JPH0775865A - 軽合金鋳造用給湯炉における給湯制御装置 - Google Patents
軽合金鋳造用給湯炉における給湯制御装置Info
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- JPH0775865A JPH0775865A JP22142193A JP22142193A JPH0775865A JP H0775865 A JPH0775865 A JP H0775865A JP 22142193 A JP22142193 A JP 22142193A JP 22142193 A JP22142193 A JP 22142193A JP H0775865 A JPH0775865 A JP H0775865A
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Landscapes
- Casting Support Devices, Ladles, And Melt Control Thereby (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 湯面レベル制御範囲が初期の設定値から変化
するのを防止し、一定湯面レベル制御を良好とし、給湯
精度の向上及び湯面レベル調整並びに変更の容易化を図
る。 【構成】 所定温度の軽合金溶湯が保持された給湯炉1
内に、保持室2、管理室3及び出湯室4を備え、大気開
放状態の管理室3内の溶湯面上部に超音波センサー13
等の非接触式センサーからなる湯面検出手段を配設し、
前記センサー13の出力信号に応じて前記保持室2内の
加圧力を調整し、前記湯面レベルLが設定範囲L0内に
平衡的に保持された後、出湯室4から鋳造機に給湯す
る。
するのを防止し、一定湯面レベル制御を良好とし、給湯
精度の向上及び湯面レベル調整並びに変更の容易化を図
る。 【構成】 所定温度の軽合金溶湯が保持された給湯炉1
内に、保持室2、管理室3及び出湯室4を備え、大気開
放状態の管理室3内の溶湯面上部に超音波センサー13
等の非接触式センサーからなる湯面検出手段を配設し、
前記センサー13の出力信号に応じて前記保持室2内の
加圧力を調整し、前記湯面レベルLが設定範囲L0内に
平衡的に保持された後、出湯室4から鋳造機に給湯す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、軽合金鋳造用給湯炉に
おける給湯制御装置に関するものである。
おける給湯制御装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、ダイカスト・マシン等を用いて
軽合金の鋳造を行なう場合、図10に示す空圧式定湯面
給湯炉或いは図5に示す浮子式定湯面給湯炉が用いられ
ている。図10に示す給湯炉41は、溶湯保持室42,
管理室43,出湯室44を備え、所定温度の溶湯45
(例えば700℃のアルミニウム合金)を保持するよう
になっており、前記保持室42には流量調節バルブ46
を介して加圧空気供給管47が接続され、上部が大気開
放状態の管理室43の溶湯面上部に湯面レベル検出手段
48が配設され、出湯室44の底部に設けた連通孔49
をスピンドル50により開閉可能とし、出湯口51がダ
イカスト・マシン(図示省略)に連通されている。
軽合金の鋳造を行なう場合、図10に示す空圧式定湯面
給湯炉或いは図5に示す浮子式定湯面給湯炉が用いられ
ている。図10に示す給湯炉41は、溶湯保持室42,
管理室43,出湯室44を備え、所定温度の溶湯45
(例えば700℃のアルミニウム合金)を保持するよう
になっており、前記保持室42には流量調節バルブ46
を介して加圧空気供給管47が接続され、上部が大気開
放状態の管理室43の溶湯面上部に湯面レベル検出手段
48が配設され、出湯室44の底部に設けた連通孔49
をスピンドル50により開閉可能とし、出湯口51がダ
イカスト・マシン(図示省略)に連通されている。
【0003】従来、前記湯面レベル検出手段48として
は、図11に示すように、低レベル棒センサー52と、
高レベル棒センサー53と、下限検知用棒センサー54
と、上限検知用棒センサー55及びアース56とからな
り、低レベル棒センサー52と高レベル棒センサー53
