なくとも一本の荷電される線と、一本
の接地される線とを有し前記フレームに支持される複数
の母線を備え、該母線が、前記各ランプを一本の荷電さ
れる線と、一本の接地される線とへ結合する装置を有す
る請求の範囲第13項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/598,393 US5551670A (en) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | High intensity infrared heat treating apparatus |
| US598.393 | 1990-10-16 | ||
| PCT/US1991/007540 WO1992007224A1 (en) | 1990-10-16 | 1991-10-15 | High intensity infrared heat treating apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05506299A JPH05506299A (ja) | 1993-09-16 |
| JPH0772668B2 true JPH0772668B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=24395374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4500702A Expired - Lifetime JPH0772668B2 (ja) | 1990-10-16 | 1991-10-15 | 高い強さの赤外線熱処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5551670A (ja) |
| EP (1) | EP0553305A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0772668B2 (ja) |
| CA (1) | CA2093002A1 (ja) |
| WO (1) | WO1992007224A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008124202A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Sharp Corp | 半導体装置製造用焼成装置および半導体装置製造方法 |
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| US6291027B1 (en) | 1999-05-26 | 2001-09-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Processes for drying and curing primer coating compositions |
| US6596347B2 (en) | 1999-05-26 | 2003-07-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-stage processes for coating substrates with a first powder coating and a second powder coating |
| US6863935B2 (en) | 1999-05-26 | 2005-03-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-stage processes for coating substrates with multi-component composite coating compositions |
| US6231932B1 (en) | 1999-05-26 | 2001-05-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Processes for drying topcoats and multicomponent composite coatings on metal and polymeric substrates |
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- 1991-10-15 JP JP4500702A patent/JPH0772668B2/ja not_active Expired - Lifetime
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