間がレベル設定制御範囲L0とされ、給湯制御は次のよ
うに行われる。
は、図11に示すように、低レベル棒センサー52と、
高レベル棒センサー53と、下限検知用棒センサー54
と、上限検知用棒センサー55及びアース56とからな
り、低レベル棒センサー52と高レベル棒センサー53
間がレベル設定制御範囲L0とされ、給湯制御は次のよ
うに行われる。
【0004】即ち、鋳造操作によって、一定量の溶湯4
5がダイカスト・マシンに送り出されると、出湯室44
の湯面レベルL2が低下する。そこで、前記スピンドル
50により連通孔49を開くと、出湯室44と管理室4
3及び保持室42の湯面レベルLが低下して、管理室4
3の低レベル棒センサー52が湯面から離れる。低レベ
ル棒センサー52が湯面から離れると、加圧空気を送る
流量調節バルブ46が少し開いて、保持室42の空気圧
力が高められ、管理室43の湯面が押し上げられて、湯
面が低レベル棒センサー52に接触する。なお、管理室
43の湯面を押し上げ過ぎた場合には、湯面と高レベル
棒センサー53とが接触し、前記流量調節バルブ46が
少し閉じられて、保持室42内の空気圧力が若干低下
し、管理室43の湯面レベルLが下がり、常に、湯面レ
ベルLが前記棒センサー5253の間即ちレベル設定制
御範囲L0にあるように制御され、湯面が該レベルL0
に平衡的に保持されているとき、前記連通孔49をスピ
ンドル50により閉じ、出湯を行なうようにしている。
5がダイカスト・マシンに送り出されると、出湯室44
の湯面レベルL2が低下する。そこで、前記スピンドル
50により連通孔49を開くと、出湯室44と管理室4
3及び保持室42の湯面レベルLが低下して、管理室4
3の低レベル棒センサー52が湯面から離れる。低レベ
ル棒センサー52が湯面から離れると、加圧空気を送る
流量調節バルブ46が少し開いて、保持室42の空気圧
力が高められ、管理室43の湯面が押し上げられて、湯
面が低レベル棒センサー52に接触する。なお、管理室
43の湯面を押し上げ過ぎた場合には、湯面と高レベル
棒センサー53とが接触し、前記流量調節バルブ46が
少し閉じられて、保持室42内の空気圧力が若干低下
し、管理室43の湯面レベルLが下がり、常に、湯面レ
ベルLが前記棒センサー5253の間即ちレベル設定制
御範囲L0にあるように制御され、湯面が該レベルL0
に平衡的に保持されているとき、前記連通孔49をスピ
ンドル50により閉じ、出湯を行なうようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来技
術では、図11に示すように低レベル棒センサー52の
下端に溶湯45が付着して、つらら57が発生し、実際
にはレベル設定制御範囲L0よりも広い範囲L1で湯面
制御即ち給湯制御されることになり、設定湯面レベルL
の精度が悪く、したがって、給湯精度が悪くなるという
問題がある。
術では、図11に示すように低レベル棒センサー52の
下端に溶湯45が付着して、つらら57が発生し、実際
にはレベル設定制御範囲L0よりも広い範囲L1で湯面
制御即ち給湯制御されることになり、設定湯面レベルL
の精度が悪く、したがって、給湯精度が悪くなるという
問題がある。
【0006】本発明は、上述のような実状に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、湯面レベル制御
範囲が初期の設定値から変化するのを防止でき、一定湯
面レベル制御即ち給湯精度の向上を図りかつ湯面レベル
設定値の調整・変更が容易な軽合金鋳造用給湯炉におけ
る給湯制御装置を提供するにある。
れたもので、その目的とするところは、湯面レベル制御
範囲が初期の設定値から変化するのを防止でき、一定湯
面レベル制御即ち給湯精度の向上を図りかつ湯面レベル
設定値の調整・変更が容易な軽合金鋳造用給湯炉におけ
る給湯制御装置を提供するにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記目的を
達成するために、次の技術的手段を講じた。即ち、本発
明は、所定温度の軽合金溶湯が保持された給湯炉内に保
持室、管理室及び出湯室を備え、大気開放状態の前記管
理室内の溶湯面上部に湯面レベル検出手段が配設され、
前記検出手段の出力信号に応じて前記保持室内の加圧力
が調整され、前記湯面レベルが設定範囲内に平衡的に保
持された後、出湯が行なわれるようになっている給湯炉
の給湯制御装置であって、前記湯面レベル検出手段が非
接触式センサーからなることを特徴としている。
達成するために、次の技術的手段を講じた。即ち、本発
明は、所定温度の軽合金溶湯が保持された給湯炉内に保
持室、管理室及び出湯室を備え、大気開放状態の前記管
理室内の溶湯面上部に湯面レベル検出手段が配設され、
前記検出手段の出力信号に応じて前記保持室内の加圧力
が調整され、前記湯面レベルが設定範囲内に平衡的に保
持された後、出湯が行なわれるようになっている給湯炉
の給湯制御装置であって、前記湯面レベル検出手段が非
接触式センサーからなることを特徴としている。
【0008】また、本発明は前記非接触式センサーが超
音波センサーであることを特徴としている。そして、本
発明は前記非接触式センサーがレーザセンサーであるこ
とを特徴としている。さらに、本発明は前記管理室内の
溶湯面に、湯面レベル検出用の反射板を備えたフロート
が浮設されていることを特徴としている。
音波センサーであることを特徴としている。そして、本
発明は前記非接触式センサーがレーザセンサーであるこ
とを特徴としている。さらに、本発明は前記管理室内の
溶湯面に、湯面レベル検出用の反射板を備えたフロート
が浮設されていることを特徴としている。
【0009】
【作用】本発明によれば、鋳造操作によって、一定量の
溶湯をダイカスト・マシン等の鋳造機に送り出すと、出
湯室の湯面レベルが低下するために、管理室の非接触式
センサーが湯面レベル低下を検知し、非接触式センサー
の出力信号に応じて、加圧空気が保持室内に供給されて
その空気圧力が高められるので、管理室及び出湯室の溶
湯が押し上げられて湯面レベルが上昇する。
溶湯をダイカスト・マシン等の鋳造機に送り出すと、出
湯室の湯面レベルが低下するために、管理室の非接触式
センサーが湯面レベル低下を検知し、非接触式センサー
の出力信号に応じて、加圧空気が保持室内に供給されて
その空気圧力が高められるので、管理室及び出湯室の溶
湯が押し上げられて湯面レベルが上昇する。
【0010】なお、管理室及び出湯室の湯面レベルが設
定値を越えると、非接触式センサーの出力信号により保
持室内の空気圧力が低下せられ、管理室及び出湯室の湯
面レベルが下がり、レベル設定制御範囲内に制御され
る。このようにして、湯面レベルが設定制御範囲内で平
衡的に保持されると、出湯が行われる。前記非接触セン
サーとして、超音波又はレーザセンサーを使用する場
合、超音波又はレーザ光線が湯面から反射して帰ってく
る反射波を検出することにより、湯面レベルを検出する
ので、安定した湯面レベル制御を精度良く行なうことが
できる。したがって、給湯制御精度も向上する。
定値を越えると、非接触式センサーの出力信号により保
持室内の空気圧力が低下せられ、管理室及び出湯室の湯
面レベルが下がり、レベル設定制御範囲内に制御され
る。このようにして、湯面レベルが設定制御範囲内で平
衡的に保持されると、出湯が行われる。前記非接触セン
サーとして、超音波又はレーザセンサーを使用する場
合、超音波又はレーザ光線が湯面から反射して帰ってく
る反射波を検出することにより、湯面レベルを検出する
ので、安定した湯面レベル制御を精度良く行なうことが
できる。したがって、給湯制御精度も向上する。
【0011】また、管理室の溶湯面に、レベル検出用の
反射板を備えたフロートを浮設することにより、溶湯中
に炉壁落下物等の浮遊物がある場合や溶湯表面の酸化膜
などの存在によっても、何ら影響を受けることなく、即
ち、超音波又はレーザ光線の散乱がなくなり、精度の高
い湯面レベル制御、給湯制御が可能である。
反射板を備えたフロートを浮設することにより、溶湯中
に炉壁落下物等の浮遊物がある場合や溶湯表面の酸化膜
などの存在によっても、何ら影響を受けることなく、即
ち、超音波又はレーザ光線の散乱がなくなり、精度の高
い湯面レベル制御、給湯制御が可能である。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図1〜図2は本発明をアルミニウム(Al)合金鋳
造用の給湯炉1に採用した第1実施例を示し、炉本体1
A内には、保持室(加圧室ともいう)2,管理室3,出
湯室4が備えられ、該炉本体1A内には所定温度(例え
ば700℃)のAl合金溶湯5が保持されるようになっ
ており、保持室2には加圧制御バルブ6(加圧空気の流
量調節バルブ)を介して加圧空気供給管7が接続され、
ヒーター8が配設されている。
る。図1〜図2は本発明をアルミニウム(Al)合金鋳
造用の給湯炉1に採用した第1実施例を示し、炉本体1
A内には、保持室(加圧室ともいう)2,管理室3,出
湯室4が備えられ、該炉本体1A内には所定温度(例え
ば700℃)のAl合金溶湯5が保持されるようになっ
ており、保持室2には加圧制御バルブ6(加圧空気の流
量調節バルブ)を介して加圧空気供給管7が接続され、
ヒーター8が配設されている。
【0013】そして、前記管理室3は大気開放状態とさ
れ、その溶湯5面上部に、断熱材製の円筒体9と該円筒
体9上端に45度の傾斜角をもって設けた反射板10
と、炉蓋1B上に断熱材11を介して設置された超音波
装置12(超音波発信器及び検出器)によって構成され
る非接触式の超音波センサー13が配設されており、該
センサー13に隣接して、図2に示すように、下限検知
用棒センサー14、上限検知用棒センサー15及びアー
ス16が付設されている。
れ、その溶湯5面上部に、断熱材製の円筒体9と該円筒
体9上端に45度の傾斜角をもって設けた反射板10
と、炉蓋1B上に断熱材11を介して設置された超音波
装置12(超音波発信器及び検出器)によって構成され
る非接触式の超音波センサー13が配設されており、該
センサー13に隣接して、図2に示すように、下限検知
用棒センサー14、上限検知用棒センサー15及びアー
ス16が付設されている。
【0014】また、前記出湯室4はその底部に設けた連
通孔17を介して管理室3と連通され、該連通孔17は
昇降可能なスピンドル18により開閉するようになって
おり、出湯室4には加圧給湯用の乾燥空気供給管19が
接続され、出湯口20には給湯室21を介して射出スリ
ーブ22が接続され、溶湯5が射出チップ23により高
圧鋳造機であるダイカスト・マシンに注入されるように
なっている。
通孔17を介して管理室3と連通され、該連通孔17は
昇降可能なスピンドル18により開閉するようになって
おり、出湯室4には加圧給湯用の乾燥空気供給管19が
接続され、出湯口20には給湯室21を介して射出スリ
ーブ22が接続され、溶湯5が射出チップ23により高
圧鋳造機であるダイカスト・マシンに注入されるように
なっている。
【0015】上記第1実施例において、湯面レベルLが
設定制御範囲L0に制御された後、スピンドル18によ
り連通孔17を閉塞してから出湯室4内に乾燥空気を供
給し、加圧して出湯を行ない、射出チップ23を操作し
てダイカスト・マシンに一定量の溶湯が給湯される。こ
のとき、出湯室4内の湯面L4が低下し、前記スピンド
ル18を上昇させると共に乾燥空気圧を低下させること
により、出湯室4と管理室3が連通すると同時に管理室
3の湯面レベルLが低下する。
設定制御範囲L0に制御された後、スピンドル18によ
り連通孔17を閉塞してから出湯室4内に乾燥空気を供
給し、加圧して出湯を行ない、射出チップ23を操作し
てダイカスト・マシンに一定量の溶湯が給湯される。こ
のとき、出湯室4内の湯面L4が低下し、前記スピンド
ル18を上昇させると共に乾燥空気圧を低下させること
により、出湯室4と管理室3が連通すると同時に管理室
3の湯面レベルLが低下する。
【0016】管理室3内の湯面レベルLの低下は、超音
波装置12から水平方向に発振される超音波が反射板1
0から湯面に達し、その反射波が反射板10を経て超音
波装置12により検出されることで、検知される。この
状態で、保持室2を加圧し、湯面が炉本体1Aの上端か
ら所定距離の位置に対してレベル設定制御範囲L0内で
平衡的に保持するように、超音波装置12の出力信号に
応じて、前記加圧制御バルブ6の開度を調節し、保持室
2内の空気圧力を高めて管理室3及び出湯室4の湯面レ
ベルLを押し上げる。なお、湯面レベルLが高くなり過
ぎると、前記バルブ6の開度が制御されて保持室2内の
空気圧力が低下し、湯面が下げられる。
波装置12から水平方向に発振される超音波が反射板1
0から湯面に達し、その反射波が反射板10を経て超音
波装置12により検出されることで、検知される。この
状態で、保持室2を加圧し、湯面が炉本体1Aの上端か
ら所定距離の位置に対してレベル設定制御範囲L0内で
平衡的に保持するように、超音波装置12の出力信号に
応じて、前記加圧制御バルブ6の開度を調節し、保持室
2内の空気圧力を高めて管理室3及び出湯室4の湯面レ
ベルLを押し上げる。なお、湯面レベルLが高くなり過
ぎると、前記バルブ6の開度が制御されて保持室2内の
空気圧力が低下し、湯面が下げられる。
【0017】このようにして、湯面レベルLがレベル設
定制御範囲L0内で平衡すると、出湯室4の連通孔17
をスピンドル18により閉塞し、その後出湯室4を乾燥
空気で加圧し、前述のように、高圧鋳造機であるダイカ
スト・マシンに給湯を行なう。このようにして、連続的
に給湯を安定して精度よく行ない、鋳造操作を繰返し行
なうことができる。
定制御範囲L0内で平衡すると、出湯室4の連通孔17
をスピンドル18により閉塞し、その後出湯室4を乾燥
空気で加圧し、前述のように、高圧鋳造機であるダイカ
スト・マシンに給湯を行なう。このようにして、連続的
に給湯を安定して精度よく行ない、鋳造操作を繰返し行
なうことができる。
【0018】上記第1実施例によれば、湯面レベルLの
精度は±5mm以下に安定し、給湯精度は±3%以内と
良好で、従来のように実際のレベル制御範囲がレベル設
定制御範囲より広くなることもなく、また、湯面レベル
設定値の変更は、非接触式超音波センサー13の設定変
更のみで可能であり、初期の設定値を容易に調整するこ
とができる。
精度は±5mm以下に安定し、給湯精度は±3%以内と
良好で、従来のように実際のレベル制御範囲がレベル設
定制御範囲より広くなることもなく、また、湯面レベル
設定値の変更は、非接触式超音波センサー13の設定変
更のみで可能であり、初期の設定値を容易に調整するこ
とができる。
【0019】図3は本発明の第2実施例を示し、第1実
施例と異なるところは、非接触式センサーとしてレーザ
センサー24が採用されている点であり、第1実施例と
同等の作用効果を期待することができる。したがって、
第1実施例と共通する部分は同符号を付し詳細説明は省
略する。なお、本発明の第2実施例と従来例の効果を確
認するために湯面レベル変動テストを行ったが、その結
果は図4に示すように、上記第2実施例では湯面レベル
変動量が2mm程度であるのに対し、従来例では湯面レ
ベル変動量が約13mmであり、両変動量を鋳込重量に
換算すると、上記第2実施例では約24gに相当する
が、従来例では160gに相当し、本発明の第2実施例
によれば、湯面レベル精度が極めて良好で、給湯精度が
大幅に向上していることが明白である。
施例と異なるところは、非接触式センサーとしてレーザ
センサー24が採用されている点であり、第1実施例と
同等の作用効果を期待することができる。したがって、
第1実施例と共通する部分は同符号を付し詳細説明は省
略する。なお、本発明の第2実施例と従来例の効果を確
認するために湯面レベル変動テストを行ったが、その結
果は図4に示すように、上記第2実施例では湯面レベル
変動量が2mm程度であるのに対し、従来例では湯面レ
ベル変動量が約13mmであり、両変動量を鋳込重量に
換算すると、上記第2実施例では約24gに相当する
が、従来例では160gに相当し、本発明の第2実施例
によれば、湯面レベル精度が極めて良好で、給湯精度が
大幅に向上していることが明白である。
【0020】前記鋳込重量は、出湯圧(出湯室4に供給
される乾燥空気の圧力)により、持ち上げられる溶湯量
によって決まるが、出湯室4の湯面レベルL4が変動し
た場合、例えばレベルL4がΔHだけ低下すると、出湯
圧が同じであっても、射出スリーブ22(図1参照)内
の湯面レベルもΔHだけ低下するため、鋳込重量がスリ
ーブ22内断面積に低下量ΔHを乗じた分だけ減少する
ことになる。このことからも、出湯室4及び管理室3内
の湯面レベルの精度が、給湯精度に及ぼす影響のいかに
大であるかが明らかである。
される乾燥空気の圧力)により、持ち上げられる溶湯量
によって決まるが、出湯室4の湯面レベルL4が変動し
た場合、例えばレベルL4がΔHだけ低下すると、出湯
圧が同じであっても、射出スリーブ22(図1参照)内
の湯面レベルもΔHだけ低下するため、鋳込重量がスリ
ーブ22内断面積に低下量ΔHを乗じた分だけ減少する
ことになる。このことからも、出湯室4及び管理室3内
の湯面レベルの精度が、給湯精度に及ぼす影響のいかに
大であるかが明らかである。
【0021】図5は本発明の第3実施例を示し、第2実
施例と異なるところは、給湯炉1が浮子式定湯面炉であ
って、保持室2に浮子25が設けられると共にヒーター
8が管理室3との連通部に設けられている点であり、第
2実施例と同等の作用効果を期待することができる。し
たがって、第2実施例と共通する部分には同符号を付
し、詳細説明は省略する。
施例と異なるところは、給湯炉1が浮子式定湯面炉であ
って、保持室2に浮子25が設けられると共にヒーター
8が管理室3との連通部に設けられている点であり、第
2実施例と同等の作用効果を期待することができる。し
たがって、第2実施例と共通する部分には同符号を付
し、詳細説明は省略する。
【0022】図6は本発明の第4実施例の要部を示し、
第2実施例と異なるところは、前記管理室3の溶湯5中
に湯面レベル検出用の反射板26が案内棒27を介して
連結されているフロート28を浮かべ、前記反射板26
にレーザセンサー24のレーザ光線を照射させるように
した点であり、前記案内棒27は炉本体側に固定した案
内部材29により円滑に昇降案内し、反射板26が湯面
の変動に追従して水平状態で昇降するようになってい
る。
第2実施例と異なるところは、前記管理室3の溶湯5中
に湯面レベル検出用の反射板26が案内棒27を介して
連結されているフロート28を浮かべ、前記反射板26
にレーザセンサー24のレーザ光線を照射させるように
した点であり、前記案内棒27は炉本体側に固定した案
内部材29により円滑に昇降案内し、反射板26が湯面
の変動に追従して水平状態で昇降するようになってい
る。
【0023】第4実施例においては、長時間の稼働によ
って溶湯表面が酸化して滑らかな平面でなくなったり、
炉壁落下物等の浮遊物がある場合でも、前記反射板26
は湯面レベルに正確に追従し、レーザ光線(距離測定信
号)が正しく帰ってくるので、湯面レベルLが設定制御
範囲L0内で一定に精度よく制御でき、したがって給湯
精度が大幅に向上し、長時間安定する。
って溶湯表面が酸化して滑らかな平面でなくなったり、
炉壁落下物等の浮遊物がある場合でも、前記反射板26
は湯面レベルに正確に追従し、レーザ光線(距離測定信
号)が正しく帰ってくるので、湯面レベルLが設定制御
範囲L0内で一定に精度よく制御でき、したがって給湯
精度が大幅に向上し、長時間安定する。
【0024】なお、給湯制御は、第2実施例と同様に、
鋳造操作に追従して行われる。図7は本発明の第5実施
例の要部を示し、第4実施例と異なるところは、前記反
射板26をフロート28に直接取付けた点であり、第4
実施例と同等の作用効果を期待することができる。図8
は本発明の第6実施例の要部を示し、第4実施例と異な
るところは、前記反射板26がレバー30、リンク31
機構を介して案内棒27上端に連結されている点であ
り、前記レバー30は炉本体側に取付けた軸支ブラケッ
ト32に水平ピン33を介して上下揺動自在に軸支さ
れ、リンク31は案内部材34により垂直状態で上下動
するようになっている。第6実施例においても第4実施
例と同等の作用効果を期待することができる。
鋳造操作に追従して行われる。図7は本発明の第5実施
例の要部を示し、第4実施例と異なるところは、前記反
射板26をフロート28に直接取付けた点であり、第4
実施例と同等の作用効果を期待することができる。図8
は本発明の第6実施例の要部を示し、第4実施例と異な
るところは、前記反射板26がレバー30、リンク31
機構を介して案内棒27上端に連結されている点であ
り、前記レバー30は炉本体側に取付けた軸支ブラケッ
ト32に水平ピン33を介して上下揺動自在に軸支さ
れ、リンク31は案内部材34により垂直状態で上下動
するようになっている。第6実施例においても第4実施
例と同等の作用効果を期待することができる。
【0025】図9は本発明の第7実施例の要部を示し、
第4実施例と異なるところは、非接触式センサーとし
て、レーザセンサーに代えてポテンショメーター等のス
トロークセンサー35を採用し、該センサー35の可動
端子36をフロート28に立設した支持棒37上端に連
結し、アナログ出力を利用した点であり、第4実施例と
同等の作用効果を期待することができる。
第4実施例と異なるところは、非接触式センサーとし
て、レーザセンサーに代えてポテンショメーター等のス
トロークセンサー35を採用し、該センサー35の可動
端子36をフロート28に立設した支持棒37上端に連
結し、アナログ出力を利用した点であり、第4実施例と
同等の作用効果を期待することができる。
【0026】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はなく適宜設計変更することができる。
はなく適宜設計変更することができる。
【0027】
【発明の効果】本発明は、上述のように、所定温度の軽
合金溶湯が保持された給湯炉内に保持室、管理室及び出
湯室を備え、大気開放状態の前記管理室内の溶湯面上部
に湯面レベル検出手段が配設され、前記検出手段の出力
信号に応じて前記保持室内の加圧力が調整され、前記湯
面レベルが設定範囲内に平衡的に保持された後、出湯が
行なわれるようになっている給湯炉の給湯制御装置であ
って、前記湯面レベル検出手段が非接触式センサーから
なることを特徴とするものであるから、従来例にみられ
るセンサーのつらら発生がなく、湯面レベル制御範囲が
初期の設定値から変化するのを防止でき、一定の湯面レ
ベル制御精度が良好となり、給湯精度を大幅に向上さ
せ、かつ長時間にわたって安定させることが可能であ
り、しかも、目標湯面レベルの変更は非接触式センサー
の設定変更のみで行なうことができ、また、設定値の調
整も至極容易である。
合金溶湯が保持された給湯炉内に保持室、管理室及び出
湯室を備え、大気開放状態の前記管理室内の溶湯面上部
に湯面レベル検出手段が配設され、前記検出手段の出力
信号に応じて前記保持室内の加圧力が調整され、前記湯
面レベルが設定範囲内に平衡的に保持された後、出湯が
行なわれるようになっている給湯炉の給湯制御装置であ
って、前記湯面レベル検出手段が非接触式センサーから
なることを特徴とするものであるから、従来例にみられ
るセンサーのつらら発生がなく、湯面レベル制御範囲が
初期の設定値から変化するのを防止でき、一定の湯面レ
ベル制御精度が良好となり、給湯精度を大幅に向上さ
せ、かつ長時間にわたって安定させることが可能であ
り、しかも、目標湯面レベルの変更は非接触式センサー
の設定変更のみで行なうことができ、また、設定値の調
整も至極容易である。
【0028】そして、請求項4の発明は、前記管理室内
の溶湯面に、湯面レベル検出用の反射板を備えたフロー
トが浮設されていることを特徴とするものであるから、
溶湯表面が長時間稼働によって酸化し、滑らかな平面で
なくなっても、また、溶湯中に炉壁落下物等の浮遊物が
発生しても、湯面レベル検出に支障をきたすことがな
く、高精度でレベル制御が可能であり、長時間にわたっ
て精度の高い一定湯面レベルを保持でき、溶湯制御の精
度向上及び安定化を図ることが可能である。
の溶湯面に、湯面レベル検出用の反射板を備えたフロー
トが浮設されていることを特徴とするものであるから、
溶湯表面が長時間稼働によって酸化し、滑らかな平面で
なくなっても、また、溶湯中に炉壁落下物等の浮遊物が
発生しても、湯面レベル検出に支障をきたすことがな
く、高精度でレベル制御が可能であり、長時間にわたっ
て精度の高い一定湯面レベルを保持でき、溶湯制御の精
度向上及び安定化を図ることが可能である。
【図1】本発明の第1実施例を示す中央縦断面図であ
る。
る。
【図2】同実施例の要部拡大詳細断面図である。
【図3】本発明の第2実施例を示す中央縦断面図であ
る。
る。
【図4】同第2実施例と従来例の出湯室湯面レベル変動
量を示す図面である。
量を示す図面である。
【図5】本発明の第3実施例を示す中央縦断面図であ
る。
る。
【図6】本発明の第4実施例の要部を示す縦断面図であ
る。
る。
【図7】本発明の第5実施例の要部を示す縦断面図であ
る。
る。
【図8】本発明の第6実施例の要部を示す縦断面図であ
る。
る。
【図9】本発明の第7実施例の要部を示す縦断面図であ
る。
る。
【図10】従来例を示す中央縦断面図である。
【図11】図10のA部拡大図である。
1 溶湯炉 2 保持室 3 管理室 4 出湯室 5 溶湯 13 超音波センサー(非接触式センサー) 24 レーザセンサー(非接触式センサー) 26 反射板 28 フロート 35 ストロークセンサー(非接触式センサー) L 湯面レベル L0 レベル設定制御範囲
Claims (4)
- 【請求項1】 所定温度の軽合金溶湯が保持された給湯
炉内に保持室、管理室及び出湯室を備え、大気開放状態
の前記管理室内の溶湯面上部に湯面レベル検出手段が配
設され、前記検出手段の出力信号に応じて前記保持室内
の加圧力が調整され、前記湯面レベルが設定範囲内に平
衡的に保持された後、出湯が行なわれるようになってい
る給湯炉の給湯制御装置であって、前記湯面レベル検出
手段が非接触式センサーからなることを特徴とする軽合
金鋳造用給湯炉における給湯制御装置。 - 【請求項2】 前記非接触式センサーが超音波センサー
であることを特徴とする請求項1の軽合金鋳造用給湯炉
における給湯制御装置。 - 【請求項3】 前記非接触式センサーがレーザセンサー
であることを特徴とする請求項1の軽合金鋳造用給湯炉
における給湯制御装置。 - 【請求項4】 前記管理室内の溶湯面に、湯面レベル検
出用の反射板を備えたフロートが浮設されていることを
特徴とする請求項1、2又は3の軽合金鋳造用給湯炉に
おける給湯制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22142193A JPH0775865A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 軽合金鋳造用給湯炉における給湯制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22142193A JPH0775865A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 軽合金鋳造用給湯炉における給湯制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0775865A true JPH0775865A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16766481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22142193A Pending JPH0775865A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 軽合金鋳造用給湯炉における給湯制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0775865A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019063809A (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-25 | マツダ株式会社 | 金型鋳造の溶湯湯流れ可視化装置 |
| EP3537080A1 (en) * | 2018-03-08 | 2019-09-11 | Berry Metal Company | Systems and methods for determining the temperature and/or level of a molten metal bath in a vessel |
-
1993
- 1993-09-06 JP JP22142193A patent/JPH0775865A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019063809A (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-25 | マツダ株式会社 | 金型鋳造の溶湯湯流れ可視化装置 |
| EP3537080A1 (en) * | 2018-03-08 | 2019-09-11 | Berry Metal Company | Systems and methods for determining the temperature and/or level of a molten metal bath in a vessel |
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